KR20070091426A - 플라즈마 표시 장치 및 그 구동방법 - Google Patents

플라즈마 표시 장치 및 그 구동방법 Download PDF

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Abstract

플라즈마 표시 장치 및 그 구동방법에서, 이전 서브필드의 유지기간 동안 주사 전극 및 유지 전극에 인가한 유지 방전 펄스의 수가 많을수록, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 유지 전극 및 주사 전극에 인가하는 전압을 조절함으로써, 전극 사이에 쌓여있는 벽 전하를 더 많이 소거시킨다. 이에 따라 유지 전극 및 주사 전극에 쌓인 벽 전하의 상태가 어드레싱에 적합한 상태로 초기화되어 어드레스 기간에서의 오방전을 방지한다.
플라즈마 표시 장치, PDP, 리셋 기간, 방전량, 벽 전하, 소거

Description

플라즈마 표시 장치 및 그 구동방법{PLASMA DISPLAY DEVICE AND DRIVING METHOD THEREOF}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 개념도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도 이다.
도 3a는 이전 서브필드의 유지 기간에서의 유지 방전 펄스의 개수가 적은 경우 다음 서브필드의 리셋 기간 이후에 각 전극에 쌓인 벽 전하 상태를 예시적으로 나타낸 것이다.
도 3b는 이전 서브필드의 유지 기간에서의 유지 방전 펄스의 개수가 많은 경우 다음 서브필드의 리셋 기간 이후에 각 전극에 쌓인 벽 전하 상태를 예시적으로 나타낸 것이다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동파형도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동파형도이다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동파형도이다.
도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동파형도이다.
도 8은 본 발명의 제5 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동파형도이다.
본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다.
플라즈마 표시 장치는 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 평면 표시 장치이다. 플라즈마 표시 장치의 표시 패널에는 그 크기에 따라 수십에서 수백 만개 이상의 방전 셀(이하 "셀"이라 함)이 매트릭스(matrix)형태로 배열되어 있다.
일반적으로 플라즈마 표시 장치에서는 한 프레임이 각각의 가중치를 갖는 복수의 서브필드로 분할된다. 이때, 방전 셀의 휘도는 복수의 서브필드 중 해당 방전 셀이 발광하는 서브필드의 가중치 합에 의해 결정된다.
각각의 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어진다. 리셋 기간은 방전 셀의 상태를 초기화시키는 기간이며, 어드레스 기간은 방전 셀 중 발광 셀과 비발광 셀을 선택하기 위해 어드레싱 동작을 수행하는 기간이다. 유지 기간은 어드레스 기간에서 발광 셀 상태로 설정된 셀을 해당 서브필드의 가중치에 해당하는 기간 동안 유지방전시켜 화상을 표시하는 기간이다.
한편, 서브필드의 유지 기간 동안 유지 전극 및 주사 전극에 인가된 유지 방전 펄스의 수에 따라, 유지 기간 이후에 유지 전극 및 주사 전극에 쌓인 벽 전하의 양이 달라진다. 특히, 유지 기간이 종료한 직후에 유지 전극 및 주사 전극에 쌓인 벽 전하의 양이 많은 경우, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간에서 벽 전하가 적절히 소거되지 않아 어드레스 기간 및 유지 기간 동안 오방전이 발생할 수 있는 문제 점이 있다.
본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 이전 서브필드의 유지 기간이 종료된 직후에 주사 전극과 유지 전극에 쌓인 벽 전하의 양이 많은 경우, 벽 전하를 적절하게 소거하여 오방전을 방지할 수 있는 플라즈마 표시 장치 및 그 구동방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 한 실시예에 따르면, 한 프레임은 제1 서브필드 및 상기 제1 서브필드에 연속하는 제2 서브필드를 포함하는 복수의 서브필드로 나뉘어 구동되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 제공한다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법은, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 하강시킨 후에 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 제1 기간 동안 유지하는 단계 및, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 점진적으로 하강시킨 후에 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 제2 기간 동안 유지하는 단계를 포함할 수 있고, 상기 제2 기간은 상기 제1 기간보다 길다.
또는 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극 의 전압을 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제1 기울기로 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 하강시키는 단계 및 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제2 기울기로 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 점진적으로 하강시키는 단계를 포함할 수 있고, 상기 제2 기울기는 상기 제1 기울기보다 기울기가 크다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법은, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차가 제1 전압까지 점진적으로 증가하는 단계, 및 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차가 제2 전압까지 점진적으로 증가하는 단계를 포함할 수 있고, 상기 제2 전압은 상기 제1 전압보다 크다.
이때, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 상기 제5 전압보다 낮은 제6 전압까지 점진적으로 하강시킬 수 있다.
또는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제3 전압보다 높은 레벨의 제6 전압으로 바이어스 한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 상기 제5 전압까지 점진적으로 하강시킬 수 있다.
또는 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 상기 제5 전압보다 낮은 레벨의 제6 전압까지 점진적으로 하강시킬 수 있다.
또는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 기간 중 제1 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압에서 상기 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 기간 중 제2 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시킬 수 있고, 상기 제2 시점은 상기 제1 시점보다 늦은 시점이다. 이때, 상기 복수의 제1 전극은 플로팅되기 전에 상기 제3 전압보다 낮은 제5 전압으로 바이어스된다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법에서, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양은 상기 제2 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양보다 적다.
그리고 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 복수의 제1 전극 및 복수의 제2 전극, 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극과 상기 복수의 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 형성되는 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 패널 및 한 프레임을 제1 서브필드 및 상기 제1 서브필드에 연속하고 상기 제1 서브필드에 연속하는 제2 서브필드를 포함하는 복수의 서브필드로 분할되어 구동되도록 하는 제어부를 포함하는 플라즈마 표시 장치를 제공한다.
상기 플라즈마 표시 장치는 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제1 전압으로 바이어스한 상태에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제1 기울기로 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제1 기울기보다 기울기가 큰 제2 기울기로 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 점진적으로 하강시키는 구동부를 포함한다.
또는 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 하강시킨 후, 제1 기간 동안 상기 제3 전압으로 유지시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 하강시킨 후, 제2 기간 동안 상기 제3 전압으로 유지시키는 구동부를 포함하고, 이때 상기 제2 기간 은 상기 제1 기간보다 길다.
또는 상기 플라즈마 표시 장치는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차를 제1 전압까지 점진적으로 증가시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차를 상기 제1 전압보다 큰 제2 전압까지 점진적으로 증가시키는 구동부를 포함할 수 있다.
이때, 상기 구동부는 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 제6 전압까지 점진적으로 하강시킬 수 있고, 이때 상기 제6 전압은 상기 제5 전압보다 낮은 레벨이다.
또는 상기 구동부는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제6 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 상기 제5 전압까지 점진적으로 하강시킬 수 있고, 상기 제6 전압은 상기 제3 전압보다 높은 레벨이다.
또는 상기 구동부는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 중 제1 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압에서 상기 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 중 제2 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키고, 이때, 상기 제2 시점은 상기 제1 시점보다 늦은 시점이다. 그리고 상기 구동부는 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키기 전에, 상기 복수의 제1 전극을 상기 제3 전압보다 낮은 제5 전압으로 바이어스할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치에서, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양은 상기 제2 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양보다 적다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.
그리고 본 발명에서 언급되는 벽 전하란 셀의 벽(예를 들어, 유전체층) 상에서 각 전극에 가깝게 형성되는 전하를 말한다. 그리고 벽 전하는 실제로 전극 자체에 접촉되지는 않지만, 여기서는 전극에 "형성됨", "축적됨" 또는 "쌓임"과 같이 설명한다. 또한, 벽 전압은 벽 전하에 의해서 셀의 벽에 형성되는 전위차를 말한다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 개략적인 개념도이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 한 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 전극 구동부(300), 유지 전극 구동부(400) 및 주사 전극 구동부(500)를 포함한다.
플라즈마 표시 패널(100)은 열 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(이하 "A 전극"이라 함)(A1-Am), 그리고 행 방향으로 서로 쌍을 이루면서 뻗어 있는 복수의 유지 전극(이하, "X 전극"이라 함)(X1-Xn) 및 주사 전극(이하, "Y 전극"이라 함)(Y1-Yn)을 포함한다. 일반적으로 X 전극(X1-Xn)은 각 Y 전극(Y1-Yn)에 대응해서 형성되어 있으며, Y 전극(Y1-Yn)과 X 전극(X1-Xn)은 A 전극(A1-Am)과 직교하도록 배치된다. 이때, 서로 근접하게 위치하는 A 전극(A1-Am)과 X 및 Y 전극(X1-Xn, Y1-Yn)의 교차부에 있는 방전 공간이 방전 셀(12)을 형성한다.
제어부(200)는 외부로부터 영상 신호를 수신하여 구동 제어 신호를 출력하며, 한 프레임을 각각의 가중치를 갖는 복수의 서브필드로 분할하여 구동한다.
리셋 기간 동안, 각 구동부(300, 400, 500)는 A 전극(A1-Am), X 전극(X1-Xn) 및 Y 전극(Y1-Yn)에 리셋 방전을 위한 전압을 인가하여 셀을 초기화한다. 이때, 복 수의 서브필드 중 일부 서브필드의 리셋 기간은 모든 셀에 대해서 리셋 방전을 일으킬 수 있는 메인 리셋 기간으로 이루어지며, 나머지 일부 서브필드의 리셋 기간은 직전 서브필드에서 유지 방전이 일어난 발광 셀에 대해서 리셋 방전을 일으킬 수 있는 보조 리셋 기간으로 이루어진다.
어드레스 기간 동안, 주사 전극 구동부(400)는 Y 전극(Y1-Yn)이 선택되는 순서대로(예를 들어, 순차적으로) Y 전극(Y1-Yn)에 주사 펄스를 인가하고, 어드레스 전극 구동부(300)는 각 Y 전극에 주사 펄스가 인가될 때마다 발광 셀과 비발광 셀을 구분하기 위한 어드레스 펄스를, 해당하는 A 전극(A1-Am)에 인가한다. 유지 기간 동안, 유지 전극 구동부(400)와 주사 전극 구동부(500)는 X 전극(X1-Xn)과 Y 전극(Y1-Yn)에 유지 방전을 위한 전압을 인가한다.
다음, 각 서브필드에서 A 전극(A1-Am), X 전극(X1-Xn) 및 Y 전극(Y1-Yn)에 인가되는 구동 파형에 대해서 도 2 내지 도 6을 참조하여 상세하게 설명한다. 아래에서는 하나의 A 전극, X 전극 및 Y 전극에 의해 형성되는 셀을 기준으로 설명한다.
본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법은 이전 서브필드의 유지 기간이 종료한 직후에 Y 전극과 X 전극에 쌓인 벽 전하의 양에 따라, 다음 서브필드의 리셋 기간 동안 Y 전극 및 X 전극에 인가하는 전압 파형을 조절함으로써, 어드레싱에 적합한 벽 전하 상태를 형성시킬 수 있다. 이하에서는 Y 전극 및 X 전극의 전압으로 인가되는 전압 파형이 변화되는 형태에 따라 분류된 각각의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이며, 도 2에서는 설명의 편의상 제1 서브필드의 유지 기간 및 제2 서브필드에 대해서만 도시하였다. 또한, 도 3a 및 도 3b는 제2 서브필드의 리셋 기간이 종료된 후의 벽 전하 상태를 나타낸 것이다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 각 서브필드는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어지며, 리셋 기간은 상승기간과 하강기간으로 이루어진다.
즉, 도 2에서, 제2 서브필드의 리셋 기간(R2)의 상승 기간에서는 X 전극을 0V로 유지한 상태에서 Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vset 전압까지 증가시킨다. 그러면, Y 전극으로부터 X 전극 및 A 전극으로 각각 미약한 리셋 방전이 일어나면서, Y 전극에 (-)의 벽 전하가 형성되고, A 전극 및 X 전극에 (+)의 벽 전하가 형성된다.
리셋 기간(R2)의 하강기간에서는 X 전극을 Ve 전압으로 유지시킨 상태에서, Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 감소시킨다. 그러면, Y 전극의 전압이 감소하는 중에 Y 전극과 X 전극 사이 및 Y 전극과 A 전극 사이에서 미약한 리셋 방전이 일어나면서, Y 전극에 형성된 (-)의 벽 전하와 X 전극 및 A 전극에 형성된 (+)의 벽 전하가 소거되어, 도 3a와 같이 A 전극에는 소량의 (+)의 벽 전하가, Y 전극과 X 전극에는 소량의 (-)의 벽 전하가 형성된다.
다음으로, 어드레스 기간(A2)에서는 방전 셀을 선택하기 위해서, Y 전극에 순차적으로 VscL 전압을 가지는 주사 펄스를 인가하고, VscL 전압이 인가되지 않는 Y 전극을 VscH 전압으로 바이어스한다. 이때, VscL 전압을 주사 전압이라 하며, VscH 전압을 비주사 전압이라고도 한다. 그리고 VscL 전압이 인가된 Y 전극에 의해 형성되는 복수의 방전 셀 중에서 선택하고자 하는 방전 셀을 통과하는 A 전극에 Va 전압을 가지는 어드레스 펄스를 인가하고, 선택하지 않는 A 전극은 기준 전압(도 2에서는 0V)으로 바이어스한다. 그러면, Va 전압이 인가된 A 전극과 VscL 전압이 인가된 Y 전극에 의해 형성되는 방전 셀에서 어드레스 방전이 일어나면서 Y 전극에는 (+)의 벽 전하가 형성되고, X 전극에는 (-)의 벽 전하가 형성된다. 또한, A 전극에도 (-)의 벽 전하가 형성된다.
이어서, 유지 기간(S2)에서는 Y 전극과 X 전극에 교대로 Vs 전압의 유지 방전 펄스를 인가한다. 어드레스 기간(A2)에서 어드레스 방전에 의해 Y 전극과 X 전극 사이에 벽 전압이 형성되어 있으면, 벽 전압과 Vs 전압에 의해 Y 전극과 X 전극에서 방전이 일어난다. 즉, Vs 전압을 가지는 유지 방전 펄스를 Y 전극과 X 전극에 교대로 인가한다.
한편, 제1 서브필드의 유지 기간(S1)에서 유지 방전 펄스의 개수가 많은 경우, Y 전극과 X 전극에는 각각 많은 양의 (-)의 벽 전하 및 (+)의 벽 전하가 쌓인 상태로 제2 서브필드의 리셋 기간(R2)에서 초기화되어야 하므로, 제2 서브필드의 리셋 기간(R2)이 종료된 후에도 도 3b와 같이 벽 전하가 제대로 소거되지 않게 된다.
즉, 도 3b에서 보는 바와 같이, X 전극에는 (+) 벽 전하가, Y 전극에는 (-)의 벽 전하가 쌓이게 되어, 어드레스 기간에서 선택하고자 하지 않는 방전 셀이 어드레싱될 수 있다.
따라서, 본 발명의 제1 내지 제5 실시예에서는 유지 기간 종료 후, Y 전극과 X 전극에 쌓이는 벽 전하의 양이 많은 경우, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간에서 벽 전하를 적절하게 제거하여, 안정적인 어드레싱 동작을 수행하도록 초기화하는 방법에 대하여 설명하기로 한다.
이하에서는, 설명의 편의상 서브필드가 클수록, 많은 개수의 유지 방전 펄스가 인가되는 것으로 가정한다. 또한, 도 4 내지 도 9에서는 제1 서브필드의 유지 기간(S1), 제2 서브필드(SF2) 및 제3 서브필드의 리셋 기간(R1)에 대해서만 도시하였다.
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다.
도 4에 도시한 것과 같이, 본 발명의 제1 실시예에서는 이전 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수가 많은 경우, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극에 Vnf 전압을 인가하는 기간을 조절하여 벽 전하를 적절히 소거하도록 한다.
즉, 도 4에 나타낸 것과 같이, 제1 서브필드의 유지 기간(S1)에서는, X 전극과 Y 전극에 유지 방전 펄스를 제1 서브필드(SF1)의 가중치에 대응하는 횟수만큼 인가한다.
제2 서브필드의 리셋 기간(R2)의 하강기간에서는, Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시킨 후, Tnf1 기간 동안 Y 전극에 Vnf 전압을 인가한다. 이때, X 전극과 A 전극은 각각 Ve 전압과 기준 전압으로 바이어스된다. Y 전극의 전압이 점진적으로 감소하면서, Y 전극과 X 전극의 전압차가 증가하여, Y 전극과 X 전극 사이 및 Y 전극과 A 전극 사이에서 미약한 리셋 방전이 일어난다. 이러한 리셋 방전에 의해, Y 전극, X 전극 및 A 전극에 쌓인 벽 전하가 소거된다. 또한, 어드레스 기간(A2)에서 어드레싱이 원활하게 수행되기 위하여, Y 전극과 X 전극 사이의 벽 전압이 거의 0V에 가깝도록 Ve 전압과 Vnf 전압이 설정된다. 즉, (Ve-Vnf) 전압이 Y 전극과 X 전극 사이의 방전 개시 전압(Vfxy) 정도로 설정된다.
이때, 소거해야할 벽 전하의 양이 많은 경우, Y 전극의 전압이 Vnf 전압으로 유지되는 기간을 증가시킨다. 즉, Y 전극과 X 전극의 전압차를 방전 개시 전압 근처로 유지시키는 시간을 증가시켜서, 벽 전하가 최대한 소거될 수 있도록 한다. 도 3b와 같이, Y 전극의 전압이 하강하는 동안 벽 전하가 제대로 소거되지 않은 경우, Y 전극의 전압이 Vnf 전압으로 유지되는 기간을 증가시킴으로써, 도 3a와 같은 벽 전하 상태로 초기화시킨다. 따라서, 이전 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수가 많은 경우, 소거해야할 벽 전하의 양이 많아지므로, Y 전극에 Vnf 전압을 인가하는 기간을 증가시켜서 도 3a와 같은 벽 전하 상태를 형성하도록 한다.
즉, 도 4에 나타낸 것과 같이, 제2 서브필드의 리셋 기간(R2)의 하강기간에서는 Y 전극에 Tnf1 기간 동안 Vnf 전압을 인가하였고, 제3 서브필드의 리셋 기간(R3)의 하강기간에서는 Y 전극에 Tnf1 기간보다 긴 Tnf2 기간 동안 Vnf 전압을 인가하였다.
이상과 같이, 본 발명의 제1 실시예에서는, 이전 서브필드의 유지기간 동안 X 전극 및 Y 전극에 인가한 유지 방전 펄스의 수가 많은 경우, 다음에 오는 서브필 드의 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극에 Vnf 전압을 인가하는 기간을 증가시킨다. 그러면, Y 전극이 Vnf 전압으로 유지되는 동안 벽 전하가 최대한 소거될 수 있으므로, 도 3a에 나타낸 것과 같이 X 전극과 Y 전극에 쌓인 벽 전하를 초기화시킨다.
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다. 도 5에 도시한 것과 같이, 본 발명의 제2 실시예에서는 이전 서브필드의 유지 기간 이후에 Y 전극과 X 전극에 쌓인 벽 전하의 양에 따라, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간에서 Y 전극의 전압이 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 하강하는 기울기를 조절한다.
제1 실시예에서와 마찬가지로, 이전 서브필드의 유지 방전 펄스의 수가 많을수록, 다음 서브필드의 리셋 기간에서 소거해야할 벽 전하의 양도 많아진다. 본 발명의 제2 실시예에서는, 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극의 전압이 하강하는 기울기를 크게 하여 Y 전극과 X 전극에 도 3a와 같은 벽 전하 상태로 초기화시킨다.
따라서, 도 5에서 보는 바와 같이, 제2 서브필드의 리셋 기간(R2)의 하강기간에서는 Y 전극의 전압을 제1 기울기(Slope1)로 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 하강시키고, 제3 서브필드의 리셋 기간(R3)의 하강기간에서는 Y 전극의 전압을 제1 기울기보다 급격한 제2 기울기(Slope2)로 하강시킨다. 서브필드에 따라 리셋 기간에서 Y 전극의 전압이 하강하는 기울기를 조절하는 것을 제외하면, 도 5는 도 4와 유사하므로, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이상과 같이, 본 발명의 제2 실시예에서는, 소거해야할 벽 전하의 양이 많을수록 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극의 전압의 Vs 전압에서 Vnf 전압으로 하강할 때의 기울기를 더욱 크게 한다. 이에, X 전극과 Y 전극 사이의 전압차가 더욱 커져서, 리셋 방전이 더욱 강하게 일어나므로, 도 3a와 같이 X 전극과 Y 전극에 쌓인 벽 전하를 충분히 소거시킬 수 있다.
도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다.
도 6에 나타낸 것과 같이, 본 발명의 제3 실시예에서는 이전 서브필드의 유지 기간 이후에 Y 전극과 X 전극에 쌓인 벽 전하의 양에 따라, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극에 인가되는 Vnf 전압 레벨을 조절한다.
즉, 제1 및 제2 실시예에서와 마찬가지로, 이전 서브필드의 유지 기간 동안 X 전극 및 Y 전극에 인가된 유지 방전 펄스의 개수가 많을수록, 다음 서브필드의 리셋 기간에서 소거해야 할 벽 전하의 양도 많아지므로, 다음 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극의 전압을 더욱 낮은 레벨의 전압으로 하강시켜 전극과 X 전극에 쌓인 벽 전하가 충분히 소거시킨다.
소거해야할 벽 전하의 양이 적은 경우, 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 하강시킴으로써, 도 3a와 같은 벽 전하 상태로 초기화시킨다. 반면, 소거해야할 벽 전하의 양이 많은 경우, 리셋 기간의 하강기간에서 Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vnf 전압보다 낮은 레벨을 가진 전압까지 하강시킨다.
따라서, 도 6에서 보는 바와 같이, 제2 서브필드의 리셋 기간(R2)의 하강기간에서, X 전극과 A 전극은 각각 Ve 전압과 기준 전압으로 바이어스한 상태에서, Y 전극의 전압은 Vs 전압에서 Vnf1 전압까지 하강시킨다. 그리고 제3 서브필드의 리셋 기간(R3)의 하강기간에서, X 전극과 A 전극은 각각 Ve 전압과 기준 전압으로 바이어스한 상태에서, Y 전극의 전압은 Vs 전압에서 Vnf1 전압보다 낮은 레벨인 Vnf2 전압까지 하강시킨다. 도 5는 서브필드에 따라 리셋 기간에서 Y 전극의 전압이 하강되는 전압 레벨을 조절하는 것을 제외하면 도 4와 유사하므로 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이상과 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따르면, 이전 서브필드의 유지기간 동안 X 전극 및 Y 전극에 쌓인 벽 전하의 양이 많을수록, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간 중 하강기간에서 Y 전극에 더 낮은 레벨의 Vnf 전압을 인가한다. 이에 따라, 리셋 기간 중 하강기간에서 Y 전극과 X 전극 사이의 전압차가 더욱 커짐에 따라, 더욱 강한 리셋 방전이 일어나므로, 도 3a와 같이, Y 전극 및 X 전극에 쌓인 벽 전하가 초기화된다.
도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이다. 본 발명의 제4 실시예에 따르면, 이전 서브필드의 유지기간 이후에 X 전극 및 Y 전극에 쌓인 벽 전하의 양에 따라, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간 중 하강기간 및 어드레스 기간에서 X 전극에 바이어스되는 Ve 전압의 전압 레벨을 조절한다.
제1 내지 제3 실시예에서와 마찬가지로, 이전 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수가 많을수록, 다음 서브필드의 리셋 기간에서 소거해야할 벽 전하의 양이 많아진다. 그러므로 리셋 기간의 하강기간에서 X 전극을 Ve 전압보다 높은 레벨로 바이어스하여 Y 전극과 X 전극에 쌓인 벽 전하를 소거시킨다.
소거해야할 벽 전하의 양이 적은 경우, 리셋 기간의 하강기간 및 어드레스 기간에서 X 전극의 전압을 Ve 전압으로 바이어스하여, 리셋 기간의 하강기간 이후에 도 3a와 같은 벽 전하 상태로 초기화시킨다. 반면, 소거해야할 벽 전하의 양이 많은 경우, 리셋 기간의 하강기간 및 어드레스 기간에서 X 전극의 전압을 Ve 전압보다 높은 레벨을 가진 전압으로 바이어스한다. 이에, 리셋 기간의 하강기간 동안 X 전극과 Y 전극의 전압차가 증가하여 더욱 강한 리셋 방전이 일어나서, 도 3a와 같은 벽 전하 상태로 초기화시킨다.
따라서, 도 7에서 보는 바와 같이, 제2 서브필드 중 리셋 기간(R2)의 하강기간 및 어드레스 기간(A2)에서 X 전극은 Ve1 전압으로 바이어스된다. 반면, 제3 서브필드 중 리셋 기간의 하강 기간(R3) 및 어드레스 기간(미도시)에서 X 전극은 Ve1 전압보다 높은 레벨을 가진 Ve2 전압으로 바이어스된다. 도 7은 서브필드에 따라 리셋 기간의 하강기간 및 어드레스 기간에서 X 전극에 바이어스되는 전압 레벨을 조절하는 것을 제외하면, 도 4와 유사하므로, 중복되는 설명은 생략한다.
이상과 같이, 본 발명의 제4 실시예에 따르면, 이전 서브필드의 유지 기간 동안 X 전극 및 Y 전극에 인가한 유지 방전 펄스의 수가 많을수록, 리셋 기간 중 하강기간에서 X 전극에 더 높은 레벨의 Ve 전압을 인가한다. 이와 같이 X 전극에 바이어스되는 전압의 레벨이 높아질수록, X 전극과 Y 전극 사이의 전압차가 더욱 커짐에 따라 리셋 방전이 더욱 강하게 일어나므로, 도 3a와 같이 X 전극과 Y 전극에 쌓인 벽 전하를 초기화시킨다.
도 8은 본 발명의 제5 실시예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형도이 다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 제5 실시예에서는 이전 서브필드의 유지 기간 이후에 X 전극과 Y 전극에 쌓인 벽 전하의 양에 따라, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 X 전극의 전압을 플로팅하는 시점을 조절한다.
즉, 제1 내지 제4 실시예에서와 마찬가지로, 이전 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수가 많을수록, 다음에 오는 서브필드의 리셋 기간에서 소거해야할 벽 전하의 양이 많아지므로, 리셋 기간의 하강기간에서 X 전극의 전압을 플로팅하는 시점을 늦추어 Y 전극과 X 전극에 쌓인 벽 전하를 충분히 소거시킨다.
일반적으로, 리셋 기간 동안에는 X 전극 및 Y 전극 사이 및 X 전극과 A 전극 사이에서 리셋 방전이 일어나서 각 전극에 쌓인 벽 전하가 소거된다. 즉, Y 전극의 전압이 Vs 전압에서 Vnf 전압으로 하강하는 동안, X 전극의 전압은 Ve 전압으로 바이어스되어, X 전극과 Y 전극 사이의 전압차가 점진적으로 증가함에 따라 리셋 방전이 발생하여 X 전극과 Y 전극에 쌓인 벽 전하가 소거된다. 마찬가지로 Y 전극의 전압이 Vs 전압에서 Vnf 전압으로 하강하는 동안, A 전극은 기준 전압으로 바이어스되어 A 전극과 Y 전극에 쌓인 벽 전하를 소거시킨다. 이때, A 전극의 전압은 X 전극의 전압보다 낮은 전압으로 바이어스되므로, A 전극과 Y 전극에 인가되는 전압차가 X 전극과 Y 전극에 인가되는 전압차보다 작게 된다. 그러므로 같은 기간 동안, A 전극에 쌓인 벽 전하가 소거되는 양보다는 X 전극에 쌓인 벽 전하가 소거되는 양이 더 많다.
따라서, A 전극에 쌓인 벽 전하가 어드레싱에 적합하도록 소거되는 동안 X 전극에 쌓인 벽 전하가 지나치게 많이 소거될 수 있다. 이에, Y 전극이 하강하는 일부 시점부터 X 전극을 플로팅시켜서 Y 전극과 일정한 전압차가 유지되도록 점진적으로 하강시킨다.
이때, 이전 서브필드의 유지 방전 펄스의 수가 많을수록, 다음 서브필드의 리셋 기간에서 소거해야할 벽 전하의 양이 많아지므로, 리셋 기간의 하강기간에서 X 전극의 전압을 플로팅하는 시점을 늦춤으로써, Y 전극과 X 전극에 쌓인 많은 양의 벽 전하를 소거시켜 도 3a와 같은 벽 전하 상태로 초기화시킨다.
즉, 도 8에 도시한 것과 같이, 제2 서브필드의 리셋 기간(R2)의 하강기간에서는, Y 전극의 전압이 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 하강하는 동안, X 전극의 전압은 Ve 전압으로 바이어스된 뒤, Te1 시점에서 플로팅시킨다. 반면, 제2 서브필드(SF2)보다 소거해야할 벽 전하의 양이 많은 제3 서브필드(SF3)의 경우, 리셋 기간(R3)의 하강기간에서, Y 전극의 전압이 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 하강하는 동안, X 전극의 전압은 Ve 전압으로 바이어스된 뒤, Te1 시점보다 늦은 시점인 Te2 시점에서 플로팅시킨다. 도 8은, 리셋 기간의 하강기간에서 X 전극을 플로팅하며, 소거해야할 벽 전하의 양에 따라 X 전극을 플로팅하는 시점을 조절하는 것을 제외하고는 도 4 내지 도 7과 유사하므로, 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이상과 같이, 본 발명의 제5 실시예에 따르면, 이전 서브필드의 유지기간 동안 X 전극과 Y 전극에 인가한 유지 방전 펄스의 수가 많을수록, 이후의 리셋 기간의 하강기간에서 Ve 전압으로 바이어스되어 있는 X 전극의 전압을 플로팅시키는 시 점을 늦춤으로써, 도 3a와 같이, X 전극 및 Y 전극에 쌓인 벽 전하를 충분히 소거시킨다.
한편, 본 발명의 제1 실시예 내지 제5 실시예에서, 제2 서브필드의 리셋 기간은 보조 리셋 기간으로 도시 및 설명되었으나, 상승기간 및 하강기간을 포함하는 메인 리셋 기간이 적용되는 것도 가능하다. 또한, 도 2 및 도 4 내지 도 8에서, 리셋 기간 동안 Y 전극의 전압 파형은 램프 파형의 형태로 도시 및 설명되었으나, RC파형, 점진적으로 상승(또는 하강)하면서 플로팅되는 파형 등과 같이 점진적으로 상승하거나 하강하는 파형이면 어떤 것이든지 적용가능하다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
본 발명에 따르면, 이전 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수가 많은 경우, 다음 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 X 전극과 Y 전극에 인가되는 전압을 조절함으로써, 어드레싱에 적합한 벽 전하 상태로 초기화시키므로, 어드레스 기간에서의 오방전을 방지한다.

Claims (25)

  1. 복수의 제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치를 구동하는 방법에 있어서,
    한 프레임은 제1 서브필드 및 상기 제1 서브필드에 연속하는 제2 서브필드를 포함하는 복수의 서브필드로 나뉘며,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 하강시킨 후에 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 제1 기간 동안 유지하는 단계 및,
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 점진적으로 하강시킨 후에 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 제2 기간 동안 유지하는 단계를 포함하며,
    상기 제2 기간은 상기 제1 기간보다 긴 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  2. 복수의 제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치를 구동하는 방법에 있어서,
    한 프레임을 제1 서브필드 및 상기 제1 서브필드에 연속하는 제2 서브필드를 포함하는 복수의 서브필드로 나뉘며,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제1 기울기로 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 하강시키는 단계; 및
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제1 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제2 기울기로 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 점진적으로 하강시키는 단계를 포함하며,
    상기 제2 기울기는 상기 제1 기울기보다 기울기가 큰 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 복수의 서브필드의 유지 기간에서, 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극에 제4 전압 레벨을 갖는 유지 방전 펄스를 교대로 인가하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제2 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수는 상기 제1 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수보다 많은 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양은 상기 제2 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양보다 적은 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간은 하강기간만을 포함하는 보조 리셋 기간인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  7. 복수의 제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서,
    한 프레임은 제1 서브필드 및 상기 제1 서브필드에 연속하는 제2 서브필드를 포함하는 복수의 서브필드로 나뉘며,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차가 제1 전압까지 점진적으로 증가하는 단계, 및
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차가 제2 전압까지 점진적으로 증가하는 단계를 포함하며,
    상기 제2 전압은 상기 제1 전압보다 큰 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전 압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고,
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 제6 전압까지 점진적으로 하강시키며,
    상기 제6 전압은 상기 제5 전압보다 낮은 레벨인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고,
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제6 전압으로 바이어스 한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 상기 제5 전압까지 점진적으로 하강시키며,
    상기 제6 전압은 상기 제3 전압보다 높은 레벨인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서, 상기 복수의 제2 전극의 전 압을 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 기간 중 제1 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키고,
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압에서 상기 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 기간 중 제2 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키며,
    상기 제2 시점은 상기 제1 시점보다 늦은 시점인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 복수의 제1 전극은 플로팅되기 전에 상기 제3 전압보다 낮은 제5 전압으로 바이어스되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  12. 제7항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 서브필드에서, 유지 기간 동안 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극에 제7 전압 레벨을 갖는 유지 방전 펄스를 교대로 인가하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제2 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수는 상기 제1 서브필드의 유지 방전 펄스의 개수보다 많은 플라즈마 표시 장치의 구동방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양은 상기 제2 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양보다 적은 플라즈마 표시 장치의 구동방법.
  15. 제7항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 서브필드의 리셋 기간은 하강기간만을 포함하는 보조 리셋 기간인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 장치의 구동방법.
  16. 복수의 제1 전극 및 복수의 제2 전극, 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극과 상기 복수의 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 형성되는 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 패널,
    한 프레임을 제1 서브필드 및 상기 제1 서브필드에 연속하고 상기 제1 서브필드에 연속하는 제2 서브필드를 포함하는 복수의 서브필드로 분할되어 구동되도록 하는 제어부, 및
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제1 전압으로 바이어스한 상태에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제1 기울기로 제2 전압에서 제3 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제1 전압으로 바이어 스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제2 기울기로 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 점진적으로 하강시키는 구동부를 포함하고,
    상기 제2 기울기는 상기 제1 기울기보다 기울기가 큰 플라즈마 표시 장치.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 구동부는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 하강시킨 후, 제1 기간 동안 상기 제3 전압으로 유지시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제2 전압에서 상기 제3 전압까지 하강시킨 후, 제2 기간 동안 상기 제3 전압으로 유지시키며,
    상기 제2 기간은 상기 제1 기간보다 긴 플라즈마 표시 장치.
  18. 복수의 제1 전극 및 복수의 제2 전극, 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극과 상기 복수의 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 형성되는 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 패널,
    한 프레임을 제1 서브필드 및 상기 제1 서브필드에 연속하고 상기 제1 서브필드에 연속하는 제2 서브필드를 포함하는 복수의 서브필드로 분할되어 구동되도록 하는 제어부, 및
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차를 제1 전압까지 점진적으로 증가시키고, 상기 제2 서 브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극의 전압차를 제2 전압까지 점진적으로 증가시키는 구동부를 포함하고,
    상기 제2 전압은 상기 제1 전압보다 큰 플라즈마 표시 장치.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 구동부는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 상기 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 제6 전압까지 점진적으로 하강시키며,
    상기 제6 전압은 상기 제5 전압보다 낮은 레벨인 플라즈마 표시 장치.
  20. 제18항에 있어서,
    상기 구동부는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제3 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제4 전압에서 제5 전압까지 점진적으로 하강시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 제6 전압으로 바이어스한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제4 전압에서 상기 제5 전압까지 점진적으로 하강시키며,
    상기 제6 전압은 상기 제3 전압보다 높은 레벨인 플라즈마 표시 장치.
  21. 제18항에 있어서,
    상기 구동부는, 상기 제1 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 중 제1 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키고, 상기 제2 서브필드의 리셋 기간의 하강기간에서 상기 복수의 제2 전극의 전압을 상기 제3 전압에서 상기 제4 전압까지 점진적으로 하강시키는 중 제2 시점에서 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키며,
    상기 제2 시점은 상기 제1 시점보다 늦은 시점인 플라즈마 표시 장치.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 구동부는, 상기 복수의 제1 전극의 전압을 플로팅시키기 전에, 상기 복수의 제1 전극을 상기 제3 전압보다 낮은 제5 전압으로 바이어스하는 플라즈마 표시 장치.
  23. 제16항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 구동부는, 상기 복수의 서브필드의 유지 기간 동안 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극에 제7 전압 레벨의 유지 방전 펄스를 교대로 인가하는 플라즈마 표시 장치.
  24. 제23항에 있어서,
    상기 구동부는, 상기 제1 서브필드의 유지 기간보다 상기 제2 서브필드의 유지 기간에서 더 많은 유지 방전 펄스를 상기 복수의 제1 전극 및 제2 전극에 교대로 인가하는 플라즈마 표시 장치.
  25. 제24항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양은 상기 제2 서브필드의 리셋 기간 동안 소거되는 벽 전하의 양보다 적은 플라즈마 표시 장치.
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