KR100893686B1 - 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 - Google Patents

Abstract

플라즈마 표시 장치에서, 제1 전극과 제2 전극과 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 교차하는 방향으로 제3 전극이 형성되어 있다. 복수의 제1 서브필드의 유지 기간에서, 제1 전극과 제2 전극에 복수의 유지 펄스를 교대로 인가한다. 그리고 각 제1 서브필드에 연속하는 복수의 제2 서브필드의 보조 리셋 기간에서, 제1 전극의 전압을 제1 전압에서 제2 전압까지 점진적으로 증가시킨 후, 제1 전극의 전압을 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 감소시킨다. 이때, 각 제1 서브필드에서는 복수의 유지 펄스를 제1 그룹과 적어도 마지막 유지 펄스를 포함하는 제2 그룹으로 구분하고, 제2 그룹에 속하는 유지 펄스의 폭을 제1 그룹에 속하는 유지 펄스의 폭보다 길게 한다.

PDP, 전극, 보조 리셋, 벽 전하, 소거, 리셋

Description

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법{PLASMA DISPLAY, AND DRIVING METHOD THEREOF}

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.

도 3 내지 도 6은 각각 본 발명의 제1 내지 제4 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

100: 플라즈마 표시 패널 110: 방전 셀

200: 제어부 300: 어드레스 전극 구동부

400: 주사 전극 구동부 500: 유지 전극 구동부

본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다.

플라즈마 표시 장치는 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 플라즈마 표시 패널을 이용한 표시 장치이다.

플라즈마 표시 장치는 한 프레임이 각각의 휘도 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 나누어 구동된다. 각 서브필드의 리셋 기간 동안 리셋 방전을 통하여 셀이 초기화되고, 어드레스 기간 동안 어드레스 방전으로 발광 셀과 비발광 셀이 선택되다. 그리고 유지 기간 동안 발광 셀에서 해당 서브필드의 가중치에 대응하는 횟수만큼 유지 방전이 일어나서 영상이 표시된다. 이때, 한 프레임 중 일부 서브필드의 리셋 기간은 모든 셀에서 리셋 방전을 일으키는 메인 리셋 기간으로 이루어지고, 나머지 일부 서브필드의 리셋 기간은 직전 서브필드에서 유지 방전이 일어난 발광 셀에서만 리셋 방전을 일으키는 보조 리셋 기간으로 이루어진다.

일반적으로 보조 리셋 기간에서는 주사 전극에 높은 전압이 인가되어 유지 방전이 끝난 후, 유지 전극에 양의 전압이 인가되고 어드레스 전극에 접지 전압이 인가된 상태에서 주사 전극의 전압이 램프 형태로 감소된다. 그런데, 온도가 상승할수록 방전 지연이 단축되고 방전 개시 전압이 낮아져 주사 전극의 전압이 램프 형태로 감소되면서 전극에 형성된 벽 전하가 많이 소거된다. 또한 어드레스 기간에서 뒤에 어드레싱되는 셀의 경우 벽 전하가 더 소실된다. 이와 같이, 벽 전하가 원하는 상태보다 적게 형성되면, 어드레스 방전이 약하게 일어나서 발광 셀의 유지 방전이 약하게 일어나는 저방전 현상이 일어날 수 있다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 보조 리셋 기간에서 발광 셀에 충분한 벽 전하를 형성할 수 있는 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법을 제공하는 것 이다.

본 발명의 한 실시 예에 따르면, 제1 전극 및 제2 전극과 상기 제1 전극 및 제2 전극과 교차하는 방향으로 형성되어 있는 제3 전극을 포함하며, 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법이 제공된다. 이 구동 방법은, 한 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 분할하는 단계, 상기 복수의 서브필드 중 연속되는 복수의 제1 서브필드의 각 유지 기간에서, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 복수의 유지 펄스를 교대로 인가하는 단계, 상기 복수의 제1 서브필드 중 상기 각 유지 기간에 연속하는 적어도일부의 제1 서브필드의 보조 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 제1 전압에서 제2 전압까지 점진적으로 증가시키는 단계, 그리고 상기 보조 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계를 포함한다. 이때, 상기 적어도 일부의 제1 서브필드에서, 상기 복수의 유지 펄스는 인가되는 순서에 따라 제1 그룹과 적어도 마지막 유지 펄스를 포함하는 제2 그룹으로 구분되고, 상기 제2 그룹에 속하는 유지 펄스의 폭은 상기 제1 그룹에 속하는 유지 펄스의 폭보다 길다.

본 발명의 다른 실시 예에 따르면, 제1 전극 및 제2 전극과 상기 제1 전극 및 제2 전극과 교차하는 방향으로 형성되어 있는 제3 전극을 포함하며 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법이 제공된다. 이 구동 방법은, 한 필드를 복수의 서브필드로 분할하는 단계, 상기 복수의 서브필드 중 복수의 제1 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압에서 제2 전극의 전압을 뺀 값을 제1 전압에서 제2 전압까지 점진적으로 증가시킨 후, 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계, 상기 복수의 서브필드 중 제2 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압에서 제2 전극의 전압을 뺀 값을 제5 전압에서 상기 제2 전압보다 낮은 제6 전압까지 점진적으로 증가시킨 후, 제7 전압에서 제8 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계, 상기 복수의 서브필드 중 상기 복수의 제2 서브필드 직전의 복수의 제3 서브필드의 유지 기간에서, 제1 기간 동안 상기 제1 및 제2 전극에 복수의 제1 유지 펄스를 교대로 인가하는 단계, 그리고 상기 복수의 제3 서브필드의 유지 기간에서, 상기 제1 기간 이후의 제2 기간 동안 상기 제1 및 제2 전극에 상기 제1 의 폭보다 긴 적어도 하나의 제2 유지 펄스를 교대로 인가하는 단계를 포함한다.

본 발명의 또 다른 실시 예에 따르면, 복수의 방전 셀, 제어부, 그리고 구동부를 포함하는 플라즈마 표시 장치가 제공된다. 제어부는 한 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 분할되어 구동되도록 제어한다. 그리고 구동부는, 상기 복수의 서브필드 중 복수의 제1 서브필드의 유지 기간에서 상기 복수의 방전 셀에 복수의 제1 유지 펄스를 인가한 후에 상기 복수의 방전 셀에 상기 제1 유지 펄스의 폭보다 긴 적어도 하나의 제2 유지 펄스를 인가하여 상기 복수의 방전 셀 중 발광 셀을 유지 방전시키고, 상기 복수의 제1 서브필드의 유지 기간에 연속하는 복수의 제2 서브필드의 리셋 기간에서 상기 제1 서브필드의 상기 발광 셀을 리셋 방전시키는 리셋 파형을 상기 복수의 방전 셀에 인가한다.

아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다.

도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.

이제 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 대해서 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 전극 구동부(300), 주사 전극 구동부(400) 및 유지 전극 구동부(500)를 포함한다.

플라즈마 표시 패널(100)은 열 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(이하, "A 전극"이라 함)(A1-Am), 그리고 행 방향으로 서로 쌍을 이루면서 뻗어 있는 복수의 유지 전극(이하, "X 전극"이라 함)(X1-Xn) 및 주사 전극(이하, "Y 전극"이라 함)(Y1-Yn)을 포함한다. 일반적으로 X 전극(X1-Xn)은 각 Y 전극(Y1-Yn)에 대응해서 형성되어 있으며, X 전극(X1-Xn)과 Y 전극(Y1-Yn)이 유지 기간에서 화상을 표시하기 위한 표시 동작을 수행한다. Y 전극(Y1-Yn)과 X 전극(X1-Xn)은 A 전극(A1- Am)과 직교하도록 배치된다. 이때, A 전극(A1-Am)과 X 및 Y 전극(X1-Xn, Y1-Yn)의 교차부에 있는 방전 공간이 셀(110)을 형성한다. 이러한 플라즈마 표시 패널(100)의 구조는 일 예이며, 아래에서 설명하는 구동 파형이 적용될 수 있는 다른 구조의 패널도 본 발명에 적용될 수 있다.

제어부(200)는 외부로부터 영상 신호를 수신하여 A 전극, X 전극 및 Y 전극의 구동 제어 신호를 출력하고, 한 프레임을 각각의 휘도 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 분할하여 구동한다.

어드레스 전극 구동부(300)는 제어부(200)로부터의 구동 제어 신호에 따라 복수의 A 전극(A1-Am)에 구동 전압을 인가한다.

주사 전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터의 구동 제어 신호에 따라 복수의 Y 전극(Y1-Yn)에 구동 전압을 인가한다.

유지 전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터의 구동 제어 신호에 따라 복수의 X 전극(X1-Xn)에 구동 전압을 인가한다.

도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.

도 2에 도시한 바와 같이, 한 프레임은 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 이루어질 수 있다. 도 2에서는 한 프레임이 가중치가 각각 1, 2, 3, 5, 8, 12, 18, 19, 40, 59 및 78인 11개의 서브필드(SF1-SF11)로 이루어진 것으로 도시하였다. 각 서브필드(SF1-SF11)는 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어진다. 이때, 복수의 서브필드 중 일부의 서브필드의 리셋 기간은 메인 리셋 기간 일 수 있으며, 복수의 서브필드 중 나머지 일부 서브필드의 리셋 기간은 보조 리셋 기간일 수 있다. 도 2에서는 서브필드(SF1)의 리셋 기간을 메인 리셋 기간으로 도시하였고, 나머지 서브필드(SF2-SF11)의 리셋 기간을 보조 리셋 기간으로 도시하였다.

도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다. 도 3에서는 설명의 편의상 복수의 서브필드 중 서브필드(SF1, SF2)의 구동 파형만을 도시하였으며, 하나의 X 전극과 Y 전극 및 A 전극(A)에 의해 형성되는 셀을 기준으로 설명한다.

도 3에 나타낸 바와 같이, 서브필드(SF1)의 메인 리셋 기간에서, 어드레스 전극 구동부(300) 및 유지 전극 구동부(500)는 각각 A 전극 및 X 전극을 기준 전압(도 3에서는 0V 전압)으로 바이어스하고, 주사 전극 구동부(400)는 Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vset 전압까지 점진적으로 증가시킨다. 도 3에서는 Y 전극의 전압을 램프 형태로 증가시키는 것으로 도시하였다. 그러면, Y 전극의 전압이 증가하는 중에 Y 전극과 X 전극 사이 및 Y 전극과 A 전극 사이에서 미약한 방전(이하, “약 방전”이라 함)이 일어나면서, Y 전극에는 (-) 벽 전하가 형성되고 X 및 A 전극에는 (+) 벽 전하가 형성된다. 이때, 모든 셀에서 방전이 일어나도록 Vset 전압은 X 전극과 Y 전극 사이의 방전 개시 전압보다 크게 설정할 수 있다.

이어서, 유지 전극 구동부(500)는 X 전극을 Ve 전압으로 바어어스하고, 주사 전극 구동부(400)는 Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시킨다. 도 3에서는 Y 전극의 전압을 램프 형태로 감소시키는 것으로 도시하였다. 그 러면, Y 전극의 전압이 감소하는 중에 Y 전극과 X 전극 사이 및 Y 전극과 A 전극 사이에서 약 방전이 일어나면서 Y 전극에 형성된 (-) 벽 전하와 X 전극 및 A 전극에 형성된 (+) 벽 전하가 소거된다. 일반적으로, 어드레스 기간에서 선택되지 않는 셀이 유지 기간에서 유지 방전이 일어나지 않도록, Y 전극과 X 전극 사이의 벽 전압이 거의 0V에 가깝도록 Ve 전압과 Vnf 전압이 설정된다. 즉, (Ve-Vnf) 전압이 Y 전극과 X 전극 사이의 방전 개시 전압 정도로 설정된다.

다음, 어드레스 기간에서 유지 전극 구동부(500)는 X 전극의 전압을 Ve 전압으로 유지한 상태에서 발광 셀을 선택하기 위해 주사 전극 구동부(400) 및 어드레스 전극 구동부(300)는 Y 전극과 A 전극에 각각 VscL 전압을 가지는 주사 펄스 및 Va 전압을 가지는 어드레스 펄스를 인가한다. 그리고 선택되지 않는 Y 전극은 VscL 전압보다 높은 VscH 전압으로 바이어스되고, 비발광 셀의 A 전극에는 기준 전압이 인가된다. 이때, VscL 전압은 Vnf 전압과 동일하거나 낮은 전압이 될 수 있다.

구체적으로, 어드레스 기간에서 주사 전극 구동부(400) 및 어드레스 전극 구동부(300)는 첫 번째 행의 Y 전극(도 1의 Y1)에 주사 펄스를 인가하는 동시에 첫 번째 행 중 발광 셀에 위치하는 A 전극에 어드레스 펄스를 인가한다. 그러면, 첫 번째 행의 Y 전극과 어드레스 펄스가 인가된 A 전극 사이에서 어드레스 방전이 일어나서, Y 전극에 (+) 벽 전하, A 및 X 전극에 각각 (-) 벽 전하가 형성된다. 이어서, 주사 전극 구동부(400) 및 어드레스 전극 구동부(300)는 두 번째 행의 Y 전극(도 1의 Y2)에 주사 펄스를 인가하면서 두 번째 행 중 발광 셀에 위치하는 A 전극에 어드레스 펄스를 인가한다. 그러면, 어드레스 펄스가 인가된 A 전극과 두 번째 행의 Y 전극에 의해 형성되는 셀에서 어드레스 방전이 일어나서 셀에 벽 전하가 형성된다. 마찬가지로, 주사 전극 구동부(400) 및 어드레스 전극 구동부(300)는 나머지 행의 Y 전극에 대해서도 순차적으로 주사 펄스를 인가하면서 발광 셀에 위치하는 A 전극에 어드레스 펄스를 인가하여 벽 전하를 형성한다.

이어서, 유지 기간에서, 주사 전극 구동부(400)는 Y 전극에 하이 레벨 전압(도 3에서는 Vs)과 로우 레벨 전압(도 3에서는 0V)을 교대로 가지는 유지 펄스를 해당 서브필드의 가중치에 해당하는 횟수만큼 인가한다. 그리고 유지 전극 구동부(500)는 X 전극에 유지 펄스를 Y 전극에 인가되는 유지 펄스와 반대 위상으로 인가한다. 이와 같이 하면, Y 전극과 X 전극의 전압 차가 Vs 전압과 -Vs 전압을 교대로 가지며, 이에 따라 발광 셀에서 유지 방전이 소정 횟수만큼 반복하여 일어난다.

서브필드(SF1)의 유지 기간과 이어지는 서브필드(SF2)의 보조 리셋 기간에서 유지 전극 구동부(500)는 X 전극에 기준 전압을 인가하고 주사 전극 구동부(400)는 Y 전극의 전압을 Vs1 전압에서 Vset1 전압까지 점진적으로 증가시킨다. 그러면, X 전극과 Y 전극 사이의 벽 전압과 Y 전극 전압의 합이 X 전극과 Y 전극 사이의 방전 개시 전압을 넘으면 Y 전극과 X 전극 사이에 약 방전이 발생한다. 또한, Y 전극이 증가하는 중에 Y 전극과 A 전극 사이의 벽 전압과 Y 전극 전압의 합이 A 전극과 Y 전극 사이의 방전 개시 전압을 넘으면 Y 전극과 A 전극 사이에서도 약 방전이 일어나면서 발광 셀의 Y 전극에는 (-) 벽 전하가 형성되고 발광 셀의 X 및 A 전극에는 (+) 벽 전하가 형성된다.

이때, 서브필드(SF2)의 리셋 기간은 보조 리셋 기간이므로, 직전 서브필 드(SF1)에서 유지 방전이 일어나지 않은 경우에 리셋 방전이 일어나지 않도록 Vset1 전압을 설정한다. 그런데, 앞에서 설명한 것처럼 Y 전극의 전압이 Vset 전압까지 증가하면 모든 셀에서 리셋 방전이 일어나므로, Vset1 전압은 Vset 전압보다 낮은 전압으로 설정될 수 있다.

이어서, 보조 리셋 기간에서 유지 전극 구동부(500) 및 어드레스 전극 구동부(300)는 각각 X 전극과 A 전극에 Ve 전압과 기준 전압을 인가한 상태에서 주사 전극 구동부(400)는 Y 전극 전압을 Vs2 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시킨다. Y 전극의 전압을 Vset1 전압에서 Vnf 전압으로 점진적으로 감소시킬 수 있지만, 이와 같이 하면, 리셋 기간이 길어지므로 방전이 시작되지 않는 Vs2 전압부터 감소시킬 수 있다. 그러면, Y 전극의 전압이 감소하는 중에 발광 셀의 Y 전극과 X 전극 사이 및 발광 셀의 Y 전극과 A 전극 사이에서 약 방전이 일어나면서 발광 셀의 Y 전극에 형성된 (-) 벽 전하와 발광 셀의 X 및 A 전극에 형성된 (+) 벽 전하가 소거된다.

다음, 서브필드(SF2)에서도 어드레스 기간에서 어드레스 방전을 통하여 발광 셀과 비발광 셀을 선택하고 유지 기간에서 발광 셀에 대해서 유지방전을 수행한다.

이와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에서는 보조 리셋 기간에서 Y 전극의 전압을 점진적으로 감소시키기 전에, 발광 셀에 약 방전을 일으켜 벽 전하가 설정되므로, 발광 셀의 어드레스 방전이 약해서 발생하는 저방전 현상을 개선시킬 수 있다. 한편, 보조 리셋 기간 전에 발광 셀에 충분한 벽 전하가 형성되어 있으면, 보조 리셋 기간에서 약 방전이 원활하게 일어날 수 있다. 아래에서는 보조 리셋 기간에서 발광 셀에 충분한 벽 전하를 형성할 수 있는 실시 예에 대해서 도 4 내지 도 6을 참조하여 상세하게 설명한다.

도 4 내지 도 6은 각각 본 발명의 제2 내지 제4 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다. 도 4 내지 도 6에서는 유지 기간의 구동 파형을 도시하였다.

먼저, 도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제2 실시 예에 따르면, 보조 리셋 기간을 가지는 서브필드 직전의 서브필드의 유지 기간에서 유지 전극 구동부(400)는 X 전극에 마지막으로 인가되는 유지 펄스의 폭을 다른 유지 펄스의 폭보다 길게 한다. 이와 같이 하면, X 전극과 Y 전극의 전압 차 및 X 전극과 A 전극의 전압 차가 Vs 전압을 유지하고 있는 기간이 길어지기 때문에, 마지막 유지 방전이 일어난 이후에 형성된 전하들이 셀에 많이 형성될 수 있다.

그리고 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시 예에 따르면, 보조 리셋 기간을 가지는 서브필드 직전의 서브필드의 유지 기간에서 주사 전극 구동부(400) 및 유지 전극 구동부(500)는 각각 Y 전극 및 X 전극에 인가되는 마지막 유지 펄스를 포함한 하나 이상의 유지 펄스의 폭을 다른 유지 펄스의 폭보다 길게 할 수 있다.

일반적으로 가중치가 작은 서브필드는 유지 펄스의 개수가 적으므로, 긴 폭을 가지는 유지 펄스를 인가하여도 셀에 벽 전하가 많이 형성되지 않을 수 있다. 따라서, 도 6에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제4 실시 예에 따르면, 주사 전극 구동부(400) 및 유지 전극 구동부(500)는 가중치가 큰 서브필드로 갈수록 긴 폭을 가 지는 유지 펄스를 X 전극 및 Y 전극에 더 많이 인가한다.

즉, 본 발명의 제4 실시 예에 따르면, 제어부(도 1의 200)는 유지 기간에 인가되는 복수의 유지 펄스를 적어도 두 개의 그룹으로 구분하고, 시간적으로 앞의 그룹(제1 그룹)은 일반적인 유지 펄스를 할당하고, 뒤의 그룹(제2 그룹)은 긴 폭을 가지는 유지 펄스를 할당한다. 또한, 제어부(200)는 한 프레임을 이루는 복수의 서브필드를 가중치 순으로 복수의 그룹으로 구분하고, 상대적으로 가중치가 작은 서브필드를 포함하는 그룹의 서브필드에서 긴 폭을 가지는 유지 펄스의 개수를 상대적으로 가중치가 큰 서브필드를 포함하는 그룹의 서브필드에서 긴 폭을 가지는 유지 펄스의 개수보다 적게 할당한다. 도 6에서는 서브필드(SF1)에는 긴 펄스 폭을 가지는 유지 펄스를 할당하지 않았고, 서브필드(SF2-SF3)은 긴 펄스 폭을 가지는 1개의 유지 펄스를 할당하고, 서브필드(SF4)에는 긴 펄스 폭을 가지는 2개의 유지 펄스를 할당하고, 서브필드(SF5-SF10)에는 긴 펄스 폭을 가지는 4개의 유지 펄스를 할당한 것으로 도시하였다. 이렇게 하면, 가중치가 큰 서브필드로 갈수록 셀에 벽 전하를 더 많이 형성할 수 있으며, 이로 인하여 보조 리셋 기간에서 약 방전을 원활하게 수행할 수 있다. 한편, 한 프레임의 마지막 서브필드의 경우 다음 프레임에서 메인 리셋 기간이 수행되므로, 제어부(200)는 긴 폭을 가지는 유지 펄스를 많이 할당하지 않는다.

이상에서 본 발명의 실시 예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위 에 속하는 것이다.

본 발명에 의하면, 보조 리셋 기간에서 발광 셀에 벽 전하를 충분히 형성함으로써, 고온 저방 현상을 개선시킬 수 있다.

Claims (14)

1. 제1 전극 및 제2 전극과 상기 제1 전극 및 제2 전극과 교차하는 방향으로 형성되어 있는 제3 전극을 포함하며, 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법에 있어서,

   한 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 분할하는 단계,

   상기 복수의 서브필드 중 복수의 제1 서브필드의 보조 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 제1 전압에서 제2 전압까지 점진적으로 증가시키는 단계,

   상기 보조 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압을 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계, 그리고

   상기 복수의 제1 서브필드의 유지 기간에서, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 복수의 유지 펄스를 교대로 인가하는 단계

   를 포함하며,

   상기 복수의 유지 펄스는 인가되는 순서에 따라 제1 그룹과 적어도 마지막 유지 펄스를 포함하는 제2 그룹으로 구분되고, 상기 제2 그룹에 속하는 유지 펄스의 폭은 상기 제1 그룹에 속하는 유지 펄스의 폭보다 길며,

   상기 복수의 제1 서브필드 중 제2 서브필드에서 상기 제2 그룹에 속하는 유지 펄스의 수가 상기 복수의 제1 서브필드 중 상기 제2 서브필드보다 가중치가 큰 제3 서브필드에서 상기 제2 그룹에 속하는 유지 펄스의 수보다 적은 구동 방법.
2. 삭제
3. 삭제
4. 제1항에 있어서,

   상기 방전 셀이 상기 보조 리셋 기간 직전의 제1 서브필드에서 비발광 셀인 경우에 상기 보조 리셋 기간에서 리셋 방전되지 않는 구동 방법.
5. 제4항에 있어서,

   상기 증가시키는 단계는, 상기 제2 전극에 제5 전압을 인가하는 단계를 포함하며,

   상기 감소시키는 단계는, 상기 제2 전극에 상기 제5 전압보다 높은 제6 전압을 인가하는 단계를 포함하는 구동 방법.
6. 제5항에 있어서,

   상기 복수의 서브필드 중 제4 서브필드의 메인 리셋 기간에서,

   상기 제2 전극에 제7 전압을 인가한 상태에서 상기 제1 전극의 전압을 제8 전압에서 제9 전압까지 점진적으로 증가시키는 단계, 그리고

   상기 제2 전극에 상기 제7 전압보다 높은 제10 전압을 인가한 상태에서 상기 제1 전극의 전압을 제11 전압에서 제12 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계

   를 더 포함하며,

   상기 제2 전압과 상기 제5 전압의 차이는 상기 제9 전압과 상기 제7 전압의 차이보다 작은 구동 방법.
7. 제1 전극 및 제2 전극과 상기 제1 전극 및 제2 전극과 교차하는 방향으로 형성되어 있는 제3 전극을 포함하며 상기 제1 전극, 제2 전극 및 제3 전극에 의해 방전 셀이 형성되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법에 있어서,

   한 필드를 복수의 서브필드로 분할하는 단계,

   상기 복수의 서브필드 중 복수의 제1 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압에서 제2 전극의 전압을 뺀 값을 제1 전압에서 제2 전압까지 점진적으로 증가시킨 후, 제3 전압에서 제4 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계,

   상기 복수의 서브필드 중 제2 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 제1 전극의 전압에서 제2 전극의 전압을 뺀 값을 제5 전압에서 상기 제2 전압보다 낮은 제6 전압까지 점진적으로 증가시킨 후, 제7 전압에서 제8 전압까지 점진적으로 감소시키는 단계,

   상기 복수의 서브필드 중 상기 복수의 제2 서브필드 직전의 복수의 제3 서브필드의 유지 기간에서, 제1 기간 동안 상기 제1 및 제2 전극에 복수의 제1 유지 펄스를 교대로 인가하는 단계, 그리고

   상기 복수의 제3 서브필드의 유지 기간에서, 상기 제1 기간 이후의 제2 기간 동안 상기 제1 및 제2 전극에 상기 제1 의 폭보다 긴 적어도 하나의 제2 유지 펄스를 교대로 인가하는 단계

   를 포함하며,

   상기 복수의 제3 서브필드 중 제4 서브필드에서 상기 제2 유지 펄스의 개수가 상기 복수의 제3 서브필드 중 상기 제4 서브필드보다 가중치가 큰 제5 서브필드에서 상기 제2 유지 펄스의 개수보다 적은 구동 방법.
8. 삭제
9. 제7항에 있어서,

   상기 적어도 하나의 제2 유지 펄스는 상기 각 제3 서브필드의 유지 기간에서 마지막으로 인가되는 유지 펄스인 구동 방법.
10. 복수의 방전 셀,

    한 프레임을 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 분할되어 구동되도록 제어하는 제어부, 그리고

    상기 복수의 서브필드 중 복수의 제1 서브필드의 유지 기간에서 상기 복수의 방전 셀에 복수의 제1 유지 펄스를 인가한 후에 상기 복수의 방전 셀에 상기 제1 유지 펄스의 폭보다 긴 적어도 하나의 제2 유지 펄스를 인가하여 상기 복수의 방전 셀 중 발광 셀을 유지 방전시키고, 상기 복수의 제1 서브필드의 유지 기간에 연속하는 복수의 제2 서브필드의 리셋 기간에서 상기 제1 서브필드의 상기 발광 셀을 리셋 방전시키는 리셋 파형을 상기 복수의 방전 셀에 인가하는 구동부

    를 포함하며,

    상기 제어부는 상기 복수의 제1 서브필드를 가중치 순으로 복수의 그룹으로 구분하고, 상기 복수의 그룹 중 제1 그룹의 서브필드에서 상기 적어도 하나의 제2 유지 펄스의 수는 상기 복수의 그룹 중 상기 제1 그룹의 서브필드보다 큰 가중치를 가지는 제2 그룹의 서브필드에서 상기 적어도 하나의 제2 유지 펄스의 수보다 적게 설정하는 플라즈마 표시 장치.
11. 삭제
12. 제10항에 있어서,

    복수의 제1 전극, 그리고

    상기 복수의 제1 전극과 함께 표시 동작을 수행하는 복수의 제2 전극

    을 더 포함하며,

    상기 복수의 방전 셀은 복수의 제1 전극 및 복수의 복수의 제2 전극에 의해 정의되며,

    상기 구동부는,

    상기 유지 기간에서, 상기 복수의 제1 전극과 상기 복수의 제2 전극에 상기 복수의 제1 유지 펄스를 교대로 인가한 후, 상기 적어도 하나의 제2 유지 펄스를 교대로 인가하며,

    상기 적어도 하나의 제2 유지 펄스는 상기 유지 기간에서 인가되는 마지막 유지 펄스를 포함하는 플라즈마 표시 장치.
13. 제10항에 있어서,

    상기 제1 서브필드의 리셋 기간에서, 상기 복수의 방전 셀을 리셋 방전시키는 리셋 파형을 상기 복수의 방전 셀에 인가하는 플라즈마 표시 장치.
14. 제10항, 제12항 또는 제13항 중 어느 한 항에 있어서,

    상기 제2 유지 펄스에 의한 유지 방전에 의해 상기 발광 셀에 형성되는 벽 전하의 양이 상기 제1 유지 펄스에 의한 유지 방전에 의해 상기 발광 셀에 형성되는 벽 전하의 양보다 많은 플라즈마 표시 장치.

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