KR100901220B1

KR100901220B1 - 특정 편광 상태를 갖는 광 생성 방법

Info

Publication number: KR100901220B1
Application number: KR1020037017120A
Authority: KR
Inventors: 에드링거요하네스; 클라우스 하이네켐프켄스; 데틀레브 하우슬러
Original assignee: 오를리콘 트레이딩 아크티엔게젤샤프트, 트뤼프바흐
Priority date: 2001-07-04
Filing date: 2002-06-25
Publication date: 2009-06-08
Also published as: KR20040070435A; NO20035804L; US7070280B2; DE50205127D1; US20030007245A1; EP1402291B1; WO2003019246A1; CN100510804C; CN1551994A; TW589510B; EP1402291A1; ATE311613T1; JP4625634B2; JP2005500582A; HK1064742A1

Abstract

본 발명은, 입구에서 편광 상태에 민감한 빔 스플리터에 광이 입사되며, 제시된 편광 상태를 갖는 광이 상기 빔 스플리터에 의해 상기 빔 스플리터의 제1 출구에서 방출되고, 제시된 상태에 대해 수직인 편광 상태를 갖는 광이 이 상태에 대해 변경되고 방출되는, 제시된 편광 상태를 갖는 광의 발생 방법에 관한 것이다. 또한 본 발명은 편광 장치, 조명 장치, 프로젝션 시스템 및 그 사용에 관한 것이다.

Description

특정 편광 상태를 갖는 광 생성 방법{METHOD FOR PRODUCING LIGHT HAVING A GIVEN STATE OF POLARIZATION}

본 발명은 특정 편광 상태를 갖는 광 생성 방법에 관한 것으로서, 광이 편광 상태에 민감한 빔 스플리터의 입구로 입사되며, 빔 스플리터에 의해 특정 편광 상태를 갖는 광이 제1 출구로 방출되고, 광은 상기 상태로부터 변경되어 특정 상태와는 다른 편광 상태로 방출된다. 또한 본 발명은 편광 장치, 조명 장치, 프로젝션 시스템(projection system) 및 그 용도에 관한 것이다.

US-A-6 139 157에는 서문에 명시한 종류의 방법 및 이런 방법으로 작동하는 조명 시스템이 공지되어 있다. 비편광된 광이 광터널 및 렌즈 시스템을 통과한 후에 편광 상태에 민감한 빔 스플리터로 입사된다. 특정 편광 상태에서 편광된 비편광성 광의 일부가 빔 스플리터의 제1 출구로 방출되는 반면, 특정 편광 상태와 다른 상태를 갖는 비편광성 광의 일부는 이 상태에서 변경되고 빔 스플리터의 제2 출구에서 방출된다.
또한 US-B1-6 208 463은 비편광성 광을 포함하는 광원을 이용하여 편광된 광선을 발생시키기 위한 편광 장치를 공지한다. 이 광원의 광선은, 편광된 광을 부재에 대해 수직으로 통과시키며, 편광된 광을 부재에 대해 평행하게 반사시키는 부재의 배열을 향한다. 예를 들어 거울과 같은, 광학 부재는, 반사된 광선이 투과된 광선의 방향으로 역전되도록, 배치된다. 양측 광선이 동일한 편광 상태를 갖도록, 반사된 광의 편광 상태를 변경하기 위해서, λ/2 부재는 반사된 광선의 경로에 배치된다.

상기 방법은 다음과 같은 단점을 갖는다.

최종적으로, 특정 상태로 편광된 광이 두 개의 다른 위치 또는 빔 스플리터의 출구에서 방출되므로, 연결되는 조명 장치가 양측 위치에서 광을 정밀하게 수용 할 수 있도록 설계되어야 하며, 따라서 전체 시스템이 상대적으로 융통성 있게 설계될 수 없고 체적이 증가한다.

본 발명의 목적은, 전술한 단점을 극복하는 방법 또는 이런 방법으로 작동하는 편광 장치를 제시하는 것이다.
서문에 명시한 방법에서 상기 목적은, 편광 상태에 민감한 빔 스플리터의 입구에 편광 상태가 변경된 광을 다시 제공하고, 또한 반사를 통해, 바람직하게는 다중 반사를 통해, 광의 편광 상태를 변경함으로써 달성된다.
이로서, 실질적으로 원치 않는 편광 상태를 갖는 모든 비편광성 광이 빔 스플리터에서 방출되는 것이 달성된다. 이는, 광이 적어도 근사하게나마 제시된 편광 상태를 가지고 제1 출구를 통해 빔 스플리터에서 방출될 때까지 광이 제2 출구에서 방출되고 회전하므로, 달성된다. 또한 차후에 설명되는 바와 같이, 매우 바람직한 실현 형태를 얻을 수 있다.

삭제

가장 바람직한 실현 가능성을 제시하는, 차후에 설명되는 본 발명의 바람직한 실시예에서는, 광의 편광 상태가 반사, 바람직하게는 다중 반사를 통해 변경된다.

전술한 반사 상태 변경과 조합 가능한, 다른 바람직한 실시예에서는, 광의 편광 상태가 바람직하게도 적어도 하나의 지연 부재를 통해 사전에 설정되는 형태로 변경된다.

US 6 139 157에서는, 빔 스플리터에 제공되는 광이, 우선 반사기를 포함하는 광원에서 광터널의 개구로 초점이 맞춰지고, 광의 강도 분포가 광터널에서의 다중 반사를 통해 그 출구측 주변 내벽에서 균질화되는 것이 공지되어 있다. 따라서 강 도 균질화를 위해 빔 스플리터에 제공되는 비편광성 광을 위한 다중 반사 부재가 제공된다.

본 발명에 따른 편광 생성 방법의 매우 바람직한 실시예에서는, 편광 상태에 민감한 빔 스플리터에 제공하기 전에 광을 반사 내벽을 포함하는 광터널 부품으로 안내하며, 특정 편광 상태에 대해 수직 상태인 광이 광원의 대향측 단부에서 광터널 부품으로 안내되고 이 광터널 부품에서 반사된다. 따라서 특정 상태로 편광되지 않은 광의 일부에 대해 그 편광 상태를 변경하고, 다시 빔 스플리터의 입구로 제공하기 위해, 강도 균질화의 이유에서 비편광성 광을 위한 광터널 부품이 동시에 활용된다. 따라서 본 발명에 따른 방법 및 장치의 용이한 실현 및 컴팩트한 구조가 가능하다.

바람직하게도 광이 제공되는 부품에는 정의된 편광 상태 변경을 실현하도록 적어도 하나의 부재, 바람직하게는 지연판을 장착한다.

다른 바람직한 실시예에서는, 빔 스플리터에 제공되는 광이 광원 및 반사기를 통해 발생되며, 제시된 편광 상태에 대해 수직 상태인 광의 적어도 일부가 반사기에서도 반사되고, 반사기에서 반사된 광이 편광 상태에 민감한 빔 스플리터의 입구로 제공된다.

마지막으로 명시한 이런 방법은 전술한 반사기를 통해 광터널 부품의 개구를 위한 폐쇄된 공간을 제공하는 전술한 광터널 부품과 조합적으로 사용할 때 특히 적합하며, 따라서 빔 스플리터의 제2 출구와 접촉하며 광터널의 개구를 통해 방출되는 광의 일부가 소실되지 않고, 반사기를 통해 다시 광터널 부품으로 반사된다. 또 한 바람직하게도 상기 반사기는 적분구와 유사한 형태를 가질 수 있다.

본 발명에 따른 방법의 다른 바람직한 실시예에서는, 제시된 편광 상태 변경을 실현하는 부재가 반사기의 반사면에도 장착된다.

본 발명에 따른 편광 장치는 청구항8에 명시하며, 바람직한 실시예는 청구항9 내지 청구항16에 명시한다. 본 발명에 따른 조명 장치는 청구항17에, 본 발명에 따른 프로젝션 시스템은 청구항19에 명시한다. 본 발명에 따른 장치 및 본 발명에 따른 방법은 프로젝터 또는 조명 장치에 매우 적합하게 이용 가능하다.

다음에서는 도면을 통해 도시한 실시예를 근거로 본 발명에 대해 상세히 설명한다.

*도1은 본 발명에 따른 편광 장치의 작동 원리가 되는 본 발명에 따른 방법의 원리를 광학적 기능 블록/신호 흐름도를 통해 도시한 도면이며,

도2는 도1에 상응하는 도시로서, 편광 회전 또는 변경 부품의 바람직한 실시예를 도시한 도면이고,

도3은 도1 및 도2에 상응하는 도시로서, 동일한 부품이 광강도 분포의 균질화 뿐 아니라 본 발명에 따라 사용되는 편광 상태 회전 또는 변경 부재를 위해서도 사용되는, 본 발명에 따른 방법 및 본 발명에 따른 장치에 대한 바람직한 실시예를 도시한 도면이며,

도4는 도3을 근거로 도시한 방법의 바람직한 실시예를 도시한 도면이고,

도5는 편광 상태에 민감한 빔 스플리터의 바람직한 실시예를 도시한 도면이며,

도6은 본 발명에 따라 투입되는 편광 상태에 민감한 빔 스플리터의 다른 바람직한 실시예를 도시한 도면이고,

도7은 다른 바람직한 실시 형태의 본 발명에 따른 방법 또는 본 발명에 따른 장치를 사용한 본 발명에 따른 프로젝션 장치의 개략도를 도시한다.

우선 도1의 기능 블록/신호 흐름도를 근거로 본 발명의 기본 원리를 설명한다. 통상적으로 프로젝터 광원에서 방출되는 비편광성 광(L)이 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(beam splitter)(1)의 광학적 입구(E₁)에 제공된다. 편광 방향에 민감한 빔 스플리터(1)가 제1 광학적 출구(A₁)를 통해, 예를 들어 P-편광된 제시된 편광 상태를 갖는 비편광성 광(L)의 일부(L_p)를 방출한다. 제1 광학적 출구(A₁)에서 방출된 광의 편광 상태(P)에 대해 수직 편광 상태를 갖는 비편광성 광(L)의 S-편광된 일부(L_s)는 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)에서 제2 광학적 출구(A₂)로 방출된다. 일반적으로 상기 광(L)의 일부, 즉 예를 들어 일부(L_p)는 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)에서 편광 필터 적층 시스템을 통해 투과하고, 예를 들어 다른 일부(L_s)는 반사한다.

제1 광학적 출구(A₁)를 통해 방출되는 광(L_p)은 원하는 편광 상태로 된다. 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)의 제2 광학적 출구(A₂)를 통해 방출되는 광(L_s)은 편광 상태 회전 또는 변경 부재(3)에서 편광 상태가 변경 또는 회전되며, 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)의 광학적 입구(E₁)로 다시 투입된다. 이로서 빔 스플리터(1)에 투입된, 초기에 비편광된 모든 광(L)이 최종적으로 원하는 편광 상태, 즉 P-편광 상태인 편광성 광(L_p)으로서 방출된다.

도2에 도시한 바와 같이, 바람직하게도 도1에 따라 제2 광학적 출구(A₂)에서 방출되는 광(L_s)이 다중 반사됨으로써 편광 상태 회전 부재(3)가 실현된다. 일반적으로 반사로 인해 광의 편광 상태는 더 이상 유지되지 않는다. 광(L_s)의 편광 상태가 단지 약간만 회전하는 경우에도, 일부가 P-편광되며 제1 광학적 출구(A₁)에서 편광성 광(L_p)으로서 방출된다. 다른 일부는, 자신의 편광 방향이 요구된 P-편광에 상응할 때까지, 상기 장치(3)로 수 차례 반복 처리해야 할 필요가 있다.

도2에 도시한 바와 같이, 바람직하게도 장치(3)에서의 편광 상태 회전은, 우선 도1에 도시한 원리에 따라 광(L_s)을 λ/2로 지연시키는, 즉 편광 방향을 90°회전시키는 소위 “지연 부재(retarder element)"와 같은 편광 상태 회전 부재를 추가적으로 장착함으로써 강화될 수 있다.

도2의 블록(3)에는 광(L_s)을 위한 다중 반사 장치(6)가 도시되어 있고, 또한 예를 들어 지연판(8)과 같은 추가적인 별도의 내장형 편광 방향 회전 부재가 파선 으로 도시되어 있다.

서문에 명시한 바와 같이, 특히 프로젝터와 같은 복수의 적용 분야에서는, 강도 분포가 가능한 한 균일한 광선(light beam)을 제공하는 것이 요구된다. 서문에 명시한 바와 같이, 이를 위해, 광원에서 유래하는 광의 다중 반사를 통해 출구 측에서 일반적으로 이미지 형성 부재의 형태에 적응된 균일한 강도 분포를 준비하는 광터널(light tunnel)에 광원의 매우 작은 범위에서 유래하는 광을 투입한다.

하지만 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)의 입구측에서 균질화를 위해 입사광(L)을 수 차례 반사하는 부재를 장착하는 경우에는, 도3에 개략적으로 도시한 바와 같이, 바람직하게도 이 다중 반사 부재가 도1 및 도2의 부재에 상응하는 편광 방향 회전 부재로서 동시에 투입된다.

도3에 따라서 바람직하게도 광터널의 광학적 입구(E_3a)를 통해 다중 반사 부재(3a)에 광(L_e)이 입사되며, 다중 반사 후에 강도가 균질화된 상태로 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)의 입구(E₁)에 제공된다.

광학적 입구(E₁)와 동일한 광학적 출구(A₂)에서 원치 않는 편광 상태를 나타내는 광(L_s)이 다중 반사 부재(3a)의 출구(A_3a)로 전달되며, 여기에서 다중 반사 후에 재반사되고, 여기에서 회전된 편광 방향을 갖는 광(L)의 일부로서 다시 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)에 전달된다. 이런 방식을 통해, 차후에 상세히 설명되며, 지연판과 같은 별도의 편광 방향 회전 부재가 장착될 수 있는 강도 균질화를 위해 이미 장착된 다중 반사 부재(3a)가, 도1 또는 도2의 블록(3)을 근거로 설명한 본 발명에 따라 실시되는 편광 상태 회전을 실현하기 위해 사용된다.

*도4는 도3을 근거로 설명된 바람직한 실시 원리의 바람직한 실시예를도시한다. 예를 들어 투영 광원(projection light source)의 광(L_e)이 광터널(3a)의 입구(E_3a)에서 개구(7)를 통과하고, 광터널이 광터널의 광학 축(A)에 대해 거의 평행하게 진행하지 않는 한, 일 회 또는 수 차례 광터널(3a)의 고반사 내측벽(9)에서 반사된다.

입사광 또는 이 입사광의 광경로는 도4에서 파선으로 표시한다.

바람직하게도 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1a)가 광터널(3a)의 출구(A_3a)에 직접 장착되며, 상기 빔 스플리터의 광학적 출구(A_1a)에서 광(L_p)이 원하는 편광 상태 및 균질하게 분포한 강도로 방출된다.

다음에서는 도3에 대한 설명에 이어 도4에 대한 설명이 이루어진다. 원하는 편광 상태, 즉 P-편광 상태와 다르게 편광된 광(L_s)이 광터널(3a)에서 도4의 연장선으로 도시된 광선으로 표시되며, 다시 광터널(3a)로 반사되고, 이 광터널에서 수 차례 반사한 후에 최종적으로 내측으로 반사하도록 형성된, 개구(7)를 감싸는 광터널 차단부(7)에서 반사되며, 사전에 다중 반사를 통해 회전된 편광 상태로 광터널의 출구(A_3a)에서 다시 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1a)에 전달된다. 따라서 이 러한 회전 후에 원하는 방향 또는 원하는 상태로 편광된 광이 다시 빔 스플리터 (1a)에서 광(L_p)의 일부로서 방출된다. 차단부(11)의 반사 내벽은 빔 스플리터(1a)에서 반사면 또는 이 반사면의 평균 위치(E')에 대해 평행하게 배치된다(도5 참조).

도4에 따른 바람직한 실시예에서는 입구 개구(7)와 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1a)의 입구 또는 광터널(3a)의 출구(A_3a) 사이에 편광 상태를 특정한 위치로 회전시키는 하나 또는 복수의 광학 부재가 장착된다. 도4에서 파선으로 도시한 바와 같이, 예를 들어 바람직하게도 λ/4 지연판과 같은 이런 유형의 편광 상태 회전 부재는 부호(13a)로 표시한 광터널(3a)의 횡단면 및/또는 부호(13b)로 표시한 광터널(3a)의 측벽 및/또는 도4에서 부호(13c)로 표시한 광터널(3a)의 입구 개구(7)를 감싸는 입구측 차단부(11)에 장착된다. 또한 입구 개구(7)를 감싸는 차단부(11)에서 부호(13c)로 표시된, 특히 λ/4 지연판과 같은 편광 상태 회전 부재를 장착하는 것이 바람직하다. λ/4 지연판을 2회 진행함으로써 상기 광 (L_s)에서 90°편광 회전이 이루어진다.

이미 도4에 도시한 바와 같이, 바람직하게도 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1a)로서 판형태의 빔 스플리터를 투입한다. 또한 발생하는 광강도에 따라서, 합성수지 계열의 이런 편광 빔 스플리터를 투입할 수 있는지 또는 유리 재질의 콜레스테릭(cholesteric) 필터와 함께 구성되는 빔 스플리터를 사용할 것인지를 결정한다.

하지만 도5에 도시한 바와 같은, 3개의 코팅된 유리 프리즘을 통해 실현된 편광 빔 스플리터(1b)를 투입할 수도 있다.

빔 스플리터(1b)로 입사하는 광(L, L_s)의 가능한 한 적은 평행 오프셋 (parallel offset)(Δ)이 요구되는 경우에는, 도6에 도시한 바와 같이, 바람직하게도 부호(1c)로 도시한 편광 상태 선별적 빔 스플리터가 3개의 프리즘 구조(I, II..)의 배열(array)로서 실현된다. 상기 구조가 정밀할수록 상기 평행 오프셋(△)도 작아진다. 도4에서는, 반사 후에 입구 개구(7)를 둘러싼 차단부(11)로 입사되지 않고 입구 개구(7)를 통해 광터널을 벗어나는 광(L_s)이 소실되는 것을 알 수 있다. 도7에는 본 발명에 따른 프로젝터의 예를 근거로 이런 문제점의 해결 방안이 도시되어 있다. 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1a, 1b, 1c)에 의해 시스템에서 벗어날 수 없고 반사기(15)에서도 광터널(3a)로 반사되도록, 광원(17)의 광이 입구 개구(7)로 초점이 맞춰지는 반사기(15)에 형성된다. 또한 반사기(15)는 거의 적분구(integrating sphere)의 형태로 형성될 수 있다.

본 발명에 따른 특수한 프로젝터는 이미 설명한 부재 외에도 컬러 셔터 (color shutter)(19), 렌즈 시스템(21) 및 본 발명에 따라 장착되는 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1a)로 인해 반드시 편광 상태에 민감한 빔 스플리터로서 형성될 필요가 없는 다른 빔 스플리터(23)를 포함한다. 또한 부호(27)는 투영 렌즈를 나타낸다.

또한 도7을 통해 설명된 바와 같이, 반사기(15)에는 도7에서 부호(13d)로 표 시한 별도의 편광 방향 회전 부재가 장착될 수도 있다.

바람직하게도 도7에 도시한 컬러 셔터, 예를 들어 적색, 녹색 및 청색을 선별적으로 투과하는 색상 선별적 투과부(도시되지 않음)를 통해 광(L_p)의 색상 변조가 이루어진다. 바람직하게도 상기 컬러 셔터(19)는 컬러휠(color wheel)로서 형성된다. 바람직하게도 이미지 형성 부재로서 어레이가 반사형 광밸브에 장착되며, 컬러 셔터(19)가 장착되는 경우에는 이 광밸브 내에서 투영된 이미지의 픽셀 강도가 조절된다.

편광 상태에 민감한 빔 스플리터는, 제1 편광 상태에서 파장 범위(Δλ₁)의 광을 투과시키며, 이에 수직인 제2 편광 상태에서 반사시키고, 제2 편광 상태에서 다른 파장 범위(Δλ₂)의 광을 투과시키며, 제1 편광 상태에서 반사시키는 부재일 수 있다.

이로서 파장에 따라서 편광 상태를 갖는 광이 빔 스플리터에서 방출된다. 이런 파장에 따른 편광 분포는 대개 프로젝터, 특히 반사형 LCD를 기반으로 하는 프로젝터에서 필요하다. 편광 상태에 민감한 부재는 편광 상태에 민감한 파장 선별적 빔 스플리터로서 작용하는 지연판 및 그 후단에 설치된 편광 빔 스플리터를 포함할 수 있다.

Claims

입구(E₁)에서 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)에 광(L)이 입사되며, 제시된 편광 상태를 갖는 광(L_p)이 상기 빔 스플리터(1)에 의해 상기 빔 스플리터의 제1 출구(A₁)에서 방출되고, 제시된 상태(P)에 대해 수직인 편광 상태(S)를 갖는 광(L_s)이 이 상태에 대해 변경되고 방출되며, 변경된 편광 상태의 상기 광이 상기 입구(E₁)에서 편광 상태에 민감한 상기 빔 스플리터에 다시 제공되는, 제시된 편광 상태(P)를 갖는 광의 발생 방법에 있어서,

편광 상태에 민감한 상기 빔 스플리터의 상기 입구에 제공하기 전에, 반사 내벽을 포함하는 광터널 부품을 통해 광이 전달되며, 제시된 편광 상태에 대해 수직 상태인 상기 광이 상기 부품으로 안내되고, 그 안에서 반사된 후에 입구로 다시 입사되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제1항에 있어서, 반사를 통해 편광 상태를 변경하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제1항에 있어서, 다중 반사를 통해 편광 상태를 변경하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 사전에 결정된 지연을 통해 추가적으로 편광 상태를 변경하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 하나의 지연 부재를 통해 추가적으로 편광 상태를 변경하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품 내에서 광이 입사되는 구간 중 적어도 하나에서 사전에 결정된 편광 상태 변경에 영향을 미치는 부재가 장착되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품 내에서 광이 입사되는 구간 중 적어도 하나에서 적어도 하나의 지연판이 장착되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광을 광원 및 반사기로 발생시키며, 제시된 편광 상태에 대해 수직 상태인 상기 광의 적어도 일부를 상기 반사기에서도 반사시키고, 상기 반사기에서 반사된 상기 광을 편광 상태에 민감한 상기 빔 스플리터의 상기 입구로 안내하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제8항에 있어서, 상기 반사기의 반사면에 제시된 편광 상태에 영향을 미치는 부재를 장착하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
제8항에 있어서, 상기 반사기의 반사면에 지연판 구조물을 장착하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 방법.
광학적 입구(E₁)에 광(L)을 입사시키는, 편광 상태에 민감한 빔 스플리터(1)를 구비한 편광 장치로서,

제시된 편광 상태(L_p)를 갖는 광을 제1 광학적 출구(A₁)에서 방출하며, 그 상태에 대해 수직 편광 상태(L_s)를 갖는 광을 제2 광학적 출구(A₂)에서 방출하고, 편광 상태 변경 부품(3)의 상기 광학적 입구(E₃)가 상기 제2 광학적 출구(A₂)와 기능적으로 결합하며, 그 광학적 출구(A₃)가 편광 상태에 민감한 상기 빔 스플리터(1)의 상기 광학적 입구(E₁)와 기능적으로 결합하는, 편광 장치에 있어서,

광터널 부품(3a)의 출구(A_3a)가 빔 스플리터(1)의 상기 입구(E₁)와 기능적으로 결합하며, 그 출구(A_3a)가, 입구로서, 상기 빔 스플리터의 상기 제2 출구(A₂)와 기능적으로 결합하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항에 있어서, 상기 부품(3)의 상기 입구(E₃)와 상기 출구(A₃) 사이에서 상기 광이 반사되며, 편광 상태가 각각 변경되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항에 있어서, 상기 부품(3)의 상기 입구(E₃)와 상기 출구(A₃) 사이에서 상기 광이 다중 반사되며, 편광 상태가 각각 변경되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품(3)이 적어도 하나의 제시된 각도만큼 편광 상태를 변경하는 부품을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품(3)이 적어도 하나의 지연판을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 빔 스플리터(1)의 상기 제2 출구(A₂) 및 상기 입구(E₁)가 상기 빔 스플리터(1)의 동일 구간을 통해 형성되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 내측 반사형 차단부(11)가 상기 광터널 부품(3a)의 입구에서 개구(7)를 갖는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 편광 상태에 영향을 미치는 적어도 하나의 부품(13a, 13b, 13c)이 광터널 부품(3a)에 장착되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 빔 스플리터가 프리즘 장치, 반사 편광 호일 또는 콜레스테릭 편광기를 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 출구에서 상기 빔 스플리터에 의해 방출된 상기 광이 그 파장에 따라서 제시된 편광 상태로 방출되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 편광 생성 장치의 빔 스플리터를 포함하는 조명 장치에 있어서, 반사기(15)를 구비한 광원(17)이 상기 광터널 부품의 전단에 장착되는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
제21항 있어서, 상기 반사기가 제시된 편광 방향을 회전시키는 편광 방향 회전 부재(13d)를 포함하는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 편광 장치 및 상기 빔 스플리터의 상기 입구(E₁) 전단에 장착된 컬러 셔터(19)를 포함하는 프로젝션 시스템.
제21항에 따른 조명 장치 및 상기 빔 스플리터의 상기 입구(E₁) 전단에 장착된 컬러 셔터(19)를 포함하는 프로젝션 시스템.
제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 편광 생성 장치가 조명 장치로서 사용되는 것을 특징으로 하는 편광 생성 장치.
제 21항에 있어서, 상기 반사기(15)가 상기 광터널 부품에 대해 밀폐된 공간을 형성하는 것을 특징으로 하는 조명 장치.