KR100872524B1 - Method for manufacturing rigid-flex printed wiring board - Google Patents

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Abstract

내층동장(銅張) 적층판에 커버레이를 겹쳐 양 외면이 가요성 부재로 이루어진 내층플렉시블 배선판, 일면이 비가요성 부재로 이루어진 외층 리지드 배선판 및 접착부재를 구비한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법은, 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면을 알칼리 처리하는 공정α와, 상기 알칼리 처리를 한 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면에, 상기 접착부재를 통해 상기 외층 리지드 배선판을 각각 적층하는 공정β,를 구비한다.The manufacturing method of the rigid-flex printed wiring board which has an inner layer flexible wiring board which overlaps a coverlay on an inner layer copper clad laminated board, and whose outer surface is a flexible member, an outer layer rigid wiring board which one surface is made of an inflexible member, and an adhesive member, A step of alkali treating both outer surfaces of the inner layer flexible wiring board, and a step of stacking the outer layer rigid wiring board on the outer surfaces of the inner layer flexible wiring board subjected to the alkali treatment, respectively, through the adhesive member. .

배선판, 알카리, 접착부 Wiring board, alkali, adhesive part

Description

리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법{Method for manufacturing rigid-flex printed wiring board}Manufacturing method of rigid flex printed wiring board {Method for manufacturing rigid-flex printed wiring board}

본 발명은, 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 접착제를 통해 내층FPC를 외층RPC에 끼운 구조를 가지며, 접착제가 우수한 밀착강도를 발휘할 수 있는 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a rigid flex printed wiring board, and more particularly, to a rigid flex printed wiring board having a structure in which an inner layer FPC is inserted into an outer layer RPC through an adhesive, and the adhesive can exhibit excellent adhesion strength. It is about a method.

우선, 도 7a∼도 7d 및 도 8a, 도 8b에 모식적인 단면도를 도시한 리지드·플렉스(R-F) 3층 프린트 배선판을 예로 들어, 종래의 일반적인 쉴드 형성 프로세스에 대해서 설명하기로 한다. 단 이하에서 나타낸 (1)∼(8)의 순서는 범용의 것으로서, 이 순서에 관해서는 약간 뒤바뀌어도 상관없고, 그 내용에 관해서도 전혀 한정되지 않는다.First, a conventional shield formation process will be described by taking a rigid-flex (R-F) three-layer printed wiring board shown in a schematic cross-sectional view in FIGS. 7A to 7D and FIGS. 8A and 8B as an example. However, the order of (1) to (8) shown below is a general purpose one, and may be slightly reversed with respect to this order, and the contents thereof are not limited at all.

(1) 전기 절연성의 플렉시블 기재(111)의 한 면에 도전부재(112)를 설치하여 이루어진 내층CCL(110)(도 7a)에, 도전부재(112)를 가공하여 회로(112')를 형성한다. 이로써 회로(112')를 설치한 내층CCL(110')을 얻는다(도 7b). 여기에서 CCL이란, 동장 적층판(銅張積層板, Copper-Clad Laminate)을 의미한다.(1) The circuit 112 'is formed by processing the conductive member 112 in the inner layer CCL 110 (FIG. 7A) formed by providing the conductive member 112 on one surface of the electrically insulating flexible base 111. FIG. do. This obtains the inner layer CCL 110 'provided with the circuit 112' (FIG. 7B). Here, CCL means copper-clad laminate.

(2) 내층CCL(110')의 회로(112')를 설치한 면 위에 커버레이(이하, CL이라고도 부른다)(120)를 접착하고(회로 형성한 CCL에 CL을 열프레스로 부착하고), 내층FPC(이하, 내층기판이라고도 부른다)(130)를 얻는다(도 7c). 여기에서, 커버레이(120)는, 전기 절연성의 플렉시블 기재(121)의 한 면에 접착제층(122)을 설치한 것이다. 여기에서 FPC란 플렉시블 배선판(Flexible Printed Circuit)을 의미한다.(2) A coverlay (hereinafter also referred to as CL) 120 is adhered on the surface where the circuit 112 'of the inner layer CCL 110' is provided (attached CL to the CCL formed circuit by heat press), An inner layer FPC (hereinafter also referred to as inner layer substrate) 130 is obtained (FIG. 7C). Here, the coverlay 120 is provided with the adhesive layer 122 on one surface of the electrically insulating flexible base 121. Here, FPC means a flexible printed circuit.

(3) 외층RPC(이하, 외층기판이라고도 부른다)(150)의 리지드 기재(151) 위에 접착부재(140)을 부착한다(도 8b). 여기에서는 외층기판(150)은, 전기 절연성의 리지드 기재(151)의 한면에 도전부재(152)를 설치한 것이다(도 8a). 더우기, RPC란, 리지드 배선판(Rigid Printed Circuit)을 의미한다.(3) An adhesive member 140 is attached on the rigid base material 151 of the outer layer RPC (hereinafter also referred to as outer layer substrate) 150 (FIG. 8B). Here, the outer substrate 150 is provided with a conductive member 152 on one surface of the electrically insulating rigid substrate 151 (Fig. 8A). Moreover, RPC means a rigid printed circuit.

(4) 내층기판(130)의 상하면에 접착부재(140A),(140B)를 통해 외층기판(150A),(150B)를 적층한다(이하, 적층큐어라고도 부른다). 이로써, FPC를 포함하는 내층기판(130)이, 접착부재(140)를 통해 RPC를 포함하는 2장의 외층기판(150)에 의해 끼워진 구조체를 얻을 수 있다(도 7d).(4) The outer layer substrates 150A and 150B are laminated on the upper and lower surfaces of the inner layer substrate 130 through the bonding members 140A and 140B (hereinafter also referred to as a laminated cure). As a result, a structure in which the inner substrate 130 including the FPC is sandwiched by the two outer substrates 150 including the RPC through the adhesive member 140 can be obtained (FIG. 7D).

(5) 기판에 구멍을 뚫는다(이하, NC드릴링 처리라고도 부름: 미도시). 내층기판(130)을 외층기판(150A),(150B)에 끼운 구조체에 대해, 층간도통을 위한 구멍을 뚫는 기계적인 가공처리를 한다.(5) A hole is drilled in the substrate (hereinafter also referred to as NC drilling treatment: not shown). The structure in which the inner layer substrate 130 is inserted into the outer layer substrates 150A and 150B is subjected to mechanical processing for drilling holes for interlayer conduction.

(6) 스루홀 도금을 형성한다(미도시). 층간도통을 위한 구멍의 내측면에 도금처리를 실시하여 스루홀을 형성한다. 이로써 내층기판(130)과 외층기판(150A),(150B)의 도통을 꾀한다.(6) Through hole plating is formed (not shown). The inner surface of the hole for interlayer conduction is plated to form a through hole. As a result, conduction between the inner layer substrate 130 and the outer layer substrates 150A and 150B is achieved.

(7) 최외층 회로를 형성한다(미도시). 예를 들면 외층기판(150A)의 최외층을 이루는 도전부재(152A)에 에칭처리를 하여 회로를 형성한다.(7) An outermost layer circuit is formed (not shown). For example, a circuit is formed by etching the conductive member 152A forming the outermost layer of the outer layer substrate 150A.

(8) 외층기판(150A),(150B)에 레지스트를 형성한다(미도시). 상기 (7)에 의해 형성한 최외층 회로를 보호하기 위해 외층기판(150A),(150B)의 외면, 즉 최외층 회로를 설치한 면을 덮도록 레지스트로 이루어진 절연층을 설치한다.(8) A resist is formed on the outer layer substrates 150A and 150B (not shown). In order to protect the outermost layer circuit formed by the above (7), an insulating layer made of a resist is provided to cover the outer surfaces of the outer layer substrates 150A and 150B, that is, the surface on which the outermost layer circuit is provided.

상기 공정에 의해 제작된 통상의 프린트 배선판(도 9)에서는, 다른 재질로 이루어진 부재를 여러 종류 사용하여 그들을 조합하거나 또는 적층하여 배치한 구조가 채용되어 있다. 따라서, 특정부재 간의 밀착력이 낮은 경우에는 히트사이클 등의 환경시험이나 경시적인 변화에 의해 최종적으로 해당 특정부재 간에 박리가 발생할 우려가 있다. 예를 들면, 동박과 폴리이미드(PI 간)로 박리된 경우에는 절연이 불량해져 프린트 배선판으로서 사용하기 어렵기 때문에 바람직하지 않다. 따라서 다층프린트 배선판에서는, 각 부재 간을 적절한 밀착력으로 붙일 것이 요구되고 있다.In the normal printed wiring board (FIG. 9) manufactured by the said process, the structure which combined and laminated | stacked and arrange | positioned using several kinds of members which consist of different materials is employ | adopted. Therefore, when the adhesion between the specific members is low, there is a fear that peeling may finally occur between the specific members due to environmental tests such as heat cycles or changes over time. For example, when peeling with copper foil and polyimide (between PI), since insulation is bad and it is difficult to use as a printed wiring board, it is not preferable. Therefore, in a multilayer printed wiring board, it is calculated | required to attach each member with appropriate adhesive force.

종래의 제법에서는, 예를 들면 내층기판(130)과 외층기판(150B)를 부착한 후, 이 부착부에 해당하는 접착부재(140B)의 밀착강도가 약한 경우가 있다. 이와 같은 경우에는, 도 10에 도시한 바와 같이, 내층기판(130)과 외층기판(150B) 사이에 박리가 쉽게 발생한다. 이 부착공정보다 나중에 위치하는 공정으로는, 예를 들면 에칭이나 현상시의 약액이 침입하여 수득률이 크게 저하될 우려가 있다. 그 결과, 제품으로서 출하되는 프린트 배선판(이하 완성기판이라고도 칭함)의 신뢰성 저하를 초래할 우려가 있다.In the conventional manufacturing method, after the inner layer substrate 130 and the outer layer substrate 150B are attached, for example, the adhesion strength of the adhesive member 140B corresponding to this attachment portion may be weak. In this case, as shown in FIG. 10, peeling easily occurs between the inner layer substrate 130 and the outer layer substrate 150B. As a step located later than this attaching step, for example, the chemical liquid at the time of etching or developing may invade and the yield may greatly decrease. As a result, there exists a possibility of causing the fall of the reliability of the printed wiring board (henceforth a completed board | substrate) shipped as a product.

상기 과제를 해결하는 제법으로는, 예를 들면, (a) 폴리이미드를 방전처리한 후, 알칼리 처리함으로써 폴리이미드 표면을 개질하는 방법(일본특개평5-279497호 공보), (b) 저온플라즈마 처리한 후, 알칼리성 약액으로 폴리이미드를 표면개질하는 방법(일본특개평6-32926호 공보), (c) 폴리이미드 필름를 알칼리 용액으로 처리한 후, 산용액으로 처리하는 방법(일본특개평7-03055호 공보), (d) 폴리이미드 필름의 표면에 불활성 가스 분위기 중에서 플라즈마 처리를 수행한 후, 동일면에 플라즈마 처리를 하는 방법(일본특개평8-3338호 공보), (e) 폴리이미드수지 표면을 제1산화제의 존재하에서 자외선 조사한 후, 제2산화제로 에칭함으로써 표면을 개질 하는 방법(일본특개평9-157417호 공보)을 들 수 있다. 더우기, 각 문헌에서의 폴리이미드는, 상술한 내층기판(130)을 구성하는 전기절연성의 플렉시블 기재(111)에 상당한다.As a manufacturing method which solves the said subject, for example, (a) the method of modifying a polyimide surface by alkali-processing after discharging a polyimide (Unexamined-Japanese-Patent No. 5-279497), (b) low temperature plasma After the treatment, a method of surface-modifying the polyimide with an alkaline chemical solution (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-32926), and (c) a method of treating the polyimide film with an alkaline solution and then treating with an acid solution (Japanese Patent Laid-Open No. 7-A). 03055), (d) a method of performing a plasma treatment on the surface of a polyimide film in an inert gas atmosphere, followed by plasma treatment on the same surface (JP-A-8-3338), (e) a polyimide resin surface The method of modifying a surface by irradiating the ultraviolet-ray in the presence of a 1st oxidizing agent, and then etching with a 2nd oxidizing agent (Unexamined-Japanese-Patent No. 9-157417) is mentioned. Furthermore, the polyimide in each document corresponds to the electrically insulating flexible base 111 constituting the inner layer substrate 130 described above.

상술했던 (a)∼(e)의 공지문헌에는, 밀착성 향상을 위해 알칼리 처리나 플라즈마 처리 등의 표면처리를 하는 것이 기재되어 있을 뿐, 「약액 농도」「처리온도」「처리시간」등의 상세한 처리조건은 명시되어 있지 않다. 즉 각종 처리조건을 최적화한 표면처리에 관해서는 전혀 기재되어 있지 않다.The above-mentioned well-known documents (a) to (e) describe only surface treatment such as alkali treatment or plasma treatment in order to improve adhesion, and detailed descriptions such as "chemical concentration", "treatment temperature", "treatment time", and the like. Treatment conditions are not specified. That is, the surface treatment which optimized various treatment conditions is not described at all.

(f) 열충격에 견딜 수 있는 플립칩 실장에 적합한 다층 배선판 및 그 제조방법이 기재되어 있는데, 접착제층의 탄성율이나 선팽창계수, 접착제의 재료 배합에 대해 적합한 범위 등이 개시되어 있었다(일본특개평9-298369호 공보).(f) A multilayer wiring board suitable for flip chip mounting that can withstand thermal shock and a method of manufacturing the same have been described, and a range suitable for the elastic modulus of the adhesive layer, the coefficient of linear expansion, and the blending of the material of the adhesive has been disclosed. -298369).

(g) 비아홀이 하층의 도체회로로부터 잘 벗겨지지 않는 다층프린트 배선판에 대해 기재되어 있으며, 접착제층이 되는 에폭시 수지의 입자직경이나 중량배합 등에 대해서 적합한 범위 등이 개시되어 있다(일본특개평11-46066호 공보).(g) A multilayer printed wiring board is described in which via holes are not easily peeled off from a lower conductive circuit, and a range suitable for the particle diameter, weight blending, etc. of the epoxy resin serving as the adhesive layer is disclosed. 46066).

(h) 도체층과 절연층 사이에 우수한 접착강도를 가진 다층프린트 배선판에 대해 기재되어 있으며, 단순히 조면화(粗面化) 처리를 하는 수법이 개시되어 있다(일본특개평10-70367호 공보).(h) A multilayer printed wiring board having excellent adhesive strength between a conductor layer and an insulating layer is described, and a method of simply roughening is disclosed (Japanese Patent Laid-Open No. 10-70367). .

(i) 플렉시블 인쇄 배선판용 접착제에 대해 기재되어 있으며, 접착제의 재료배합이 개시되어 있다(일본특개2001-164226호 공보).(i) The adhesive for flexible printed wiring boards is described, and the material mix of an adhesive agent is disclosed (Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-164226).

상기 (f)∼(i)의 공지문헌에는 확실히, 종래 기술의 프린트 배선판에서 사용되는 접착제에 있어서, 접착제의 종류나 배합, 표면처리를 하는 것에 대해 기재되어 있지만, 최적조건의 밀착성 향상에 대해서 언급한 것은 발견할 수 없다.Although well-known documents of (f) to (i) clearly describe the type, compounding, and surface treatment of the adhesive in the adhesive used in the printed wiring board of the prior art, mention is made on the improvement of the adhesion under optimum conditions. One cannot be found.

최근, 프린트 배선판의 기술분야에서는, 다층화가 더욱 진행되어 예를 들면, 50층이 넘는 다층기판의 개발이 수행되고 있다. 특히 전자기기의 경박단소화에 따라, 예를 들면 플렉스 배선판을 통해 리지드 배선판을 접속하거나, 혹은 플렉스 배선판의 일부 또는 전부에 리지드 배선판을 겹쳐 형성되는 리지드·플렉스 프린트 배선판이 요구되고 있다. 따라서 다층화된 프린트 배선판에 있어서, 접착제를 설치하는 부재표면의 처리방법에 대해서 명확한 처리조건의 확립이 기대되고 있다.In recent years, in the technical field of a printed wiring board, multilayering has progressed further, for example, development of the multilayer board of more than 50 layers is performed. In particular, with light and short size reduction of electronic devices, a rigid flex printed wiring board which connects a rigid wiring board through a flex wiring board or superimposes a rigid wiring board on one part or all part of a flex wiring board is calculated | required, for example. Therefore, in the multilayered printed wiring board, it is expected to establish clear processing conditions for the processing method of the member surface on which the adhesive is to be provided.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 접착부재를 통해 내층기판이나 외층기판을 겹쳐쌓은 구성을 구비하고 있으며, 접착부재와 내층기판 간에 발생되는 박리를 억제할 수 있는 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a structure in which an inner layer substrate or an outer layer substrate is stacked through an adhesive member, and a rigid flex printed wiring board capable of suppressing peeling generated between the adhesive member and the inner layer substrate can be suppressed. It is an object to provide a method.

본 발명의 일 태양에 관한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법은, 내층 동장적층판에 커버레이를 겹쳐 양 외면이 가요성 부재로 이루어진 내층플렉시블 배선판, 일면이 비가요성 부재로 이루어진 외층 리지드 배선판 및 접착부재를 구비한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법으로서, 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면을 알칼리 처리하는 공정α와, 상기 알칼리 처리를 한 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면에, 상기 접착부재를 통해 상기 외층 리지드 배선판을 각각 적층하는 공정β를 구비한다.According to one aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a rigid flex printed wiring board, wherein an inner layer flexible wiring board including a coverlay on an inner layer copper clad laminate and an outer surface of which is made of a flexible member, and an outer layer rigid wiring board and an adhesive member of which one surface is made of a flexible member. A method of manufacturing a rigid flex printed wiring board comprising: a process (alpha) of alkali treatment of both outer surfaces of the inner layer flexible wiring board and both outer surfaces of the inner layer flexible wiring board subjected to alkali treatment, The process (beta) which laminates an outer layer rigid wiring board, respectively is provided.

상기 본 발명에 따른 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법은, 상기 공정α와 상기 공정β 사이에, 상기 알칼리 처리를 한 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면을 칼슘 첨가수를 사용하여 수세 처리하는 공정γ을 더 구비할 수 있다.In the method for manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention, a step γ of washing the outer surfaces of the inner layer flexible wiring board subjected to alkali treatment between the step α and the step β with water washing with calcium addition water. It may be further provided.

상기 본 발명에 따른 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법에서, 상기 공정α에서의 알칼리 처리농도는 0.25wt% 이상 10.0wt% 미만일 수 있다.In the method for manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention, the alkali treatment concentration in the step α may be 0.25 wt% or more and less than 10.0 wt%.

상기 본 발명에 따른 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법에서, 상기 공정α에서의 알칼리 처리시간은 30sec 이상 120sec 이하일 수 있다.In the method for manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention, the alkali treatment time in the step α may be 30 sec or more and 120 sec or less.

상기 본 발명에 따른 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법에서, 상기 공정α에서의 알칼리 처리액온은, 25℃ 이상 55 ℃ 미만일 수 있다.In the method for manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention, the alkali treatment liquid temperature in the step α may be 25 ° C. or more and less than 55 ° C.

상기 본 발명에 따른 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법에서, 상기 공정γ에서의 칼슘농도는 20ppm 내지 1000ppm 범위일 수 있다.In the method for manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention, the calcium concentration in the step γ may be in the range of 20 ppm to 1000 ppm.

본 발명에 관한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법은, 우선 공정α에서는 내층FPC(내층기판)의 양 외면을 알칼리 처리함으로써 내층FPC의 양 외면을 이루는 가요성 부재(예를 들면 폴리이미드)의 표면층부를 개질한다. 이어서, 공정β에서는 알칼리 처리에 의해 개질된 내층FPC의 양 외면에 각각 접착부재를 통해 비가요성 부재(예를 들면 글라스 에폭시)가 접하도록 외층RPC를 적층한다. 그 결과, 접착부재는 개질된 내층FPC(내층기판)의 양 외면에 대해 우수한 밀착력을 가질 수 있다.In the method of manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention, first, in step α, the surface layer of the flexible member (for example, polyimide) that forms both outer surfaces of the inner layer FPC by alkali treating both outer surfaces of the inner layer FPC (inner layer substrate). Reform wealth. Subsequently, in step β, the outer layer RPC is laminated on both outer surfaces of the inner layer FPC modified by alkali treatment so that the non-flexible member (for example, glass epoxy) comes into contact with each other via an adhesive member. As a result, the adhesive member can have excellent adhesion to both outer surfaces of the modified inner layer FPC (inner layer substrate).

즉 본 발명에 관한 제조방법은, 가요성을 갖는 내층FPC에 대해서만 알칼리 처리를 함으로써 접착부재는 내층FPC와 외층RPC 간의 밀착력을 대폭적으로 향상시키기 때문에, 신뢰성이 뛰어나고 안정적인 밀착력을 구비한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 공급에 공헌한다.In other words, in the manufacturing method according to the present invention, since the adhesive member significantly improves the adhesion between the inner layer FPC and the outer layer RPC by performing alkali treatment only on the flexible inner layer FPC, a rigid flex print having excellent reliability and stable adhesion. Contributes to the supply of wiring boards.

본 발명에 따르면, 프린트 배선판을 구성하는 내층기판에 대해 알칼리 처리(공정α)를 하여 내층기판의 표면을 개질한 후, 접착제층을 통해 내층기판과 외층 기판을 겹쳐쌓음(공정β)으로써 신뢰성이 우수하고 안정적인 밀착력을 갖는 프린트 배선판의 제조가 가능해진다. 이 제조방법은, 여러가지 다른 종류의 재료를 조합하여 이루어진 프린트 배선판, 즉 내층기판이 플렉시블 배선판이고, 외층기판이 리지드 배선판으로 이루어진 리지드·플렉스 프린트 배선판에 특히 유효하다. 그러나 본 발명에 관한 제조방법은, 프린트 배선판이 한 면이나 양면의 단층타입이나 다층타입 등 여러가지 형상의 프린트 배선판에 있어서도 유효하다는 것은 말할 것도 없다.According to the present invention, the inner layer substrate constituting the printed wiring board is subjected to alkali treatment (step α) to modify the surface of the inner layer substrate, and then the inner layer substrate and the outer layer substrate are laminated (step β) through an adhesive layer, thereby providing high reliability. It becomes possible to manufacture a printed wiring board having excellent and stable adhesion. This manufacturing method is particularly effective for a printed wiring board made by combining various different materials, that is, a rigid flex printed wiring board in which an inner layer board is a flexible wiring board and an outer layer board is a rigid wiring board. However, it goes without saying that the manufacturing method according to the present invention is also effective in printed wiring boards of various shapes such as single-sided and multi-layered single-sided and multilayered types.

이하에서는, 본 발명에 관한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 일 실시형태를 도면에 기초하여 설명하기로 한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment of the rigid flex printed wiring board which concerns on this invention is described based on drawing.

도 1a∼도 1d는, 본 발명에 관한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법의 일례를 나타내는 모식적인 단면도로서, 알기 쉽게 구성요소를 적당히 과장하여 그려져 있다. 또 도 2a 및 도 2b는, 도 1a∼도 1d의 리지드·플렉스 프린트 배선판을 구성하는 외층RPC의 제조방법의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.1A to 1D are schematic cross-sectional views showing an example of a method of manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention, in which components are exaggerated and drawn appropriately. 2A and 2B are typical sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the outer layer RPC which comprises the rigid flex-printed wiring board of FIGS. 1A-1D.

본 발명에 관한 제조방법은, 도 1d에 도시한 바와 같이, 내층CCL(10')에 커버레이(20)을 겹쳐쌓아 양 외면이 폴리이미드로 이루어진 내층FPC(30), 일면이 글라스 에폭시로 이루어진 외층RPC(50A),(50B) 및 접착층(40)을 적어도 구비하여 이루어진 리지드·플렉스 프린트 배선판에 적용된다. 더우기, CCL, F25PC, RPC는 각각 동장 적층판(Copper-Clad Laminate), 플렉시블 배선판(Flexible Printed Circuit), 리지드 배선판(Rigid Printed Circuit)의 약칭이다.In the manufacturing method according to the present invention, as shown in FIG. 1D, the cover layer 20 is stacked on the inner layer CCL 10 ', and both outer surfaces are made of polyimide, and the inner layer FPC 30 is formed of glass epoxy. It is applied to a rigid flex printed wiring board provided with at least the outer layer RPCs 50A, 50B and the adhesive layer 40. In addition, CCL, F25PC, and RPC are the abbreviations of Copper-Clad Laminate, Flexible Printed Circuit, and Rigid Printed Circuit, respectively.

여기에서는, 리지드·플렉스 프린트 배선판으로서 3층 프린트 배선판을 예로 들어 그 제조방법을 상세히 설명하지만, 본 발명에 관한 알칼리 처리 작용·효과를 손상시키지 않는 한, 이하에 나타내는 (1)∼(8)의 순서에 관해서는 뒤바뀌어도 상관없다는 것은 당연하다.Here, although the manufacturing method is demonstrated in detail, taking a 3-layer printed wiring board as an example of a rigid flex printed wiring board, unless the alkali treatment effect | action and effect which concern on this invention are impaired, of (1)-(8) shown below: Of course, the order can be reversed.

(1) 내층CCL(10)에 회로(12')를 형성한다. 내층CCL(10)로서, 폴리이미드로 이루어진 플렉시블 기재(11)의 한면에 동박(12)을 설치한 것(도 1a)을 사용하고, 동박(12)을 에칭처리함으로써 회로(12')를 형성하고, 회로를 설치한 내층CCL(10')을 얻는다(도 1b).(1) A circuit 12 'is formed in the inner layer CCL 10. As the inner layer CCL 10, a circuit 12 ′ was formed by etching the copper foil 12 using a copper foil 12 provided on one surface of a flexible base material 11 made of polyimide (FIG. 1A). Then, an inner layer CCL 10 'provided with a circuit is obtained (FIG. 1B).

(2) 내층CCL(10)의 회로(12')를 설치한 면 위에 커버레이(20)를 접착한다(회로 형성한 CCL에 CL을 열프레스로 부착한다). 여기에서는, 커버레이(20)로서, 폴리이미드로 이루어진 플렉시블 기재(21)의 한면에 접착제층(22)을 설치한 것을 사용하고, 접착제층(22)을 통해 내층기판(10')과 커버레이(20)를 겹침으로써 내층FPC(이하, 내층기판이라고도 부른다)(30)를 얻는다(도 1c).(2) The coverlay 20 is adhere | attached on the surface in which the circuit 12 'of the inner layer CCL 10 was provided (CL is attached to the CCL which formed circuit by heat press). Here, as the coverlay 20, an adhesive layer 22 is provided on one surface of the flexible base material 21 made of polyimide, and the inner layer substrate 10 'and the coverlay are formed through the adhesive layer 22. By stacking 20, an inner layer FPC (hereinafter also referred to as an inner layer substrate) 30 is obtained (FIG. 1C).

(3) 내층기판(30)의 양 외면을 알칼리 처리한다(이하, 공정α라고 부른다). 여기에서는, 내층FPC(30)의 양 외면에 농도 및 온도가 일정하게 관리된 알칼리 수용액을 라인 스피드가 관리된 장치에 있어서, 샤워방식으로 해당 기판에 내뿜음으로써 내층FPC(30)의 양 외면을 알칼리 처리한다. 이로써 알칼리 처리를 한 내층기판(30)을 얻는다.(3) Alkali treatment of both outer surfaces of the inner layer substrate 30 (hereinafter referred to as step α). Here, in the apparatus where the line speed is managed, the alkaline aqueous solution in which the concentration and temperature are uniformly managed on both outer surfaces of the inner layer FPC 30 is sprayed onto the substrate by a shower method so that both outer surfaces of the inner layer FPC 30 are sprayed. Alkali treatment. Thereby, the inner substrate 30 subjected to alkali treatment is obtained.

(4) 내층기판(30)과는 별도로, 외층RPC(이하, 외층기판이라고도 부른다)(50)에 접착시트로 이루어진 접착부재(40)를 부착하는 것을 준비해 놓는다. 외층기 판(50)으로서, 글라스 에폭시로 이루어진 리지드 기재(51)의 한면에 동박(52)을 설치한 것(도 2a)을 사용하여 외층기판(50)의 리지드 기재(51) 위에 접착부재(40)를 첨부(도 2b)함으로써 얻어진다.(4) Aside from the inner layer substrate 30, it is prepared to attach an adhesive member 40 made of an adhesive sheet to an outer layer RPC (hereinafter also referred to as an outer layer substrate) 50. As the outer layer substrate 50, an adhesive member (not shown on the rigid substrate 51 of the outer layer substrate 50 using the copper foil 52 provided on one side of the rigid substrate 51 made of glass epoxy (FIG. 2A)). 40) is obtained by attaching (FIG. 2B).

(5) 상기 (3)에서 알칼리 처리를 한 내층기판(30)의 양 외면에 각각, 접착시트로 이루어진 접착부재(40)를 통해 상기 (4)의 외층기판(50)을 적층한다(이하, 공정β(적층큐어)라고 부른다). 도 2b에 도시한 바와 같은, 접착부재(40A),(40B)를 각각 부착하여 이루어진 2개의 외층기판(50A),(50B)을 준비한다. 적층할 때에는, 내층기판(30)의 양면에 각각 2개의 외층기판(50A),(50B)에 설치한 각 접착부재(40A),(40B)가 접하도록 겹쳐쌓는다(도 1d). 이 겹쳐쌓을 때에는 적절히, 외층기판(50A),(50B)의 바깥쪽에서 안쪽 방향으로 가압이나 가열을 해도 좋다.(5) The outer layer substrate 50 of the above (4) is laminated on both outer surfaces of the inner layer substrate 30 subjected to alkali treatment in the above (3), respectively through an adhesive member 40 made of an adhesive sheet (hereinafter, Step β (lamination cure)). As shown in FIG. 2B, two outer substrates 50A and 50B formed by attaching the adhesive members 40A and 40B, respectively, are prepared. In stacking, the two adhesive substrates 40A and 40B provided on the two outer substrates 50A and 50B are stacked on both surfaces of the inner layer substrate 30 so as to be in contact with each other (FIG. 1D). When this stacking is appropriate, it may be pressurized or heated in the inward direction from the outside of the outer layer substrates 50A and 50B.

상기 공정 (1)∼(5)에 의해, 도 1d에 도시한 리지드·플렉스 3층 프린트 배선판이 제작된다. 더우기, 도시되지 않았으나 도 1d의 3층 프린트 배선판에 대해 적절히 다음 공정 (6)∼(9)이 수행된다.By the said process (1)-(5), the rigid flex 3-layer printed wiring board shown to FIG. 1D is produced. Moreover, although not shown, the following steps (6) to (9) are appropriately performed on the three-layer printed wiring board of FIG. 1D.

(6) 기판에 구멍을 뚫는다(이하, NC드릴링 처리라고도 부른다). 내층기판(30)을 외층기판(50A),(50B)에 끼운 구조체에 대해 층간도통을 위한 구멍을 뚫는 기계적인 가공처리를 한다(미도시).(6) A hole is drilled into the substrate (hereinafter also referred to as NC drilling process). Mechanical processing is performed to drill holes for interlayer conduction of the structure in which the inner layer substrate 30 is fitted to the outer layer substrates 50A and 50B (not shown).

(7) 스루홀 도금을 형성한다. 층간도통을 위한 구멍의 내측면에 도금처리를 하여 스루홀을 형성한다. 이로써 내층과 외층을 도통시킨다(미도시).(7) Through-hole plating is formed. The inner surface of the hole for interlayer conduction is plated to form a through hole. This conducts the inner and outer layers with electricity (not shown).

(8) 최외층 회로를 형성한다. 예를 들면 외층기판(50A)의 최외층을 이루는 동박(50A)에 에칭처리를 하여 회로를 형성한다(미도시).(8) An outermost layer circuit is formed. For example, a circuit is formed by etching the copper foil 50A constituting the outermost layer of the outer layer substrate 50A (not shown).

(9) 외층기판(50A),(50B)에 레지스트를 형성한다. 상기 (7)에 의해 형성한 최외층 회로를 보호하기 위하여 외층기판의 외면, 즉 최외층 회로를 설치한 면을 덮도록 레지스트로 이루어진 절연층을 마련한다(미도시).(9) A resist is formed on the outer layer substrates 50A and 50B. In order to protect the outermost layer circuit formed by the above (7), an insulating layer made of a resist is provided to cover the outer surface of the outer layer substrate, that is, the surface on which the outermost layer circuit is provided (not shown).

본 발명에 관한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법은, 상술한 공정 (1)∼(9) 중 공정α와 공정β를 적어도 구비하여 이루어진 것이다. 이 2개의 공정α와 공정β를 가짐으로써 접착층은 개질된 내층FPC의 양 외면에 대해 우수한 밀착력을 가질 수 있게 된다. 그러므로, 본 발명의 제조방법은, 내층FPC와 외층RPC 간의 밀착력을 향상시킬 수 있기 때문에 신뢰성이 우수하고 안정적인 밀착력을 구비한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조를 가능하게 한다.The manufacturing method of the rigid flex printed wiring board which concerns on this invention comprises the process (alpha) and the process (beta) at least in the process (1)-(9) mentioned above. By having these two processes α and β, the adhesive layer can have excellent adhesion to both outer surfaces of the modified inner layer FPC. Therefore, the manufacturing method of the present invention can improve the adhesion between the inner layer FPC and the outer layer RPC, thereby enabling the manufacture of a rigid flex printed wiring board with excellent reliability and stable adhesion.

공정α의 알칼리 처리에 의해 얻어지는 밀착력이라는 작용은, 알칼리 처리의 모든 조건을 규정하면 더욱 향상된다. 예를 들면, 알칼리 처리농도(wt%)의 바람직한 범위는 0.25 이상 10.0 미만이고, 보다 바람직하게는 0.25 이상 4.0 이하이다. 또 알칼리 처리시간(sec)의 바람직한 범위는 30 이상 120 이하이다. 또 알칼리 처리액온도(℃)의 바람직한 범위는 25 이상 55 미만이다.The action of the adhesive force obtained by the alkali treatment of the step α is further improved by defining all the conditions of the alkali treatment. For example, the preferable range of alkali treatment concentration (wt%) is 0.25 or more and less than 10.0, More preferably, it is 0.25 or more and 4.0 or less. Moreover, the preferable range of alkali treatment time (sec) is 30 or more and 120 or less. Moreover, the preferable range of alkali treatment liquid temperature (degreeC) is 25 or more and less than 55.

또 이에 덧붙여, 공정α와 공정β 사이에 상기 알칼리 처리를 한 내층FPC의 양 외면을 칼슘 첨가수를 사용하여 수세 처리하는 공정γ을 구비해도 좋다. 공정γ을 부가함으로써 알칼리 처리 각 조건의 바람직한 범위를 넓힐 수 있다. 이것은 대량생산할 때의 약액 관리 자유도를 향상시키거나, 혹은 프로세스 제어성 완화를 나타냄으로써, 나아가 저렴하고 안정적인 제조라인의 구축을 가능하게 한다.In addition to this, step γ may be provided between the step α and step β in which both sides of the inner layer FPC subjected to the alkali treatment are washed with water using calcium-added water. By adding process (gamma), the preferable range of each alkali treatment condition can be expanded. This improves the degree of freedom of chemical management in mass production, or indicates a process control relaxation, thereby enabling the construction of an inexpensive and stable manufacturing line.

공정γ의 칼슘 첨가수에 의해 얻어지는 상기 작용은 그 농도를 규정하면 더 욱 향상된다. 칼슘농도(ppm)의 바람직한 범위는 20 이상이고, 250 이상이 더욱 바람직하다. 더우기, 공정α(알칼리 처리)와 공정γ(칼슘 첨가수를 사용한 수세) 사이에, 혹은 공정γ와 공정β(적층큐어) 사이에, 예를 들면 RO수,이온 교환수 또는 순수를 사용한 수세처리를 만드는 것이 바람직하다.The above action obtained by the calcium addition water of step γ is further improved by defining the concentration. The preferable range of calcium concentration (ppm) is 20 or more, and 250 or more are more preferable. Moreover, between step α (alkaline treatment) and step γ (washing with calcium-added water) or between step γ and step β (laminated cure), for example, washing with water using RO water, ion-exchanged water or pure water. It is desirable to make.

알칼리 처리에 사용하는 약액은 후술하는 실시예에서, 수산화나트륨 수용액을 사용한 예를 들고 있는데, 품종이나 조성은 특별히 한정되지 않는다. 또 칼슘 첨가수는 후술하는 실시예에서, 염화칼슘 수용액을 사용한 예를 들고 있는데, 품종이나 조성은 특별히 한정되지 않는다.Although the chemical liquid used for alkali treatment is given the example which used the sodium hydroxide aqueous solution in the Example mentioned later, a variety and a composition are not specifically limited. In addition, although calcium addition water is given the example which used the calcium chloride aqueous solution in the Example mentioned later, a variety and a composition are not specifically limited.

실시예Example

이하에서는, 내층기판에 알칼리 처리를 함으로써 내층기판의 표면을 개질하고, 접착제층과의 밀착력을 향상시킨다는 관점에서, 알칼리 처리의 모든 조건 및 칼슘 첨가수의 칼슘농도에 대해서 평가한 결과에 대해서 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the results of evaluating all the conditions of the alkali treatment and the calcium concentration of the calcium-added water in detail from the viewpoint of modifying the surface of the inner substrate by improving the adhesion of the inner layer substrate by performing an alkali treatment on the inner layer substrate will be described in detail. Let's do it.

(실시예 1)(Example 1)

본 예에서는, 알칼리 처리에서 사용하는 약액으로서 수산화나트륨 수용액(NaOH(aq))을 사용하고, 알칼리 처리농도를 O.1∼1O.Owt%의 범위로 바꾸어 상술한 공정 (1)∼(5)에 의해, 도 1d에 도시한 구성으로 이루어진 리지드·플렉스 3층 프린트 배선판을 제작했다. 그 때, 알칼리 처리농도 이외의 다른 제작조건은 동일하게 했다. 표 1에 제작조건을 정리하여 나타내었다. 더우기, 본 예에서 제작한 프린트 배선판은 시료 A로 호칭한다.In this example, sodium hydroxide aqueous solution (NaOH (aq)) is used as the chemical liquid used in the alkali treatment, and the alkali treatment concentration is changed in the range of 0.1 to 0.1 wt%, and the above-mentioned steps (1) to (5) By this, the rigid-flex 3-layer printed wiring board which consists of a structure shown in FIG. 1D was produced. In that case, the manufacturing conditions other than alkali treatment concentration were made the same. Table 1 summarizes the manufacturing conditions. Moreover, the printed wiring board produced in this example is called sample A.

◆ 프린트 배선판의 구성재료 [내층CCL] 양면 동박 18μm, 폴리이미드 25μm, 접착제 10μm [커버레이(CL)] 폴리이미드 25μm, 접착제 25μm [외층RPC] 한면 동박 18μm, 글라스 에폭시 100μm [접착시트] 25μm  ◆ Materials of printed wiring board [Inner layer CCL] Double-sided copper foil 18μm, Polyimide 25μm, Adhesive 10μm [Coverlay (CL)] Polyimide 25μm, Adhesive 25μm [Outer layer RPC] Single-side copper foil 18μm, Glass epoxy 100μm [Adhesive sheet] 25μm ◆ 시료 A의 약액 처리조건 [알칼리 처리] 농도: 0.1∼10.0[wt%], 액온: 35[℃], 시간: 60[sec] [RO수 수세] 액온: 실온, 시간:30[sec] [칼슘 첨가수 수세] 농도: 500[ppm], 액온: 실온, 시간: 45[sec], [RO수세] 액온: 실온, 시간: 30[sec]  ◆ Chemical liquid treatment conditions of Sample A [Alkali treatment] Concentration: 0.1 to 10.0 [wt%], Liquid temperature: 35 [° C], Time: 60 [sec] [RO water washing] Liquid temperature: Room temperature, Time: 30 [sec] [ Calcium-added water washing] Concentration: 500 [ppm], liquid temperature: room temperature, time: 45 [sec], [RO washing] liquid temperature: room temperature, time: 30 [sec]

알칼리 처리농도를 바꾸어 제작한 시료 A에 대해 JIS C 6471에 준거한 필링강도 시험을 수행했다. 그 때 인장속도는 50mm/min, 온도는 상온(실온)으로 했다. 그리고 JIS C 5016 8.1.6에 준거하여 벗김강도(필링강도라고 부른다)(N/cm)를 산출했다.The peeling strength test based on JIS C 6471 was performed about the sample A produced by changing alkali treatment density | concentration. At that time, the tensile speed was 50 mm / min, and the temperature was normal temperature (room temperature). And peeling strength (called peeling strength) (N / cm) was computed based on JIS C 5016 8.1.6.

도 3은, 알칼리 처리농도를 바꾸어 제작한 시료 A의 필링강도를 나타내는 그래프이다. 단 도 3에는 비교를 위해 알칼리 처리를 하지 않은 시료의 결과(처리없음이라고 명시)도 아울러 게재했다. 더우기, 필링강도는 특별히 예고가 없는 한 시료 10개에서 얻어진 수치의 평균값이다.3 is a graph showing the peeling strength of Sample A prepared by changing the alkali treatment concentration. However, FIG. 3 also shows the results (specified no treatment) of samples not subjected to alkali treatment for comparison. Moreover, peeling strength is an average value of the numerical values obtained from ten samples, unless there is a notice.

도 3에서, 이하의 점으로부터 명백해졌다.In FIG. 3, it became clear from the following points.

(1a) 알칼리 처리농도(wt%)가 O.1보다 낮은 경우에는, 필링강도가 낮기 때문에 알칼리 처리가 불충분하다고 생각된다.(1a) When the alkali treatment concentration (wt%) is lower than 0.1, since the peeling strength is low, it is considered that the alkali treatment is insufficient.

(1b) 반대로, 알칼리 처리농도(wt%)가 10.0보다 높은 경우에는, 마찬가지로 필링강도가 낮기 때문에 알칼리 처리가 과잉된다고 생각된다.(1b) In contrast, when the alkali treatment concentration (wt%) is higher than 10.0, the alkali treatment is considered to be excessive because the peeling strength is similarly low.

(1c) 알칼리 처리농도(wt%)가 0.25 이상 10.0 미만의 범위에서 알칼리 처리를 함으로써 필링강도의 향상을 얻을 수 있는 것이 시사된다. 특히 알칼리 처리농도를 0.25 이상 4.0 이하의 범위로 한 경우에는, 처리없음에 비해 약 3배 이상의 필링강도를 안정적으로 얻을 수 있기 때문에 보다 바람직하다.(1c) It is suggested that an improvement in peeling strength can be obtained by performing an alkali treatment in an alkali treatment concentration (wt%) of 0.25 or more and less than 10.0. In particular, when the alkali treatment concentration is in the range of 0.25 or more and 4.0 or less, it is more preferable because the peeling strength of about 3 times or more can be stably obtained compared with no treatment.

따라서,프린트 배선판이 보다 안정적인 필링강도를 가지기 위해서는, 알칼리 처리농도를 적절한 범위로 할 필요가 있다는 것을 알 수 있었다.Therefore, it was found that in order for the printed wiring board to have more stable peeling strength, it is necessary to keep the alkali treatment concentration in an appropriate range.

(실시예 2)(Example 2)

본 예에서는, 알칼리 처리에 사용하는 약액으로서 수산화나트륨 수용액(NaOH(aq))을 사용하여 알칼리 처리시간을 10∼60Osec의 범위로 바꾸고, 상기 공정(1)∼(5)에 의해 도 1d에 도시한 구성으로 이루어진 리지드·플렉스 3층 프린트 배선판을 제작했다. 그 때, 알칼리 처리시간 이외의 제작조건은 동일하게 했다. 표 2에 제작조건을 정리하여 도시했다. 본 예에서 제작한 프린트 배선판은 시료 B로 호칭하기로 한다.In this example, the alkali treatment time is changed to a range of 10 to 60Osec using an aqueous sodium hydroxide solution (NaOH (aq)) as the chemical liquid used for the alkali treatment, and shown in FIG. 1D by the steps (1) to (5). The rigid flex 3-layer printed wiring board which consists of one structure was produced. At that time, production conditions other than alkali treatment time were made the same. Table 2 summarizes the manufacturing conditions. The printed wiring board produced in this example is called sample B.

◆ 프린트 배선판의 구성재료 [내층CCL] 양면 동박 18μm, 폴리이미드 25μm, 접착제 10μm [커버레이(CL)] 폴리이미드 25μm, 접착제 25μm [외층RPC] 한면 동박 18μm, 글라스 에폭시 100μm [접착시트] 25μm  ◆ Materials of printed wiring board [Inner layer CCL] Double-sided copper foil 18μm, Polyimide 25μm, Adhesive 10μm [Coverlay (CL)] Polyimide 25μm, Adhesive 25μm [Outer layer RPC] Single-side copper foil 18μm, Glass epoxy 100μm [Adhesive sheet] 25μm ◆ 시료 B의 약액 처리조건 [알칼리 처리] 농도: 1.0[wt%], 액온: 35[℃], 시간: 10∼600[sec] [RO수 수세] 액온: 실온, 시간:30[sec] [칼슘 첨가수 수세] 농도: 500[ppm], 액온: 실온, 시간: 45[sec], [RO수세] 액온: 실온, 시간: 30[sec]  ◆ Chemical solution treatment condition of Sample B [Alkali treatment] Concentration: 1.0 [wt%], Liquid temperature: 35 [° C], Time: 10 to 600 [sec] [RO water washing] Liquid temperature: Room temperature, Time: 30 [sec] [ Calcium-added water washing] Concentration: 500 [ppm], liquid temperature: room temperature, time: 45 [sec], [RO washing] liquid temperature: room temperature, time: 30 [sec]

알칼리 처리시간을 바꾸어 제작한 시료 B에 대해, 실시예 1과 동일한 필링강도 시험을 하여 벗김강도(필링강도라고 부른다)(N/cm)을 산출했다.The peeling strength (referred to as peeling strength) (N / cm) was computed about the sample peeling strength test similarly to Example 1 about the sample B produced by changing alkali treatment time.

도 4는, 알칼리 처리시간을 바꾸어 제작한 시료 B의 필링강도를 도시한 그래프이다. 단, 도 4에는 비교를 위해 알칼리 처리를 하지 않은 시료의 결과(처리없음으로 명시)도 아울러 게재했다. 더우기, 필링강도는 특별히 예고가 없는 한, 시료 10개에서 얻어진 수치의 평균치이다.4 is a graph showing the peeling strength of Sample B prepared by changing the alkali treatment time. However, in FIG. 4, the result (specified as no treatment) of the sample which has not been treated with alkali is also shown for comparison. Moreover, peeling strength is an average of the numerical values obtained from ten samples, unless there is particular notice.

도 4에서, 이하의 점이 명백해졌다.In Fig. 4, the following points became apparent.

(2a) 알칼리 처리시간(sec)이 30보다 짧은 경우에는, 필링강도가 20 낮아지므로 알칼리 처리가 불충분하다고 생각된다.(2a) When the alkali treatment time (sec) is shorter than 30, since the peeling strength is lowered by 20, it is considered that the alkali treatment is insufficient.

(2b) 반대로, 알칼리 처리시간(sec)이 120보다 긴 경우에는, 마찬가지로 필링강도가 낮아지므로 알칼리 처리가 과잉이라고 생각된다.(2b) On the contrary, when the alkali treatment time (sec) is longer than 120, the peeling strength is similarly lowered, so it is considered that the alkali treatment is excessive.

(2c) 알칼리 처리시간(sec)을 30 이상 120 이하의 범위로 한 경우에는, 처리없음에 비해 약 8배 이상의 필링강도가 안정적으로 얻어지기 때문에 보다 바람직하다.(2c) When the alkali treatment time (sec) is in the range of 30 or more and 120 or less, it is more preferable because the peeling strength of about 8 times or more can be stably obtained compared with no treatment.

따라서, 프린트 배선판이 보다 안정적인 필링강도를 가지기 위해서는, 알칼리 처리시간을 적절한 범위로 할 필요가 있다는 것을 알 수 있었다.Therefore, in order for a printed wiring board to have more stable peeling strength, it turned out that it is necessary to make alkali treatment time into an appropriate range.

(실시예 3)(Example 3)

본 예에서는, 알칼리 처리에서 사용하는 약액으로서 수산화나트륨 수용액(Na0H(aq))을 사용하여 알칼리 처리온도(액온)를 15∼55℃의 범위에서 바꾸어 상술한 공정 (1)∼(5)에 의해 도 1d에 도시한 구성으로 이루어진 리지드·플렉스 3층 프린트 배선판을 제작했다. 그 때 알칼리 처리온도(액온) 이외의 제작조건은 동일하게 했다. 표 3에 제작조건을 정리하여 나타내었다. 더우기, 본 예에서 제작한 프린트 배선판은 시료 C로 호칭한다.In this example, the alkali treatment temperature (liquid temperature) is changed in the range of 15-55 degreeC using the sodium hydroxide aqueous solution (Na0H (aq)) as a chemical liquid used by alkali treatment, and the process (1)-(5) mentioned above. The rigid-flex 3-layer printed wiring board which consists of a structure shown in FIG. 1D was produced. At that time, production conditions other than alkali treatment temperature (liquid temperature) were made the same. Table 3 summarizes the fabrication conditions. Moreover, the printed wiring board produced in this example is called sample C.

◆ 프린트 배선판의 구성재료 [내층CCL] 양면 동박 18μm, 폴리이미드 25μm, 접착제 10μm [커버레이(CL)] 폴리이미드 25μm, 접착제 25μm [외층RPC] 한면 동박 18μm, 글라스 에폭시 100μm [접착시트] 25μm  ◆ Materials of printed wiring board [Inner layer CCL] Double-sided copper foil 18μm, Polyimide 25μm, Adhesive 10μm [Coverlay (CL)] Polyimide 25μm, Adhesive 25μm [Outer layer RPC] Single-side copper foil 18μm, Glass epoxy 100μm [Adhesive sheet] 25μm ◆ 시료 C의 약액 처리조건 [알칼리 처리] 농도: 1.0[wt%], 액온: 15∼55[℃], 시간: 60[sec] [RO수 수세] 액온: 실온, 시간:30[sec] [칼슘 첨가수 수세] 농도: 500[ppm], 액온: 실온, 시간: 45[sec], [RO수세] 액온: 실온, 시간: 30[sec]  ◆ Chemical liquid treatment conditions of Sample C [Alkali treatment] Concentration: 1.0 [wt%], Liquid temperature: 15 to 55 [° C], Time: 60 [sec] [RO water washing] Liquid temperature: Room temperature, Time: 30 [sec] [ Calcium-added water washing] Concentration: 500 [ppm], liquid temperature: room temperature, time: 45 [sec], [RO washing] liquid temperature: room temperature, time: 30 [sec]

알칼리 처리온도(액온)를 바꾸어 제작한 시료 C에 대해, 실시예 1과 동일한 필링강도 시험을 수행하여 벗김강도(필링강도라고 부른다)(N/cm)를 산출했다.Peeling strength test (the peeling strength) (N / cm) was computed on the sample peeling test similar to Example 1 about the sample C produced by changing alkali treatment temperature (liquid temperature).

도 5는, 알칼리 처리온도(액온)를 바꾸어 제작한 시료 C의 필링강도를 도시한 그래프이다. 단, 도 5에는 비교를 위해 알칼리 처리를 하지 않은 시료의 결과(처리없음이라고 명시)도 아울러 게재했다. 더우기 필링강도는, 특별히 예고가 없는 한 시료 10개에서 얻어진 수치의 평균치이다.5 is a graph showing the peeling strength of Sample C prepared by changing the alkali treatment temperature (liquid temperature). 5, the results (specified that there is no treatment) of the sample which did not carry out the alkali treatment are also shown for the comparison. Moreover, peeling strength is an average value of the numerical values obtained from ten samples, unless there is particular notice.

도 5로부터, 이하의 점이 명백해졌다.5, the following points became clear.

(3a) 알칼리 처리온도(액온)가 25℃보다 낮은 경우에는, 필링강도가 낮기 때문에 알칼리 처리가 불충분하다고 생각된다.(3a) When alkali treatment temperature (liquid temperature) is lower than 25 degreeC, since the peeling strength is low, it is thought that alkali treatment is inadequate.

(3b) 반대로, 알칼리 처리온도(액온)가 55℃보다 높은 경우에는, 마찬가지로 필링강도가 낮기 때문에 알칼리 처리가 과잉이라고 생각된다.(3b) On the contrary, when alkali treatment temperature (liquid temperature) is higher than 55 degreeC, since the peeling strength is similarly low, it is considered that alkali treatment is excessive.

(3c) 알칼리 처리온도(액온) ℃가 25 이상 55 이하의 범위인 경우에는, 처리 없음에 비해 약 8배 이상의 필링강도가 안정적으로 얻어지기 때문에 보다 바람직하다.(3c) When the alkali treatment temperature (liquid temperature) is in the range of 25 or more and 55 or less, more preferably about 8 times or more of peeling strength can be stably obtained compared to no treatment, and more preferable.

따라서, 프린트 배선판이 보다 안정적인 필링강도를 갖기 위해서는, 알칼리 처리온도(액온)를 적절한 범위로 할 필요가 있다는 것을 알 수 있다.Therefore, in order to have a more stable peeling strength of a printed wiring board, it turns out that it is necessary to make alkali treatment temperature (liquid temperature) into an appropriate range.

(실시예 4)(Example 4)

본 예에서는, 알칼리 처리(공정 α) 후에 수행하는, 알칼리 처리를 수행한 내층FPC의 양 외면을 칼슘 첨가수를 사용하여 수세처리하는 공정 γ에서의 칼슘농도를 0∼1000ppm의 범위로 바꾸어 상술한 공정(1)∼(5)에 의해 도 1d에 도시한 구성으로 이루어진 리지드·플렉스 3층 프린트 배선판을 제작했다. 그 때, 알칼리 처리(공정 α)에서 사용하는 약액으로서 수산화나트륨 수용액(NaOH(aq))을 사용하여 알칼리 처리농도를 O.1∼1O.Owt%의 범위에서 바꾸었다. 다른 점은 변경하지 않고 알칼리 처리농도 및 칼슘 첨가수의 칼슘농도 이외의 제작조건은 동일하게 했다.In this example, the calcium concentration in the step γ in which both outer surfaces of the inner layer FPC subjected to the alkali treatment, washed after the alkali treatment (step α) is washed with water using calcium-added water is changed to a range of 0 to 1000 ppm, and the above-mentioned. By the steps (1) to (5), a rigid flex three-layer printed wiring board having the configuration shown in Fig. 1D was produced. At that time, the alkali treatment concentration was changed within the range of 0.1 to 10 wt% using an aqueous sodium hydroxide solution (NaOH (aq)) as a chemical solution used in the alkali treatment (step α). The manufacturing conditions other than the alkali concentration and the calcium concentration of the calcium-added water were made the same, without changing the point.

표 4에, 제작조건을 정리하여 나타내었다. 더우기 본 예에서 제작한 프린트 배선판은 시료 D로 호칭한다.Table 4 summarizes the fabrication conditions. Moreover, the printed wiring board produced in this example is called sample D.

◆ 프린트 배선판의 구성재료 [내층CCL] 양면 동박 18μm, 폴리이미드 25μm, 접착제 10μm [커버레이(CL)] 폴리이미드 25μm, 접착제 25μm [외층RPC] 한면 동박 18μm, 글라스 에폭시 100μm [접착시트] 25μm  ◆ Materials of printed wiring board [Inner layer CCL] Double-sided copper foil 18μm, Polyimide 25μm, Adhesive 10μm [Coverlay (CL)] Polyimide 25μm, Adhesive 25μm [Outer layer RPC] Single-side copper foil 18μm, Glass epoxy 100μm [Adhesive sheet] 25μm ◆ 시료 D의 약액 처리조건 [알칼리 처리] 농도: 0.1∼10.0[wt%], 액온: 35[℃], 시간: 60[sec] [RO수 수세] 액온: 실온, 시간:30[sec] [칼슘 첨가수 수세] 농도: 0∼1000[ppm], 액온: 실온, 시간: 45[sec], [RO수세] 액온: 실온, 시간: 30[sec]  ◆ Chemical liquid treatment conditions of Sample D [Alkali treatment] Concentration: 0.1 to 10.0 [wt%], liquid temperature: 35 [° C.], time: 60 [sec] [RO water washing] Liquid temperature: room temperature, time: 30 [sec] [ Calcium-added water washing] Concentration: 0 to 1000 [ppm], liquid temperature: room temperature, time: 45 [sec], [RO washing] liquid temperature: room temperature, time: 30 [sec]

알칼리 처리농도와 칼슘 첨가수의 칼슘농도를 바꾸어 제작한 시료 D에 대해, 실시예 1과 동일한 필링강도 시험을 수행하여 벗김강도(필링강도라고 부른다)(N/cm)를 산출했다.Peeling strength test (the peeling strength) (N / cm) was computed similarly to Example 1 about the sample D produced by changing the alkali treatment density | concentration and the calcium concentration of calcium addition water.

도 6은, 알칼리 처리농도와 칼슘 첨가수의 칼슘농도를 바꾸어 제작한 시료 D의 필링강도를 도시한 그래프이다. 단, 도 6에는 비교를 위해, 알칼리 처리를 하지 않은 시료의 결과(처리없음이라고 명시)도 아울러 게재했다. 더우기, 필링강도는 특별히 예고가 없는 한 시료 10개에서 얻어진 수치의 평균값이다.6 is a graph showing the peeling strength of Sample D prepared by changing the alkali treatment concentration and the calcium concentration of calcium-added water. However, also for the comparison, the result (specified that there is no treatment) of the sample which did not give alkali treatment was also published for the comparison. Moreover, peeling strength is an average value of the numerical values obtained from ten samples, unless there is a notice.

도 6에서 이하의 점이 명백해졌다.6, the following points became apparent.

(4a) 칼슘 첨가수를 사용한 수세처리를 하지 않은 경우(칼슘농도를 Oppm으로 한 막대 그래프에 착안), 알칼리 처리농도(wt%)가 1.O 이상 4.0 미만이라는 좁은 범위에서만 필링강도가 증대되는 경향을 나타내어, 처리없음에 비해 약 8배 이상의 필링강도를 얻을 수 있다. 이에 대해 0.5wt% 이하의 영역이나 4.0wt% 이상의 영역에서의 필링강도는, 알칼리 처리를 하지 않은 결과(처리없음으로 기재)에 비해 거의 변화하지 않는다.(4a) When the water treatment with calcium addition water is not performed (focus on the bar graph with calcium concentration Oppm), the peeling strength is increased only in a narrow range where the alkali treatment concentration (wt%) is 1.O or more and less than 4.0. It shows a tendency, and about 8 times or more peeling strength is obtained compared with no treatment. On the other hand, the peeling strength in the area | region of 0.5 wt% or less or the area | region of 4.0 wt% or more hardly changes compared with the result of not giving alkali treatment (it describes as no treatment).

(4b) 칼슘 첨가수를 사용한 수세 처리를 한 경우(칼슘농도를 2O∼1OOOppm에 한 막대 그래프에 착안), 알칼리 처리농도(wt%)가 0.25∼10.0 미만이라는 넓은 범위에서 필링강도가 증대된다. 예를 들면, 처리없음에 비해 약 8배 이상의 필링강도를 얻을 수 있는 알칼리 처리농도의 범위는 0.25∼2.0wt%로 대폭 확대한다.(4b) In the case of washing with water using calcium-added water (concentrating on a bar graph with calcium concentration of 20 to 100 ppm), the peeling strength is increased in a wide range of alkali treatment concentration (wt%) of less than 0.25 to 10.0. For example, the range of alkali treatment concentration which can obtain about 8 times or more of peeling strength compared with no treatment is greatly expanded to 0.25 to 2.0 wt%.

(4c) 알칼리 처리농도를 4.0wt%로 한 결과로부터, 칼슘농도를 20ppm 이상으로 하면, 처리없음에 비해 약 2배 이상의 필링강도를 얻을 수 있다는 것을 알 수 있다. 또 칼슘농도를 250ppm 이상으로 하면,처리없음에 비해 약 3배 이상의 필링강도를 안정적으로 얻을 수 있기 때문에 보다 바람직하다.(4c) From the result of setting the alkali treatment concentration to 4.0 wt%, it can be seen that when the calcium concentration is 20 ppm or more, the peeling strength of about 2 times or more can be obtained compared with no treatment. When the calcium concentration is 250 ppm or more, more preferably about 3 times or more peeling strength can be stably obtained compared to no treatment.

따라서 프린트 배선판이 보다 안정적인 필링강도를 가지기 위해서는, 알칼리 처리를 한 후, 칼슘 첨가수를 사용한 수세처리를 하는 것이 효과적이라는 것을 알 수 있었다.Therefore, in order for the printed wiring board to have a more stable peeling strength, it was found that it is effective to carry out an alkali treatment and then perform a water washing treatment using calcium-added water.

또 칼슘 첨가수를 사용한 수세처리는, 알칼리 처리 최적범위를 확대하는 효과를 가져온다는 것이 명백해졌다. 그 때 칼슘농도(ppm)는 바람직하게는 20 이상이고, 보다 바람직하게는 250ppm 이상이다.Moreover, it became clear that the water washing process using calcium addition water brings about the effect which expands the alkaline treatment optimal range. At that time, calcium concentration (ppm) becomes like this. Preferably it is 20 or more, More preferably, it is 250 ppm or more.

이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 설명했으나, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지는 않는다. 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 구성의 부가, 생략, 치환 및 기타 변경이 가능하다. 본 발명은 전술한 설명에 의해 한정되지 않으며 첨부된 클레임의 범위에 의해서만 한정된다.As mentioned above, although the preferable Example of this invention was described, this invention is not limited to these Examples. Additions, omissions, substitutions, and other modifications can be made without departing from the spirit of the invention. The invention is not limited by the foregoing description, but only by the scope of the appended claims.

도 1a∼도 1d는, 본 발명에 관한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.1A to 1D are schematic cross-sectional views showing an example of a method of manufacturing a rigid flex printed wiring board according to the present invention.

도 2a 및 도 2b는, 도 1a∼도 1d의 프린트 배선판에 사용되는 외층 RPC의 제조방법의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.FIG. 2: A and 2B are typical sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of outer layer RPC used for the printed wiring board of FIGS. 1A-1D.

도 3은, 시료 A의 필링강도를 나타내는 그래프이다.3 is a graph showing the peeling strength of Sample A. FIG.

도 4는, 시료 B의 필링강도를 나타내는 그래프이다.4 is a graph showing the peeling strength of Sample B. FIG.

도 5는, 시료 C의 필링강도를 나타내는 그래프이다.5 is a graph showing the peeling strength of Sample C. FIG.

도 6은, 시료 D의 필링강도를 나타내는 그래프이다.6 is a graph showing the peeling strength of Sample D. FIG.

도 7a∼도 7d는, 종래의 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.7A to 7D are schematic cross-sectional views showing an example of a conventional method for manufacturing a rigid flex printed wiring board.

도 8a 및 도 8b는, 도 7a∼도 7d의 프린트 배선판에 사용되는 외층 RPC의 제조방법의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.8A and 8B are schematic cross-sectional views showing an example of a manufacturing method of the outer layer RPC used for the printed wiring board of FIGS. 7A to 7D.

도 9는, 종래의 리지드·플렉스 프린트 배선판의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.9 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional rigid flex printed wiring board.

도 10은, 프린트 배선판을 구성하는 내층 FPC와 접착부재 간에 박리가 생긴 상태를 나타내는 모식적인 단면도이다.10 is a schematic cross-sectional view showing a state in which peeling occurs between the inner layer FPC and the adhesive member constituting the printed wiring board.

Claims (1)

내층동장 적층판에 커버레이를 겹쳐 양 외면이 가요성 부재로 이루어진 내층플렉시블 배선판, 일면이 비가요성 부재로 이루어진 외층 리지드 배선판 및 접착부재를 구비한 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법으로서,A method for manufacturing a rigid flex printed wiring board having an inner layer flexible wiring board having a coverlay over an inner layer copper clad laminate and having an outer layer made of a flexible member, an outer layer rigid wiring board made of a non-flexible member on one surface, and an adhesive member, 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면을 알칼리 처리하는 공정α와,Alkali-processing both outer surfaces of the inner layer flexible wiring board, and 상기 알칼리 처리를 한 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면에, 상기 접착부재를 통해 상기 외층 리지드 배선판을 각각 적층하는 공정β를 구비하며,A step β of laminating the outer layer rigid wiring board on the outer surfaces of the inner layer flexible wiring board subjected to the alkali treatment, respectively, via the adhesive member; 상기 공정α에서의 알칼리 처리농도는 0.25wt% 이상 10.0wt% 미만이고,The alkali treatment concentration in the step α is 0.25wt% or more and less than 10.0wt%, 상기 공정α에서의 알칼리 처리시간은 30sec 이상 120sec 이하이고,The alkali treatment time in the step α is 30 sec or more and 120 sec or less, 상기 공정α에서의 알칼리 처리액온도는, 25℃ 이상 55 ℃ 미만이고,The alkali treatment liquid temperature in the said process (alpha) is 25 degreeC or more and less than 55 degreeC, 상기 공정α와 상기 공정β 사이에, 상기 알칼리 처리를 한 상기 내층 플렉시블 배선판의 상기 양 외면을 칼슘 첨가수를 사용하여 수세 처리하는 공정γ을 더 구비하고,Furthermore, between the said process (alpha) and the said (beta), the process (gamma) which wash-washes both the outer surfaces of the said inner layer flexible wiring board which performed the said alkali treatment using calcium addition water is further provided, 상기 공정γ에서의 칼슘농도는 20ppm 내지 1000ppm 범위인 리지드·플렉스 프린트 배선판의 제조방법.The calcium concentration in the said process (gamma) is a manufacturing method of the rigid flex printed wiring board in the range of 20 ppm-1000 ppm.
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