KR100860262B1 - 연속 부분 금도금을 위한 마스크 및 스트립의 구조 - Google Patents
연속 부분 금도금을 위한 마스크 및 스트립의 구조 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100860262B1 KR100860262B1 KR1020060098752A KR20060098752A KR100860262B1 KR 100860262 B1 KR100860262 B1 KR 100860262B1 KR 1020060098752 A KR1020060098752 A KR 1020060098752A KR 20060098752 A KR20060098752 A KR 20060098752A KR 100860262 B1 KR100860262 B1 KR 100860262B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- strip
- gold
- mask
- plating
- plated
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0671—Selective plating
- C25D7/0678—Selective plating using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
Description
Claims (2)
- 박판의 스트립상에 부분적으로 금도금을 하기 위한 장치에 있어서,금도금(S8)부로 인입되는 스트립(2)의 전면에는 금도금 되는 부분이 천공되어 공간부(11)를 형성한 마스크 고무판(4)이 밀착되고, 이면에는 고무판(5)이 밀착되어 스트립의 전면에 구비된 노즐(8)에서 분사되는 도금액(7)이 망상의 +전극(6)을 거쳐 스트립의 표면에 가해지면서 스트립에 가해지는 -전원과 통전되어 마스크 고무판의 공간부가 금도금되는 것을 특징으로 하는 연속 부분 금도금을 위한 마스크의 구조.
- 제 1항에 있어서, 스트립(2)은 양측 가장자리에 일정한 간격으로 가이드홀(14)이 천공되고 가이드홀을 통과하는 레이저 발광소자(12)의 빛을 검출하여 금도금위치를 결정할 수 있게 구성한 것을 특징으로 하는 연속 부분 금도금을 위한 마스크의 구조.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060098752A KR100860262B1 (ko) | 2006-10-11 | 2006-10-11 | 연속 부분 금도금을 위한 마스크 및 스트립의 구조 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060098752A KR100860262B1 (ko) | 2006-10-11 | 2006-10-11 | 연속 부분 금도금을 위한 마스크 및 스트립의 구조 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080032795A KR20080032795A (ko) | 2008-04-16 |
KR100860262B1 true KR100860262B1 (ko) | 2008-09-25 |
Family
ID=39573165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060098752A KR100860262B1 (ko) | 2006-10-11 | 2006-10-11 | 연속 부분 금도금을 위한 마스크 및 스트립의 구조 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100860262B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101204450B1 (ko) | 2010-11-23 | 2012-11-26 | 한국타이어월드와이드 주식회사 | 타이어 가류금형의 크롬 도금층 제조방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57110691A (en) | 1980-12-27 | 1982-07-09 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | Spot plating device |
JPS5928591A (ja) | 1982-08-09 | 1984-02-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | マスキング方法 |
JPS62154658A (ja) | 1985-12-26 | 1987-07-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体装置用リ−ドフレ−ムの製造方法 |
JPS6415391A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-19 | Toppan Printing Co Ltd | Plating method for plate object |
-
2006
- 2006-10-11 KR KR1020060098752A patent/KR100860262B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57110691A (en) | 1980-12-27 | 1982-07-09 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | Spot plating device |
JPS5928591A (ja) | 1982-08-09 | 1984-02-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | マスキング方法 |
JPS62154658A (ja) | 1985-12-26 | 1987-07-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体装置用リ−ドフレ−ムの製造方法 |
JPS6415391A (en) * | 1987-07-07 | 1989-01-19 | Toppan Printing Co Ltd | Plating method for plate object |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101204450B1 (ko) | 2010-11-23 | 2012-11-26 | 한국타이어월드와이드 주식회사 | 타이어 가류금형의 크롬 도금층 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080032795A (ko) | 2008-04-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101716935B1 (ko) | 금속 피막 형성 방법 및 금속 피막 형성 제품의 제조 방법 및 제조 장치 | |
JP2007505213A (ja) | 電気絶縁構造体を電解処理するための装置および方法 | |
CN108617104A (zh) | 印刷电路板的局部图形铜厚加厚的制作方法 | |
CN107683029B (zh) | 一种负片pcb板喷锡工艺 | |
KR100860262B1 (ko) | 연속 부분 금도금을 위한 마스크 및 스트립의 구조 | |
CN111065214A (zh) | 线路板覆盖膜贴合工艺 | |
JPH0246677B2 (ko) | ||
CN104846372B (zh) | 局部蚀刻制作立体件的方法及定位治具 | |
CN101521991A (zh) | 有选择性地电镀铜、锡的线路板的制作方法 | |
JP6233973B2 (ja) | 金属−セラミックス回路基板の製造方法 | |
EP1753896B1 (de) | Verfahren und system zum selektiven beschichten oder ätzen von oberflächen | |
CN101489355B (zh) | 免镀锡、退锡的线路板的制作方法 | |
DE10135349A1 (de) | Verfahren zur selektiven Galvanisierung eines bandartigen, metallischen Trägermaterials | |
US20140311776A1 (en) | Plating apparatus, plating method, method of manufacturing printed circuit board and printed circuit board | |
CN103203955A (zh) | 一种台阶模板的混合制作工艺 | |
US3663388A (en) | Gold removal process | |
US20140144674A1 (en) | Electrical components and methods of manufacturing electrical components | |
US3791938A (en) | Method and apparatus for fabricating selectively plated electrical contacts | |
JP6533652B2 (ja) | 端子部材のめっき方法およびめっき装置 | |
DE10149998C2 (de) | Verfahren und System zur selektiven galvanischen Beschichtung von Metalloberflächen | |
KR20060013271A (ko) | 잉크 마스킹을 이용한 부분도금방법 | |
CN108882554B (zh) | 一种波峰焊的助焊剂喷涂方法及装置 | |
KR20130112238A (ko) | 금속판재의 포인트 금도금 방법 및 장치 | |
KR20060114982A (ko) | 부분 도금 장치 및 방법 | |
WO2019078712A1 (en) | METHOD FOR APPLYING A LAYER TO A PORTION OF A SUBSTRATE SURFACE |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120910 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130812 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141020 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150910 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160919 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171018 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180831 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190725 Year of fee payment: 12 |