KR100837303B1 - 반도체 및 ｌｃｄ 진공 장비용 게이트 밸브 - Google Patents
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Abstract
하나의 밸브몸체에 유로를 차단하는 유체차단수단과 유로를 형성하는 유체안내수단을 구비하고, 유체차단수단은 유로를 차단할 때만 고 부식성 유체와 접촉되게 하고 유로를 개방할 때는 고 부식성 유체와 접촉되지 않게 함으로써, 고 부식성 유체와 유체차단수단과의 접촉을 최소화함과 아울러 유체안내수단을 고 부식성 유체에 대응하는 재질로 제작하여 유체차단수단 및 유체안내수단의 사용 수명을 연장할 수 있는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브가 개시되어 있다. 본 발명에 따른 게이트 밸브는 고 부식성 유체가 유입되는 유입유로와, 유입유로를 따라 유입된 고 부식성 유체가 배출되는 배출유로와, 유입유로와 배출유로 사이에 형성되는 개폐공간부와, 내주면 상에 개폐공간부와 연결되는 개폐가이드공이 형성된 스템관을 구비하는 밸브몸체; 스템관의 일측에 이격되게 배치되는 메인공유압실린더와, 메인공압실린더와 연결되고 개폐가이드공 및 개폐공간부로 슬라이딩되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트의 타측에 일체로 형성되는 제 2 게이트를 구비하는 게이트부를 가지며, 제 2 게이트는 밸브 개방 시 개폐공간부에서 개폐가이드공을 차단하는 유체안내수단; 및 제 1 게이트 내에 배치되는 양방향공압실린더와, 양방향공압실린더와 연결되고 밸브 차단 시 개폐공간부에서 유입입로 및 배출유로를 차단하는 제 1 유체차단판 및 제 2 유체차단판을 가지는 유체차단수단으로 이루어진다.
Description
본 발명은 반도체 및 LCD 제조공정에 고 부식성 유체를 단속 및 안내하는 밸브에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 하나의 밸브몸체에 유로(流路)를 차단하는 유체차단수단과 유로(流路)를 형성하는 유체안내수단을 구비하고, 유체차단수단은 유로를 차단할 때만 고 부식성 유체와 접촉되게 하고 유로를 개방할 때는 고 부식성 유체와 접촉되지 않게 함으로써, 고 부식성 유체와 유체차단수단과의 접촉을 최소화함과 아울러 유체안내수단을 고 부식성 유체에 대응하는 재질로 제작하여 유체차단수단 및 유체안내수단의 사용 수명을 연장할 수 있는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 및 LCD 제조공정은 크게 전(Fabrication) 공정과 후(Assembly) 공정으로 이루어진다. 전 공정은 각종 프로세스 챔버(Chamber) 내에서 박막을 증착하고, 증착된 박막을 선택적으로 식각하는 과정을 반복적으로 수행하여 특정의 패턴을 가공하여 반도체 칩 및 기판을 제조하는 것이며, 후 공정은 전 공정에서 제조된 칩 및 기판을 개별적으로 분리한 후, 리그프레임과 결합하여 완제 품을 조립하는 것을 말한다.
전술한 박막을 증착하는 방법으로는 박막증착방법에 따라 물리기상증착방법과 화학기상증착방법으로 나눌 수 있으며, 최근에는 기체 상태의 화합물을 분해한 후 화학적 반응에 의해 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 화학기상증착방법이 널리 사용되고 있다.
화학기상증착(CVD; Chemical Vapor Deposition)방법은 직접회로기판 표면에 얇은층의 물질을 피막하기 위해 통상적으로 사용되고 있는 가스 반응 처리 방법이다. 이러한 CVD 방법은 열, 플라즈마, 열과 플라즈마의 분해 및 가스 반응에 기초를 두고 있으며, CVD 피막으로는 실리콘 이산화물, 실리콘 질화늄 및 롤리실리콘이 통상적으로 사용되고 있다.
또한, 화학기상증착방법은 박막을 형성시키기 위한 화학반응이 발생하는 조건에 따라 대기압에서 화학기상증착이 이루어지는 AP CVD(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)와, 저압에서 화학기상증착이 이루어지는 LP CVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)와, 저압상태에서 플라즈마에 의해 화학기상증착이 이루어지는 PE CVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 및 고밀도의 플라즈마에 의해 화학기상증착이 이루어지는 HDP CVD(High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition) 등으로 나누어진다.
전술한 CVD 장비들은 밀폐된 챔버(Chamber)유닛과, 챔버유닛 내에서 진행되는 반도체 및 LCD 제조공정에 필요한 소스가스를 저장하는 가스저장유닛을 구비하는데, 챔버유닛는 가스저장유닛과 연결되는 유입관, 내부에 잔류 가스를 배출하는 배출관등이 더 구비되면, 유입관 및 배출관에는 밸브가 배치된다.
도 1은 종래 반도체 장비용 밸브를 나타낸 도면이다.
도 1을 참조하면, 종래 유체밸브(10)는 내부에 유로(流路)(22)가 형성된 밸브몸체(20)와, 선택적으로 유로(22)를 개방 또는 차단하는 작동로드(30)와, 작동로드(30)를 구동시키는 구동수단(40)으로 이루어진다. 누구나 알 수 있듯이 구동수단(40)은 통상의 공압실린더를 채택한다. 한편, 유로(22) 차단 시 유로(22)에 접하는 작동로드(30)에는 실링부재(50)가 장착된다.
그러나 종래 유체밸브(10)는 유로(22)를 차단하거나 또는 유로(22)를 개방하더라도 유로(22)를 흐르는 고 부식성 유체에 작동로드(30)에 장착된 실링부재(50)가 향상 노출되기 때문에 실링부재(50)의 부식이 빠르게 진행되어 유체밸브(10)의 사용수명이 단축되는 문제점이 있었다.
또한 부식된 실링부재(50)에서 떨어지는 이물질에 의해서 파티클이 발생되게 하는 또 다른 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 하나의 밸브몸체에 유로(流路)를 차단하는 유체차단수단과 유로(流路)를 형성하는 유체안내수단을 구비하고, 유체차단수단은 유로를 차단할 때만 고 부식성 유체와 접촉되게 하고 유로를 개방할 때는 고 부식성 유체와 접촉되지 않게 함으로써, 고 부식성 유체와 유체차단수단과의 접촉을 최소화함과 아울러 유체안내수단을 고 부식성 유체에 대응하는 재질로 제작하여 유체차단수단 및 유체안내수단의 사용 수명을 연장할 수 있는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브를 제공하는데 있다.
상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위해서 본 발명은,
고 부식성 유체를 안내하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브에 있어서,
게이트 밸브는;
고 부식성 유체가 유입되는 유입유로와, 유입유로를 따라 유입된 고 부식성 유체가 배출되는 배출유로와, 유입유로와 배출유로 사이에 형성되는 개폐공간부와, 내주면 상에 개폐공간부와 연결되는 개폐가이드공이 형성된 스템관을 구비하는 밸브몸체;
스템관의 일측에 이격되게 배치되는 메인공압실린더와, 메인공압실린더와 연결되고 개폐가이드공 및 개폐공간부로 슬라이딩되는 제 1 게이트 및 제 1 게이트의 타측에 일체로 형성되는 제 2 게이트를 구비하는 게이트부를 가지며, 제 2 게이트는 밸브 개방 시 개폐공간부에서 개폐가이드공을 차단하는 유체안내수단; 및
제 1 게이트 내에 배치되는 양방향공압실린더와, 양방향공압실린더와 연결되고 밸브 차단 시 개폐공간부에서 유입입로 및 배출유로를 차단하는 제 1 유체차단판 및 제 2 유체차단판을 가지는 유체차단수단으로 이루어며;
제 1 게이트는 일측이 메인공압실린더의 작동에 의해서 신장 또는 수축되는 메인실린더로드에 의해 연결되고, 제 1 게이트의 내부에는 양방향공압실린더가 안치되는 수용부가 마련되며, 수용부의 상부 및 하부에는 양방향공압실린더에서 연장되는 제 1 차단실린더로드 및 제 2 차단실린더로드가 관통될 수 있도록 제 1 관통공 및 제 2 관통공이 형성되는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브를 제공한다.
제 1 게이트는 일측이 메인공압실린더의 작동에 의해서 신장 또는 수축되는 메인실린더로드에 의해 연결되고, 제 1 게이트의 내부에는 양방향공압실린더가 안치되는 수용부가 마련되며, 수용부의 상부 및 하부에는 양방향공압실린더에서 연장되는 제 1 차단실린더로드 및 제 2 차단실린더로드가 관통될 수 있도록 제 1 관통공 및 제 2 관통공이 형성되는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브를 제공한다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브는 하나의 밸브몸체에 고 부식성 유체를 차단하는 유체차단수단과 고 부식성 유체를 안내하는 유체안내수단을 구비함으로써, 고 부식성 유체를 안내할 때 유체차단수단이 고 부식성 유체와 접촉되는 것을 방지하여 유체차단수단에 마련된 실링부재의 부식을 막을 수 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 반도체 및 LCD 진공 장비용 유체밸브에 대해 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브를 나타낸 단면도로서, 게이트 밸브가 차단된 상태를 보인 도면이며, 그리고 도 3은 도 2에 도시된 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브가 개방된 상태를 보인 단면도이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브(100)는 밸브몸체(110)와, 밸브몸체(110)에 장착되는 유체안내수단(130) 및 유체안내수단(130)에 장착되는 유체차단수단(150)을 구비한다. 하기에는 도면의 좌측을 일측으로 도면의 우측을 타측으로, 그리고 도면의 상단을 상부로 도면의 하단을 하부로 하여 설명한다.
먼저, 밸브몸체(110)는 내부로 고 부식성 유체가 유입되는 유입유로(112)와, 유입유로(112)를 따라 밸브몸체(110)의 내부로 유입된 고 부식성 유체가 배출되는 배출유로(114)와, 밸브몸체(110) 내부에 형성되고 유입유로(112)와 배출유로(114) 사이에 형성되는 개폐공간부(116)를 구비한다. 또한 밸브몸체(110)는 밸브몸체(110)의 일측에 형성되는 스템관(118)을 구비한다.
도면에 도시된 바와 같이, 유입유로(112)는 밸브몸체(110)의 상부에서 수직하게 개폐공간부(116) 측으로 연결되며, 마찬가지로 배출유로(114)는 밸브몸체(110)의 하부에서 수직하게 개폐공간부(116) 측으로 연결된다. 이러한 유입유로(112) 및 배출유로(114)가 형성된 밸브몸체(110)의 상부 및 하부에는 고 부식성 유체를 안내하는 유입관(P1) 및 배출관(P2)과의 연결을 위해 유입연결플랜지(120) 및 배출연결플랜지(122)가 각각 형성된다.
한편, 스템관(118)의 내주면 상에는 개폐가이드공(124)이 형성되는데, 개폐가이드공(124)은 개폐공간부(116)와 연결된다. 또한 개폐가이드공(124)은 유입유로(112) 및 배출유로(114)에 대하여 수직하게 형성된다. 이렇게 형성된 스템관(118)의 개폐가이드공(124)의 내주면의 길이(L1)는 개폐공간부(116)의 상부 및 하부 사이의 길이(L2)보다 짧은 길이를 가지는데, 이러한 개폐가이드공(124)과 개폐공간부(116) 사이에는 걸림면(126)이 형성된다.
이와 같이 형성된 밸브몸체(110)에는 유체안내수단(130)이 장착되고, 유체안내수단(130)에는 유체차단수단(150)이 장착된다.
유체안내수단(130)은 스템관(118)의 일측에 이격되게 배치되는 메인공압실린더(132)와, 메인공압실린더(132)와 연결되고 개폐가이드공(124) 및 개폐공간부(116)로 슬라이딩 되는 게이트부(134)를 구비한다. 메인공압실린더(132)와 게이트부(134)는 메인공압실린더(132)에 연결되고 메인공압실린더(132)의 작동에 의해 서 신장 또는 수축되는 메인실린더로드(136)에 의해 연결된다. 바람직하게는 메인공압실린더(132)와 스템관(118) 사이에는 주름관(144)이 배치되고, 메인공압실린더(132)는 지면에서부터 연장되는 서브프레임(도시되지 않음)에 고정 장착된다.
게이트부(134)는 일측이 메인실린더로드(136)에 연결되고 개폐가이드공(124) 내에 배치되면서 개폐공간부(116) 측으로 슬라이딩되는 제 1 게이트(138)와, 제 1 게이크(138)의 타측면 상에 일체로 형성되고 개폐공간부(116) 내에 배치되어 밸브(100) 개방 시 개폐공간부(116) 내에서 개폐가이드공(124)을 차단하는 제 2 게이트(140)를 구비한다. 이러한 제 2 게이트(140)의 일측면 상에는 밸브(100) 개방 시 고 부식성 유체가 개폐가이드공(124) 측으로 유입되는 것을 방지할 수 있는 제 1 실링부재(142)가 장착된다. 제 1 실링부재(142)는 통상의 오링을 사용함이 바람직하다.
한편, 유체차단수단(150)은 제 1 게이트(138) 내에 배치되는 양방향공압실린더(152)와, 양방향공압실린더(152)와 연결되고 밸브(100) 차단 시 개폐공간부(116) 내에서 유입유로(112) 및 배출유로(114)를 차단하는 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)을 구비한다. 양방향공압실린더(152)와 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)은 양방향공압실린더(152)에 연결되고 양방향공압실린더(152)의 작동에 의해서 신장 또는 수축되는 제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)에 의해 연결된다.
전술한 바와 같이 양방향공압실린더(152)는 제 1 게이트(138) 내에 배치되는데, 이를 위해서 제 1 게이트(138)의 내부에는 양방향공압실린더(152)가 안치되는 수용부(162)가 마련되며, 수용부(162)의 상부 및 하부에는 양방향공압실린더(152)에서 연장되는 제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)가 제 1 게이트(138)의 관통될 수 있도록 제 1 관통공(164) 및 제 2 관통공(166)이 형성된다. 제 1 관통공(164) 및 제 2 관통공(166)은 제 1 게이트(138)의 상부 및 하부에서 수용부(162) 측으로 수직하게 관통 형성된다.
한편, 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)은 제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)의 연장단부에 장착된다. 이러한 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)은 유입유로(112) 및 배출유로(114)보다 큰 직경을 가진다. 그리고 유입유로(112)를 차단하는 제 1 유체차단판(154)의 상부 및 배출유로(114)를 차단하는 제 2 유체차단판(156)의 하부에는 유입유로(112) 및 배출유로(114) 차단 시 고 부식성 유체의 누설을 방지하는 제 2 실링부재(168) 및 제 3 실링부재(170)가 장착된다. 제 2 실링부재(168) 및 제 3 실링부재(170)는 통상의 오링을 사용함이 바람직하다.
바람직하게는, 제 1 게이트(138)의 상부 및 하부에는 밸브(100) 개방 시 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)이 수용되는 제 1 수용홈(172) 및 제 2 수용홈(174)이 형성된다. 더욱 바람직하게는 양방향공압실린더(152)와 연결되는 공압라인(176)은 메인실린더로드(136)를 따라 안내되고, 이를 위해서 메인실린더로드(136)의 내부에는 안내공(178)이 형성된다.
하기에는 전술한 바와 같이 형성된 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸 브(100)의 작동상태를 간략하게 설명한다.
다시 도 2 및 도 3을 참조하면, 고 부식성 유체를 안내하기 위해서는, 우선 유체차단수단(150)의 양방향공압실린더(152)를 작동시켜 제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)를 수축시킨다. 이렇게 제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)가 수축되면, 제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)에 장착된 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)은 제 1 수용홈(172) 및 제 2 수용홈(174)에 수용된다.
전술한 바와 같이, 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)이 제 1 수용홈(172) 및 제 2 수용홈(174)에 수용되면, 다시 메인공압실린더(132)를 작동시켜 메인실린더로드(136)를 수축시킨다. 그 결과, 양방향공압실린더(152) 및 제 1 게이트(138)는 개폐가이드공(124) 내로 삽입되고, 제 2 게이트(140)의 일측 및 제 1 실링부재(142)는 걸림면(126)에 밀착된다. 이렇게 제 2 게이트(140)의 일측이 걸림면(126)에 밀착되면, 고 부식성 유체는 유입유로(112)를 통해 밸브몸체(110) 내로 유입되어 개폐공간부(116)를 지나 배출유로(114)를 따라 배출된다.
한편, 밸브(100)를 차단하기 위해서는, 우선 메인공압실린더(132)를 작동시켜 메인실린더로드(136)를 신장시킨다. 이렇게 메인실린더로드(136)가 신장되면 제 2 게이트(140)의 일측은 걸림면(126)에서 이탈되어 제 2 게이트(140)의 타측은 개폐공간부(116)의 타측까지 안내되고 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)은 유입유로(112) 및 배출유로(114)의 하부 및 상부까지 안내된다.
이와 같이 제 1 유체차단판(154) 및 제 2 유체차단판(156)이 유입유로(112) 및 배출유로(114)의 하부 및 상부까지 안내되면, 양방향공압실린더(152)를 작동시켜 제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)를 신장시킨다.
제 1 차단실린더로드(158) 및 제 2 차단실린더로드(160)가 신장되면, 제 1 유체차단판(154)의 상부와 제 2 실링부재(168) 및 제 2 유체차단판(156)의 하부와 제 3 실링부재(170)는 유입유로(112)의 하부 및 배출유로(114)의 상부에 밀착되어 유입유로(112) 및 배출유로(114)를 차단한다.
도 1은 종래 반도체 장비용 밸브를 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브를 나타낸 단면도로서, 게이트 밸브가 차단된 상태를 보인 도면이며, 그리고
도 3은 도 2에 도시된 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브가 개방된 상태를 보인 단면도이다.
<도면의주요부분에대한부호의설명>
100 : 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브 110 : 밸브몸체
112 : 유입유로 114 : 배출유로
116 : 개폐공간부 118 : 스템관
124 : 개폐가이드공 130 : 유체안내수단
132 : 메인공압실린더 134 : 게이트부
138 : 제 1 게이트 140 : 제 2 게이트
150 : 유체차단수단 152 : 양방향공압실린더
154 : 제 1 유체차단판 156 : 제 2 유체차단판
Claims (7)
- 고 부식성 유체를 안내하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브에 있어서,상기 게이트 밸브는;고 부식성 유체가 유입되는 유입유로와, 상기 유입유로를 따라 유입된 상기 고 부식성 유체가 배출되는 배출유로와, 상기 유입유로와 상기 배출유로 사이에 형성되는 개폐공간부와, 내주면 상에 상기 개폐공간부와 연결되는 개폐가이드공이 형성된 스템관을 구비하는 밸브몸체;상기 스템관의 일측에 이격되게 배치되는 메인공압실린더와, 상기 메인공압실린더와 연결되고 상기 개폐가이드공 및 상기 개폐공간부로 슬라이딩되는 제 1 게이트 및 상기 제 1 게이트의 타측에 일체로 형성되는 제 2 게이트를 구비하는 게이트부를 가지며, 상기 제 2 게이트는 상기 밸브 개방 시 상기 개폐공간부에서 상기 개폐가이드공을 차단하는 유체안내수단; 및상기 제 1 게이트 내에 배치되는 양방향공압실린더와, 상기 양방향공압실린더와 연결되고 상기 밸브 차단 시 상기 개폐공간부에서 상기 유입입로 및 상기 배출유로를 차단하는 제 1 유체차단판 및 제 2 유체차단판을 가지는 유체차단수단으로 이루어며;상기 제 1 게이트는 일측이 상기 메인공압실린더의 작동에 의해서 신장 또는 수축되는 메인실린더로드에 의해 연결되고, 상기 제 1 게이트의 내부에는 상기 양방향공압실린더가 안치되는 수용부가 마련되며, 상기 수용부의 상부 및 하부에는 상기 양방향공압실린더에서 연장되는 제 1 차단실린더로드 및 제 2 차단실린더로드가 관통될 수 있도록 제 1 관통공 및 제 2 관통공이 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서, 상기 개폐가이드공의 내주면의 길이는 상기 개폐공간부의 상부 및 하부 사이의 길이다 짧은 길이를 가지며, 상기 개폐가이드공과 상기 개폐공간부 사이에는 상기 밸브 개방 시 상기 제 2 게이트의 일측면이 밀착되는 걸림면이 형성되고, 상기 제 2 게이트의 일측면 상에는 통상의 오링으로 된 제 1 실링부재가 장착되는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 관통공 및 상기 제 2 관통공을 관통한 상기 제 1 차단실린더로드 및 상기 제 2 차단실린더로드의 연장단부에는 상기 제 1 유체차단판 및 상기 제 2 유체차단판이 장착되고, 상기 제 1 유체차단판 및 상기 제 2 유체차단판은 상기 유입유로 및 상기 배출유로보다 큰 직경을 가지며, 상기 제 1 유체차단판의 상부 및 상기 제 2 유체차단판의 하부에는 상기 유입유로 및 상기 배출유로 차단 시 상기 고 부식성 유체의 누설을 방지하는 통상의 오링으로 된 제 2 실링부재 및 제 3 실링부재가 장착되는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 게이트의 상부 및 하부에는 상기 밸브 개방 시 상기 제 1 유체차단판 및 상기 제 2 유체차단판이 수용되는 제 1 수용홈 및 제 2 수용홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서, 상기 양방향공압실린더와 연결되는 공압라인은 상기 메인실린더로드를 따라 안내되고, 상기 메인실린더로드의 내부에는 상기 공압라인이 안내되는 안내공이 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브.
- 제 1 항에 있어서, 상기 메인공압실린더와 상기 스템관 사이에는 주름관이 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 및 LCD 진공 장비용 게이트 밸브.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070104038A KR100837303B1 (ko) | 2007-10-16 | 2007-10-16 | 반도체 및 ｌｃｄ 진공 장비용 게이트 밸브 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020070104038A KR100837303B1 (ko) | 2007-10-16 | 2007-10-16 | 반도체 및 ｌｃｄ 진공 장비용 게이트 밸브 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR100837303B1 true KR100837303B1 (ko) | 2008-06-12 |
Family
ID=39770974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR1020070104038A KR100837303B1 (ko) | 2007-10-16 | 2007-10-16 | 반도체 및 ｌｃｄ 진공 장비용 게이트 밸브 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100837303B1 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101502936B1 (ko) * | 2012-11-02 | 2015-04-23 | (주)엘티엘 | 진자 밸브 및 이를 포함하는 진공처리장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5690165A (en) | 1979-12-20 | 1981-07-22 | Toshiba Corp | Gate valve for vacuum |
| KR19990038611U (ko) * | 1998-03-28 | 1999-10-25 | 김영환 | 반도체용 공정챔버의 진공차단밸브장치 |
| KR100550312B1 (ko) * | 2005-07-27 | 2006-02-08 | 주식회사 에스티에스 | 부식 방지용 진공 게이트밸브 |
-
2007
- 2007-10-16 KR KR1020070104038A patent/KR100837303B1/ko not_active IP Right Cessation
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