KR100830841B1 - 다양한 입자 크기를 갖는 다공성 세공체의 제조방법 - Google Patents
다양한 입자 크기를 갖는 다공성 세공체의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100830841B1 KR100830841B1 KR1020060045350A KR20060045350A KR100830841B1 KR 100830841 B1 KR100830841 B1 KR 100830841B1 KR 1020060045350 A KR1020060045350 A KR 1020060045350A KR 20060045350 A KR20060045350 A KR 20060045350A KR 100830841 B1 KR100830841 B1 KR 100830841B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- porous
- producing
- reaction
- temperature
- pore
- Prior art date
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title abstract description 34
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 title abstract description 4
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 62
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 claims description 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 3
- FYAMXEPQQLNQDM-UHFFFAOYSA-N Tris(1-aziridinyl)phosphine oxide Chemical compound C1CN1P(N1CC1)(=O)N1CC1 FYAMXEPQQLNQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012688 phosphorus precursor Substances 0.000 claims description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000012686 silicon precursor Substances 0.000 claims description 2
- 229910017119 AlPO Inorganic materials 0.000 claims 1
- 241000269350 Anura Species 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 7
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 abstract description 3
- 238000004729 solvothermal method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 23
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 16
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 15
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 11
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 5
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- -1 aluminophosphates Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- ZBYYWKJVSFHYJL-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);diacetate;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O ZBYYWKJVSFHYJL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 229940086542 triethylamine Drugs 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VXAUWWUXCIMFIM-UHFFFAOYSA-M aluminum;oxygen(2-);hydroxide Chemical compound [OH-].[O-2].[Al+3] VXAUWWUXCIMFIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UJMDYLWCYJJYMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000013335 mesoporous material Substances 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTUBPKVLOAIMQY-UHFFFAOYSA-H chromium(3+);terephthalate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1.[O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1.[O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 XTUBPKVLOAIMQY-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N glutaric acid Chemical compound OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 239000012621 metal-organic framework Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N methanedithiol Chemical compound SCS INBDPOJZYZJUDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 2
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSCNZPJYIJBBJI-UHFFFAOYSA-D [V+5].[V+5].[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O Chemical compound [V+5].[V+5].[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O.[O-]C(=O)c1ccc(cc1)C([O-])=O JSCNZPJYIJBBJI-UHFFFAOYSA-D 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GHWVXCQZPNWFRO-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diamine Chemical compound CC(N)C(C)N GHWVXCQZPNWFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- JVCSQUWRWAUUII-UHFFFAOYSA-N carboxy cyclohexyl carbonate Chemical compound OC(=O)OC(=O)OC1CCCCC1 JVCSQUWRWAUUII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 208000012839 conversion disease Diseases 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZKZIDXHCDIZKY-UHFFFAOYSA-N heptane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCC(N)N IZKZIDXHCDIZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910021432 inorganic complex Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTWMRBJKMXZQDS-UHFFFAOYSA-N iron;terephthalic acid Chemical compound [Fe].OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 XTWMRBJKMXZQDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVPMIMZXDYBCDF-UHFFFAOYSA-N isocinchomeronic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)N=C1 LVPMIMZXDYBCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013212 metal-organic material Substances 0.000 description 1
- MOVBJUGHBJJKOW-UHFFFAOYSA-N methyl 2-amino-5-methoxybenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC(OC)=CC=C1N MOVBJUGHBJJKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVQQRFDIKYXJTJ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,3-tricarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(O)=O)=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 KVQQRFDIKYXJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006574 non-aromatic ring group Chemical group 0.000 description 1
- FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N nonan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCN FJDUDHYHRVPMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000013259 porous coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- ZNZJJSYHZBXQSM-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-diamine Chemical compound CC(C)(N)N ZNZJJSYHZBXQSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N pyridinedicarboxylic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CN=C1C(O)=O GJAWHXHKYYXBSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC YMBCJWGVCUEGHA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- QSUJAUYJBJRLKV-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;fluoride Chemical compound [F-].CC[N+](CC)(CC)CC QSUJAUYJBJRLKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)C DDFYFBUWEBINLX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M tetrapropylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC BGQMOFGZRJUORO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC FBEVECUEMUUFKM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- POSYVRHKTFDJTR-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;fluoride Chemical compound [F-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC POSYVRHKTFDJTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/40—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by dimensions, e.g. grain size
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/50—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their shape or configuration
- B01J35/56—Foraminous structures having flow-through passages or channels, e.g. grids or three-dimensional monoliths
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/60—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their surface properties or porosity
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/08—Heat treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/34—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation
- B01J37/341—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation
- B01J37/344—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation of electromagnetic wave energy
- B01J37/346—Irradiation by, or application of, electric, magnetic or wave energy, e.g. ultrasonic waves ; Ionic sputtering; Flame or plasma spraying; Particle radiation making use of electric or magnetic fields, wave energy or particle radiation of electromagnetic wave energy of microwave energy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
Abstract
본 발명은 다공성 세공체(porous molecular sieves)의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다공성 세공체를 제조함에 있어서 수열(hydrothermal) 합성 또는 용매열(solvothermal) 합성 반응에 필요한 높은 온도를 얻기 위해 가열하는 과정의 승온 속도를 조절함으로써 결정 입자 크기를 임의로 조절할 수 있는 개선된 다공성 세공체의 제조방법에 관한 것이다.
세공체, 입자 크기, 알루미노포스페이트, 제올라이트, 마이크로파, 수열합성
Description
도 1은 합성된 다공성 세공체 CoAPO-11의 전자현미경 사진을 나타낸 그림이다[(a): 실시예1; (b): 실시예 2; (c): 실시예 3; (d): 실시예 4].
도 2는 합성된 다공성 세공체 VAPO-11의 전자현미경 사진을 나타낸 그림이다[(a): 실시예7; (b): 실시예 8].
본 발명은 다공성 세공체(porous molecular sieves)의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다공성 세공체를 제조함에 있어서 고온을 유지하여 결정화를 유도하는 수열(hydrothermal) 합성 또는 솔보써멀(solvothermal) 합성 반응을 수행함에 있어, 고온을 얻기 위해 가열하는 과정의 승온속도를 조절함으로써 다공성 세공체 입자의 크기를 필요한 크기로 조절할 수 있는 기술에 관한 것이다.
다공성 세공체는 제올라이트, 알루미노포스페이트, 메조 세공 물질 (mesoporous materials) 및 유무기 혼성체 (porous hybrid materials or metal-organic frameworks) 등을 포함하며 이 물질들은 고표면적과 분자크기 또는 나노크기의 세공(나노스페이스)을 갖고 있어 흡착제, 기체 저장, 센서, 멤브레인, 기능성 박막, 촉매 및 촉매 담체 등에 사용될 뿐만 아니라 세공크기보다 작은 게스트 분자를 포집하거나 세공을 이용하여 분자들의 크기에 따라 분리하는데 사용될 수 있기 때문에 최근에 활발히 연구되고 있다.
본 발명은 이러한 다공성 세공체의 개선된 제조 방법에 관한 것이다.
다공성 세공체는 실리콘 (Si), 알루미늄(Al), 인(P), 금속 (Metal) 등을 포함하고 이러한 원소를 연결하는 성분으로 산소(O) 혹은 유기물을 포함하는 무기물질 혹은 유무기물질로써 특히 세공을 가지는 화합물을 의미한다. 이러한 물질 중 무기물질은 실리콘, 금속, 알루미늄 및 인과 같은 성분들이 산소를 공유하여 삼차원적으로 연결된 구조를 가지며 합성 조건에 따라 특수한 모양과 크기의 세공을 가진다(Chem. Review, 99, 63, 1999; US Pat. 4567029). 무기물로 이루어진 다공성 세공체의 대표적인 예로는 제올라이트와 알루미노포스페이트 세공체 (혹은 분자체) 등이 있으며 이들은 매우 다양한 구조를 가진다.
알루미노포스페이트 세공체는 매우 다양한 구조를 가지며 세공이 각각 12, 10 및 8개의 산소로 이루어진 AFI, AEL 및 CHA 구조가 잘 알려져 있다. AFI, AEL 및 CHA 등의 3문자로 표기되는 것은 국제제올라이트협회 (International zeolite Association)의 구조 형태 (structure type)이며 공개된 문헌 (Chem. Review, 99, 63) 에서 세공 구조와 특성을 확인할 수 있다. 또한, 알루미늄, 인 및 산소 외에 다른 금속이 포함된 알루미노포스페이트 세공체도 가능하며 예를 들어 Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co 등의 금속이 추가되면 각각 TAPO, VAPO, CrAPO, MnAPO, FAPO, CoAPO라고 약하여 칭한다. 또한 구조를 나타내는 데 일련의 숫자가 사용되며 같은 구성 성분으로 이루어 져도 다른 구조를 나타낼 때는 숫자를 조성 뒤에 사용하여 나타낸다. 예로, CoAPO-5, CoAPO-11 및 CoAPO-34는 모두 Co, Al, P 및 산소로 구성되나 그 구조가 각각 AFI, AEL 및 CHA 구조를 가짐을 의미한다.
또한, 유무기 복합성분을 함유한 다공성 유무기혼성체는 중심금속 이온이 유기리간드와 결합하여 형성된 다공성 유무기 고분자 화합물로 정의될 수 있으며, 골격 구조 내에 유기물과 무기물을 모두 포함하고 분자크기 또는 나노크기의 세공구조를 갖는 결정성 화합물을 의미한다.
다공성 유무기혼성체는 광범위한 의미의 용어로서 일반적으로 다공성 배위고분자 (porous coordination polymers)라고도 하며(Angew. Chem. Intl. Ed., 43, 2334. 2004) 금속-유기 골격체 (metal-organic frameworks)라고도 한다(Chem. Soc. Rev., 32, 276, 2003). 이러한 물질에 대한 연구는 분자배위결합과 재료과학의 접목에 의해 최근에 새롭게 발전하기 시작하였다.
일반적으로 상기한 다공성 세공체는 보통 물 혹은 유기용매를 반응용매로 사용하여 고온(50 ~ 300 ℃)에서 반응시키는 수열 혹은 용매열 합성법으로 제조된다. 다공성 세공체는 물이나 혹은 적당한 유기물을 용매로 사용하고 고온으로 인해 발생하는 자동압력(autogeneous pressure) 하에서 합성되어진다. 다시 말해, 다공성 세공체는 반응물을 압력 반응기에 넣은 후 잘 막고 고온으로 유지하며 보통 수분 내지 며칠 정도의 일정 기간 경과 후 얻어질 수 있었다. 고온을 얻는 열원으로는 보통 전기 가열 혹은 마이크로파 가열 등을 이용할 수 있으며 마이크로파를 열원으로 이용할 경우 반응은 수시간 이내에 완료되고 전기 가열을 이용할 경우 보통 며칠 정도의 반응 시간이 필요하다.
다공성 세공체는 보통 0.1-100μm 정도의 크기를 가지는 것으로 용도에 따라 적당한 크기가 결정되므로 용도에 따라 입자 크기를 임의대로 조절 할 수 있는 제조 방법의 개발은 산업적으로 매우 중요하다. 예를 들자면 입자 크기가 작을수록 촉매 반응 및 확산 속도는 증가하고 사용한 촉매의 재생에 유리한 특성이 있고 (Catalysis Today, 41, 37, 1998)반면 입자의 크기가 증가할수록 형상선택적 촉매 작용의 선택성이 높아지며 다른 물질을 담거나 멤브레인 등으로 활용하는데 유리하다 (Microporous Mesoporous Material, 79, 339, 2005).
이러한 입자 크기의 중요성 때문에 다공성 세공체의 입자 크기를 조절하고자 한 노력은 오랫동안 계속되어 왔으며 많은 경우 시행착오에 의해 다양한 크기를 얻을 수 있었다. 예로 가장 일반적인 방법은 반응 조건 (온도, 조성)을 변화시키거나 새로운 첨가제를 가하여 결정의 크기와 모양을 조절하였다 (J. Mater. Chem., 14, 280, 2004). 또 다른 수단으로는 결정 핵형성 속도와 결정 성장 속도를 조절하여 결정 크기도 조절 될 수 있음이 알려져 있다 (Microporous Mesoporous Material, 79, 339, 2005). 또한, 두 단계의 온도 조절로 작은 입자의 NaY 제올라이트를 합성한 예도 알려져 있다 (Mater. Letter, 60, 1131, 2006).
다공성 세공체는 촉매, 촉매담체, 흡착제, 이온교환 및 기체 저장에 사용될 수 있을 뿐만 아니라 나노 물질의 저장, 제조 및 분리에 활용되고 나노반응기로도 적용되는 등 그 응용 가능성이 매우 높다. 특히, 다양한 크기의 다공성 세공체는 더욱 다양하고도 특수한 용도로 사용되기에 더욱 더 중요성이 증대되고 있고 이에 부응하기 위한 다양한 입자의 크기로 제조하는 방법의 개발의 필요성이 시급히 요청되고 있지만 아직까지 동일한 시스템에서 다양한 크기의 세공체를 자유롭게 조절할 함으로써 결정 크기를 조절할 수 있음은 알려져 있지 않다.
따라서, 간단한 반응 조작으로 상업적으로 적용가능한 손쉽게 다양한 크기의 다공성 세공체를 제조하는 기술을 개발할 필요성이 매우 크다.
이에 본 발명의 발명자들은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 연구하던 중 의외로 수열 혹은 용매열 반응의 승온 속도를 조절함으로써 결정 입자 크기를 조절할 수 있고 또한 그 조절의 정도가 매우 우수한 것임을 알게 되어 본 발명을 완성하였다.
따라서, 본 발명은 수열 혹은 용매열 반응을 수행하며 고온을 얻기 위해 가열하는 승온 속도를 조절함으로써 다양한 입자 크기의 다공성 세공체를 제조할 수 있으며, 다양한 목적에 적용할 수 있는 다공성 세공체의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명은 실리콘 전구체, 알루미늄 전구체 및 금속물질과 인 전구체를 함유하는 혼합물과 상기 혼합물의 목적원소 연결하기 위한 산소 또는 유기물, 및 주형물질(template)을 포함하고, 물이나 유기용매가 존재하는 상태에서 열처리하여 다공성 세공체를 제조하는 방법에 있어서, 반응온도로 승온함에 있어 승온 속도를 특정하게 유지하여 다양한 크기의 다공성 세공체를 얻는 제조방법을 특징으로 한다.
이하 본 발명의 다공성 세공체의 제조방법을 구체적으로 설명한다.
본 발명은 고온 반응의 열원으로 일반적으로 사용되는 전기 가열은 물론이고 마이크로파를 적용할 수 있으며 승온속도를 조절할 수 있는 방법이면 어떠한 가열 방법도 사용될 수 있다. 전기 가열 방법은 특별한 방법으로 제한되지는 않으며 일반적인 저항선 가열은 물론이고 적외선 램프를 이용할 수도 있다. 마이크로파 가열을 열원으로 이용할 시는 주파수가 1 ~ 30 GHz 범위인 마이크로파를 반응물에 조사하는데, 공업적으로 많이 사용되고 있는 주파수 2.54 GHz의 마이크로파를 이용하는 것이 간편하고 효율적이다.
다공성 세공체는 제올라이트, 메조 세공체, 알루미노포스페이트, 유무기혼성체 등을 포함하며 세공을 가지는 무기물 및 유무기혼성체 등 어느 것이라도 가능하다. 무기물 세공체는 실리콘, 알루미늄 혹은 인 외의 나머지 제 3의 구성원소인 금속물질이 주로 산소를 공유하여 구성되며, 실리콘, 알루미늄 및 인의 원료로도 매우 다양한 물질이 사용될 수 있다. 실리콘은 실리카, 테트라메톡시실란 같은 실란 화합물은 물론이고 물유리, 알루미노실리케이트, 소디움실리케이트 등도 사용될 수 있다. 알루미늄은 보에마이트 (boehmite), 슈도보에마이트 (pseudoboehmite), 알루미나는 물론이고 알루미늄이소프로폭사이드, 알루미노실리케이트 등이 사용될 수 있다. 인의 원료로는 인산 (H3PO4), 포스포러스산 (phosphorous acid, H3PO3), 유기인 화합물 등이 사용될 수 있다. 금속을 공유하는 산소는 용매로 사용된 물 혹은 금속원료로 사용된 물질에 포함된 산소가 사용될 수 있다. 다공성 세공체의 주요 구성원소인 실리콘, 알루미늄과 인은 어떠한 전구체로도 가능하나 편리성과 가격 면에서 실리카 및 실리카졸, 알루미나, 알루미늄알콕사이드 및 인산 등을 사용하는 것이 적합하다. 실리카와 알루미나는 어떠한 구조라도 무관하지만 특히 실리카졸, 슈도보에마이트(pseudoboehmite)와 보에마이트(boehmite)를 사용하는 것이 가장 바람직하며, 인산은 순도 85 % 의 인산을 사용하는 가장 바람직하다.
제3의 구성원소인 금속물질은 전이금속, 전형금속 및 란탄계 금속 등의 어떠한 금속이라도 가능하며,Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi 등이 사용될 수 있다. 특히 전이금속이 적당하고 응용성도 다양하여 효과적인데, 상기한 전이금속, 전형금속, 란탄계 금속 또는 이들의 질산염, 염산염, 초산염, 황산염, 탄산염, 산화물 및 수산화물 등을 사용할 수 있다. 상기 전이금속으로는 티타늄, 바나듐, 크롬, 망간, 철, 코발트, 니켈, 구리 및 아연 등 중에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물을 사용하는 것이 적당하며, 전형금속으로는 알루미늄, 규소, 갈륨, 붕소 및 게르마늄 중에서 선택된 1 종 또는 2 종 이상의 혼합물을 사용하는 것이 좋고, 상기 란탄계 금속으로는 세슘 또는 란타늄 등을 사용하는 것이 좋다.
다공성 세공체의 다공성을 부여하기 위하여 주형물질(template)을 사용하는데, 이러한 주형물질은 질소 함유 유기물, 특히 아민 또는 암모늄염을 사용할 수 있다. 상기 아민으로는 모노아민, 디아민, 트리아민 등 어느 것이라도 사용 가능하다. 모노아민으로는 예를 들면 트리에틸아민, 트리프로필아민, 디이소프로필에틸아민, 트리에탄올아민 등의 3차 아민과, 디부틸아민, 디프로필아민 등의 2차 아민과, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민 등의 1차 아민 및 모폴린, 시클로헥실 아민, 피린딘 등의 환형 구조를 갖는 아민 등이 사용될 수 있다. 디아민으로는 디아미노에탄, 디아미노프로판, 디아미노부탄, 디아미노헵탄, 디아미노헥산 등을 사용할 수 있으며 이들의 종류를 특별히 한정할 필요는 없다. 상기 암모늄염으로는 테트라메틸암모늄히드록사이드, 테트라에틸암모늄히드록사이드, 테트라프로필암모늄히드록사이드, 테트라부틸암모늄히드록사이드, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라프로필암모늄클로라이드, 테트라부틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라프로필암모늄브로마이드, 테트라부틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄플루오라이드, 테트라에틸암모늄플루오라이드, 테트라프로필암모늄플루오라이드 및 테트라부틸암모늄플루오라이드 등을 사용할 수 있다.
실리콘, 알루미늄, 인, 금속 및 주형물질은 그 몰비는 다공성 세공체의 구조에 따라 매우 다양한 조성을 가지며 반응물의 pH도 산성, 중성 및 염기성 등 매우 넓은 범위에서 합성 가능하다. 제올라이트는 주로 염기성, 알루미노포스페이트는 주로 산성에서 합성된다. 합성에 히드록사이드 (OH-) 및 플로라이드 (F-) 등의 성분을 추가할 수도 있으며 이러한 성분들은 mineralizer로 작용하여 합성을 보다 용이하게 해준다.
다공성 세공체 중 유기물을 함유한 유무기혼성체의 하나의 구성원소인 금속 물질은 어떠한 금속이라도 가능하며 Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Hg, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi 등이 대표적인 금속 물질이다. 특히 배위화합물을 잘 만드는 전이금속이 적당하다. 전이금속 중에서도 크롬, 바나듐, 철, 니켈, 코발트, 구리, 티타늄 및 망간 등이 적당하며 크롬이 가장 적당하다. 전이금속 외에도 배위화합물을 만드는 전형원소는 물론 란타늄 같은 금속도 가능하다. 전형원소 중에는 알루미늄 및 실리콘이 적당하며 란타늄 금속 중에는 세륨, 란타늄이 적당하다. 금속원으로는 금속 자체는 물론이고 금속의 어떠한 화합물도 사용할 수 있다.
유무기혼성체의 또 하나의 구성원소인 유기물은 링커 (linker)라고도 하며 배위할 수 있는 작용기를 가진 어떠한 유기물도 가능하며, 배위할 수 있는 작용기는 카본산기, 카본산 음이온기, 아미노기(-NH2), 이미노기(), 아미드기(-CONH2), 술폰산기(-SO3H), 술폰산 음이온기(-SO3 -), 메탄디티오산기(-CS2H), 메탄디 티오산 음이온기(-CS2 -), 피리딘기 또는 피라진기 등이 예시될 수 있다. 보다 안정한 유무기혼성체를 유도하기 위해서는 배위할 수 있는 자리가 2개 이상인, 예를 들면 바이덴테이트 또는 트리덴테이트인 유기물이 유리하다. 유기물로는 배위할 자리가 있다면 비피리딘, 피라진 등의 중성 유기물, 테레프탈레이트, 나프탈렌디카복실레이트, 벤젠트리카복실레이트, 글루타레이트, 숙신네이트 등 으로 예시될 수 있는 카본산의 음이온 등의 음이온성 유기물은 물론 양이온 물질도 가능하다. 카본산 음이온의 경우 예를 들면 테레프탈레이트 같은 방향족 링을 갖는 것 외에 포르메이트 같은 선형의 카본산의 음이온은 물론이고 시클로헥실디카보네이트와 같이 비방향족 링을 갖는 음이온 등 어느 것이라도 가능하다. 배위할 수 있는 자리를 가진 유기물은 물론이고 잠재적으로 배위할 자리를 가져 반응 조건에서 배위할 수 있게 변화되는 것도 가능하다. 즉, 테레프탈산 같은 유기산을 사용하여도 반응 후에는 테레프탈레이트로 금속 성분과 결합할 수 있다. 사용할 수 있는 유기물의 대표적인 예로는 벤젠디카르복실산, 나프탈렌디카복실산, 벤젠트리카복실산, 나프탈렌트리카복실산, 피리딘디카복실산, 비피리딜디카복실산, 포름산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 헥산다이오익산, 헵탄다이오익산, 또는 시클로헥실디카복실산에서 선택되는 유기산 및 그들의 음이온, 피라진, 비피리딘 등이다. 또한, 하나 이상의 유기물을 혼합하여 사용할 수도 있다.
유무기혼성체의 대표적인 예로는 크롬테레프탈레이트, 바나듐테레프탈레이트, 철테레프탈레이트를 들 수 있고, 그 중에서 크롬테레프탈레이트가 (Science, 309, 2040, 2005) 가장 잘 알려져 있고 유용할 것으로 기대되고 있으며, 크롬테레프탈레이트 중에서도 거대한 세공을 갖는 입방정(cubic) 형태의 물질이 현재 효용성 측면에서 가장 주목받고 있다.
상기 실리콘, 알루미늄, 인, 금속물질, 유기물질 및 주형물질 외에 다공성 세공체의 제조에는 적당한 용매가 필요하다. 이러한 용매로는 물, 탄소수 1 ~ 8개의 알코올, 탄소수 2 ~ 8 개의 케톤 및 탄소수 5 ~ 10개의 탄화수소 등 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있으며, 물이 가장 적합하다.
상기 성분을 포함하는 반응물의 반응 온도는 실제적으로 제한되지는 않으나, 50 ℃ 이상이 적당하며, 50 ~ 250 ℃, 바람직하기로는 100 ~ 220 ℃ 범위가 좋다. 반응온도가 너무 낮을 경우에는 반응 속도가 느려 효과적이지 못하고, 반응 온도가 너무 높으면 세공이 없는 물질이 얻어지기 쉽고, 반응 속도가 너무 빨라 불순물이 혼입되기 쉬우며, 반응기 내부 압력이 높아져 반응기의 구성이 비경제적이다.
반응기 내부의 압력은 실제적으로 제한이 없으나, 반응온도에서의 반응물의 자동 압력(autogeneous pressure)에서 합성하는 것이 간단하다. 또한, 질소, 헬륨 등과 같은 불활성 기체를 추가하여 고압에서 반응을 수행할 수도 있다.
이러한 반응은 회분식은 물론이고 연속식으로도 수행 가능하다. 회분식으로 반응을 수행할 경우 회분식 반응기는 시간당 생산량이 낮아 소량의 다공성 세공체를 생산하는데 적합하다. 반응 중에는 반응물을 교반할 수도 있으며 교반 속도는 100 ~ 1,000 rpm이 적당하나 교반 과정 없이도 수행 가능하며 교반을 하지 않는 것이 반응기 구성이나 운전에 있어 간편하며 적용하기가 쉽다.
연속식으로 반응을 적용할 경우, 연속식 반응기는 투자비가 많이 들어가나 대량 생산에 적합하다. 연속식 반응기 내의 반응물의 체류시간은 1분 ~ 1시간이 좋은데, 바람직하기로는 1 ~ 30 분이 좋다. 이때, 체류시간이 길면 생산성이 낮고, 체류시간이 너무 짧으면 반응 전환율이 낮다.
입자 크기를 조절하기 위한 승온 속도는 빠를수록 입자의 크기가 작아지며 어떤 한계가 있는 것은 아니다. 작은 입자를 얻기 위해서는 초당 10℃ 이상으로도 승온 가능하며 큰 입자를 얻기 위해서는 분당 1℃ 이하로도 승온 가능하다. 승온은 계단식으로도 할 수 있고 연속식으로 승온할 수도 있으나 연속식으로 승온하는 것이 입자 크기도 균일하고 운전도 용이하다. 빠른 승온을 위해서는 마이크로파나 적외선 램프를 열원으로 이용하는 것이 간편하며 느린 승온을 위해서는 일반적인 저항선 가열을 이용하는 전기 가열이 간편하다.
연속식으로 반응을 수행하면 반응물의 온도가 순식간에 반응온도에 도달하므로 매우 작은 입자의 생성이 용이하다. 연속식 반응기는 동 출원인이 기 출원한 KR10-2005-0063515호에 기재한 것과 같은 마이크로파를 가열하는 열원으로 사용하여 구성하기 쉽고 관형반응기 (tubular reactor) 혹은 연속교반반응기 (continuous stirred reactor) 형태로 구성할 수 있다. 관형 반응기는 운전의 안정성은 낮으나 설치비가 적게 드는 장점이 있다. 반면, 연속교반반응기는 운전의 안정성이 높으나 설치비가 많이 들지만 목적에 맞는 반응기를 사용할 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예에 의거하여 구체적으로 설명하겠는 바, 다음 실시예에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
인산 (85%)에 증류수를 더해 인산 농도가 42.5%로 되도록 하고 여기에 슈도보에마이트를 첨가한 후, 디-n-프로필아민 (di-n-propylamine, DPA로 약함), 코발트아세테이트사수화물 및 나머지 증류수를 Al2O3: 1.0 P2O5: 0.2 CoO: 1.5 DPA: 100 H2O의 조성이 되도록 차례로 가한 다음 잘 저어 주어 균일한 반응물 겔을 제조한다.
상기 반응물 겔 40 g을 테프론 반응기에 담은 후 잘 막고 마이크로웨이브 반응기(Mars-5, CEM사)에 장착하고, 2.54 GHz의 마이크로파를 조사하여 반응기 내부의 온도를 190 ℃로 승온하되 35초에 승온을 완료하여 10 분간 유지함으로써 코발트알루미노포스페이트 세공체를 합성하였다. 합성 후 냉각, 고액 분리, 세척, 건조 후 550 ℃의 공기 조건에서 소성하여 유기물을 제거하였다.
얻어진 다공성 코발트알루미노포스페이트 세공체는 X-선 회절 (XRD) 형태로부터 AEL 구조(CoAPO-11)를 가짐을 확인할 수 있었고, 화학 조성 분석 결과로부터 알루미늄, 인 및 코발트가 함유된 물질이며, BET 표면적으로부터 세공을 갖는 물질임을 확인할 수 있다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 3-5μm의 크기를 가짐을 알 수 있다(도 1a). 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 2
상기 실시예 1과 유사하게 반응을 수행하였으나 승온에 소요되는 시간이 35초 대신에 1분이었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 5-7μm의 크기를 가짐을 알 수 있다(도 1b). 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 3
상기 실시예 1과 유사하게 반응을 수행하였으나 승온에 소요되는 시간이 35초 대신에 5분이었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 9-12μm의 크기를 가짐을 알 수 있다(도 1c). 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예
4
상기 실시예 1과 유사하게 반응을 수행하였으나 마이크로파를 가열 원으로 사용하는 대신에 일반적인 전기 가열을 이용하였고 승온에 소요되는 시간이 35초 대신에 30분이었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 30-60μm의 크기를 가짐을 알 수 있다(도 1d). 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 5
상기 실시예 4와 유사하게 반응을 수행하였으나 승온에 소요되는 시간이 30 분 대신에 45분이었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 40-65μm의 크기를 가짐을 알 수 있다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 6
상기 실시예 1과 유사하게 반응을 수행하였으나 코발트아세테이트사수화물 대신에 바나듐펜톡사이드를 사용하였고 반응물 조성은 Al2O3: 1.0 P2O5: 0.1 V2O5: 1.5 DPA: 100 H2O였으며 승온에 소요되는 시간이 35초 대신에 50초였다. XRD 및 화학분석 결과로부터 AEL구조의 VAPO-11이 얻어졌음을 알 수 있었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 2-3μm의 크기를 가짐을 알 수 있다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 7
상기 실시예 6과 유사하게 반응을 수행하였으나 승온에 소요되는 시간이 50초 대신에 90초였다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 3-4μm의 크기를 가짐을 알 수 있다 (도 2a). 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 8
상기 실시예 6과 유사하게 반응을 수행하였으나 승온에 소요되는 시간이 50초 대신에 5분이었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 4-5μm의 크기를 가짐을 알 수 있다(도 2b). 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예
9
상기 실시예 1과 유사하게 반응을 수행하였으나 코발트아세테이트사수화물 대신에 실리카졸 (40%)을 사용하였고 반응물 조성은 Al2O3: 1.0 P2O5: 0.2 SiO: 1.2 DPA: 100 H2O였다. 승온에 소요되는 시간이 35초 대신에 50초였다. XRD 및 화학분석 결과로부터 AEL구조의 SAPO-11가 얻어졌음을 알 수 있었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 2-3μm의 크기를 가짐을 알 수 있다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 10
상기 실시예 9와 유사하게 반응을 수행하였으나 마이크로파 가열을 이용하는 대신에 저항선 가열을 열원으로 사용하였고 승온에 소요되는 시간이 50초 대신에 30분이었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 4-7μm의 크기를 가짐을 알 수 있다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 11
상기 실시예 1과 유사하게 반응을 수행하였으나 코발트아세테이트사수화물 대신에 철 (II)클로리이드사수화물을 사용하였고 DPA대신에 triethyl amine (TEA)를 사용하였고 반응물 조성은 Al2O3: 1.05 P2O5: 0.04 FeO: 1.2 TEA: 50 H2O였으며 반응 온도는 190℃대신에 170℃였다. 승온에 소요되는 시간이 35초 대신에 50초였다. XRD 및 화학분석 결과로부터 AFI구조의 FAPO-5가 얻어졌음을 알 수 있었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 10-20μm의 크기를 가짐을 알 수 있다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 12
상기 실시예 11와 유사하게 반응을 수행하였으나 마이크로파 가열을 이용하는 대신에 저항선 가열을 열원으로 사용하였고 승온에 소요되는 시간이 50초 대신에 30분이었다. 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 약 20-50μm의 크기를 가짐을 알 수 있다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
실시예 13
상기 실시예 1과 유사하게 반응을 수행하였으나 회분식 반응기 대신에 동 출원인이 발명한 KR10-2005-0063515호에 기재한 마이크로파를 이용한 2단의 연속식 관형 반응기를 반응기로 사용하여 반응하였다. 체류시간은 5+5분으로 유지하였고 얻어진 물질의 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 3-4μm의 크기를 가짐을 알 수 있었다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약하였다.
실시예
14
상기 실시예 13과 유사하게 반응을 수행하였으나 회분식 반응기 대신에 동 출원인이 발명한 KR10-2005-0063515호에 기재한 마이크로파를 이용한 연속교반식 연속반응기를 반응기로 사용하였다. 체류시간은 10분으로 유지하였고 얻어진 물질의 전자현미경 사진으로부터 입자 크기가 2-3μm의 크기를 가짐을 알 수 있었다. 자세한 실험 조건 및 얻어진 물질의 물성은 표1에 요약되어 있다.
[표 1] 반응 조건 및 얻어진 다공성 세공체의 물성
상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 다공성 세공체의 제조에 있어서 반응 온도에 도달하는 시간을 조절하거나 승온 속도를 조절하여 세공체의 크기를 임의로 조절할 수 있다. 즉, 승온 속도가 증가할 수록 입도의 크기가 감소한다.
이러한 다양한 크기의 다공성 세공체는 촉매, 촉매 담체, 흡착제, 기체 저장, 이온교환 및 나노 반응기 및 나노 물질 제조 등의 다방면으로 활용될 수 있다. 특히 작은 입자는 크래킹 등의 일반적인 촉매 반응에, 큰 입자는 형상선택적 촉매 반응 및 멤브레인 등으로 사용하는데 매우 유용하다.
Claims (11)
- 실리콘전구체, 알루미늄전구체 및 금속물질과 인 전구체를 함유하는 혼합물, 상기 혼합물의 목적원소를 연결하기 위한 산소 또는 유기물, 및 주형물질(template)을 포함하고, 물 또는 유기용매가 존재하는 반응물을 열처리하여 다공성 세공체를 제조하는 방법에 있어서,열처리 온도에 도달하는 승온 속도를 변화하여 얻어지는 다공성 세공체의 크기를 조절하는 것을 특징으로 하는 다공성 세공체의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 다공성 세공체는 제올라이트, 메조세공체 또는 유무기 혼성체에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다공성 세공체의 제조방법.
- 삭제
- 제 2항에 있어서,상기 다공성 세공체는 AlPO, CoAPO, VAPO, FAPO, MnAPO, SAPO, TAPO 또는 CrAPO에서 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 다공성 세공체의 제조방법.
- 제 4항에 있어서,상기 다공성 세공체는 AEL 또는 CHA 구조인 것을 특징으로 하는 다공성 세공체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 승온 속도를 높게 유지하기 위해서는 마이크로파 가열 혹은 적외선 램프를 이용하는 다공성 세공체의 제조 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 승온 속도를 낮게 유지하기 위해서는 전기 가열을 이용하는 다공성 세공체의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서,열처리 온도에 도달하는 승온 속도를 최소화 하기위해 연속반응기를 이용하여 반응물을 주입하고 반응시켜 다공성 세공체를 제조하는 방법.
- 제 8항의 제조 방법에 있어 연속식 반응은 마이크로파를 이용하여 가열함을 특징으로 하는 다공성 세공체를 제조하는 방법
- 제 9항의 제조 방법에 있어서,마이크로파를 이용한 연속 반응기는 관형반응기 (tubular reactor) 혹은 연속교반반응기 (continuous stirred reactor)임을 특징으로 하는 다공성 세공체를 제조하는 방법
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060045350A KR100830841B1 (ko) | 2006-05-19 | 2006-05-19 | 다양한 입자 크기를 갖는 다공성 세공체의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060045350A KR100830841B1 (ko) | 2006-05-19 | 2006-05-19 | 다양한 입자 크기를 갖는 다공성 세공체의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070111918A KR20070111918A (ko) | 2007-11-22 |
KR100830841B1 true KR100830841B1 (ko) | 2008-05-20 |
Family
ID=39090652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060045350A KR100830841B1 (ko) | 2006-05-19 | 2006-05-19 | 다양한 입자 크기를 갖는 다공성 세공체의 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100830841B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101602801B1 (ko) * | 2014-03-13 | 2016-03-14 | 한국생산기술연구원 | 제올라이트-금속염화물 하이브리드 수분 흡착 조성물과 이의 제조방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5432024A (en) | 1992-10-14 | 1995-07-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Porous lanthanum manganite sintered bodies and solid oxide fuel cells |
KR20000075773A (ko) * | 1997-02-27 | 2000-12-26 | 오엠지 아메리카스, 인코포레이티드 | 서브마이크론 전이금속 카보나이트라이드 제조방법 |
KR20020034745A (ko) * | 2000-11-03 | 2002-05-09 | 김충섭 | 연속식 마이크로파 합성법을 이용한 무기소재의 제조방법및 그 장치 |
KR20040044569A (ko) * | 2002-11-21 | 2004-05-31 | 요업기술원 | 구형 소달라이트, 그 제조방법 및 용도 |
-
2006
- 2006-05-19 KR KR1020060045350A patent/KR100830841B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5432024A (en) | 1992-10-14 | 1995-07-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Porous lanthanum manganite sintered bodies and solid oxide fuel cells |
KR20000075773A (ko) * | 1997-02-27 | 2000-12-26 | 오엠지 아메리카스, 인코포레이티드 | 서브마이크론 전이금속 카보나이트라이드 제조방법 |
KR20020034745A (ko) * | 2000-11-03 | 2002-05-09 | 김충섭 | 연속식 마이크로파 합성법을 이용한 무기소재의 제조방법및 그 장치 |
KR20040044569A (ko) * | 2002-11-21 | 2004-05-31 | 요업기술원 | 구형 소달라이트, 그 제조방법 및 용도 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070111918A (ko) | 2007-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5689903B2 (ja) | 多孔性有機−無機ハイブリッド体の製造方法 | |
US8168813B2 (en) | Porous organic-inorganic hybrid materials and adsorbent comprising the same | |
EP1981897B1 (en) | A preparation method of porous hybrid inorganic-organic materials | |
US20160185806A1 (en) | PROCESS FOR OBTAINING METAL-ORGANIC MATERIALS WITH STRUCTURE TYPE MIL-101 (Cr) AND MIL-101-Cr-Mx+ | |
KR20070092592A (ko) | 수분의 흡착 및 탈착을 위한 흡착제 | |
KR100656878B1 (ko) | 다공성 유무기 혼성체의 제조방법 | |
KR100816547B1 (ko) | 철이 포함된 다공성 유무기 혼성체의 제조방법 | |
KR100720152B1 (ko) | 다공성 금속알루미노포스페이트 분자체의 제조방법 | |
KR101091875B1 (ko) | 다공성 금속-유기 골격 물질의 정제 방법 | |
KR100693126B1 (ko) | 다공성 물질 및 혼합 금속산화물의 연속적 제조방법 및연속적 제조 장치 | |
KR100830841B1 (ko) | 다양한 입자 크기를 갖는 다공성 세공체의 제조방법 | |
CN102627286A (zh) | 沸石的制造方法及ε-己内酰胺的制造方法 | |
KR100525209B1 (ko) | 나노 세공을 갖는 금속 함유 vsb-5 분자체 조성물과이의 제조방법 | |
CN113929922B (zh) | 一种阴离子型Zn(Ⅱ)-MOF用于乙烯一步纯化 | |
Hix et al. | Synthesis and structural characterisation of two new porous metal phosphonates: Zn (O3PCH2CO2H)· H2O and Pb (O3CHCH2) | |
KR100680889B1 (ko) | 나노 세공을 갖는 다중 금속 함유 니켈포스페이트 분자체조성물과 이의 제조방법 | |
KR20080114380A (ko) | 다공성 유무기혼성체의 제조방법, 상기 방법에 의하여수득되는 유무기혼성체 및 이의 촉매적 용도 | |
Park et al. | An efficient approach to modulate the coordination number of yttrium ions for diverse network formation | |
CN109467715B (zh) | 一种磷酸钴无机有机杂化材料的合成方法 | |
KR20060127596A (ko) | 나노 세공을 갖는 니켈포스페이트 분자체의 제조방법 | |
KR100912790B1 (ko) | 다공성 유무기혼성체의 제조방법, 상기 방법에 의하여 수득되는 유무기혼성체 및 이의 촉매적 용도 | |
Wang et al. | Synthesis and characterization of a novel inorganic–organic hybrid open-framework zinc phosphate with 16-ring channels | |
KR100666758B1 (ko) | 나노 세공을 갖는 니켈포스페이트 및 금속 함유니켈포스페이트 분자체의 제조방법 | |
CN111099633B (zh) | Scm-22分子筛和它的合成方法 | |
CN111099635B (zh) | Scm-19金属磷铝酸盐及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120305 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |