KR100822081B1 - 방전 램프의 제조 방법 - Google Patents

방전 램프의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100822081B1
KR100822081B1 KR1020020057560A KR20020057560A KR100822081B1 KR 100822081 B1 KR100822081 B1 KR 100822081B1 KR 1020020057560 A KR1020020057560 A KR 1020020057560A KR 20020057560 A KR20020057560 A KR 20020057560A KR 100822081 B1 KR100822081 B1 KR 100822081B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
discharge
chamber
gas
discharge lamp
manufacturing
Prior art date
Application number
KR1020020057560A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20030027675A (ko
Inventor
로타르 힛츠쉬케
프랑크 폴코머
Original Assignee
파텐트-트로이한트-게젤샤프트 퓌어 엘렉트리쉐 글뤼람펜 엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 파텐트-트로이한트-게젤샤프트 퓌어 엘렉트리쉐 글뤼람펜 엠베하 filed Critical 파텐트-트로이한트-게젤샤프트 퓌어 엘렉트리쉐 글뤼람펜 엠베하
Publication of KR20030027675A publication Critical patent/KR20030027675A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100822081B1 publication Critical patent/KR100822081B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/02Details
    • H01J61/36Seals between parts of vessels; Seals for leading-in conductors; Leading-in conductors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/38Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
    • H01J9/395Filling vessels

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Vacuum Packaging (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

본 발명은 방전 램프의 새로운 제조 방법에 관한 것이며, 상기 방법에서 방전관(5)은 정상 압력시 챔버(4) 내에서 필요한 가스 충전물에 의해 채워진다.

Description

방전 램프의 제조 방법 {METHOD FOR PRODUCING A DISCHARGE LAMP}
도 1은 방전 램프에 사용되는 본 발명에 따른 제조 장치에 대한 제 1 실시예이고,
도 2는 대안적인 제 2 실시예의 기본 원리도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
1: 컨베이어 (벨트)
2, 3, 4, 19, 20, 21: 챔버
5: 방전관
7, 11, 15, 16: 전기 가열기
8: 유입 채널
9, 12: 배출 개구
10: 유입 개구
17: 가스 냉동 장치
22: 진공 채널
23: 지지면
본 발명은 방전 램프의 제조 방법에 관한 것이다. 방전 램프는 통상적으로 기체 상태의 방전 매체를 수용하기 위한 방전관을 포함한다. 따라서, 방전 램프의 제조 방법은, 가스 충전물로 방전관을 채우고 상기 방전관을 폐쇄하는 단계를 필수적으로 포함한다.
본 명세서는 방전 램프가 폐쇄된 이후에 적어도 대부분이 완성된다는 사실로부터 출발하기 때문에, 제조 방법은 방전관이 폐쇄되면서 이미 적어도 실제로는 종결된 것으로 간주된다. 물론 이와 같은 사실은, 실제로 완성된 방전 램프가 방전관의 폐쇄 이후에도 계속해서 예를 들어 전극을 구비하고, 반사층으로 코팅되며, 조립 장치에 연결되거나, 또는 다른 방식으로 추가 처리된다는 내용을 배제하지 않는다. 그러나, 청구항의 의미에서 제조 방법은 이미 방전 램프가 폐쇄되면서 구현된 것으로 간주된다.
일반적으로 방전 램프의 방전관은 배기용 튜브 또는 다른 연결부를 구비하며, 상기 배기용 튜브 또는 다른 연결부에 의해 방전관이 비워지고 가스 충전물로 채워질 수 있다. 상기 연결부가 일반적으로는 용융에 의하여 폐쇄됨으로써, 돌출부는 부러지거나 또는 절단될 수 있다.
본 발명은 특히 유전체적으로 임피드 된 방전용으로 설계된 방전 램프에 관한 것이며, 이 경우에는 무엇보다도 소위 플랫 라디에이터(flat radiator)에 초점을 맞추고 있다. 플랫 라디에이터의 경우, 방전관은 평탄하면서도 두께에 비해 상대적으로 큰 사이즈로 형성되었고, 실제로 평탄하고 평행한 2개의 플레이트를 포함한다. 상기 플레이트는 엄밀한 의미에서는 반드시 평탄할 필요는 없지만, 구조화될 수도 있다. 플랫 라디에이터는 특히 디스플레이 및 모니터의 후방 조명(back lighting)을 위해서 중요하다.
상기와 같은 기술 분야에서는, 방전관이 소위 진공로(vacuum furnace) 내에서 비워지고 채워지는 제조 방법도 공지되어 있다. 이 경우 상기 진공로는 비워질 수 있고 가열될 수 있는 챔버이다. 종래의 배기 튜브 해결책에서와 마찬가지로, 완성된 방전 램프의 가스 충전물을 가급적 순수하게 유지하기 위해서는, 비움 동작에 의하여 바람직하지 않은 가스 및 흡착물이 제거된다.
배기 튜브 해결책 및 이와 비슷한 처리 과정들은 제한적으로 방전관 구조와 관련되어 있다. 진공로 내에서 실행되는 방법은, 상기 진공로에 대한 기술적인 복잡성 때문에 비용이 많이 소요되고, 그 밖에 비교적 시간 소비적이다.
본 발명의 목적은, 방전관의 충전 및 폐쇄 단계와 관련하여 개선된 방전 램프 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은, 방전 램프의 방전관을 가스 충전물로 채운 다음에 폐쇄하는 방전 램프의 제조 방법과 관련이 있으며, 상기 방법은 가스 충전물이 포함되어 있고 실제로 정상 압력이 우세한 챔버 내에서 방전관의 충전 및 폐쇄 과정이 실행되는 것을 특징으로 한다.
본 발명은, 상응하게 형성된 챔버 내에서 실행된 충전 및 폐쇄 단계들이 배기용 튜브 또는 이와 유사한 장치들을 이용한 해결책들보다 더 바람직하다는 인식으로부터 출발한다. 상기 충전 및 폐쇄 단계들은 특히 방전관에 제공된 비교적 많은 수의 부품을 동시에 처리할 수 있는 가능성을 제공한다. 게다가 배기용 튜브 연결부를 통한 비움(pumping) 및 충전 단계, 그리고 배기용 튜브 연결부의 폐쇄와 관련하여 최적화된 방전관 구조에는 경계 조건이 전혀 없다. 그 대신에 방전관의 형상은 대체로 자유롭게 선택될 수 있고, 폐쇄를 위해 서로 연결되는 방전관 부분들의 취급 또는 그 밖에 폐쇄를 위해 필수적인 단계들만을 고려하면 된다.
다른 한편으로 본 발명의 발명자들은, 진공로가 장치 비용뿐만 아니라 처리 시간과 관련하여서도 불필요한 경비를 소모한다는 사실로부터 출발한다.
그 대신, 본 발명에 따르면 방전관용 가스 충전물이 정상 압력에서 존재하게 되는, 다시 말해 실제로 대기압에서 존재하게 되는 챔버가 사용되어야 한다. 따라서, 상기 챔버는 배기될 필요가 없다. 그 대신에 원치 않는 잔류 가스는 챔버의 정화에 의해서 또는 수문(lock) 등을 통해 방전관을 삽입함으로써 제거된다. 로의 고진공 밀봉부, 저압에 대해 매우 두껍고 열에 잘 견디는 챔버 벽 및 배기 단계들을 제거함으로써 제조 방법은 저렴해지고 단축된다. 따라서, 챔버 벽의 두께는 넓은 표면 부분에서 바람직하게는 최대 8 mm이고, 더욱 바람직하게는 최대 5 mm이며, 최적의 경우에는 최대 2 mm이다. 이 경우에는 당연히 단면 구조가 나타날 수 있다.
바람직하게는 챔버가 가열 가능해야 한다고 규정됨으로써, 일반적인 의미에서 로가 사용된다. 가열에 의해서는 흡착물 및 방전관의 특정 성분 속에 함유된 불순물이 배출되고, 아래에서 더 상세하게 설명되는 바와 같이, 다른 처리 단계들도 초기화될 수 있다. 특히 방전관을 폐쇄하기 위한 가열이 필수적일 수 있다. 챔버는 바람직하게는 완전히 가열 가능하다.
게다가 챔버가 개방될 수 있기 때문에, 완전히 밀봉될 필요는 없다. 상기 챔버는 예컨대 지속적인 가스 흐름에 의해 관류될 수 있으며, 상기 가스 흐름은 챔버의 남아 있는 개구를 통해 불순물이 침투되는 것을 저지하거나 또는 챔버 내 가스 충전물에 있는 이와 같은 불순물의 양을 충분히 작게 유지시킨다.
그러나 확실하게 말할 수 있는 것은, 챔버가 폐쇄 가능하거나 또는 충전 단계에서 및 방전관의 폐쇄시 챔버가 폐쇄되는 경우에도 본 발명이 구현된다는 것이다.
본 발명의 바람직한 실시예에서 방전관은 컨베이어(conveyor)에 의해 챔버를 통해 이송되어야만 하며, 이때 상기 방전관은 물론 챔버 내에서 정지될 수 있다. 진공로에서 진공 챔버는 언로딩(unloading) 및 리로딩(reloading)을 위해 규칙적으로 복잡한 방식으로 개방되어야만 하며, 일반적으로 이미 채워져서 폐쇄된 방전관에 사용되는 진공로 내에 배치된 고정 장치(holder)는 아직 폐쇄되지 않는 방전관을 갖는 고정 장치로 교체된다. 챔버를 비우는 것을 생략하고 고진공 밀봉 방식의 밀봉 조치를 생략함으로써, 챔버를 통해 방전관을 간단하게 그리고 상황에 따라서는 연속적으로 또는 준(quasi) 연속적으로 이송할 수 있는 가능성이 제시된다.
특히 챔버는 부분적으로 또는 완전히 자동화된 생산 라인에 통합될 수 있으며, 상기 생산 라인은 단 하나의 표준 컨베이어에 의해 조작될 수 있다.
또한 아래에서 더 자세히 설명되고 있는 방법 단계들도 충전 및 폐쇄 전에 다수의 챔버 내에서 실행될 수 있으며, 상기 챔버는 각각 특정 단계에 구조적으로 및/또는 가스 분위기 및 온도와 관련하여 매칭된다.
유기 불순물, 예컨대 소위 유리 땜납 또는 발광 물질층 및 반사층 내부의 결합 재료들을 배출하기 위해서는, 산소 함유 분위기에서, 예컨대 공기 중에서 충전하기 전에 방전관을 가열하는 것이 바람직할 수 있다. 이 경우, 이와 같은 분위기는 제거된 불순물을 이송하기 위해 연속으로 흐를 수 있다.
또한, 방전관은 충전 전에 그리고 경우에 따라서는 산소 함유 분위기에서의 가열 후에 불활성 가스에 의해 정화될 수 있다. 또한 가스 혼합물은 충전시 고유의 방전 가스, 다시 말해 방전시 자체 광 방출을 기술적으로 활용하는 가스 (방전 가스 혼합물도 가능함) 이외에 다른 가스, 특히 불활성 가스도 함유할 수 있다. 바람직하게 상기 방전 가스는 Xe이다. 첨가된 불활성 가스는 예컨대 Ne 및/또는 He일 수 있다. 특히 방전 가스 이외에 방전 가스와 관련하여 페닝 효과(Penning effect)를 나타내는, 즉 고유의 여기 작용에 의해 방전 가스의 이온화를 촉진하는 다른 가스가 존재할 수 있다. 이와 같은 내용은 방전 가스가 Xe인 경우에 Ne에 적용된다. 또한 버퍼 가스(buffer gas)가 첨가될 수 있는데, 상기 버퍼 가스는 방전 가스 및 경우에 따라서는 페닝 가스의 목표 부분 압력이 미리 정해진 경우에, 원하는 총 압력에 도달하기 위해서 사용된다. 이 경우 충전시의 부분 압력 및 총 압력은 항상 방전 램프의 예상되는 작동 온도에서 소정의 목표 값에 도달되도록 설정되어야 한다. 방전 가스(Xe)의 부분 압력은 바람직하게는(실온을 기준으로) 80 내지 350 mbar이고, 바람직하게는 90 내지 210 mbar이며, 특히 바람직하게는 100 내지 160 mbar로 선택될 수 있다.
또한 값비싼 불활성 가스의 적어도 일부분을 재사용할 수 있기 위하여, 충전을 목적으로 불활성 가스를 함유하는 가스 충전물이 사용되는 챔버에 불활성 가스 냉동 장치 및/또는 불활성 가스 수집 장치가 연결될 수 있다. 불활성 가스 냉동 장치가 지나치게 크게 설계되지 않도록 하기 위해서 또는 상기와 같은 냉동 장치가 없는 경우에는 불활성 가스의 소비를 제한하기 위해서, 상기 불활성 가스의 흐름은 방전관의 폐쇄 직후에 중단되어야만 한다. 이 경우에는 보다 저렴한 다른 가스 분위기 또는 가스 흐름으로 전환될 수도 있다. 바람직하게는 공기가 취급된다.
전체적으로 볼 때, 응력을 최소화하고 가급적 균일한 온도 분포 및 정확한 온도 제어를 위해서는, 챔버 내부로 유입되는 가스가 이 시점에 존재하는 방전관 온도를 가져야만 한다. 이와 같은 내용이 의미하는 것은, 온도의 편차가 실제 방전관 온도에 따라 가급적 +/-100 K를 초과해서는 안 된다는 것, 바람직하게는 +/-50 K를 초과해서는 안 된다는 것이다.
그러나, 다수의 특수화된 챔버를 통과하는 컨베이어를 구비한, 이미 언급했던 본 발명의 실시예 이외에 매우 간단한 한 가지 실시예도 선호되는데, 이 실시예에서는 방전관의 가열, 정화, 충전 및 폐쇄를 위한 필수적인 방법 단계들이 하나의 동일한 챔버 내에서 실행된다. 그 경우 상기 실시예는 반드시 컨베이어를 포함할 필요는 없다. 따라서, 컨베이어는 연속으로 작동되는 것은 불가능하고, 오히려 단속적인 방식으로(in charges) 적재되고 비워진다.
따라서, 이와 같은 챔버에서는 진공로에서와 마찬가지로 챔버 내부를 채우고 비우기 위해 챔버 부분들을 상호 분리시킬 필요가 있을 수 있다. 이때, 챔버가 폐쇄된 경우에는 상호 인접하는 챔버 부분의 영역들에 바람직하게는 진공 채널이 제공되며, 상기 진공 채널을 통해 상기 지지면이 챔버의 개방 및 폐쇄시 흡입될 수 있다. 이러한 흡입 작용은 첫 번째로는 챔버 내부로부터 불순물을 제거하기 위해서 이용되고(진공 청소기와 비슷한 방식으로), 그럼으로써 두 번째로는 한 챔버 부분이 다른 챔버 부분에 가압될 수 있으며, 그럼으로써 세 번째로는 효과적인 밀봉 작용에 도달할 수 있다. 다시 말해, 진공 채널은 외부로부터 침투될 수 있는 불순물이 챔버 내부에 도달하기 전에 상기 불순물을 배출시킨다. 다른 한편으로 상기 진공 채널은 챔버 내부에 존재하는 가스의 역류를 발생시키며, 상기 역류도 또한 불순물의 침투를 막는다. 이를 위해, 진공 채널도 마찬가지로 불활성 가스 냉동 장치 또는 불활성 가스 수집 장치에 연결될 수 있다.
본 발명을 더욱 상세하게 설명해주는 두 가지 실시예가 아래에서 기술된다.
덮개판 및 밑판으로 이루어진 방전관을 구비한 유전체적으로 임피드 된 방전용으로 설계된 플랫 라디에이터는 도 1에서 제 1 실시예로서 개략적으로 도시된 장치에서 아래와 같이 제조된다. 도 1은 제조 장치의 단면을 개략적으로 보여주며, 도면의 평면에 있는 수평선은 컨베이어(1) 상에서 플랫 라디에이터 방전관이 이송되는 방향과 일치한다. 상기 컨베이어(1)는 조밀하게 상호 연속되지만 분리된 3개의 챔버(2, 3, 4)를 통과하며, 상기 각각의 챔버(2, 3, 4)는 다양한 과제들을 위해 제공되었다.
상기 컨베이어(1) 상에는 예를 들어 이송 중에 있는 5개의 플랫 라디에이터 방전관이 도시되어 있으며, 이때 오른쪽에 있는 4개의 방전관은 아직 폐쇄되지 않은 상태에 있다. 도 1에서, 상부에 놓여 있으면서 하나의 프레임을 구비하는, 개별 플랫 라디에이터 중 하나의 덮개판은 하부에 놓여 있는 밑판으로부터 약간 들어 올려진 상태에 있다. 이와 같은 상태는 공지되어 있지만 도시되지 않은 유형 및 방식으로, 양 플레이트 사이에 충분한 간격을 만들어주는 SF6-유리 조각을 삽입함으로써 이루어진다. 왼쪽에 있는 방전관은 폐쇄되어 있는데, 그 이유는 상기 방전관은 도면에 도시된 프로세스를 이미 완전하게 거쳤기 때문이다. 그러므로, 컨베이어는 오른쪽에서 왼쪽으로 이송된다.
플랫 라디에이터 방전관의 구조적인 세부 내용과 관련해서는, 동일한 출원인이 출원한 이전의 특허 출원서, 즉 WO 02/27761호 및 WO 02/27759호가 참조된다. 이와 같은 맥락에서는, 오른쪽 4개 램프의 방전관은 각각 개방되어 있고 왼쪽의 방전관은 폐쇄되었다는 사실만이 중요하다.
도 1에 도시된 바와 같이, 방전관(5)은 우선 상기 방전관이 챔버(2) 내부로 들어가서 상기 챔버(2)로부터 나올 수 있을 정도까지 개방된 챔버 내부로 이송되며, 이 목적을 위해 폐쇄 장치가 작동될 필요는 없다. 물론 폐쇄 장치가 존재할 수도 있다. 어떤 경우에도 챔버(2) 내부는 정상 대기압이다.
도면 부호 (6)으로 표기된 전기 가열기에 의해 예열된 건조 공기가 도면의 상부에 도시된 유입 채널(8)을 통해 챔버(2) 내부로 유입된다. 이와 동시에 챔버(2)가 실내용 전기 가열기(7)를 포함함으로써, 챔버(2) 내 방전관(5)은 건조한 뜨거운 공기로 정화되고, 이 과정에서 가열된다. 공기가 산소를 함유하기 때문에, 상기 처리 단계에 의해서는 방전관 내부의 제 1 정화 세척이 이루어지는 이외에 특히 방전관 내에 있는 결합 재료가 제거될 수도 있다. 소비된 공기는 도면의 하부에 도시된 배출 개구(9)를 통해 배출된다.
상기 처리 단계 후에 방전관(5)은 다음 챔버(3)로 이동되는데, 상기 챔버(3)는 실제로 제 1 챔버(2)와 동일한 구조를 갖지만, 본 실시예에서는 이송 방향으로 약간 더 짧게 설계되어 있다. 상기 챔버 내에서 방전관 및 특히 방전관 내부가 불활성 가스, 본 경우에는 네온(Ne)에 의해 정화된다. 네온은 원칙적으로 이전의 실시예에 상응하는, 전기 가열기(11)를 구비한 유입 개구(10)를 통해 유입되고, 배출 개구(12)를 통해 배출된다. 상기 챔버(3) 자체는 가열기(18)에 의해 가열될 수 있다. 상기 가열기(18)는 유입 챔버(2)와 오염에 민감한 챔버(4) 사이에서 수문(lock) 기능을 한다.
그리고 나서, 방전관(5)은 컨베이어(1)에 의해 유입 개구(13) 및 배출 개구(14)를 포함하는 제 3 챔버(4) 내부로 계속 이송되고, 제 3 챔버(4)는 또한 이전의 두 개 챔버에 대체로 상응한다. 상기 유입 개구(13)는 전기 가열기(15)를 포함한다; 또한 상기 챔버(4)는 실내용 전기 가열기(16)를 포함한다.
상기 챔버 내에서 방전관은 처음에는 예컨대 51.2 부피%의 He, 12.8 부피% 의 Ne, 그리고 36 부피%의 Xe로 구성된 혼합물에 의해 세척되고 정상 압력에서 채워진다. 이 경우, 가스 혼합물은 전기 가열기(15)에 의해 예열되고, 방전관(5)의 온도는 실내 가열기(16)에 의하여 상기 가열기(16)가 최종적으로 530 ℃에 도달할 때까지 가열된다. 이 온도에서는, 상부 덮개판을 높게 유지하는 SF6 부분들이 상기 덮개판을 하강시킬 만큼 부드럽게 된다. 그와 동시에, 덮개판에 설치된 프레임을 밑판으로 폐쇄하기 위해 미리 제공된 유리 땜납(제조업자 DMC2의 501018 타입)은, 양 플레이트 간의 긴밀한 접착 결합이 이루어질 정도로 부드럽다. 그럼으로써, 가스 충전물은 방전관(5) 내 플레이트 사이에서 둘러싸이고, 그 다음에 상기 방전관(5)은 챔버(4)로부터 밖으로 나와서 상황에 따라 부가 처리될 수 있다.
다른 폐쇄 온도, 예컨대 470 ℃가 사용되는 경우에는, 방전 램프의 작동 온도(대략 50℃)에서 동일한 Xe-부분 압력에 도달하기 위하여 다른 비율, 예를 들어 53.4 %의 He, 13.3 %의 Ne, 그리고 33.3 %의 Xe가 사용되어야만 한다.
상기 챔버(4)의 배출 개구(14)는 불활성 가스 냉동 장치(17)로 가이드 되며, 이곳에서는 상기 챔버 내에서의 가스 혼합을 위해 사용되는 불활성 가스가 재차 수득될 수 있다. 작동 마지막에는 챔버(4) 내에서 건조된 공기로의 전환이 이루어진다. 비연속적인 단속적 제조(discontinuous production of charges)시에는, 상기와 같은 전환이 언제나 개별 폐쇄 이후에 이루어질 수 있다.
전체적으로 볼 때, 방전관은 챔버(2)로부터 챔버(4)에 이르기까지 상승된 온도 상태를 유지하며, 상기 온도는 처음에는 챔버(4) 내에서 양 플레이트가 서로 연결될 정도로 상승한다. 온도 분포를 균일하게 하고 방전관(5)이 무응력 상태를 유지하도록 하기 위해, 개별 가스 분위기는 전기 예열 때문에 방전관(2)의 개별 온도에 실제적으로 맞추어진 온도, 즉 거의 정확하게 20 K로 제공된다. 또한, 방전관(5)의 느리고 균일한 냉각을 위한 또 하나의 챔버(도시되지 않음)가 상기 챔버(4) 다음에 연결될 수 있다.
모든 챔버들(2, 3, 4)은 정상 압력에서 작동되고, 엄밀한 의미에서는 주변에 대하여 밀폐되어 있지 않다. 이 경우에는 수문 기능 때문에 챔버(3) 내에서 배기 작용이 이루어질 수 있다. 당연히, 개구에 의해서 그리고 방전관(5)을 위해서 각각 사용된 가스 분위기의 지나치게 큰 손실을 방지하려는 노력이 이루어질 것이다. 이와 같은 내용은 특히 챔버(4)에 적용된다. 경우에 따라서는 개방 플랩(opening flaps) 또는 다른 폐쇄 장치도 제공될 수 있으며, 상기 개방 플랩 또는 다른 폐쇄 장치는 각각 방전관의 관통구 쪽으로 개방된 다음에 다시 폐쇄된다.
도 2는 도 1에 도시된 개별 챔버(19)의 전체 프로세스에 관한 개략적인 기본 원리를 보여준다. 적합한 가스 및 가스 혼합물이 도 1에서와 유사한 방식으로 챔버(19) 내부에 공급되고, 챔버로부터 배출되어야만 하며, 이 경우에는 상기 챔버(19) 및 가스 공급 장치에 상응하는 가열기가 제공된다. 물론 이 경우에는 처리 단계들이 하나의 동일한 챔버(19) 내에서 차례로 이루어지는데, 상기 챔버(19)는 확실한 가스 교체를 위해 여러 처리 단계들 사이에서 적합하게 정화된다.
따라서, 챔버(19)는 컨베이어를 구비할 필요가 없고, 오히려 단속적 방식으로 적재되고 비워져야만 한다. 이 목적을 위해 상부 챔버 커버(20)는 하부 챔버 부분(21)으로부터 들어 올려지는데, 이 경우 상기 챔버 커버(20) 및 하부 챔버 부분(21)은 도 2에 다만 개략적으로만 그리고 부분적으로만 도시되어 있다. 상기 챔버(19)의 구조는 처리될 방전관의 구조 및 연속적으로 동작되는 분기의 크기(charge size)에 맞추어 개별적으로 조절될 수 있다.
제 2 실시예에서는 도 2에 도시된 진공 채널(22)이 중요하며, 상기 진공 채널(22)에 의해서는 상부 챔버 커버(20)와 하부 챔버 부분(21) 사이에서 지지면(23)이 하중을 받을 수 있다. 그럼으로써, 상기 커버(20)는 하부 챔버 부분(21) 상에 압력을 가하게 된다.
또한 상기 진공 채널(22)은, 상기 진공 채널이 챔버 내부(도 2의 오른쪽)로부터 시작하여 지지면(23)을 따라 진공 채널(22)까지 흘러가는 잔류 흐름을 형성함으로써, 진공 청소기와 비교될 수 있는 정화 기능을 하며, 상기 잔류 흐름은 (기체 상태 또는 다른 타입의) 불순물이 챔버 내부로 유입되는 것을 막는다. 또한 지지면(23)을 따라 외부로부터 유입되는 불순물은 진공 채널(22)에 의해 수집되고, 상기 진공 채널을 통해 배출된다.
마지막으로, 상기 진공 채널은 특히 최초 개방시에 그리고 챔버(19) 폐쇄 과정의 마지막 단계에서, 지지면(23) 및 상기 지지면(23)의 주변으로부터 입자들을 제거하는 작용을 한다. 따라서, 상기 진공 채널(22)은 폐쇄 장치, 밀봉부 및 불순물 차단부가 조합된 형태이다.
도 1의 챔버(2, 3, 4)에서와 마찬가지로, 매우 얇은 벽 두께가 사용될 수 있다는 내용은 챔버(19)에도 적용되는데, 그 이유는 상기 챔버들은 저압에 의해서 하중을 받지 않기 때문이다. 이 경우에는 바람직하게 챔버(19)의 넓은 표면 부분에 대하여 1.5 mm 크기의 벽 두께가 제공된다.
본 발명에 의해서는 방전 램프의 방전관을 가스 충전물로 채우고 나서 폐쇄하는 방전 램프의 제조 방법이 달성되는데, 상기 방법은 가스 충전물이 포함되어 있고 실제로 정상 압력이 우세한 챔버 내에서 방전관의 충전 및 폐쇄 과정이 실행되는 것을 특징으로 한다.

Claims (19)

  1. 방전 램프의 방전관(5)을 가스 충전물로 채우고 나서 폐쇄하는, 방전 램프의 제조 방법에 있어서,
    가스 충전물이 포함되어 있고 정상 압력이 우세한 챔버(4, 19) 내에서 방전관의 충전 및 폐쇄 과정이 실행되는 것을 특징으로 하는, 방전 램프의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 챔버(4, 19)를 가열할 수 있는(16), 방전 램프의 제조 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 챔버(4)를 개방할 수 있는, 방전 램프의 제조 방법.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전관(5)이 컨베이어(1) 상에서 상기 챔버(4)를 통과하는, 방전 램프의 제조 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 방전관(5)이 각각의 해당 방법 단계에 개별적으로 매칭되는 다수의 챔버(2, 3, 4)를 통과하는, 방전 램프의 제조 방법.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전관(5)을 충전 전에 산소 함유 분위기(2)에서 가열하는, 방전 램프의 제조 방법.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전관(5)을 충전 전에, 또는 가열 후에 산소 함유 분위기(2)에서 불활성 가스(3)로 정화하는, 방전 램프의 제조 방법.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전관(5)을 가스 충전물로 채우며, 상기 가스 충전물이 광을 형성하기 위해 제공되는 방전 가스 이외에 내부 압력을 증가시키기 위한 버퍼 가스를 함유하는, 방전 램프의 제조 방법.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전관(5)을 가스 충전물로 채우며, 상기 가스 충전물이 광을 형성하기 위해 제공되는 방전 가스 이외에 상기 방전 가스와 관련하여 페닝 효과를 갖는 불활성 가스를 함유하는, 방전 램프의 제조 방법.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    광을 형성하기 위해 제공되는 방전 가스는 Xe이고, 상기 방전관(5)은 Xe의 부분 압력으로 채워지며, 상기 부분 압력은 실온에서 80 내지 350 mbar 범위의 Xe-부분 압력을 포함하는, 방전 램프의 제조 방법.
  11. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    광을 형성하기 위해 제공된 방전 가스를 함유하는 가스 충전물을 채우기 위해 사용되는 챔버(4, 19)에 불활성 가스 냉동 장치(17) 또는 불활성 가스 수집 장치를 연결하는, 방전 램프의 제조 방법.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전관(5)의 폐쇄 후에 불활성 가스 흐름을 차단하는, 방전 램프의 제조 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 방전관(5)의 폐쇄 후에는 상기 불활성 가스보다 비용효율적인 가스로의 전환이 이루어지는, 방전 램프의 제조 방법.
  14. 제 3 항에 있어서,
    광을 형성하기 위해 제공되는 방전 가스를 함유하는 가스 충전물, 또는 상기 가스 충전물 다음에 상기 챔버(4) 내부로 유입되는 가스가 본 발명에 따른 방전관 온도와 동일한 온도로 유입되는, 방전 램프의 제조 방법.
  15. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 챔버(4, 19)가 적어도 대부분에서 0 보다 크고 8 mm 이하인 벽 두께를 갖는, 방전 램프의 제조 방법.
  16. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전관(5)을 하나의 동일한 챔버(19) 내에서 가열하고, 정화하며, 충전하고 폐쇄하는, 방전 램프의 제조 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 챔버(19)는 두 개의 챔버 부분(20, 21)을 분리시킴으로써 개방될 수 있고, 상기 양 챔버 부분(20, 21) 사이의 지지면(23)에 진공 채널(22)을 통해 압력이 가해질 수 있는, 방전 램프의 제조 방법.
  18. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전 램프를 유전체적으로 임피드 된 방전용으로 설계하는, 방전 램프의 제조 방법.
  19. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 방전 램프는 방전관(5)을 구비한 플랫 라디에이터이며, 상기 플랫 라디에이터가 평탄하고 평행한 2개의 플레이트를 포함하는, 방전 램프의 제조 방법.
KR1020020057560A 2001-09-27 2002-09-23 방전 램프의 제조 방법 KR100822081B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10147727A DE10147727B4 (de) 2001-09-27 2001-09-27 Herstellungsverfahren für eine Flachstrahler-Entladungslampe
DE10147727.9 2001-09-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030027675A KR20030027675A (ko) 2003-04-07
KR100822081B1 true KR100822081B1 (ko) 2008-04-15

Family

ID=7700526

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020057560A KR100822081B1 (ko) 2001-09-27 2002-09-23 방전 램프의 제조 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6837767B2 (ko)
JP (1) JP4371642B2 (ko)
KR (1) KR100822081B1 (ko)
CN (1) CN1303631C (ko)
CA (1) CA2404833C (ko)
DE (1) DE10147727B4 (ko)
TW (1) TWI223314B (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10225612A1 (de) * 2002-06-07 2003-12-18 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Herstellungsverfahren für Entladungslampe
KR100580072B1 (ko) * 2004-03-09 2006-05-16 미래산업 주식회사 형광램프의 형광체 열화방지장치 및 방법
KR100766912B1 (ko) * 2005-07-15 2007-10-17 희성전자 주식회사 면발광 램프 제조방법 및 그 장치
DE102007009192A1 (de) * 2007-02-26 2008-08-28 Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung Verfahren zum Herstellen einer Entladungslampe, insbesondere einer Flachlampe
JP5165060B2 (ja) * 2007-08-01 2013-03-21 オスラム ゲーエムベーハー 放電ランプ製造のための炉および製造方法
ATE489721T1 (de) * 2007-08-01 2010-12-15 Osram Gmbh Herstellungsverfahren für entladungslampen

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR870011654A (ko) * 1986-05-21 1987-12-24 파텐트-트로이한트-게젤샤프트 휘어 에렉트 리쉐 그뤼람펜 엠베하 소형 저압 방전 램프용 방전용기의 제조방법

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01100847A (ja) * 1987-10-12 1989-04-19 Stanley Electric Co Ltd 金属蒸気放電灯の製造方法
US5108333A (en) * 1988-12-19 1992-04-28 Patent Treuhand fur elektrische Gluhlampen m.b.H. Method of making a double-ended high-pressure discharge lamp
US5176558A (en) * 1991-05-01 1993-01-05 Gte Products Corporation Methods for removing contaminants from arc discharge lamps
JP2879524B2 (ja) * 1993-12-21 1999-04-05 株式会社小糸製作所 アークチューブの製造方法
DE10048187A1 (de) 2000-09-28 2002-04-11 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe für dielektrisch behinderte Entladungen mit Stützelementen zwischen einer Bodenplatte und einer Deckenplatte
DE10048186A1 (de) 2000-09-28 2002-04-11 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe für dielektrisch behinderte Entladungen mit Anordnung von Stützelementen
US6612892B1 (en) * 2001-03-08 2003-09-02 Advanced Lighting Technologies, Inc. High intensity discharge lamps, arc tubes and methods of manufacture

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR870011654A (ko) * 1986-05-21 1987-12-24 파텐트-트로이한트-게젤샤프트 휘어 에렉트 리쉐 그뤼람펜 엠베하 소형 저압 방전 램프용 방전용기의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20030060116A1 (en) 2003-03-27
CA2404833A1 (en) 2003-03-27
CN1409349A (zh) 2003-04-09
DE10147727A1 (de) 2003-04-10
DE10147727B4 (de) 2011-06-01
CN1303631C (zh) 2007-03-07
CA2404833C (en) 2010-07-20
JP2003178681A (ja) 2003-06-27
US6837767B2 (en) 2005-01-04
TWI223314B (en) 2004-11-01
KR20030027675A (ko) 2003-04-07
JP4371642B2 (ja) 2009-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100553411B1 (ko) 기판처리장치및기판처리방법
JPS63318738A (ja) 半導体素子の製造用ウエーハの処理装置
KR100822081B1 (ko) 방전 램프의 제조 방법
JPH07297257A (ja) 処理装置
JP3372581B2 (ja) 処理装置
KR20070007787A (ko) 유리 패널 조립체의 봉착 처리 방법 및 봉착 처리로
JP3853487B2 (ja) 連続式熱処理炉
JPH06224145A (ja) 処理装置
JPS62206826A (ja) 半導体熱処理装置
JPH07283288A (ja) 処理装置
JPH06224143A (ja) 処理装置及びガスシャワーノズル
JP5235995B2 (ja) 放電ランプの製造方法
TWI301993B (en) Method for producing a gas discharge device
JP2004174659A (ja) グローブボックス装置
WO2007024117A1 (en) Baking equipment of manufacturing apparatus of cold cathode fluorescent lamp
KR100828663B1 (ko) 형광램프 제조장치
JPH07161797A (ja) 処理装置
CN111197158B (zh) 大面积基板用水平型原子层层积装置
JPH10172435A (ja) プラズマ・ディスプレイ・パネル用排気・封着炉
KR100412084B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 및 장치
KR100484298B1 (ko) 디스플레이 패널 봉착장치
KR20000033560A (ko) 플라즈마 방전가스 주입방법 및 장치
KR100904377B1 (ko) 형광램프 소성장치
JPH03221136A (ja) 有毒性雰囲気における連続焼成装置
JPS61224422A (ja) 半導体基板表面処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120319

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130328

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee