KR100818529B1 - 기판 건조장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 건조장치에 관한 것으로, 상부 개구면의 일부가 차폐면에 의해 차폐된 세정수용기부와, 상기 세정수용기부의 개구면의 상부를 덮어 이소프로필알코올을 이용한 기판의 건조가 이루어질 수 있도록 하는 건조덮개부와, 상기 세정수용기부의 차폐면에 마련된 통공을 통해 승하강이 가능하여, 그 세정수용기부의 기판을 상기 건조덮개부로 이송함이 가능한 리프트기재와, 상기 건조덮개부 내부를 감압시키는 감압부와, 상기 차폐면의 통공과 상기 리프트기재 사이의 기밀을 유지하는 기밀부를 포함한다. 이와 같이 구성된 본 발명은 리프트기재의 승하강을 위한 통공에 기밀부를 두어 건조덮개부의 감압을 용이하게 할 수 있도록 하여, 건조덮개부에서 건조되는 기판에 산화막이 성장하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
Description
도 1은 종래 기판 건조장치의 사시도이다.
도 2는 종래 기판 건조장치의 단면 구성도이다.
도 3은 본 발명 기판 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100:세정액용기부 110:기판
120:차폐막 200:건조덮개부
210:분사노즐 300:리프트기재
400:기밀부 410:제1플렌지
420:제2플렌지 430:가변접이구
본 발명은 기판 건조장치에 관한 것으로, 특히 이소프로필알코올을 이용하여 반도체 기판을 건조시키는 기판 건조장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 디바이스의 제조에 사용되는 반도체 기판을 건조하는 장치의 종류에는 기판을 회전시켜 건조하는 스핀건조장치, 이소프로필알코올과 세정수의 표면장력 차이를 이용하여 기판을 건조하는 마란고니효과를 이용한 건조장치가 개발되었다.
상기 스핀건조장치는 비교적 간단한 구성으로 기판을 건조시킬 수 있으나, 물얼룩이 남거나, 기판에 형성된 패턴의 요홈 부분에서 완전 건조되지 않는 단점이 있었다.
이와 같은 스핀건조장치의 문제점을 해결하기 위해 개발된 것이 마란고니효과를 이용한 건조장치이며, 이와 같은 종래 기판 건조장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래 기판 건조장치의 사시도이며, 도 2는 그 단면 구성도이다.
도 1과 도 2를 각각 참조하면, 종래 기판 건조장치는, 기판(1)이 세정액에 침지되도록 하는 세정액용기부(10)와, 상기 세정액용기부(10)의 상측 개구부를 밀 폐시키며, 상기 기판(1)을 건조할 수 있는 이소프로필알코올(이하, IPA) 분위기를 제공하는 건조덮개부(20)와, 상기 세정액용기부(10)의 기판(1)을 상기 건조덮개부(20) 측으로 수직이송시키는 리프트기재(30)를 포함한다.
상기 건조덮개부(20)의 측면에는 리프트기재(30)의 승하강을 위한 수직 가이드홈(21)이 마련되어 있으며, 그 내부에는 상기 IPA 버블을 분사하기 위한 분사노즐(22)이 구비된다.
상기 세정액용기부(10)의 상부는 상기 수직가이드홈(21)과 연통되어, 그 리프트기재(30)의 일부가 내측에 위치한 상태에서 기판(1)을 실장하여 승하강 할 수 있도록 구성된다.
이하, 상기와 같이 구성되는 종래 기판 건조장치의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
먼저, 상기 세정액용기부(10)에는 세정수가 담겨져 있으며, 그 세정액용기부(10)의 개구된 상면은 노출된 상태이다. 이와 같은 상태에서 상기 리프트기재(30)가 상승하여 건조처리될 기판(1)이 실장된 후, 다시 하강하여 그 기판(1)을 세정액에 침지시킨다.
이와 같은 상태에서 상기 건조덮개부(20)가 이동되어, 상기 세정액용기부(10)의 개구된 상면을 밀폐시킨다.
이때, 상기 리프트기재(30)의 외부 노출부분은 상기 건조덮개부(20)의 수직가이드홈(21)에 삽입된다.
상기 건조덮개부(20)의 분사노즐(22)에서는 IPA 버블을 분사하여, 그 건조덮개부(20) 내부 및 상기 세정액의 표면에 IPA가 존재하도록 한다. 이와 같은 상태에서 상기 리프트기재(30)가 상승하여 그 기판(1)을 상기 건조덮개부(20)의 내측으로 이동시켜, 상기 세정액과 IPA의 표면 장력의 차이를 이용하여 기판(1)을 건조시킨다.
이때, 상기 기판(1)은 그 건조가 이루어지는 건조덮개부(20)의 내에 존재하는 산소와 직접 반응하여 산화막이 성장할 수 있으며, 이를 방지하기 위해 상기 건조덮개부(20)의 내부를 감압하여, 산소의 양을 줄일 필요가 있다.
그러나, 이러한 감압수단을 사용하는 경우, 상기 수직가이드홈(21)과 세정액용기부(10)의 사이에 밀폐되지 않은 공간이 존재하게 됨으로써, 그 감압이 용이하지 않았으며, 따라서 그 건조공정 후 기판(1)에 산화막이 성장하는 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 건조덮개부 내의 감압이 용이한 기 판 건조장치를 제공함에 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 상부 개구면의 일부가 차폐면에 의해 차폐된 세정수용기부와, 상기 세정수용기부의 개구면의 상부를 덮어 이소프로필알코올을 이용한 기판의 건조가 이루어질 수 있도록 하는 건조덮개부와, 상기 세정수용기부의 차폐면에 마련된 통공을 통해 승하강이 가능하여, 그 세정수용기부의 기판을 상기 건조덮개부로 이송함이 가능한 리프트기재와, 상기 건조덮개부 내부를 감압시키는 감압부와, 상기 차폐면의 통공과 상기 리프트기재 사이의 기밀을 유지하는 기밀부를 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 3은 본 발명 기판 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 구성도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명은 상부 개구면의 일부가 차폐된 세정액용기부(100)와, 상기 세정액용기부(100)의 개구면을 차폐하며, IPA 버블을 이용하여 기 판(110)을 건조하는 건조덮개부(200)와, 상기 세정액용기부(100)의 상부 차폐면(120)의 통공을 통해 승하강되어, 상기 기판(110)을 건조덮개부(200) 내로 이송함이 가능한 리프트기재(300)와, 상기 차폐면(120)의 상부에 위치하여 상기 차폐면(120)의 통공과 리프트기재(300)의 사이를 밀폐하는 기밀부(400)를 포함한다.
상기 기밀부(400)는 상기 리프트기재(300)가 통과하는 상기 세정액용기부(100)의 차폐면(120)의 통공에 설치되는 제1플렌지(410)와, 상기 리프트기재(300)의 상부측에 설치되는 제2플렌지(420)와, 상기 제1플렌지(410)와 제2플렌지(420)를 연결설치하는 연질의 가변접이구(430)를 포함한다.
상기 건조덮개부(200)에는 IPA 버블의 분사를 위한 분사노즐(210)이 마련되어 있다.
또한, 도면에는 생략되었으나, 상기 건조덮개부(200)의 내부를 감압하는 감압부가 마련된다.
이하, 상기와 같이 구성된 본 발명 기판 건조장치의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
먼저, 세정액이 담긴 세정액용기부(100)는 그 상면의 일부가 차폐면(120)에 의해 차폐되어 있으며, 그 차폐면(120)에는 기판(110)을 승하강 시킬 수 있는 리프트기재(300)가 삽입되는 통공이 마련되어 있다.
상기 리프트기재(300)는 상기 세정액용기부(100)에서 다수의 기판(110)을 수 직상태로 정렬하고, 그 정렬된 기판(110)을 승하강 시킬 수 있는 것이다.
이와 같은 리프트기재(300)가 통과하는 상기 차폐면(120)의 통공에는 제1플렌지(410)가 설치되고, 상기 리프트기재(300)의 상단부에는 제2플렌지(420)가 설치되어 있으며, 그 제1플렌지(410)와 제2플렌지(420)의 사이에는 상기 리프트기재(300)의 승강 또는 하강에 따라 그 높이가 변화되는 가변접이구(430)가 마련된다.
상기 제1플렌지(410) 및 제2플렌지(420)와 가변접이구(430)의 사이에는 기밀이 유지되는 것이며, 따라서 상기 차폐면(120)의 통공은 기밀이 유지된다.
이와 같은 구조에서 상기 리프트기재(300)가 승강되어 상기 세정액용기부(100)의 상부 개구면을 통해 기판(110)이 실장되고, 그 기판(110)을 실장한 리프트기재(300)는 하강하여 그 기판(110)을 세정액에 침지시킨다.
상기 기판(110)이 침지된 후에 그 세정액용기부(100)의 개구면은 건조덮개부(200)에 의해 밀폐된다. 이와 같이 밀폐된 후에 상기 건조덮개부(200)의 분사노즐(210)에서 IPA 버블을 분사하여 그 건조덮개부(200)의 내부 및 상기 세정액의 표면을 IPA 분위기로 만든다.
이와 같은 상태에서 상기 리프트기재(300)가 승강되며, 그 기판(110)은 상기 건조덮개부(200) 측으로 이동하며, IPA와 세정액의 표면장력 차에 의해 건조된다. 이때 건조덮개부(200)는 건조되는 기판(110)의 산화를 방지하기 위해 감압된 상태이며, 상기 리프트기재(300)의 승하강을 위한 차폐부(120)의 통공이 기밀부(400)에 의해 기밀되어 있어, 외부의 공기가 유입되지 않음으로써 그 감압이 용이하게 된다.
따라서, 상기 건조덮개부(200)에는 대기압 상태에서보다 산소의 절대적 양이 줄어들게 되며, 그 기판(110)의 산화막 성장을 방지할 수 있게 된다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.
상기한 바와 같이 본 발명은, 리프트기재의 승하강을 위한 통공에 기밀부를 두어 건조덮개부의 감압을 용이하게 할 수 있도록 하여, 건조덮개부에서 건조되는 기판에 산화막이 성장하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
Claims (2)
- 상부 개구면의 일부가 차폐면에 의해 차폐된 세정수용기부;상기 세정수용기부의 개구면의 상부를 덮어 이소프로필알코올을 이용한 기판의 건조가 이루어질 수 있도록 하는 건조덮개부;상기 세정수용기부의 차폐면에 마련된 통공을 통해 승하강이 가능하여, 그 세정수용기부의 기판을 상기 건조덮개부로 이송하는 리프트기재;상기 건조덮개부 내부를 감압시키는 감압부; 및상기 차폐면의 통공과 상기 리프트기재 사이의 기밀을 유지하는 기밀부를 포함하되,상기 기밀부는,상기 차폐면의 통공에 설치되는 제1플렌지;상기 리프트기재의 상단부에 설치되는 제2플렌지; 및상기 제1플렌지와 제2플렌지에 양단이 결합되며, 그 리프트기재의 승강 또는 하강에 따라 높이가 변화되는 가변접이구를 포함하는 기판 건조장치.
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Citations (2)
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---|---|---|---|---|
KR19990010200A (ko) * | 1997-07-15 | 1999-02-05 | 윤종용 | 감압식 건조 장치를 이용하는 반도체장치 건조방법 |
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