JPH09246354A - 可搬式密閉コンテナのガスパージステーション - Google Patents
可搬式密閉コンテナのガスパージステーションInfo
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- JPH09246354A JPH09246354A JP8084791A JP8479196A JPH09246354A JP H09246354 A JPH09246354 A JP H09246354A JP 8084791 A JP8084791 A JP 8084791A JP 8479196 A JP8479196 A JP 8479196A JP H09246354 A JPH09246354 A JP H09246354A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明におけるの可搬式密閉コンテナのガス
パージステーションは、可搬式密閉コンテナのガスパー
ジに要する時間を短縮すると共に、開閉ユニットで発生
する塵埃による汚染を確実に防止することにある。 【解決手段】 本発明は、可搬式密閉コンテナ６の蓋７
との間に空間Ａを形成しつつ、この蓋７が載置される昇
降テーブル３と、蓋７を開閉するための機器１０を内蔵
する開閉ユニット８とを内部に配置するステーション本
体２を備えてなる可搬式密閉コンテナのガスパージステ
ーションにおいて、空間Ａはこの内部に存するガスをス
テーション本体２の外部に導く排出経路Ｘに接続され、
この排出経路Ｘが、空間Ａ内から昇降テーブル３を貫通
して開閉ユニット８に開口する通孔１８と、開閉ユニッ
ト８内と、ステーション本体２の外部とヘ気密に連通す
る排出通路１７とで形成されているものである。
パージステーションは、可搬式密閉コンテナのガスパー
ジに要する時間を短縮すると共に、開閉ユニットで発生
する塵埃による汚染を確実に防止することにある。 【解決手段】 本発明は、可搬式密閉コンテナ６の蓋７
との間に空間Ａを形成しつつ、この蓋７が載置される昇
降テーブル３と、蓋７を開閉するための機器１０を内蔵
する開閉ユニット８とを内部に配置するステーション本
体２を備えてなる可搬式密閉コンテナのガスパージステ
ーションにおいて、空間Ａはこの内部に存するガスをス
テーション本体２の外部に導く排出経路Ｘに接続され、
この排出経路Ｘが、空間Ａ内から昇降テーブル３を貫通
して開閉ユニット８に開口する通孔１８と、開閉ユニッ
ト８内と、ステーション本体２の外部とヘ気密に連通す
る排出通路１７とで形成されているものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム内
で半導体ウエハの搬送に用いられる可搬式密閉コンテナ
に係わり、特に、可搬式密閉コンテナのガスパージを容
易とするガスパージステーションに関する。
で半導体ウエハの搬送に用いられる可搬式密閉コンテナ
に係わり、特に、可搬式密閉コンテナのガスパージを容
易とするガスパージステーションに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造は、内部雰囲気を清浄化し
たクリンルーム内において行われるが、クリンルーム内
での各工程間の搬送においても、半導体処理装置内と同
等以上のクリーン環境下とするように、この半導体ウエ
ハを段々に収納したウエハカセットを可搬式密閉コンテ
ナに収納して行なうことも試みられ始めた。更に、半導
体の製造は微細加工が極限まで進んでいるため、半導体
ウエハの自然酸化による酸化皮膜の成長の防止を図らな
ければならず、可搬式密閉コンテナの内部にガスパージ
ステーションで半導体ウエハにとって不活性なガス（窒
素ガス，ドライクリーンエアも含む。以下、「不活性ガ
ス等」と称する。）を供給して、半導体ウエハの酸化膜
成長の原因となる酸素（空気），水分等を可搬式密閉コ
ンテナ外へ放出し、このコンテナの内部雰囲気を不活性
ガス等に置換している。
たクリンルーム内において行われるが、クリンルーム内
での各工程間の搬送においても、半導体処理装置内と同
等以上のクリーン環境下とするように、この半導体ウエ
ハを段々に収納したウエハカセットを可搬式密閉コンテ
ナに収納して行なうことも試みられ始めた。更に、半導
体の製造は微細加工が極限まで進んでいるため、半導体
ウエハの自然酸化による酸化皮膜の成長の防止を図らな
ければならず、可搬式密閉コンテナの内部にガスパージ
ステーションで半導体ウエハにとって不活性なガス（窒
素ガス，ドライクリーンエアも含む。以下、「不活性ガ
ス等」と称する。）を供給して、半導体ウエハの酸化膜
成長の原因となる酸素（空気），水分等を可搬式密閉コ
ンテナ外へ放出し、このコンテナの内部雰囲気を不活性
ガス等に置換している。
【０００３】このように、可搬式密閉コンテナの内部雰
囲気を不活性ガス等に置換するガスパージ装置として
は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すものがあり、以
下に説明する。図２（ａ）および図２（ｂ）において、
スパージステション１は、所定の容積を有するステーシ
ョン本体２内に昇降テーブル３を有する昇降装置４が配
置されており、この昇降テーブル３がステーション本体
２の上方開口部５内に嵌合されてステーション本体２を
気密にしている。昇降テーブル３の下部には、不活性ガ
ス等の置換のためにステーション本体２に載置される可
搬式密閉コンテナ６（以下、単に、「密閉コンテナ６」
という。）の中空状の蓋７をロック、又はロック解除す
る開閉ユニット８が設けられている。この開閉ユニット
８は、昇降テーブル３を摺動自在に貫通して密閉コンテ
ナ６の蓋７に下側からスプライン係合するロックピン９
を有し、このロックピン９を回転させて密閉コンテナ６
に対する蓋７のロック、又はロック解除を行なう機械
的、電気的な機器１０（ギヤや電動モータ等）を包含し
ている。また、ガスステーション１には、この内部に不
活性ガス等を供給する供給通路１１と、不活性ガス等を
排気する排気通路１２とが開口部５に連通するように形
成されている。
囲気を不活性ガス等に置換するガスパージ装置として
は、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すものがあり、以
下に説明する。図２（ａ）および図２（ｂ）において、
スパージステション１は、所定の容積を有するステーシ
ョン本体２内に昇降テーブル３を有する昇降装置４が配
置されており、この昇降テーブル３がステーション本体
２の上方開口部５内に嵌合されてステーション本体２を
気密にしている。昇降テーブル３の下部には、不活性ガ
ス等の置換のためにステーション本体２に載置される可
搬式密閉コンテナ６（以下、単に、「密閉コンテナ６」
という。）の中空状の蓋７をロック、又はロック解除す
る開閉ユニット８が設けられている。この開閉ユニット
８は、昇降テーブル３を摺動自在に貫通して密閉コンテ
ナ６の蓋７に下側からスプライン係合するロックピン９
を有し、このロックピン９を回転させて密閉コンテナ６
に対する蓋７のロック、又はロック解除を行なう機械
的、電気的な機器１０（ギヤや電動モータ等）を包含し
ている。また、ガスステーション１には、この内部に不
活性ガス等を供給する供給通路１１と、不活性ガス等を
排気する排気通路１２とが開口部５に連通するように形
成されている。
【０００４】そして、密閉コンテナ６の内部雰囲気を不
活性ガス等で置換するために、密閉コンテナ６をステー
ション本体２の開口部５を覆う状態で、蓋７を昇降装置
４の昇降テーブル３上に載置してロックピン９にスプラ
イン係合させた後、開閉ユニット８の機器１０を駆動す
ることでロックピン９を回転して密閉コンテナ６の蓋７
のロックを解除して開可能にする。この後、昇降装置４
の昇降テーブル３を蓋７、複数の半導体ウエハＷを収納
するウエハカセット１３とともに下降させて密閉コンテ
ナ６内とステーション本体２内を連通状態にした後、供
給通路１１から不活性ガス等を供給する。これにより、
供給通路１１からから供給される不活性ガス等がステー
ション本体２、密閉コンテナ６内に供給され、半導体ウ
エハＷの自然酸化膜成長の原因となる酸素（空気），水
分等が不活性ガス等とともに排気通路１２からステーシ
ョン本体２の外部に放出される。その後、所定時間が経
過してステーション本体２と密閉コンテナ６内の不活性
ガス等の純度が上がって置換されると、各通路１１，１
２による不活性ガス等の給排気を停止してステーション
本体２内を気密状態にした後、昇降装置４の昇降テーブ
ル３を蓋７、ウエハカセット１３とともに上昇して、密
閉コンテナ６内に気密にウエハカセット１３を収納す
る。そして、開閉ユニット８の機器１０によりロックピ
ン９を回転させることで、蓋７をロックして密閉コンテ
ナ６を閉状態に維持する。
活性ガス等で置換するために、密閉コンテナ６をステー
ション本体２の開口部５を覆う状態で、蓋７を昇降装置
４の昇降テーブル３上に載置してロックピン９にスプラ
イン係合させた後、開閉ユニット８の機器１０を駆動す
ることでロックピン９を回転して密閉コンテナ６の蓋７
のロックを解除して開可能にする。この後、昇降装置４
の昇降テーブル３を蓋７、複数の半導体ウエハＷを収納
するウエハカセット１３とともに下降させて密閉コンテ
ナ６内とステーション本体２内を連通状態にした後、供
給通路１１から不活性ガス等を供給する。これにより、
供給通路１１からから供給される不活性ガス等がステー
ション本体２、密閉コンテナ６内に供給され、半導体ウ
エハＷの自然酸化膜成長の原因となる酸素（空気），水
分等が不活性ガス等とともに排気通路１２からステーシ
ョン本体２の外部に放出される。その後、所定時間が経
過してステーション本体２と密閉コンテナ６内の不活性
ガス等の純度が上がって置換されると、各通路１１，１
２による不活性ガス等の給排気を停止してステーション
本体２内を気密状態にした後、昇降装置４の昇降テーブ
ル３を蓋７、ウエハカセット１３とともに上昇して、密
閉コンテナ６内に気密にウエハカセット１３を収納す
る。そして、開閉ユニット８の機器１０によりロックピ
ン９を回転させることで、蓋７をロックして密閉コンテ
ナ６を閉状態に維持する。
【０００５】ところで、このガスパージステーション１
では、密閉コンテナ６内を不活性ガス等で置換するため
に、この蓋７を昇降装置４の昇降テーブル４に載置する
と、これらの間に空間Ａが形成される。従って、密閉コ
ンテナ６の蓋７の内部、及び蓋７と昇降テーブル４間の
空間Ａに存在する酸素（空気）、水分等の不活性ガス等
による置換は、これらの界面（隙間Ｂ）を通して徐々に
空間Ａ内や蓋７内部に供給することで、この隙間Ｂから
じわじわと（徐々に）酸素（空気）、水分等を空間Ａや
蓋７内から排出するようにしているので、時間がかかる
という問題がある。
では、密閉コンテナ６内を不活性ガス等で置換するため
に、この蓋７を昇降装置４の昇降テーブル４に載置する
と、これらの間に空間Ａが形成される。従って、密閉コ
ンテナ６の蓋７の内部、及び蓋７と昇降テーブル４間の
空間Ａに存在する酸素（空気）、水分等の不活性ガス等
による置換は、これらの界面（隙間Ｂ）を通して徐々に
空間Ａ内や蓋７内部に供給することで、この隙間Ｂから
じわじわと（徐々に）酸素（空気）、水分等を空間Ａや
蓋７内から排出するようにしているので、時間がかかる
という問題がある。
【０００６】また、開閉ユニット８内の機器１０（ギヤ
や電動モータ等）が駆動されると発塵埃する。従って、
ガスパージステーション１による不活性ガス等の置換が
開始されると、開閉ユニット８内に発生した塵埃がロッ
クピン９と昇降テーブル３との隙間Ｃから空間Ａ−隙間
Ｂを通してステーション本体２内に飛散し、密閉コンテ
ナ６内の清浄度を損ない、半導体ウエハＷに悪影響を与
えるという問題があった。
や電動モータ等）が駆動されると発塵埃する。従って、
ガスパージステーション１による不活性ガス等の置換が
開始されると、開閉ユニット８内に発生した塵埃がロッ
クピン９と昇降テーブル３との隙間Ｃから空間Ａ−隙間
Ｂを通してステーション本体２内に飛散し、密閉コンテ
ナ６内の清浄度を損ない、半導体ウエハＷに悪影響を与
えるという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このような問題を解決
するものとしては、特開平６−３３４０１９号公報記載
のものがある。この種のものは、可搬式密閉コンテナの
底蓋と内部にカム軸駆動機構を有する昇降台とで形成さ
れる空間に開口する通気路を設け、この通気路に接続さ
れ表面処理装置の外部に開口する配管を配置したもの
で、可搬式密閉コンテナ内の置換の際に、底蓋と昇降台
の隙間から空間内に不活性ガス等を流入し、この空間内
に存在する酸素（空気），水分等とともに配管を通して
表面処理装置の外部に放出するものである。
するものとしては、特開平６−３３４０１９号公報記載
のものがある。この種のものは、可搬式密閉コンテナの
底蓋と内部にカム軸駆動機構を有する昇降台とで形成さ
れる空間に開口する通気路を設け、この通気路に接続さ
れ表面処理装置の外部に開口する配管を配置したもの
で、可搬式密閉コンテナ内の置換の際に、底蓋と昇降台
の隙間から空間内に不活性ガス等を流入し、この空間内
に存在する酸素（空気），水分等とともに配管を通して
表面処理装置の外部に放出するものである。
【０００８】しかしながら、従来技術のもの（特開平６
−３３４０１９号公報記載）では、昇降台内に配置され
たカム軸駆動機構のカム軸が昇降台を貫通して空間内に
突出しているので、この空間に存する酸素（空気），水
分等を不活性ガス等に置換する際には、昇降台内に存す
る酸素（空気）、水分等がカム軸と昇降台との隙間から
順次、空間内に流入した後に配管から表面処理装置の外
部に放出される。従って、空間を置換するには昇降台内
から逐次、流入する酸素（空気）、水分等を外部に全て
放出した後に達成されるもので、不活性ガスの置換に時
間がかかるという問題がある。また、カム軸駆動機構の
駆動により発生する塵埃も、カム軸と昇降台との隙間か
ら空間−底蓋と昇降台との隙間を通して表面処理装置内
に流出する恐れがある。
−３３４０１９号公報記載）では、昇降台内に配置され
たカム軸駆動機構のカム軸が昇降台を貫通して空間内に
突出しているので、この空間に存する酸素（空気），水
分等を不活性ガス等に置換する際には、昇降台内に存す
る酸素（空気）、水分等がカム軸と昇降台との隙間から
順次、空間内に流入した後に配管から表面処理装置の外
部に放出される。従って、空間を置換するには昇降台内
から逐次、流入する酸素（空気）、水分等を外部に全て
放出した後に達成されるもので、不活性ガスの置換に時
間がかかるという問題がある。また、カム軸駆動機構の
駆動により発生する塵埃も、カム軸と昇降台との隙間か
ら空間−底蓋と昇降台との隙間を通して表面処理装置内
に流出する恐れがある。
【０００９】本発明は、この問題を解決するためになさ
れたもので、可搬式密閉コンテナのガスパージに要する
時間を短縮すると共に、開閉ユニットで発生する塵埃に
よる汚染を確実に防止することにある。
れたもので、可搬式密閉コンテナのガスパージに要する
時間を短縮すると共に、開閉ユニットで発生する塵埃に
よる汚染を確実に防止することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するた
め、本発明の可搬式密閉コンテナのガスパージステーシ
ョンでは、可搬式密閉コンテナの蓋との間に空間を形成
しつつ、この蓋が載置される昇降テーブルと、前記蓋を
開閉するための機器を内蔵する開閉ユニットとを内部に
配置するステーション本体を備えてなる可搬式密閉コン
テナのガスパージステーションにおいて、前記空間は、
この内部に存するガスを前記ステーション本体の外部に
導く排出経路に接続され、前記排出経路が、前記空間内
から前記昇降テーブルを貫通して前記開閉ユニット内に
開口する通孔と、前記開閉ユニット内と、前記ステショ
ン本体の外部とへ気密に連通する排出通路とで形成され
ているものである。これにより、可搬式密閉コンテナの
蓋と昇降装置の昇降テーブルとの間に形成される空間に
存在する酸素（空気）、水分等は、通孔−開閉ユニット
内および排出通路からステーション本体の外部へ放出さ
れるという、排出経路を得ることができる。従って、こ
の排出経路を流れる気流によって、蓋の内部や空間内に
存在する酸素（空気）、水分等のみならず開閉ユニット
内に存在する酸素（空気）、水分等を早急にステーショ
ン本体の外部に排出できるので、可搬式密閉コンテナ内
の不活性ガス等による置換に要する時間が短縮され、半
導体の生産効率を高めることが可能となる。また、排出
経路を通孔からステーション本体の外部へ向けて流れる
気流が、開閉ユニットの機器の駆動により発生する塵埃
を気密にステーション本体の外部に排出するので、ステ
ーション本体内に塵埃が流出することがなくなり、可搬
式密閉コンテナ内の清浄度が確保され、半導体ウエハに
悪影響を与えることもなくなるので、半導体製造の歩留
り向上が期待できる。
め、本発明の可搬式密閉コンテナのガスパージステーシ
ョンでは、可搬式密閉コンテナの蓋との間に空間を形成
しつつ、この蓋が載置される昇降テーブルと、前記蓋を
開閉するための機器を内蔵する開閉ユニットとを内部に
配置するステーション本体を備えてなる可搬式密閉コン
テナのガスパージステーションにおいて、前記空間は、
この内部に存するガスを前記ステーション本体の外部に
導く排出経路に接続され、前記排出経路が、前記空間内
から前記昇降テーブルを貫通して前記開閉ユニット内に
開口する通孔と、前記開閉ユニット内と、前記ステショ
ン本体の外部とへ気密に連通する排出通路とで形成され
ているものである。これにより、可搬式密閉コンテナの
蓋と昇降装置の昇降テーブルとの間に形成される空間に
存在する酸素（空気）、水分等は、通孔−開閉ユニット
内および排出通路からステーション本体の外部へ放出さ
れるという、排出経路を得ることができる。従って、こ
の排出経路を流れる気流によって、蓋の内部や空間内に
存在する酸素（空気）、水分等のみならず開閉ユニット
内に存在する酸素（空気）、水分等を早急にステーショ
ン本体の外部に排出できるので、可搬式密閉コンテナ内
の不活性ガス等による置換に要する時間が短縮され、半
導体の生産効率を高めることが可能となる。また、排出
経路を通孔からステーション本体の外部へ向けて流れる
気流が、開閉ユニットの機器の駆動により発生する塵埃
を気密にステーション本体の外部に排出するので、ステ
ーション本体内に塵埃が流出することがなくなり、可搬
式密閉コンテナ内の清浄度が確保され、半導体ウエハに
悪影響を与えることもなくなるので、半導体製造の歩留
り向上が期待できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の可搬式密閉コンテ
ナのガスパージステーションについて、図面を参照して
説明する。図１は本発明の可搬式密閉コンテナのガスパ
ージステーションの構成を示す縦断面図である。尚、図
１において、従来技術の図２と同一の符号は同一の構成
を有するので、その説明は省略する。
ナのガスパージステーションについて、図面を参照して
説明する。図１は本発明の可搬式密閉コンテナのガスパ
ージステーションの構成を示す縦断面図である。尚、図
１において、従来技術の図２と同一の符号は同一の構成
を有するので、その説明は省略する。
【００１２】図１において、ガスパージステーション１
のステーション本体２には、その側面２ａに内部側と外
部側とを連通する排気孔１５が形成されている。また、
開閉ユニット８の下面８ａには、この内部とステーショ
ン本体２の内部とを連通する排出孔１６が形成されてい
る。そして、ステーション本体２の排気孔１５と開閉ユ
ニット８の排出孔１６とには、排出通路となる排出管１
７が隙間なく気密に接続されている。尚、この排出管１
７は、昇降テーブル４の昇降に追従して移動される開閉
ユニット８の移動を許容するため、可撓性の配管を用い
ることが好ましい。また、昇降装置４の昇降テーブル３
を貫通するロックピン９とこの昇降テーブル３との間に
は、不活性ガス等の流れをスムーズにするため、図２に
示す従来技術の隙間Ｃに比して、多少大きい隙間を有す
るピン通孔１８を空間Ａ内から昇降テーブル３を貫通し
て開閉ユニット８内に開口するように形成している。更
に、ステーション本体２から外部に突出する排出管１７
には、開閉弁１９が設けられている。
のステーション本体２には、その側面２ａに内部側と外
部側とを連通する排気孔１５が形成されている。また、
開閉ユニット８の下面８ａには、この内部とステーショ
ン本体２の内部とを連通する排出孔１６が形成されてい
る。そして、ステーション本体２の排気孔１５と開閉ユ
ニット８の排出孔１６とには、排出通路となる排出管１
７が隙間なく気密に接続されている。尚、この排出管１
７は、昇降テーブル４の昇降に追従して移動される開閉
ユニット８の移動を許容するため、可撓性の配管を用い
ることが好ましい。また、昇降装置４の昇降テーブル３
を貫通するロックピン９とこの昇降テーブル３との間に
は、不活性ガス等の流れをスムーズにするため、図２に
示す従来技術の隙間Ｃに比して、多少大きい隙間を有す
るピン通孔１８を空間Ａ内から昇降テーブル３を貫通し
て開閉ユニット８内に開口するように形成している。更
に、ステーション本体２から外部に突出する排出管１７
には、開閉弁１９が設けられている。
【００１３】そして、密閉コンテナ６の内部雰囲気を不
活性ガス等で置換するために、密閉コンテナ６をステー
ション本体２の開口部５を覆う状態で、蓋７を昇降装置
４の昇降テーブル３上に載置してロックピン９にスプラ
イン係合させた後、開閉ユニット８の機器１０を駆動す
ることでロックピン９を回転して密閉コンテナ６の蓋７
のロックを解除して開可能にする。この後、昇降装置４
の昇降テーブル３を蓋７、複数の半導体ウエハＷを収納
するウエハカセット１３とともに下降させて密閉コンテ
ナ６内とステーション本体２内を連通状態にした後、供
給通路１１から不活性ガス等を供給すると共に、開閉弁
１９を開状態にする。
活性ガス等で置換するために、密閉コンテナ６をステー
ション本体２の開口部５を覆う状態で、蓋７を昇降装置
４の昇降テーブル３上に載置してロックピン９にスプラ
イン係合させた後、開閉ユニット８の機器１０を駆動す
ることでロックピン９を回転して密閉コンテナ６の蓋７
のロックを解除して開可能にする。この後、昇降装置４
の昇降テーブル３を蓋７、複数の半導体ウエハＷを収納
するウエハカセット１３とともに下降させて密閉コンテ
ナ６内とステーション本体２内を連通状態にした後、供
給通路１１から不活性ガス等を供給すると共に、開閉弁
１９を開状態にする。
【００１４】これにより、供給通路１１からから供給さ
れる不活性ガス等がステーション本体２、密閉コンテナ
６内に供給され、半導体ウエハＷの自然酸化膜成長の原
因となる酸素（空気），水分等が不活性ガス等とともに
排気通路１２からステーション本体２の外部に放出され
ると共に、密閉コンテナ６の蓋７と昇降テーブル３の界
面（隙間Ｂ）から不活性ガス等が空間Ａ内、および蓋７
内に流入する。このように、不活性ガス等が空間Ａ内、
蓋７内に順次、流入すると空間Ａ内、蓋７内部に存在す
る酸素（空気）、水分等とともにピン通孔１８を通して
開閉ユニット８内に至り、この開閉ユニット８の機器１
０の駆動で発生した塵が排出管１７を通して、開閉ユニ
ット８内の酸素（空気）や水分等、この内部に流入され
た不活性ガス等とともステーション本体２の外部に排出
される。
れる不活性ガス等がステーション本体２、密閉コンテナ
６内に供給され、半導体ウエハＷの自然酸化膜成長の原
因となる酸素（空気），水分等が不活性ガス等とともに
排気通路１２からステーション本体２の外部に放出され
ると共に、密閉コンテナ６の蓋７と昇降テーブル３の界
面（隙間Ｂ）から不活性ガス等が空間Ａ内、および蓋７
内に流入する。このように、不活性ガス等が空間Ａ内、
蓋７内に順次、流入すると空間Ａ内、蓋７内部に存在す
る酸素（空気）、水分等とともにピン通孔１８を通して
開閉ユニット８内に至り、この開閉ユニット８の機器１
０の駆動で発生した塵が排出管１７を通して、開閉ユニ
ット８内の酸素（空気）や水分等、この内部に流入され
た不活性ガス等とともステーション本体２の外部に排出
される。
【００１５】その後、所定時間が経過してステーション
本体２と密閉コンテナ６内の不活性ガス等の純度が上が
って置換されると、開閉弁１９を閉状態にすると共に各
通路１１，１２による不活性ガス等の給排気を停止して
ステーション本体２内を気密状態にした後、昇降装置４
の昇降テーブル３を蓋７、ウエハカセット１３とともに
上昇して、密閉コンテナ６内に気密にウエハカセット１
３を収納する。そして、開閉ユニット８の機器１０によ
りロックピン９を回転させることで、蓋７をロックして
密閉コンテナ６を閉状態に維持する。
本体２と密閉コンテナ６内の不活性ガス等の純度が上が
って置換されると、開閉弁１９を閉状態にすると共に各
通路１１，１２による不活性ガス等の給排気を停止して
ステーション本体２内を気密状態にした後、昇降装置４
の昇降テーブル３を蓋７、ウエハカセット１３とともに
上昇して、密閉コンテナ６内に気密にウエハカセット１
３を収納する。そして、開閉ユニット８の機器１０によ
りロックピン９を回転させることで、蓋７をロックして
密閉コンテナ６を閉状態に維持する。
【００１６】このように、本発明の可搬式密閉コンテナ
のガスパージステーション１によれば、開閉ユニット８
の内部とステーション本体２の外部とを気密に連通する
排出管１７、空間Ａと開閉ユニット８内部とを連通する
ピン通孔１８とを設けることで、密閉コンテナ６の蓋７
と昇降装置４の昇降テーブル３との間に形成される空間
Ａ、及び蓋７内部に存在する酸素（空気）、水分等は、
ピン通孔１８−開閉ユニット８内および排出管１７から
ステーション本体２の外部へ放出されるという、排出経
路Ｘを得ることができる。従って、この排出経路Ｘを流
れる気流（不活性ガス等）によって、空間Ａ内、蓋７の
内部に存在する酸素（空気）、水分等のみならず開閉ユ
ニット８内に存在する酸素（空気）、水分等を早急にス
テーション本体２の外部に排出できるので、密閉コンテ
ナ６内のガスパージに要する時間が短縮される。また、
排出経路Ｘをピン通孔１８からステーション本体２の外
部に向けて流れる気流（不活性ガス等）が、開閉ユニッ
ト８の機器１０の駆動により発生する塵埃を気密にステ
ーション本体２の外部に排出するので、ステーション本
体２内に塵埃が流出することがなくなり、密閉コンテナ
６内の清浄度が確保され、半導体ウエハＷに悪影響を与
えることもなくなる。
のガスパージステーション１によれば、開閉ユニット８
の内部とステーション本体２の外部とを気密に連通する
排出管１７、空間Ａと開閉ユニット８内部とを連通する
ピン通孔１８とを設けることで、密閉コンテナ６の蓋７
と昇降装置４の昇降テーブル３との間に形成される空間
Ａ、及び蓋７内部に存在する酸素（空気）、水分等は、
ピン通孔１８−開閉ユニット８内および排出管１７から
ステーション本体２の外部へ放出されるという、排出経
路Ｘを得ることができる。従って、この排出経路Ｘを流
れる気流（不活性ガス等）によって、空間Ａ内、蓋７の
内部に存在する酸素（空気）、水分等のみならず開閉ユ
ニット８内に存在する酸素（空気）、水分等を早急にス
テーション本体２の外部に排出できるので、密閉コンテ
ナ６内のガスパージに要する時間が短縮される。また、
排出経路Ｘをピン通孔１８からステーション本体２の外
部に向けて流れる気流（不活性ガス等）が、開閉ユニッ
ト８の機器１０の駆動により発生する塵埃を気密にステ
ーション本体２の外部に排出するので、ステーション本
体２内に塵埃が流出することがなくなり、密閉コンテナ
６内の清浄度が確保され、半導体ウエハＷに悪影響を与
えることもなくなる。
【００１７】尚、本発明の可搬式密閉コンテナのガスパ
ージステーション１では、ロックピン９を空間Ａ内に突
出させることと、空間Ａ内の酸素（空気），水分等を開
閉ユニット８内に導く機能を持たせたピン通孔１８を示
したが、これに限定されるものでなく、空間Ａと開閉ユ
ニット８内とを連通するような、単なる通孔であっても
よく、また、その数は限定されない。更に、排出管１７
の本数も１本に限定されるものでなく、複数本設けるよ
うにしたものであってもよい。
ージステーション１では、ロックピン９を空間Ａ内に突
出させることと、空間Ａ内の酸素（空気），水分等を開
閉ユニット８内に導く機能を持たせたピン通孔１８を示
したが、これに限定されるものでなく、空間Ａと開閉ユ
ニット８内とを連通するような、単なる通孔であっても
よく、また、その数は限定されない。更に、排出管１７
の本数も１本に限定されるものでなく、複数本設けるよ
うにしたものであってもよい。
【００１８】
【発明の効果】このように本発明の可搬式密閉コンテナ
のガスパージステーションによれば、可搬式密閉コンテ
ナの蓋と昇降装置の昇降テーブルとの間に形成される空
間内や蓋内に存在する酸素（空気），水分等は、通孔−
開閉ユニット内および排出通路からステーション本体の
外部へ放出されるという、排出経路を得ることができ
る。従って、この排出経路を流れる気流によって、空間
内や蓋の内部に存在する酸素（空気），水分等のみなら
ず開閉ユニット内に存在する酸素（空気），水分等を早
急にステーション本体の外部に排出できるので、可搬式
密閉コンテナ内のガスパージに要する時間が短縮され、
半導体の生産効率を高めることが可能となる。また、排
出経路を通孔からステーション本体の外部に向けて流れ
る気流が、開閉ユニットの機器の駆動により発生する塵
埃を気密にステーション本体の外部に排出するので、ス
テーション本体内に塵埃が流出することがなくなり、可
搬式密閉コンテナ内の清浄度が確保され、半導体ウエハ
に悪影響を与えることもなくなるので、半導体製造の歩
留り向上が期待できる。
のガスパージステーションによれば、可搬式密閉コンテ
ナの蓋と昇降装置の昇降テーブルとの間に形成される空
間内や蓋内に存在する酸素（空気），水分等は、通孔−
開閉ユニット内および排出通路からステーション本体の
外部へ放出されるという、排出経路を得ることができ
る。従って、この排出経路を流れる気流によって、空間
内や蓋の内部に存在する酸素（空気），水分等のみなら
ず開閉ユニット内に存在する酸素（空気），水分等を早
急にステーション本体の外部に排出できるので、可搬式
密閉コンテナ内のガスパージに要する時間が短縮され、
半導体の生産効率を高めることが可能となる。また、排
出経路を通孔からステーション本体の外部に向けて流れ
る気流が、開閉ユニットの機器の駆動により発生する塵
埃を気密にステーション本体の外部に排出するので、ス
テーション本体内に塵埃が流出することがなくなり、可
搬式密閉コンテナ内の清浄度が確保され、半導体ウエハ
に悪影響を与えることもなくなるので、半導体製造の歩
留り向上が期待できる。
【図１】本発明の可搬式密閉コンテナのガスパージステ
ーションの構成を示す縦断面図である。
ーションの構成を示す縦断面図である。
【図２】従来技術の可搬式密閉コンテナのガスパージス
テーションの構成を示す図で、（ａ）はステーションの
閉状態を示す縦断面図、（ｂ）はステーションの開状態
を示す縦断面図である。
テーションの構成を示す図で、（ａ）はステーションの
閉状態を示す縦断面図、（ｂ）はステーションの開状態
を示す縦断面図である。
１ ガスパージステーション ２ ステーション本体 ３ 昇降テーブル ６ 可搬式密閉コンテナ ７ 蓋 ８ 開閉ユニット ９ ロックピン １０ 機器 １７ 排出管（排出通路） １８ ピン通孔（通孔） Ａ 空間 Ｘ 排出経路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 日也 三重県伊勢市竹ヶ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 及部 博之 三重県伊勢市竹ヶ鼻町100番地 神鋼電機 株式会社伊勢製作所内
Claims (1)
- 【請求項１】 可搬式密閉コンテナの蓋との間に空間を
形成しつつ、この蓋が載置される昇降テーブルと、前記
蓋を開閉するための機器を内蔵する開閉ユニットとを内
部に配置するステーション本体を備えてなる可搬式密閉
コンテナのガスパージステーションにおいて、 前記空間は、この内部に存するガスを前記ステーション
本体の外部に導く排出経路に接続され、 前記排出経路が、前記空間内から前記昇降テーブルを貫
通して前記開閉ユニット内に開口する通孔と、前記開閉
ユニット内と、前記ステション本体の外部とへ気密に連
通する排出通路とで形成されていることを特徴とする可
搬式密閉コンテナのガスパージステーション。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08479196A JP3783273B2 (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | 可搬式密閉コンテナのガスパージステーション |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08479196A JP3783273B2 (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | 可搬式密閉コンテナのガスパージステーション |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09246354A true JPH09246354A (ja) | 1997-09-19 |
| JP3783273B2 JP3783273B2 (ja) | 2006-06-07 |
Family
ID=13840532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08479196A Expired - Fee Related JP3783273B2 (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | 可搬式密閉コンテナのガスパージステーション |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3783273B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001008210A1 (fr) * | 1999-07-28 | 2001-02-01 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Procede de stockage de plaquette, contenant de stockage destine a cet effet et procede de transfert de plaquette dans ce contenant |
| US6867153B2 (en) | 2003-01-31 | 2005-03-15 | Trecenti Technologies, Inc. | Method of purging wafer receiving jig, wafer transfer device, and method of manufacturing semiconductor device |
| JP2005210118A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Alcatel | ミニエンバイロンメントの制御およびパージを行うためのステーション |
| JP2012195438A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
| JP2014053417A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置及びこれを用いた熱処理装置、並びに蓋体開閉方法 |
| CN112299064A (zh) * | 2019-07-30 | 2021-02-02 | 群翊工业股份有限公司 | 可防板偏的连续通板的氮气箱 |
-
1996
- 1996-03-12 JP JP08479196A patent/JP3783273B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001008210A1 (fr) * | 1999-07-28 | 2001-02-01 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Procede de stockage de plaquette, contenant de stockage destine a cet effet et procede de transfert de plaquette dans ce contenant |
| US6867153B2 (en) | 2003-01-31 | 2005-03-15 | Trecenti Technologies, Inc. | Method of purging wafer receiving jig, wafer transfer device, and method of manufacturing semiconductor device |
| JP2005210118A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Alcatel | ミニエンバイロンメントの制御およびパージを行うためのステーション |
| JP4651396B2 (ja) * | 2004-01-20 | 2011-03-16 | アルカテル−ルーセント | パージステーションを有するデバイス |
| JP2012195438A (ja) * | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置 |
| JP2014053417A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Tokyo Electron Ltd | 蓋体開閉装置及びこれを用いた熱処理装置、並びに蓋体開閉方法 |
| CN112299064A (zh) * | 2019-07-30 | 2021-02-02 | 群翊工业股份有限公司 | 可防板偏的连续通板的氮气箱 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3783273B2 (ja) | 2006-06-07 |
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