KR100812096B1 - Apparatus and method for glass etching - Google Patents
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Abstract
본 발명의 목적은 하나의 배스 내에서 식각공정, 세정공정, 건조공정이 모두 진행될 수 있도록 함으로써 장비의 소형화로 인한 제작원가절감 및 공정시간 단축이 가능한 글라스 식각장치 및 식각방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a glass etching apparatus and an etching method capable of reducing the manufacturing cost and processing time due to the miniaturization of equipment by allowing the etching process, the cleaning process, and the drying process to be performed in one bath.
이를 위해 본 발명은 바닥면이 일정 각도 경사지게 형성되는 하나의 배스; 상기 배스의 바닥면 일측에 연결되어 배스 내부로 글라스 식각액을 공급하는 제 1배관; 상기 배스의 측면에 연결되어 배스 내부로 글라스의 세정을 위한 세정액과 글라스의 건조를 위한 CDA를 선택적으로 공급하는 제 2배관; 그리고, 상기 배스의 바닥면 중앙부에 연결되어 글라스의 식각 및 세정에 사용된 후 배스 바닥면에 고이는 식각액과 세정액을 배출시키는 배수관을 포함하여 이루어지는 글라스 식각장치를 제공한다.To this end, the present invention is one basal bottom surface is formed to be inclined at an angle; A first pipe connected to one side of a bottom surface of the bath to supply a glass etchant into the bath; A second pipe connected to a side of the bath to selectively supply a cleaning liquid for cleaning the glass and a CDA for drying the glass into the bath; In addition, the glass etching apparatus is connected to the center of the bottom surface of the bath and used to etch and clean the glass, and provides a glass etching apparatus comprising a drain pipe for discharging the etching liquid and the cleaning liquid collected on the bottom surface of the bath.
또한, 본 발명은 배스의 바닥면 일측에 연결된 제 1배관을 통해 배스 내부로 식각액을 공급되는 단계; 상기 배스 내부로 글라스를 투입하여 글라스의 표면을 식각하는 단계; 상기 글라스의 식각이 완료되면 식각액을 배스의 바닥면에 연결된 배수관을 통해 배출시키는 단계; 상기 배스의 측면에 연결된 제 2배관을 통해 배스 내부에 세정액을 공급하여 글라스의 표면을 세정하는 단계; 그리고, 상기 세정에 사용된 세정액을 배수관을 통해 외부로 배출하고 상기 제 2배관을 통해 배스 내부로 CDA를 공급하여 글라스의 표면을 건조하는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 단계들은 모두 하나의 배스 내에서 이루어지는 글라스 식각방법을 제공한다.In addition, the present invention comprises the steps of supplying the etching liquid into the bath through the first pipe connected to the bottom side of the bath; Etching the surface of the glass by inserting the glass into the bath; Discharging the etchant through a drain pipe connected to the bottom of the bath when the glass is etched; Cleaning the surface of the glass by supplying a cleaning liquid into the bath through a second pipe connected to a side of the bath; In addition, the cleaning liquid used for cleaning is discharged to the outside through a drain pipe and the CDA is supplied to the inside of the bath through the second pipe to dry the surface of the glass is made, the steps are all in one bath It provides a glass etching method made in.
식각장치, 배스 Etching Device, Bath
Description
도 1은 본 발명에 따른 글라스 식각장치의 정면도이다.1 is a front view of a glass etching apparatus according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 글라스 식각장치의 측면도이다.2 is a side view of the glass etching apparatus according to the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
100: 배스 110: 배스 바닥면100: bath 110: bath bottom surface
120: 버블 생성장치 130: 노즐120: bubble generator 130: nozzle
200: 제 1배관 300: 제 2배관 200: first pipe 300: second pipe
310: 초순수 공급밸브 320: 에어 공급밸브310: ultrapure water supply valve 320: air supply valve
400: 배수관400: drain pipe
본 발명은 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display Device)용 글라스를 식각하기 위한 글라스 식각장치 및 식각방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 장비의 소형화로 제작원가 절감 및 공정시간 단축이 가능한 글라스 식각장치 및 식각방법에 관한 것이다.The present invention relates to a glass etching apparatus and an etching method for etching a glass for a liquid crystal display device (LCD), and more particularly, a glass etching apparatus capable of reducing manufacturing costs and shortening processing time by miniaturizing equipment. And an etching method.
일반적으로 액정표시장치용 글라스를 식각(에칭: etching)하기 위한 식각장 치는 식각 배스, 세정(QDR: Quick Dump Rinse) 배스, 건조 배스로 이루어지며, 식각 배스의 하부에는 질소기체 버블(bubble)을 균일하게 생성할 수 있는 다공성의 버블판이 설치된다. In general, an etching apparatus for etching (etching) the glass for a liquid crystal display device includes an etching bath, a quick dump rinse (QDR) bath, and a dry bath. Porous bubble plates that can be produced uniformly are installed.
이러한 식각장치를 통해 이루어지는 종래의 글라스 식각방법은 불산(HF)을 이용한 식각 배스에서의 식각 공정, 세정 배스에서의 초순수를 이용한 세정공정, 건조 배스에서의 건조 공기를 이용한 건조 공정으로 이루어진다. The conventional glass etching method using such an etching apparatus includes an etching process in an etching bath using hydrofluoric acid (HF), a cleaning step using ultrapure water in a cleaning bath, and a drying step using dry air in a drying bath.
이때, 상기 글라스는 카세트에 다수개가 적층되어 각 배스 사이로 이송된다. 즉, 다수의 글라스는 카세트에 수직방향으로 일정한 간격을 유지하도록 적층되고, 글라스가 적층된 카세트가 로봇 암 등의 이송수단에 의해 각 배스 내부로 이송됨으로써 상기 각 공정이 진행된다.At this time, a plurality of the glass is stacked in the cassette is transferred between each bath. That is, a plurality of glasses are stacked so as to maintain a constant interval in the vertical direction to the cassette, and the above-described process is performed by transferring the stacked cassettes into the respective baths by a transfer means such as a robot arm.
하지만, 이러한 종래의 식각장치는 불산, 초순수 등의 공급을 위한 복잡한 배관 구성을 가지는 3개의 배스를 별도로 구비하여야 하기 때문에 전체적인 장비의 대형화가 불가피하며 이에 따라 제작원가가 증가하는 문제점이 있었다.However, such a conventional etching apparatus has to separately include three baths having a complex piping configuration for supplying folic acid, ultrapure water, etc., and thus, it is inevitable to increase the overall size of the equipment and thus increase manufacturing costs.
또한, 하나의 공정이 완료되면 다음 공정 진행을 위해 글라스를 이송시켜야 하기 때문에 공정시간이 많이 소요되며, 특히 글라스를 이송하는 과정에서 글라스에 유착된 식각액에 의해 장치 내부가 오염되는 문제점이 있었다.In addition, when one process is completed, the process takes a lot of time because the glass must be transported for the next process, in particular, there is a problem that the inside of the apparatus is contaminated by the etchant adhered to the glass in the process of transporting the glass.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 하나의 배스 내에서 식각공정, 세정공정, 건조공정이 모두 진행될 수 있도록 함으로써 장비의 소형화로 인한 제작원가절감 및 공정시간 단축이 가능한 글라 스 식각장치 및 식각방법을 제공하는 것이다.The present invention has been proposed to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to reduce the manufacturing cost and process due to the miniaturization of equipment by allowing the etching process, the cleaning process, and the drying process to be performed in one bath. It is to provide a glass etching apparatus and an etching method that can reduce the time.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명은 바닥면이 일정 각도 경사지게 형성되는 하나의 배스; 상기 배스의 바닥면 일측에 연결되어 배스 내부로 글라스 식각액을 공급하는 제 1배관; 상기 배스의 측면에 연결되어 배스 내부로 글라스의 세정을 위한 세정액과 글라스의 건조를 위한 CDA를 선택적으로 공급하는 제 2배관; 그리고, 상기 배스의 바닥면 중앙부에 연결되어 글라스의 식각 및 세정에 사용된 후 배스 바닥면에 고이는 식각액과 세정액을 배출시키는 배수관을 포함하여 이루어지는 글라스 식각장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a bath having a bottom surface inclined at an angle; A first pipe connected to one side of a bottom surface of the bath to supply a glass etchant into the bath; A second pipe connected to a side of the bath to selectively supply a cleaning liquid for cleaning the glass and a CDA for drying the glass into the bath; In addition, the glass etching apparatus is connected to the center of the bottom surface of the bath and used to etch and clean the glass, and provides a glass etching apparatus comprising a drain pipe for discharging the etching liquid and the cleaning liquid collected on the bottom surface of the bath.
또한, 본 발명은 배스의 바닥면 일측에 연결된 제 1배관을 통해 배스 내부로 식각액을 공급되는 단계; 상기 배스 내부로 글라스를 투입하여 글라스의 표면을 식각하는 단계; 상기 글라스의 식각이 완료되면 식각액을 배스의 바닥면에 연결된 배수관을 통해 배출시키는 단계; 상기 배스의 측면에 연결된 제 2배관을 통해 배스 내부에 세정액을 공급하여 글라스의 표면을 세정하는 단계; 그리고, 상기 세정에 사용된 세정액을 배수관을 통해 외부로 배출하고 상기 제 2배관을 통해 배스 내부로 CDA를 공급하여 글라스의 표면을 건조하는 단계를 포함하여 이루어지며, 상기 단계들은 모두 하나의 배스 내에서 이루어지는 글라스 식각방법을 제공한다.In addition, the present invention comprises the steps of supplying the etching liquid into the bath through the first pipe connected to the bottom side of the bath; Etching the surface of the glass by inserting the glass into the bath; Discharging the etchant through a drain pipe connected to the bottom of the bath when the glass is etched; Cleaning the surface of the glass by supplying a cleaning liquid into the bath through a second pipe connected to a side of the bath; In addition, the cleaning liquid used for cleaning is discharged to the outside through a drain pipe and the CDA is supplied to the inside of the bath through the second pipe to dry the surface of the glass is made, the steps are all in one bath It provides a glass etching method made in.
이하, 상기 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명된다.Hereinafter, embodiments of the present invention in which the above object can be specifically realized are described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명에 따른 글라스 식각장치의 정면도이며, 도 2는 본 발명에 따 른 글라스 식각장치의 측면도이다.1 is a front view of a glass etching apparatus according to the present invention, Figure 2 is a side view of the glass etching apparatus according to the present invention.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 글라스 식각장치는 하나의 배스(bath)(100)와, 식각액의 공급을 위한 제 1배관(200)과, 세정액과 CDA(Clean Dry Air)의 공급을 위한 제 2배관(300)과, 상기 식각액과 세정액의 배출을 위한 배수관(400)을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the glass etching apparatus according to the present invention includes one
상기 제 1배관(200)은 배스(100)의 바닥면(110) 일측에 연결되어 배스(100) 내부로 글라스의 식각을 위한 식각액을 공급한다. 이를 위해 상기 제 1배관(200)에는 제어 신호에 의해 제 1배관(200)을 자동으로 개폐시키는 밸브(210)가 설치된다. 따라서, 제 1배관(200)으로 유입되기 전 식각에 적합하도록 농도와 온도가 보정된 식각액은 밸브(210)에 의해 제 1배관(200)이 개방되면 배스(100) 내부로 공급된다.The
상기 제 2배관(300)은 배스(100)의 측면에 연결되어 배스(100) 내부로 글라스의 세정을 위한 세정액과, 글라스의 건조를 위한 CDA를 선택적으로 공급한다. 좀더 상세히 설명하면, 상기 제 2배관(300)은 글라스의 세정 공정시 배스(100) 내부로 세정액을 공급하며, 건조 공정시 배스(100) 내부로 CDA를 공급한다. 즉, 하나의 제 2배관(300)을 통해 배스(100) 내부에는 세정액 또는 CDA가 선택적으로 공급된다. 이를 위해 상기 제 2배관(300)에는 세정 공정시 제 2배관(300)을 개방시켜 세정액이 배스(100) 내부로 공급되게 하는 세정액 공급밸브(310)와, 건조 공정시 제 2배관(300)을 개방시켜 CDA가 배스(100) 내부로 공급되게 하는 에어 공급밸브(320)가 각각 설치된다. 상기 세정액 공급밸브(310) 및 에어 공급 밸브(320) 역시 상술한 제 1배관(200)에 설치되는 밸브(210)와 같이 제어신호에 의해 제 2배관(300)을 자동 개폐시킨다. The
이와 같이 세정액과 CDA가 하나의 제 2배관(300)을 통해 배스(100) 내부로 공급되게 하면 배관의 구성을 단순화할 수 있어 장비제작원가를 절감시킬 수 있다.As such, when the cleaning solution and the CDA are supplied into the
한편, 상기 배스(100)의 내측면에는 제 2배관(300)에 연결되는 다수개의 노즐(130)이 설치된다. 따라서, 세정 및 건조공정시 제 2배관(300)을 통해 배스(100) 내부로 공급되는 세정액과 CDA는 노즐(130)을 통해 글라스 표면에 균일하게 분사된다. Meanwhile, a plurality of
상기 배수관(400)은 배스(100)의 바닥면(110) 중앙부에 연결되어 글라스의 식각 및 세정에 사용된 후 배스 바닥면(110)에 고이는 식각액과 세정액을 배출시킨다. 식각공정 및 세정공정에 사용된 식각액 및 세정액은 식각물질 등의 이물질을 포함한 오염된 상태이기 때문에 각 공정이 완료되면 배수관(400)을 통해 신속히 외부로 배출된다. 상기 배수관(400)을 통한 식각액과 세정액의 신속한 배출을 위해 상기 배스 바닥면(110)은 경사지게 형성됨이 바람직하다.The
이와 같이 배수관(400)을 통해 외부로 배출되는 식각액은 재생탱크 등으로 보내진 후 이물질이 제거되는 작업을 거쳐 재사용된다. 따라서, 상기 식각액은 세정액과 분리된 상태로 외부로 배출되어짐이 바람직하다. 이를 위해 상기 배수관(400)은 배스 바닥면(110)에서 연장되어 식각액을 배출시키는 제 1배수관(410)과, 세정액을 배출시키는 제 2배수관(420)으로 분리된다.As such, the etchant discharged to the outside through the
즉, 상기 식각액은 제 1배수관(410)을 통해 외부로 배출되고, 상기 세정액은 제 2배수관(420)을 통해 외부로 배출된다. 그리고, 상기 제 1, 2배수관(410, 420) 에도 제어신호에 의해 작동하는 밸브(411, 421)가 각각 설치된다. 따라서, 제 1배수관(410)을 통해 식각액이 배출되면 제 2배수관(420)은 밸브(421)에 의해 폐쇄되고 제 2배수관(420)을 통해 세정액이 배출되면 제 1배수관(410)이 밸브(411)에 의해 폐쇄된다.That is, the etchant is discharged to the outside through the
한편, 상기 배스(100)의 하부에는 버블 생성장치(120)가 구비된다. 상기 버블 생성장치(120)는 질소기체 버블을 생성시켜 식각공정시 식각액에 의한 글라스의 균일한 식각이 이루어지도록 함과 동시에 세정공정시 세정액에 의한 효율적인 글라스 세정이 이루어지도록 하는 기능을 수행한다.Meanwhile, a
이와 같이 구성되는 본 발명에 따른 글라스 식각장치를 이용한 글라스 식각방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.The glass etching method using the glass etching apparatus according to the present invention configured as described above is as follows.
먼저, 밸브(210)에 의해 제 1배관(200)이 개방되어 농도, 온도가 보정된 식각액이 배스(100) 내부로 공급되면 글라스가 배스(100) 내부로 투입되어 식각공정이 진행된다. 이때, 배스(100) 하부에 설치된 버블 생성장치(130)가 질소 기체를 발생시켜 글라스가 균일하게 식각되도록 한다. 일반적으로 글라스는 다수개가 카세트(미도시)에 적재되어 배스(100) 내부로 이송되지만 설명의 편의를 위해 하나의 글라스만이 배스(100) 내부로 이송된다고 가정한다.First, when the
이후, 식각공정이 완료되면 식각물질을 함유한 상태로 배스 바닥면(110)에 고여있는 식각액이 배수관(400)을 통해 배출된다. 이때, 밸브(411, 421)에 의해 제 1배수관(410)은 개방되고 제 2배수관(420)은 폐쇄되기 때문에 식각액은 제 1배수관(410)을 통해 외부로 배출된다.Subsequently, when the etching process is completed, the etchant accumulated on the
그리고, 제 1배수관(410)을 통한 식각액의 배출이 완료되면 세정액 공급밸브(310)에 의해 제 2배관(300)이 개방되어 배스(100) 내부로 세정액이 공급된다. 이와 같이 배스(100) 내부로 공급되는 세정액은 노즐(130)에 의해 글라스 표면으로 분사되어 글라스를 세정한다. 한편, 세정액에 의한 세정공정이 진행되는 동안 상술한 식각공정과 동일하게 배스(100) 하부에 설치된 버블 생성장치(130)가 질소 기체를 발생시켜 글라스의 균일한 세정을 돕는다.When the discharge of the etching liquid through the
이러한 세정공정이 완료되면 배스 바닥면(110)에 고인 세정액이 제 2배수관(400)을 통해 배출된다. 이때, 밸브가 조절되어 상기 제 1배수관(410)은 폐쇄되고 제 2배수관(420)만이 개방되기 때문에 상기 세정액은 제 2배수관(420)을 통해 외부로 배출된다.When the cleaning process is completed, the cleaning liquid accumulated on the
이후, 상기 에어 공급밸브(320)에 의해 제 2배관(300)이 개방되어 배스(100) 내부로 CDA가 공급됨으로써 글라스의 표면이 건조된다.Thereafter, the
이러한 본 발명에 따른 글라스 식각장치 및 식각방법은 다음과 같은 효과를 가진다. The glass etching apparatus and the etching method according to the present invention have the following effects.
첫째, 본 발명은 하나의 배스 내에서 글라스의 식각공정, 세정공정, 건조공정이 모두 이루어지기 때문에 종래와 같은 글라스의 이송이 불필요하다. 따라서, 공정의 단순화가 가능해지고 공정시간 단축을 통해 생산량을 2배 이상 증가시킬 수 있는 효과가 있다. 또한, 식각공정 후 세정공정이 바로 진행되기 때문에 글라스에 식각액이 묻어있는 시간을 단축시켜 제품의 질을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.First, in the present invention, since the glass etching process, the cleaning process, and the drying process are all made in one bath, the glass does not need to be transported as in the related art. Therefore, the process can be simplified and the production time can be increased by more than 2 times by shortening the process time. In addition, since the cleaning process proceeds immediately after the etching process, there is an effect that the quality of the product can be improved by shortening the time that the etching liquid is on the glass.
둘째, 본 발명은 공정진행을 위해 하나의 배스만을 필요로 할 뿐만 아니라 세정액과 CDA가 동일한 배관을 통해 배스 내부로 공급되게 함으로써 장비의 소형화를 통한 제작원가절감의 효과가 있다.Second, the present invention not only requires one bath for the process progress, but also has the effect of reducing the manufacturing cost by miniaturizing the equipment by allowing the cleaning solution and the CDA to be supplied into the bath through the same pipe.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.
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