KR100801324B1 - 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물 및 그제조방법 - Google Patents

아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물 및 그제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물을 제공한다. 본 발명의 조성물은 아연 피리치온, 상기 아연 피리치온의 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물로서 유기산, 및 물을 포함한다. 본 발명의 조성물은 또한 조성물의 pH 변화를 완충할 수 있는 기능과 Zn2+이온과 효과적인 배위결합을 형성하는 가용화 안정제를 더 포함할 수 있다. 본 발명의 조성물은 수난용성 화합물인 아연 피리치온을 안정적으로 가용화한 것으로서, 본 발명의 조성물에서는 아연피리치온의 재결정화, 재응집 및 층분리 현상이 발생하지 않아 장기 보관 안정성이 우수할 뿐만 아니라 항비듬용 삼푸, 방부, 방오용 도료 또는 페인트 등의 최종 제품에 적용될 때 우수한 항균, 항곰팡이 성능을 발휘할 수 있다. 또한 본 발명은 상기 성분들을 포함하는 조성물에 과산화물을 첨가함으로써 아연 피리치온의 가용화를 달성하는, 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법을 제공한다. 이 때, 과산화물은 아연피리치온의 가용화를 촉진하는 가용화 촉진제로 작용하며 아연피리치온의 가용화 이후에는 물 또는 그 밖의 해당 물질로 분해된다.
아연 피리치온, 가용화, 착체, 유기 리간드 화합물, 가용화 촉진제, 과산화물, 가용화 안정제

Description

아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물 및 그 제조방법{Water soluble or colloidal composition of zinc pyrithione and preparation method of the same}
도 1은 본 발명의 실시예에 따라 제조한 후 6개월이 경과한 때의 아연 피리치온 콜로이드 조성물의 사진이다.
본 발명은 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 아연피리치온 및 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물에 더하여 아연 피리치온의 가용화 촉진제로서 과산화물을 첨가함으로써 아연피리치온이 안정적으로 가용화된 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하여 아연 피리치온 조성물은 특별한 장치 없이 간단하고 경제적인 방법으로 제조될 수 있을 뿐만 아니라 아연 피리치온의 재결정화 및 재응집에 의한 장기 보관 안정성의 저하라는 문제가 해결될 수 있다.
아연-2-피리딘티올-n-옥사이드(Zinc-2-pyridinethiol-n-oxide)로도 알려진 아연피리치온은 곰팡이, 세균에 대한 항균, 항곰팡이 효과가 균일하며, 조류에 대한 효과도 우수하여, 주로 비듬 방지용 샴푸 및 린스와 같은 모발제품의 기능성 첨가물로 사용되고 있다. 또한 탁월한 항균, 항곰팡이, 항미생물 특성으로 인해 플라스틱, 목재, 스테인레스, 섬유, 고무, 세라믹 등의 방부제 및 방오 도료 등 광범위한 응용범위를 갖는다.
그러나 중성인 수용액에서 아연피리치온은 2ppm(0.02g/liter/20℃) 밖에 녹지 않는 용해도가 극히 낮은 수난용성 물질로서 이와 같은 매우 낮은 용해도로 인해 샴푸등과 같이 수용성 제품에 사용될 경우 입자의 재응집 현상으로 시간이 경과할수록 입자 크기가 커져 침전이 발생하게 된다. 이러한 현상은 아연피리치온 입자들의 표면적을 줄어들게 하여 항균력을 저하시킬 뿐만 아니라, 제품의 보관 안정성이 저하되는 단점이 있다. 따라서 아연피리치온을 수용성 매체에 적용하기 위해서는 수용성 매체에 균일하고 안정하게 분산시키는 것이 매우 중요하다.
일반적인 방법으로 합성된 아연피리치온은 평균 2㎛ 이상의 크기를 갖는 판상 형태로 제조되며, 이를 분쇄 과정을 통해 2㎛ 미만의 작은 구형 입자로 제조하여 분산 상태로 제품에 응용하고 있다.
유럽특허 EP-A-007046호에서는, 유기 용매를 사용하여 아연 피리치온을 제조하는 방법을 소개하고 있는데, 이 방법으로 제조된 아연 피리치온은 매우 큰 결정을 갖게 되어, 작은 크기로 분쇄 후 사용하여야 하는 단점을 가지고 있다.
미국특허 제3,636,213호, 제3,785,985호, 제3,940,482호에서는, 아연피리치온이 물이나 용매에 대하여 난용성을 나타내는 것은 중금속인 아연을 분자 내에 함유하고 있기 때문으로, 아연과 배위공유결합을 할 수 있는 리간드(ligand)로 아민류, 예를 들어, 디에탄올아민, EDTA(Ethylenediaminetetraacetic acid)등을 용매로 사용하여 아연피리치온 수용액을 제조하였다. 하지만 이들 용액은 pH 8.5~9.0에서만 안정하여, 조성물의 pH를 중성으로 하기 위해 구연산 등의 산을 첨가하면 용해되어 있던 아연 피리치온이 다시 불용성의 침전물을 형성하여 제품 응용에 단점을 갖고 있다. 또한 리간드로 사용한 아민류 물질에 의한 강한 특이취와 피부자극유발이라는 단점이 있다.
미국특허 제5,693,803 및 5,319,000호에서는, 금속 피리치온의 재응집 및 분산액의 층분리 현상을 막기 위하여, 용액의 점도를 높게 하여 안정성을 유지하는 방법을 소개하고 있다. 그러나 이 방법으로 제조된 금속 피리치온 용액은 점도가 매우 높아서(2,000~3,000cps) 흐름성이 좋지 않으며, 공기와 접촉 시 빠른 속도로 응고되어 고분자의 첨가제와 같이 한정적인 분야에만 사용 가능한 단점이 있다.
미국특허 제6,242,007호에서는, 불용성인 아연피리치온을 입자 크기가 큰 판상형태로 제조하는 것이 아니라 계면활성제를 사용하여 침상(needle), 봉상(rod), 타원체(ellipsoid) 등의 다양한 형태로 제조하여 샴푸나 비누, 페인트 등에 적용하는 방법을 소개하고 있다. 하지만 이와 같은 방법으로 아연피리치온을 제조함에 있어 공정이 복잡한 단점을 가지고 있다.
미국특허 제6,465,015호에서는, 입자 크기가 0.1~수십㎛ 아연피리치온을 제조하여 항비듬성 샴푸에 적용하는 방법을 소개하고 있는데, 여기에서는 초음파분쇄(sonication)하는 특별히 고안된 장치를 사용하여 작은 입자의 아연피리치온을 제조하는 방법을 제공하고 있다, 하지만 이 방법은 특별한 장치를 사용하여야만 하는 단점을 가지고 있다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점들을 해결하기 위하여 안출되었다. 본 발명의 목적은 특별한 장치를 필요로 하지 않고 간단하고 경제적인 방법으로 제조될 수 있는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물을 제공하는 것이다.
또한 본 발명은 최종 제품인 항비듬성 삼푸, 린스 또는 방부, 방오용 도료 등에 사용될 때 재결정화 또는 재응집에 의한 항균 또는 항곰팡이 등의 기능 저하가 발생하지 않아 우수한 항균, 항곰팡이 등의 항미생물 기능을 가지는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물을 제공하는 것이다.
또한 본 발명은 재결정화, 재응집 또는 층분리 현상으로 인한 장기 보관 안정성 저하 및 입자 크기 변화의 문제가 발생하지 않는, 즉 우수한 장기 보관 안정성을 가지는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물을 제공하는 것이다.
또한 본 발명은 상기한 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물을 제조하는 방법을 제공한다.
본 발명의 다른 목적들 및 이점들은 아래에서 서술된 발명의 상세한 설명에 의하여 보다 분명하게 이해될 것이다.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물은 아연 피리치온, 상기 아연 피리치온의 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물로서 유기산 및 물을 포함한다. 본 발명의 조성물은 유기산 이외에 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물을 더 포함할 수 있다. 또한 조성물의 pH 변화를 완충할 수 있는 기능을 가지는 가용화 안정제를 더 포함할 수 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법은 아연 피리치온, 아연피리치온의 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물로서 유기산 및 물의 혼합물에 과산화물을 첨가하는 단계 및 상기 혼합물을 교반하여 아연 피리치온을 물에 용해 또는 콜로이드화 시켜서 과산화물이 분해된 아연피리치온 수용액 또는 수분산 콜로이드를 수득하는 단계를 포함한다.
이하에서 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명의 조성물은 수난용성 화합물인 아연 피리치온을 안정적으로 가용화한 것으로서, 본 발명의 조성물에서는 아연피리치온의 재결정화, 재응집 및 층분리 현상이 발생하지 않아 장기 보관 안정성이 우수할 뿐만 아니라 항비듬용 삼푸, 방부, 방오용 도료 또는 페인트 등의 최종 제품에 적용될 때 우수한 항균, 항곰팡이 성능을 발휘할 수 있다. 또한 최종제품의 투명도, 매끈한 표면, 우수한 사용감 등 제품의 고급화 및 고부가가치 실현에 매우 우수한 성능을 나타낸다.
이러한 기능을 달성하기 위하여 본 발명의 조성물에 첨가되는 아연 피리치온의 함량은 조성물의 구성 성분들의 조합에 따라 용해 또는 콜로이드화되고 재결정 또는 재응집이 일어나지 않는 범위에서 실험적으로 정해질 수 있는데, 통상적으로 조성물 전체 중량을 기준으로 0.1 ~ 25 중량%로 첨가되는 것이 바람직하다. 아연피리치온의 양이 너무 적은 경우에는 최종 제품에서 요구되는 항미생물 성능의 발휘가 미약하게 되고, 그 양이 너무 많은 경우에는 조성물 내의 수용 한계를 넘어 침전이 발생할 수 있다. 수용 한계의 아연피리치온의 첨가량은 조성물의 구체적 구성에 따라 실험적으로 정해질 수 있다. 대략적으로, 아연피리치온의 양이 5 중량% 이하인 경우에는 조성물은 수용액 상태로 되고, 아연피리치온의 양이 그 보다 높은 경우에는 전체적으로 첨가되는 물질의 종류 및 상태에 따라 수용액 또는 콜로이드 상태로 된다. 본 발명의 조성물에 첨가되는 아연피리치온의 상태는 분말 상태이건 수 현탁액 상태이건 무방하다.
아연피리치온이 물에 가용화되기 위해서는 아연피리치온에서 Zn2+ 이온의 해리가 이루어지고 그 상태가 유지되어야 한다. 즉, 해리된 Zn2+ 이온이 피리치온과 재결합에 의한 재결경화가 억제되어야 한다. 따라서, 본 발명의 조성물에 첨가되는 유기 리간드 화합물은 아연 피리치온의 Zn2+와 착체를 형성하여 아연피리치온을 가용화시키는 기본적 물질이다. 본 발명에서는 이러한 유기 리간드 화합물로서 유기산, 그 유도체 또는 염류를 사용한다. 이러한 유기 리간드 화합물은 아연 피리치온의 중량을 기준으로 10 ~ 200 중량%인 것이 바람직하다. 유기 리간드 화합물이 아연 피리치온에 비하여 너무 적은 경우에는 아연피리치온을 해리시키기 어려울 뿐만 아니라 해리된 아연피리치온의 재결정화를 억제하기 어렵게 된다. 유기 리간드 화합물이 너무 많은 것은 재료의 낭비를 초래하여 불필요하며 경우에 따라서는 아연피리치온의 효능 또는 최종 제품의 효능을 방해할 수 있으므로 바람직하지 않다.
이러한 유기산의 예로는 시트르산(citric acid), 옥살산(oxalic acid), 락트산(lactic acid), 살리실산(salicylic acid), 타르타르산(tartaric acid), 아세트산(acetic acid), 숙신산(succinic acid), 글루콘산(gluconic acid), 갈산(garlic acid), 말레이산(maleic acid), 스테아르산(stearic acid), 라우르산(lauric acid) 및 팔미트산(palmitic acid)을 들 수 있다.
한편, 본 발명의 조성물에는 유기산 이외의 유기 리간드 화합물이 추가로 본 발명의 조성물에 첨가될 수 있으며, 이러한 추가적 유기 리간드 화합물은 Zn2+ 이온과 착체를 형성할 수 있는 것이라면 특별히 제한되지는 않으나, 유기 계면활성제류, 폴리쿼터늄계 화합물, 셀룰로오스 계열 화합물 및 수용성 고분자류로 이루어진 그룹으로부터 최소한 하나 이상 선택되는 것이 바람직하다. 본 발명의 조성물에서 유기 리간드 화합물의 전체 함량은 상기의 범위로 정해지는 것이 바람직하다.
물에서 아연피리치온은 상기한 유기산과 같은 유기 리간드 화합물만으로는 효과적으로 가용화되기가 어렵다. 따라서, 본 발명에서는 아연피리치온의 가용화를 달성하기 위하여 과산화물이 본 발명의 조성물의 제조과정에서 첨가된다. 이러한 과산화물의 첨가는 아연피리치온의 용해과정 및 유기리간드 화합물과의 착체 형성 과정에 관여하여 반응을 효율적으로 일어나게 하는 촉매역할을 담당하나, 수용성 조성물에서의 그 작용기구 및 상태에 대해서는 추가적인 연구가 필요하다. 첨가된 과산화물은 아연피리치온의 가용화에 기여한 후, 예를 들어, 과산화수소인 경우 물로 분해되고 다른 과산화물의 경우 해당하는 물질로 분해된다. 첨가되는 과산화물의 양은 전체 수용매 중량을 기준으로 5 ~ 100 중량%이 바람직한데, 그 양이 너무 적은 경우에는 본 발명에서 목적으로 하는 기능의 발휘가 미약하고, 그 양이 너무 많은 경우에는 재료의 낭비를 초래하여 바람직하지 않다. 본 발명의 조성물에 사용될 수 있는 과산화물로는 특별히 제한되지는 않으나 과산화수소(H2O2) 또는 벤질퍼옥사이드(Benzyl peroxide)가 바람직하게 사용될 수 있고, 과산화수소가 가장 바람직하다.
한편, 본 발명의 조성물은 바람직하게, 가용화 안정제를 더 포함할 수 있다. 이러한 가용화 안정제는 아연피리치온이 유기 리간드 화합물(착체 형성제)과의 결합에 의하여 가용화된 후 아연피리치온의 재결정화 또는 응집을 방지하여 아연피리치온의 가용화 상태를 유지하는 역할에 추가적으로 기여할 수 있다. 보다 특징적으로, 가용화 안정제는 본 발명의 조성물의 pH 변화를 완충하는 완충제 기능을 가진다. 즉, 가용화 안정제의 첨가에 의하여 본 발명의 조성물은 완충용액(buffer)으로서 pH의 급격한 변화에 저항할 수 있게 된다.
가용화 안정제가 첨가되지 않은 본 발명의 조성물은 통상 대략 pH 5 ~ 7 정도의 약산성의 범위에 있으며, 그 범위에서 우수한 아연피리치온 해리 안정성을 가진다. 또한 아연피리치온은 pH 3.5 ~ 8.5의 범위에서는 대체적으로 안정한 구조를 이루지만 pH가 3.5 이하에서는 분해되며, pH가 8.5 이상에서는 아연피리치온의 아연 양이온이 해리되고 소디움피리치온으로 변화되는데, 소디움피리치온은 심각한 피부자극을 유발한다. 따라서, 본 발명의 조성물의 pH가 상기의 범위를 벗어나는 변화가 초래되면 해리된 아연피리치온의 재결정화 또는 응집 또는 아연 이온의 소디움 이온으로의 치환이 일어날 수 있다. 본 발명에서 첨가되는 가용화 안정제는 이러한 pH의 변화를 완충하는 완충제 역할을 함으로써 본 발명의 조성물의 장기 보관 안정성을 향상시키며, 삼푸, 도료 등과 같은 최종 제품에의 적용성을 향상시킨다.
이와 같이 조성물의 pH 변화를 완충하는 완충제 기능을 가지는 가용화 안정제로는 아민류, 바람직하게는, 1차 아민류, 더욱 바람직하게는 아미노산, 그 유도체 또는 아미노산계열 계면활성제가 사용될 수 있다. 이러한 가용화 안정제의 첨가량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 아연 피리치온 중량을 기준으로 30 중량% 이하가 바람직하다. 그 양이 너무 많은 경우, 양쪽성 특성을 가지는 아미노산의 경우에는 본 발명의 조성물에서는 pH 변화 완충 효과 및 해리된 아연피리치온의 재결합 방지 효과에는 긍정적일 수 있으나 첨가량에 비하여 효과 상승이 크지 않아 경제적 타당성이 떨어지고, 그 외 아민류의 경우에는 아연피리치온의 안정성을 유지할 수 있는 pH 범위를 벗어나게 되어 사용상 어려움이 따르게 되고 그 자체 특이취 또는 피부자극 유발이 발생할 수 있다.
본 발명에서 특히 바람직한 가용화 안정제로서 아미노산류는 양쪽성 특성을 가지고 있어 예를 들어, 샴푸의 제형에서 많이 사용하는 음이온 계면활성제로서, 양이온 폴리머와 응집반응이 발생하지 않으며, 모발에 부착성을 높이는 부가적인 효과를 기대할 수 있다. 또한 아미노산의 아민기는 아연 금속 이온과 배위결합을 함으로써 아연피리치온의 석출의 원인을 제공하는 시드(seed) 물질의 생성을 억제할 수 있다. 아미노산을 이용하여 제품의 pH를 약산성으로 유지시킴으로써 제품의 생산시 pH의 품질관리가 용이하며, 샴푸 등과 같은 생활용품에 투입할 때 제품의 급격한 pH 변화에 따른 아연피리치온의 석출을 방지하는 효과를 가질 수 있다.
본 발명의 조성물은 방오 또는 방부제용 첨가제로 사용되는 것으로서, 삼푸 및 린스와 같은 항비듬용 모발제품 또는 방오 또는 목재보존용 도료 또는 페인트 등에 사용되는 중간제품이다. 이러한 본 발명의 조성물은 최종 제품의 기본 용도를 위한 성분들과 함께 요구되는 점도로 최종 제품을 구성하더라도 아연피리치온의 재결정화 또는 응집이 발생하지 않아 최종 제품에서 아연피리치온의 성능을 효과적으로 달성할 수 있게 해준다.
본 발명의 아연 피리치온 조성물은 첨가 순서에 관계없이 아연피리치온 고형분 또는 수분산액, 유기산과 같은 유기 리간드 화합물, 과산화물 및 물 또는 이에 더하여 가용화 안정제를 원하는 비율로 혼합하고 교반하여 용해 또는 콜로이드화 시키는 간단한 공정으로 제조될 수 있다. 혼합물의 교반은 알려진 어떠한 방법으로 수행하여도 무방하며, 가용화시 온도는 외부에서 특별한 가열 없이도 100℃ 이하의 범위에서 자체 용해 발열에 의한 승온이 발생하므로 특별한 외부 가열은 필요 없으나 아연 피리치온의 함량이 5 중량% 이내로 낮은 경우에는 100℃ 이내의 범위에서 가온하는 것이 용해를 촉진시키는데 바람직하게 적용될 수 있다. 첨가 순서로서, 물에 아연 피리치온의 첨가 및 교반, 아연 피리치온 수성 현탁액에 유기 리간드 화합물의 첨가 및 교반, 선택적으로 가용화 안정제의 첨가 및 교반 그리고 상기 혼합물에 과산화물의 첨가 및 교반의 순서가 바람직하다. 이 때, 과산화물의 첨가 시 그 용해열에 의하여 자체 승온이 일어난다. 또한 과산화물은 아연피리치온의 가용화를 촉진시킨 후에는, 예를 들어 과산화수소인 경우에는 물로 그 외 과산화물인 경우에는 해당 물질로 분해된다. 이 때, 미반응으로 잔류하는 소량의 과산화물은 진공, 특히 저진공 상태에서 또는 질소 퍼징에 의하여 분해 및 제거할 수 있다.
상기에서 보는 바와 같이, 본 발명의 조성물은 특별한 장치의 필요 없이, 간단한 공정에 의하여 효과적으로 제조될 수 있다.
이하에서는 본 발명의 실시예를 제시한다. 이들 실시예는 본 발명의 구체적인 예를 보여주기 위한 것이므로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의하여 한정되는 것으로 이해되어서는 아니 된다.
[실시예1]
아연피리치온 수성현탁액(순도 48%, C10H8N2O2S2Zn) 50g을 100mL의 증류수에 첨가한다. 여기에 구연산나트륨(trisodium citrate) 30g을 첨가한 후 실온에서 교반하여 5분간 혼합한다. 이 혼합 용액에 과산화수소(H2O2) 100g을 반응 용액을 강하게 교반하면서 천천히 첨가한다. 1시간 이내에 반응계는 70℃ 정도까지 온도가 상승하며 투명한 아연피리치온 수용액이 얻어진다. 이렇게 제조된 아연피리치온 수용액은 상온 상압하에서 6개월 이상 안정한 형태를 유지한다. 도 1은 실시예 1의 방법을 통해 제조된 아연피리치온 콜로이드 용액의 6개월 경과후 모습으로 특별한 재결정에 의한 고상물질의 석출이나 변색, 변취가 없이 안정한 상태를 유지하고 있음을 확인 할 수 있다.
[실시예 2]
아연피리치온, 증류수, 과산화수소의 양은 실시예1과 동일하게 하고, 구연산 나트륨 20g과 EDTA-2Na(Disodiumethylenediaminetetracetate) 10g을 혼합하여 나머지 공정은 실시예 1과 동일하게 적용하여 투명한 아연피리치온 수용액을 제조하였다.
[실시예 3]
실시예 1과 동일하게 하되 다만 아연피리치온의 양을 70g으로 하여 수분산형 아연피리치온 콜로이드 용액을 제조하였다.
[실시예 4]
아연피리치온, 증류수, 과산화수소의 양 실시예 1과 동일하게 하되 구연산 나트륨 20g과 TETA(Triethylenetetraamine) 1g을 혼합하여 나머지 공정은 실시예 1과 동일하게 적용하여 투명한 아연피리치온 수용액을 제조 하였다.
[실시예 5]
아연피리치온, 증류수, 과산화수소의 양 실시예 1과 동일하게 하되 구연산 나트륨 20g과 우레아(Urea) 5g을 혼합하여 나머지 공정은 실시예 1과 동일하게 적용하여 투명한 아연피리치온 수용액을 제조 하였다.
[실시예 6]
아연피리치온, 증류수, 과산화수소의 양은 실시예 1과 동일하게 하되 구연산 나트륨 20g, 글리신(glycine) 0.5g, 시스테인(cystein) 1g과 글루타민(glutamin) 0.5g을 혼합하여 나머지 공정은 실시예 1과 동일하게 적용하여 투명한 아연피리치온 수용액을 제조하였다.
[실시예 7]
아연피리치온, 증류수, 과산화수소의 양은 실시예 1과 동일하게 하되 구연산 나트륨 20g, 발린(valine) 0.5g, 알라닌(alanine) 1.2g과 트레오닌(threonine) 0.4g을 혼합하여 나머지 공정은 실시예 1과 동일하게 적용하여 투명한 아연피리치온 수용액을 제조하였다.
[실시예 8]
아연피리치온, 증류수, 과산화수소의 양은 실시예 1과 동일하게 하되 구연산 나트륨 20g, 알라닌(alanine) 1.0g, 메티오닌(methionine) 1.0g, 페닐알라닌(phenylalanine) 0.5g을 혼합하여 나머지 공정은 실시예 1과 동일하게 적용하여 투명한 아연피리치온 수용액을 제조하였다.
[실시예 9]
아연피리치온, 증류수, 과산화수소의 양은 실시예 1과 동일하게 하고, 구연산 나트륨 20과 메틸-베타-시클로덱스트린(Methyl-beta-cyclodextrine) 2.5g을 혼합하여 나머지 공정은 실시예 1과 동일하게 적용하여 투명한 아연피리치온 수용액을 제조하였다.
본 발명은 수난용성 물질인 아연피리치온을 물에 가용화 또는 콜로이드화한 아연피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물을 제공한다. 본 발명에 따른 조성물에서 아연피리치온은 재결정화 또는 응집 없이 안정적으로 가용화되어 있고, 장기간 보관하더라도 재결정화 및 응집에 의한 침전이 발생하지 않는다. 또한 본 발명의 조성물은 최종 제품(삼푸, 도료 등)에 적용될 때 아연피리치온의 가용 상태를 유지하므로 최종 제품에서 아연피리치온의 효능이 효과적으로 달성될 수 있게 해준다. 또한 본 발명은 특별한 장치의 필요 없이 과산화물을 첨가하는 간단한 공정에 의하여 경제적으로 아연피리치온의 가용화를 달성할 수 있는 아연피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법을 제공한다.

Claims (18)

  1. 삭제
  2. 조성물 전체 중량 기준으로 아연 피리치온 0.1 ~ 25 중량%, 상기 아연 피리치온의 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물로서 시트르산(citric acid), 옥살산(oxalic acid), 락트산(lactic acid), 살리실산(salicylic acid), 타르타르산(tartaric acid), 아세트산(acetic acid), 숙신산(succinic acid), 글루콘산(gluconic acid), 갈산(garlic acid), 말레이산(maleic acid), 스테아르산(stearic acid), 라우르산(lauric acid) 및 팔미트산(palmitic acid)으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것, 그 유도체 또는 염류는 상기 아연 피리치온 중량 기준으로 10 ~ 200 중량% 그리고 나머지 물을 포함하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 유기산, 그 유도체 또는 염류 이외의 유기 리간드 화합물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 유기산 이외의 유기 리간드 화합물은 유기 계면활성제류, 폴리쿼터늄계 화합물, 셀룰로오스 계열 화합물 및 수용성 고분자류로 이루어진 그룹으로부터 최소한 하나 이상 선택되는 것임을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 조성물의 pH의 변화를 완충할 수 있고 아연이온과 추가적인 배위결합 능력을 가지는 가용화 안정제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 가용화 안정제는 1차 아민류인 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 1차 아민류는 아미노산, 그 유도체 또는 아미노산계열 계면활성제인 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물.
  8. 삭제
  9. 제2항에서 제7항까지의 항들 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물은 방오, 방부제용 첨가제로 사용되거나 항비듬용 모발제품 또는 방오, 목재보존용 도료 또는 페인트에 첨가되는 용도로 사용되는 것임을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물.
  10. 아연 피리치온, 아연피리치온의 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물로서 유기산 및 물의 혼합물에 과산화물을 첨가하는 단계 및 상기 혼합물을 교반하여 아연 피리치온을 물에 용해 또는 콜로이드화시켜서 과산화물이 분해된 아연피리치온 수용액 또는 수분산 콜로이드를 수득하는 단계를 포함하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서,
    최종 형성 조성물 전체 중량 기준으로 상기 아연 피리치온의 첨가량은 0.1 ~ 25 중량%이고, 상기 아연 피리치온의 Zn2+와 착체를 형성할 수 있는 유기 리간드 화합물로서 유기산, 그 유도체 또는 염류의 첨가량은 상기 아연 피리치온 중량 기준으로 10 ~ 200 중량%이며, 상기 아연 피리치온의 가용화를 촉진하는 가용화 촉진제로 작용하는 과산화물의 첨가량은 전체 수 용매 중량 기준으로 5 ~ 100 중량%이며, 나머지 는 물인 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 첨가 순서로서, 물에 상기 아연 피리치온을 첨가하고 교반하는 단계, 상기 아연 피리치온 수성 현탁액에 상기 유기산을 첨가하고 교반하는 단계, 및 상기 혼합물에 상기 과산화물을 첨가하고 교반하는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  13. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 유기산은 시트르산(citric acid), 옥살산(oxalic acid), 락트산(lactic acid), 살리실산(salicylic acid), 타르타르산(tartaric acid), 아세트산(acetic acid), 숙신산(succinic acid), 글루콘산(gluconic acid), 갈산(garlic acid), 말레이산(maleic acid), 스테아르산(stearic acid), 라우르산(lauric acid) 및 팔미트산(palmitic acid)으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 것임을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  14. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 유기산 이외의 유기 리간드 화합물로서 유기 계면활성제류, 폴리쿼터늄계 화합물, 셀룰로오스 계열 화합물 및 수용성 고분자류로 이루어진 그룹으로부터 최소한 하나 이상 선택되는 유기 리간드 화합물을 추가로 첨가하는 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  15. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 과산화물은 과산화수소(H2O2) 또는 벤질퍼옥사이드(Benzyl peroxide)인 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  16. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 조성물의 pH의 변화를 완충할 수 있고 아연이온과 추가적인 배위결합 능력을 가지는 기능을 가지는 가용화 안정제를 상기 유기 리간드 화합물과 함께 또는 순차적으로 더 첨가하는 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 가용화 안정제는 아미노산, 그 유도체 또는 아미노산계열 계면활성제인 것을 특징으로 하는 아연 피리치온 수용성 또는 수분산 콜로이드 조성물의 제조방법.
  18. 삭제
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017216722A3 (en) * 2016-06-13 2018-03-01 Vyome Biosciences Pvt. Ltd. Synergistic antifungal compositions and methods thereof
CN109689034A (zh) * 2016-06-13 2019-04-26 维奥梅治疗有限公司 协同抗真菌组合物及其方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3013433B1 (en) 2013-06-27 2019-04-17 The Procter and Gamble Company Preserving personal care compositions
KR20160057906A (ko) * 2014-11-14 2016-05-24 코오롱생명과학 주식회사 아연 피리치온을 포함하는 항균성 수분산 조성물
CN110582262B (zh) 2017-04-26 2023-06-23 联合利华知识产权控股有限公司 包含吡啶硫酮的抗头皮屑毛发护理组合物
KR102367150B1 (ko) * 2021-02-26 2022-02-25 엔트리움 주식회사 항균 항바이러스 코팅제 및 이의 제조방법
WO2023160700A1 (en) * 2022-02-28 2023-08-31 The Chinese University Of Hong Kong Colloidal mof for arteriosclerosis treatment

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5556628A (en) 1992-08-05 1996-09-17 Rhone-Poulenc Chimie Free-flowing pseudoplastic cosmetic compositions/suspensions
KR20020009096A (ko) * 2000-07-24 2002-02-01 구광시 안정한 아연 피리치온 분산액의 조성물
KR100335719B1 (ko) 1997-04-09 2002-06-20 서경배 아연피리치온현탁액의제조방법및이를이용한모발조성물
US6525117B1 (en) 2000-06-08 2003-02-25 Akzo Nobel N.V. Stabilized zinc pyrithione for vinyl chloride polymers
KR100508829B1 (ko) 2000-08-07 2005-08-18 주식회사 코오롱 안정한 아연 피리치온 수용액

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5556628A (en) 1992-08-05 1996-09-17 Rhone-Poulenc Chimie Free-flowing pseudoplastic cosmetic compositions/suspensions
KR100335719B1 (ko) 1997-04-09 2002-06-20 서경배 아연피리치온현탁액의제조방법및이를이용한모발조성물
US6525117B1 (en) 2000-06-08 2003-02-25 Akzo Nobel N.V. Stabilized zinc pyrithione for vinyl chloride polymers
KR20020009096A (ko) * 2000-07-24 2002-02-01 구광시 안정한 아연 피리치온 분산액의 조성물
KR100508829B1 (ko) 2000-08-07 2005-08-18 주식회사 코오롱 안정한 아연 피리치온 수용액

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017216722A3 (en) * 2016-06-13 2018-03-01 Vyome Biosciences Pvt. Ltd. Synergistic antifungal compositions and methods thereof
CN109689034A (zh) * 2016-06-13 2019-04-26 维奥梅治疗有限公司 协同抗真菌组合物及其方法

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