KR100796750B1 - 습식 설비 - Google Patents

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Abstract

액정 표시 장치, 전계 방출 소자 등의 평판 표시 소자의 제조 공정을 자동으로 수행하는 인라인 설비에서 반송 장치에 의하여 이송된 기판에 약액 및 수세 처리를 진행하는 습식 챔버에 있어서, 챔버 내에 설치되어 있으며 약액 또는 초순수 등의 유체를 산포하는 분사 노즐을 가지는 노즐 파이프 모듈이 상,하로 움직일 수 있는 플립 업 구조로 형성되어 있다. 이러한 플립 업 구조의 노즐 파이프 모듈이 설치된 습식 설비에서 기판의 반송 도중 발생되는 오류 기판을 쉽게 취출하여 제거할 수 있다.
노즐파이프모듈, 플립업구조, 인라인, 분사노즐

Description

습식 설비{wet equipment}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 습식 설비의 평면도이고,
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ' 선에 따른 습식 설비의 단면도이다.
본 발명은 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display: LCD), 전계 방출 소자(Field Emission Display) 등의 평판 표시 소자의 제조 공정을 자동으로 수행하는 인라인 설비에서 기판에 약액 및 수세 처리 공정을 하는 습식 설비에 관한 것이다.
일반적으로 액정 표시 장치의 제조 공정에서는 생산성을 증대시키기 위해 대부분의 공정을 자동화하고 있다. 이에 따라, 특정 설비에서 공정을 진행하고자 하는 경우에는 작업이 수행될 작업 대상물이 보관되어 있는 카세트를 특정 설비로 이송하여 설비에 로딩하고, 뒤이어 필요한 작업을 자동으로 진행한다. 이러한 특정 공정을 수행하는 설비는 박막(thin film)증착, 사진(photolithography), 식각(etching), 세정(cleaning) 등의 다수의 단위 공정으로 이루어지며, 각각의 단위 공정은 순차적으로 연결되어 해당 작업을 순차적으로 수행하여 해당 공정을 완 료한다.
이러한 특정 설비에서 진행하는 단위 공정들 중 세정, 식각, 사진 공정 등의 단위 공정은 습식 설비에서 진행되며, 습식 설비는 약액 및 수세 처리를 위해 기판이 반송되는 과정에서 노즐 파이프 모듈의 분사노즐로부터 약액 또는 고압의 순수(water) 등의 유체를 분사한다.
이때, 습식 설비 내에 기판이 반송되는 과정에서 기판에 오류가 발생하거나 선행 기판 위에 후행 기판이 겹치는 등의 반송 오류가 발생하면 오류가 난 기판을 취출하여 제거하여야 한다.
그러나, 종래의 습식 설비에서는 노즐 파이프 모듈이 고정되어 있어오류난 기판을 취출할 때 노즐 파이프 모듈이 방해물로 작용하여 기판 취출에 어려움을 겪는다. 이러한 문제점으로 인하여 작업이 지연되어 설비 이용 효율 및 작업 진행 효율 등이 떨어지게 된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 액정 표시 장치, 전계 방출 소자 등의 평판 표시 소자를 제조하는 인라인 설비에서 약액 및 수세 처리 등의 공정을 하는 습식 설비에서 발생되는 작업 지연을 감소시키기 위한 것이다.
이러한 문제를 해결하기 위하여 습식 설비에서 노즐 파이프 모듈을 상, 하로 움직일 수 있는 플립- 업(flip - up) 구조로 하여 오류난 기판의 취출 및 제거를 용이하게 한다.
본 발명에 따르면, 액정 표시 장치, 전계 방출 소자 등의 평판 표시 소자의 제조 공정을 자동으로 수행하는 인라인 설비에서 반송 장치에 의하여 운송된 작업 대상 기판에 약액 및 수세 처리를 진행하는 습식 챔버는 챔버 내에 설치되어 있으며 약액 또는 초순수 등의 유체를 산포하는 분사 노즐을 가지는 노즐 파이프 모듈이 상,하로 움직일 수 있는 플립 업 구조로 형성되어 있다.
여기서, 노즐 파이프 모듈은 한쪽 끝부분이 챔버 내에 형성되어 있는 회전축에 고정되어 있고, 다른쪽 끝 부분은 챔버 내에 형성되어 있는 받침 돌기에 의하여 지지되어 있음으로써 플립 업이 가능하다.
그러면, 도 1 및 도 2를 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 습식 설비에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 습식 설비의 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ - Ⅱ' 선에 대한 단면도이다.
도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 습식 설비는 챔버(10), 반송기구(14), 노즐 파이프 모듈(16), 분사노즐(18) 등으로 이루어져 있다.
반송기구(14)는 작업이 수행될 작업 대상물인 기판(12)을 습식 설비의 챔버(10) 내로 이송하여 설비에 로딩하고 작업이 끝난 기판(12)을 챔버(10) 밖으로 배출한다. 노즐 파이프 모듈(16)은 챔버(10) 내에서 이송되고 있는 기판(12) 위에 분사노즐(18)을 통하여 약액 또는 초순수 등의 유체를 분사한다. 이때, 노즐 파이 프 모듈(16)은 한쪽 끝부분은 챔버(10) 내부에 형성되어 있는 회전축(20)에 의하여 고정되어 있고, 다른 쪽 끝부분은 챔버(10) 내부에 형성되어 있는 받침돌기(11) 위에 걸쳐져서 지지되어 있다.
이러한 구조의 습식설비에서는 기판(12)이 이송되는 과정에서 서로 겹쳐지는 등의 오류가 발생하면, 노즐 파이프 모듈(16)의 받침돌기(11)에 걸쳐져 있는 쪽을 들어 올려놓고(점선으로 표시된 상태) 오류가 발생한 기판(12)을 취출할 수 있다. 따라서 노즐 파이프 모듈(16)의 방해를 받지 않고 용이하게 오류가 발생한 기판(12)을 제거할 수 있다. 즉, 노즐 파이프 모듈(16)을 플립-업(flip-up) 구조로 형성하여 기판(12)의 취출을 용이하게 한다.
그러면, 이러한 습식 설비의 작동 원리에 대해 설명한다.
먼저, 반송장치(14)가 작업이 수행될 대상물인 기판(12)을 습식 설비의 챔버(10) 내로 이송하여 작업 스테이션 상에 로딩한다. 이어, 노즐 파이프 모듈(14)의 분사노즐(18)로부터 유액 또는 고압의 순수(water) 등의 유체를 기판(12) 위에 분사한다. 기판(12)에 유체를 분사하는 공정은 약액 또는 수세 처리 공정을 하는 세정, 사진, 식각, 박리 등의 여러 단위 공정에서 사용된다. 만약, 기판(12)의 반송 도중 오류가 발생하면 플립-업 구조로 이루어진 노즐 파이프 모듈(16)을 위로 움직여 그 부분의 오류 기판을 취출하여 제거한다. 단위 작업이 끝난 기판(12)은 반송 장치(14)가 다른 특정 공정을 수행하는 설비로 이송한다.
이와 같이, 액정 표시 장치, 전계 방출 소자 등의 평판 표시 소자를 제조하 는 인라인 설비에서 약액 및 수세 처리 등의 공정을 하는 습식 설비에서 노즐 파이프 모듈을 상,하로 움직일 수 있는 플립-업 구조로 함으로써 기판의 반송 과정에서 발생하는 오류 기판의 취출 및 제거를 용이하게 할 수 있다. 따라서, 작업 지연이 감소되어 설비 이용 효율 및 작업 진행 속도을 높일 수 있다.

Claims (2)

  1. 습식 챔버,
    상기 습식 챔버 내에 설치되어 있으며 약액 또는 초순수 등의 유체를 산포하며 매트릭스 형태로 배열된 복수의 분사 노즐을 가지는 노즐 파이프 모듈,
    상기 습식 챔버 내로 상기 작업 대상 기판을 이송하는 반송장치를 포함하고,
    상기 노즐 파이프 모듈은 상,하로 움직일 수 있는 플립 업 구조로 상기 노즐 파이프 모듈의 한쪽 끝부분이 상기 챔버 내에 형성되어 있는 회전축에 고정되어 있고, 다른 쪽 끝 부분은 상기 챔버 내에 형성되어 있는 받침 돌기에 의해 지지되는 습식 설비.
  2. 삭제
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