KR100787261B1 - 버퍼층이 없는 웨이퍼로부터 완화된 유용층을 형성하는방법 - Google Patents

버퍼층이 없는 웨이퍼로부터 완화된 유용층을 형성하는방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 웨이퍼(10)로부터 유용층(6)을 형성하는 공정에 관한 것이다. 상기 웨이퍼(10)는 각각 결정성 재료로부터 선택되는 지지 기판(10) 및 변형층(2)을 포함한다. 상기 공정은 (a) 규정된 깊이에서 구조적 섭동(perturbation)을 형성할 수 있는 섭동 영역(3)을 지지 기판(1)내에 형성하는 단계; (b) 에너지를 공급하여, 변형층(2)내에 적어도 탄력성 있는 변형의 상대적 완화를 야기시키는 단계; (c) 완화된 변형층(2')에 대하여 반대편 측면상에 웨이퍼(10)의 일부분을 제거하여, 유용층(6)이 웨이퍼(10)의 잔존하는 부분으로 되는 단계를 포함하한다.
웨이퍼, 유용층

Description

버퍼층이 없는 웨이퍼로부터 완화된 유용층을 형성하는 방법{FORMATION OF A RELAXED USEFUL LAYER FROM A WAFER WITH NO BUFFER LAYER}
본 발명은 웨이퍼로부터의 유용층의 형성 방법에 관한 것으로서, 상기 웨이퍼는 마이크로전자공학, 광학 또는 광전자공학에서의 용도를 위한 결정성 물질로부터 각각 선택된 변형층 및 기판을 포함한다.
본 명세서에 있어서, 층은 이를 구성하는 결정성 물질이 이것의 공칭 격자 파라미터와 동일한 격자 파라미터를 갖는 경우 "완화된(relaxed)"이라고 하는데, 여기서 공칭 격자 파라미터는 균형 상태의 벌크형 물질의 격자 파라미터를 말한다.
반대로, "변형된(strained)" 층은 에피택셜(epitaxial) 성장과 같은 결정 성장 중 장력 또는 압축에 의하여 결정 구조가 탄성적으로 변형하는 결정성 물질로서 이것의 격자 파라미터가 이 물질의 공칭 격자 파라미터와 상이할 것이 요구되는 물질의 임의의 층을 말한다.
동일한 웨이퍼 내에, 각각 상이한 공칭 격자 파라미터를 갖는 제2 결정성 물질의 기판 상에 제1 결정성 물질층을, 적어도 부분적으로 완화된 결정 구조를 유지하면서 및/또는 과도한 수의 결정학적 결함없이, 형성하는 것이 종종 유용하거나 바람직하다.
이 목적을 위하여, 상기 기판과 상기 형성층 사이에 버퍼층을 삽입하는 것이 알려져 있다.
이 구성에 있어서, "버퍼층"은 상기 형성층의 격자 파라미터를 상기 기판의 것과 합치(match)시키는 전이층을 의미하는 것으로 이해된다.
이 목적을 위하여, 상기 버퍼층은 두께에 걸쳐 점진적으로 변화하는 조성을 가질 수 있는데, 버퍼층의 성분의 점진적인 변화는 기판과 형성층의 각각의 격자 파라미터 사이에서의 버퍼층의 격자 파라미터의 점진적인 변화와 직접적으로 관련된다.
이것은 또한 다양한 성분의 조성 변화, 성분의 표시에서의 전도(inversion) 또는 조성에서의 불연속인 단계적 변화와 같은 보다 복잡한 형태를 가질 수 있다.
상기 다양한 조성의 형성은 장기간이 소요되고, 종종 실행하기 복잡하다.
또한, 결정학적 결함의 밀도를 최소화하기 위하여, 버퍼층의 두께는 보통 두껍고, 통상 1 내지 수 마이크론이다.
따라서, 상기 버퍼층의 제조는 종종 장기간 소요되고, 어려우며 고가의 공정을 포함한다.
더 적은 공정이 요구되는 것과 유사한 결과를 부여하는 형성층 내에 탄성 변형을 완화시키는 또 하나의 기술은 B. Hollander 등에 의한 문헌 "Strain relaxation of pseudomorphic Si1-xGex/Si(100) heterostructures after hydrogen or helium ion implantation for virtual substrate fabrication"(in Nuclear and Instruments and Methods in Physics Research B 175-177 (2001) 357-367)에 의하여 제공된다.
전술한 공정은 압축시 변형된 SiGe층의 완화에 관한 것이며, 이 층은 Si 기판 상에 형성된다.
이용된 기술은 상기 변형층의 표면을 통하여 수소 또는 헬륨 이온을 Si 기판으로 소정의 두께로 주입하는 것을 포함한다.
이온 주입에 의하여 형성되고 주입 영역과 SiGe 층 사이에 존재하는 Si 기판층에 위치하는 결정성 섭동(perturbation)은 열처리하에서 SiGe 층의 특정 완화를 유발한다.
따라서, 이 기술은 기판으로의 간단한 원자 또는 분자 주입에 의하여 중간 버퍼층 내에 완화된 또는 가완화된(pseudo-relaxed) 형성층의 제조를 가능하게 한다.
그러므로, 이 기술은 버퍼층 형성을 포함하는 기술에 비하여 시간이 덜 소요되고 실행하기 더 쉬우며, 덜 고가인 것으로 보인다.
상기 완화된 또는 가완화된 층을, 성분들의 제작을 위한, 특히 전자공학 또는 광전자공학을 위한 구조로 연속적으로 일체화하기 위하여 상기 기술을 사용하는 것이 흥미로울 수 있다.
본 발명의 목적은, 제1 양상에 따르면, 마이크로전자공학, 광학 또는 광전자공학에서 적용하기 위한 결정성 물질로부터 각각 선택된 변형층 및 지지 기판을 포함하는 웨이퍼로부터 유용층을 형성하기 위한 것으로서 하기 (a) 내지 (c) 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정을 제공함으로써, 이 층의 일체화를 수행하는 것을 성공하는 것이다:
(a) 지지 기판 내에 구조적 섭동을 형성할 수 있는 소정의 깊이에서 섭동 영역을 형성하는 단계;
(b) 변형층 내에 탄성 변형의 적어도 상대적인 완화를 유발하기 위하여 에너지를 공급하는 단계;
(c) 완화된 변형층의 반대면 상에서 웨이퍼의 일부를 제거하는 단계로서, 유용층은 상기 웨이퍼의 잔존부인 것인 단계.
본 발명에 따른 재활용 공정의 바람직한 또 하나의 양상은 청구범위 제2항 내지 제34항에 주어진 것들이다.
제2 양상에 따르면, 본 발명의 대상은 청구범위 제35항의 제거 공정의 적용이다.
제3 양상에 따르면, 본 발명의 대상은 청구범위 제36항 내지 제39항에 주어진 분리에 의하여 박층을 부여하는 소스 웨이퍼들 및 구조이다.
본 발명의 추가의 특징, 목적 및 이점은 이하의 도면을 참조하여 상세한 설명을 읽음으로써 더욱 명확해질 것이다:
도 1은 본 발명에 따른 공정의 다양한 단계를 나타낸다.
도 2는 유용층이 분리될 본 발명에 따른 웨이퍼를 나타낸다.
도 3은 유용층이 분리될 본 발명에 따른 또 하나의 웨이퍼를 나타낸다.
본 발명은,
- 소스 웨이퍼로서, 여기서 유용층이
- 지지 기판, 및
- 지지 기판 상의 변형층
을 포함하는 것인 소스 웨이퍼, 및
- 유용층의 형성을 위한 지지체를 형성하는 수용 기판을 포함한다.
본 명세서에 있어서, 일반적으로, "유용층"은 수용 기판상에 형성된 소스 웨이퍼의 일부를 말한다.
본 발명의 기본적인 목적은 소스 웨이퍼로부터 수용 기판 상에 완화된 또는 가완화된 유용층을 형성하는 것으로 이루어지며, 유용층은 소스 웨이퍼의 변형층에 적어도 부분적으로 포함된다.
변형층은 버퍼층 없이 이전에 완화되거나 가완화된 것이다.
도 1a에 도시한 것이 본 발명에 따른 소스 웨이퍼(10)이다.
웨이퍼(10)는 지지 기판(1) 및 변형층(2)으로 이루어진다.
지지 기판(1)의 제1 구성에 있어서, 후자는 변형층(2)와 경계면을 갖고 변형층(2)과의 경계면에서 제1 격자 파라미터를 갖는, 반도체 물질과 같은, 결정성 물질로 이루어진 상부층(도 1에 도시하지 않음)을 포함하는 가기판(pseudo-substrate)이다.
상기 상부층의 제1 격자 파라미터는 바람직하게는 그것을 구성하는 물질의 공칭 격자 파라리터이어서, 상기 물질은 완화된 상태이다.
또한, 상기 상부층은 충분히 두꺼운 두께를 가지므로 지지 기판(1)의 상부층의 결정 구조에 실질적인 영향을 갖는 후자 없이, 위에 있는 변형층(2) 상에 그것의 격자 파라미터를 부여할 수 있다.
지지 기판(1)의 제2 구성에 있어서, 후자는 단지 제1 격자 파라미터를 갖는 결정성 물질로 이루어진다.
또 하나의 바람직한 구성에 있어서, 지지 기판(1)은 단일-결정 기판이다.
지지 기판(1)에 대하여 어떠한 구성이 선택되든, 후자는 바람직하게는 전위(dislocation)와 같은 구조 결함을 낮은 밀도로 갖는 결정 구조를 갖는다.
변형층(2)의 제1 구성에 있어서, 후자는 단지 반도체 물질과 같은 결정성 물질의 단일 층으로 이루어진다.
이 변형층(2)을 형성하기 위하여 선택된 물질은 제1 격자 파라미터와 상이한 제2 공칭 격자 파라미터를 갖는다.
이어서, 형성된 상기 변형층(2)은 지지 기판(1)에 의한 압축 또는 장력에 의하여 탄성적으로 변형되는데, 이는 이것을 구성하는 물질의 공칭 격자 파라미터와 상이한 격자 파라미터를 가져서 제1 격자 파라미터와 근접한 격자 파라미터를 갖도록 강제된다는 것을 말한다.
바람직하게는, 상기 변형층(2)를 형성하기 위하여 선택된 물질은 제1 격자 파라미터보다 더 큰 제2 공칭 격자 파라미터를 가져서 압축시 변형된다.
또한, 상기 변형층(2)은 바람직하게는 원자 원소들의 일정한 조성을 갖는다.
변형층(2)의 제2 구성에 있어서, 후자는 여러 두께를 갖는 물질들의 층으로 이루어지며, 각 층은 반도체 물질과 같은 결정성 물질로 이루어진다.
또한, 변형층(2)의 물질의 각 층은 바람직하게는 원자 원소들의 일정한 조성을 갖는다.
지지 기판(1)과의 경계면에 직접 인접한 변형층(2)의 물질의 층은 제1 구성에 따른 변형층(2)의 것과 동일한 물성을 갖는다.
변형층(2) 내에 얇은 두께의 완화된 물질을 갖는 것의 이점은 이하의 것들 중 적어도 하나일 것이다:
- 이는 수용 기판 상에 형성되는 유용층의 적어도 일부분을 구성하여 특정한 물질 물성을 달성한다;
- 이는 에칭 용액에 의하여 수행되는 선택적인 화학적 에칭과 같은 선택적인 물질 제거 수단에 의하여 수행되는 물질의 선택적인 제거 도중 정지층(stop layer)을 구성하여, 특히 제거 물질로부터 인접층을 보호한다;
- 이는 인접층 보다 선택적인 에칭과 같은 선택적인 물질 제거 수단에 의하여 수행되는 물질의 제거를 더 많이 할 가능성을 가지며, 후자는 선택적인 물질 제거 도중 정지층을 나타내어 물질 제거로부터 보호된다.
완화된 물질의 층은 또한 다수의 이들 기능을 결합할 수 있고 다른 기능을 가질 수 있다.
모든 경우에 있어서, 변형층(2)은 변형되는 물질로 제조된 일반적인 구조를 갖지만, 그것은 또한 변형층(2)의 것 보다 훨씬 적은 누적 두께를 갖는 완화된 물질의 1 이상의 층을 포함할 수 있어, 후자는 전체의 변형된 상태를 유지한다.
변형층(2)으로 선택된 구성이 무엇이든, 후자는 바람직하게는 예컨대 CVD(화학적 증착) 및 MBE(분자 빔 에피택시) 기술과 같은 공지기술을 이용하여 에피택셜 성장과 같은 결정 성장에 의하여 지지 기판(1) 상에 형성된다.
예컨대 포인트 결함(point defect) 또는 전위와 같은 확장된 결함(extended defect)과 같은 과도한 수의 결정학적 결함이 없이 상기 변형층(2)을 얻기 위하여, 지지 기판(1) 및 변형층(2)(지지 기판(1)과의 경계면 부근)을 구성하는 결정성 물질을, 이들의 제1 및 제2 각각의 공칭 격자 파라미터 사이에 충분히 작은 차이가 있도록, 선택하는 것이 바람직하다.
예컨대, 상기 격자 파라미터의 차이는 통상 약 0.5% 내지 약 1.5%이나, 더 높은 값을 가질 수도 있다.
예컨대, IV-IV 물질에 있어서, Ge는 Si의 것보다 약 4.2% 큰 공칭 격자 파라미터를 가지므로, 30%의 Ge를 함유하는 SiGe는 Si의 것보다 약 1.15% 큰 공칭 격자 파라미터를 갖는다.
또한, 변형층(2)이 대략 일정한 두께를 가져서, 일정한 고유 특성을 갖고 및/또는 향후에 수용 기판(5)에의 결합을 수행할 수 있는 것이 바람직하다(도 1c에 도시함).
변형층(2)이 완화되거나 플라스틱 타입의 내부 응력(stress)이 나타나지 않 도록 하기 위하여, 상기 변형층의 두께는 또한 임계적 탄성 변형 두께 미만으로 유지되어야 한다.
상기 임계적 탄성 변형 두께는 기본적으로 변형층(2)을 위하여 선택된 물질 및 지지 기판(1)과의 격자 파라미터에서의 전술한 차이에 의존한다.
당 기술분야의 숙련자는 그가 지지 기판(1)을 위하여 사용되는 물질 상에 형성되는 변형층(2)을 위하여 사용할 물질의 임계적 탄성 변형 두께의 값을 알기 위하여 기술을 조사할 것이다.
따라서, 일단 변형층이 형성되면, 변형층(2)은 그것의 성장 기판(1)의 것과 유사한 격자 파라미터를 갖고, 이에 의하여 압축 또는 장력에 의하여 내부의 탄성 변형을 갖는다.
도 1b와 관련하여, 일단 변형층(2)를 포함하는 웨이퍼(10)가 제조되면, 섭동 영역(3)이 상기 지지 기판(1)에 소정의 깊이로 형성되고, 전이층(4)은 섭동 영역(3)과 상기 변형층(2)에 의하여 반동된다.
섭동영역(3)은 주변부에서 구조적인 섭동을 형성할 수 있는 내부 변형을 갖는 영역으로 정의된다.
상기 섭동영역(3)은 바람직하게는 실제로 지지 기판(1)의 전체 표면에 걸쳐 형성된다.
상기 섭동영역(3)은 바람직하게는 지지 기판(1)의 표면과 평행하게 전체에 걸쳐 형성된다.
상기 섭동영역(3)을 형성하기 위한 하나의 공정은, 소정의 주입 에너지 및 소정량의 원자 종을 가지고, 지지 기판(1) 내에 전술한 소정의 깊이로 원자 종을 주입하는 것을 포함한다.
상기 주입을 수행하는 하나의 특정 방법에 있어서, 주입된 원자 종은 수소 및/또는 헬륨을 포함한다.
따라서, 주입에 의하여 형성된 상기 섭동영역(3)은 섭동영역(3)에 인접한 결정 격자상에서 주입된 원자 종에 의하여 이루어진 내부 변형 또는 심지어 결정학적 결함을 갖는다.
따라서, 이들 내부 변형은 웨이퍼(10)의 위에 있는 부분에서 결정학적 섭동을 형성할 수 있다.
특히 이 목적을 위하여, 이하의 적절한 그리고 적당하게 파라미터화된 처리를 수행하는 것이 바람직하다:
·전이층(4) 내의 섭동의 출현을 조성하는 것;
·전이층(4) 내에서 섭동 영역(3)으로부터 변형층(2)과의 경계면으로 전술한 섭동의 변위(displacement)를 유발하는 것; 및
·상기 섭동의 출현 및 변위 후에 변형층(2)의 적어도 상대적인 완화를 유발하는 것.
따라서, 상기 처리의 주요한 목적은 변형층(2)내에 변형의 적어도 상대적인 완화를 유발하여 완화된 변형층(2')을 형성하는 것이다.
그러므로, 바람직하게는 열처리를 수행하여, 적당하게 파라미터화되는 경우, 충분한 에너지를 공급하여 전술한 구조적 변형을 유발한다.
이 후자의 열처리는 특히 임계적 온도 이하, 상당수의 이식된 원자 종이 탈가스화되는 온도 이상에서의 온도 또는 다수의 온도에서 수행되어야 한다.
따라서, 국부적인 결정학적 섭동은 섭동 영역(3) 내의 내부 변형으로부터 형성된다.
기본적으로 변형층(2) 내에서 탄성 에너지를 최소화하는 이유 때문에, 이들 섭동은, 특정 결정학적 평면에 의하여 한정된 경로를 따라 전이층(4)과 변형층(2) 사이의 경계면을 향하여 변위되기 위하여, 전이층(4)에서 나타난다.
전이층(4)과 변형층(2) 사이의 경계면에 도착시, 이어서 이들 섭동은 변형층(2)에서 탄성 변형의 적어도 상대적인 완화를 유발하며, 이들 완화된 변형은 주로 변형층(2)의 물질과 지지 기판(1)의 물질의 각각의 공칭 격자 파라미터 사이에 격자 불합치(mismatch) 변형이다.
전술한 변형층(2) 내에서의 탄성 변형의 완화는 대부분 변형층(2) 주변에서 결정성 섭동의 출현에 의하여 수행되고, 이들은 예컨대 자유 표면(free surface)에서의 원자 단계의, 그리고 경계면에서의 파라미터 차이 변형을 갖는 전위 형태일 수 있다.
그러나, 변형층(2)의 완화는 또한 가로지르는 전위(traversing dislocation)와 같은 상기 층의 두께에서의 비탄성형 결정 결함의 출현에 의하여 수행될 수도 있다.
이어서, 적절한 처리는 이들 결함의 수를 감소시키기 위하여 수행될 수 있 다.
예컨대, 적절한 처리는 전위의 밀도가 2개의 제한 값 사이에서 증가되도록 수행될 수 있으며, 여기서 2개의 제한값은 적어도 일부의 전위가 소멸되는 전위 밀도 범위를 한정한다.
이 목적을 위하여, 바람직하게는 전술한 전이층(4)내에서 섭동을 형성하기 위하여 사용된 것과 같이 사용된 물질에 맞도록 열처리가 수행될 수 있다.
모든 경우에 있어서, 결과적으로 얻어지는 것은 완화된 또는 가완화된층(2')이며, 이들의 공칭 격자 파라미터는 중간 버퍼층 없이 성장 기판(1)의 공칭 격자 파라미터와 상이하다.
그러나, 탄성적으로 변형되는 물질의 1 이상의 층은 완화된 변형층(2')에서 발견될 수 있다.
이들 물질 층은 변형층(2)의 나머지와 상이한 격자 파라미터를 갖는, 이 층의 탄성 완화 이전에 변형층(2) 내에 포함되었다.
상기 물질의 층은 예컨대 변형층(2)의 제2 구성의 기재에 있어서 전술한 바와 같이 본래대로 완화되었다.
변형층(2)의 전체적인 완화 도중, 이들 물질의 층은 주변 물질의 완화에 의하여 이루어진 탄성 변형을 겪게 되고 따라서 변형된다.
그러나, 이들 물질의 층은 변형층(2)의 것보다 훨씬 적은 누적 두께를 가져야만 하며, 따라서 후자는 탄성 완화 단계 이후에 전체 완화된 또는 가완화된 상태를 유지한다.
도 1c와 관련하여, 수용 기판(5)은 완화된 변형층(2')과의 측면 상의 웨이퍼(10) 표면 상에 배치된다.
수용 기판(5)은 형성된 유용층을 지지하고 외부로부터 오는 가능한 기계적 스트레스로부터 그것을 보호하기에 충분히 강한 기계적 지지체를 구성한다.
이 수용 기판(5)은 예컨대 실리콘 또는 석영 또는 다른 종류의 물질로 제조될 수 있다.
수용 기판(5)은 그것을 웨이퍼(10)와 밀접하게 접촉시키고 결합 작업을 수행함으로써 부착될 수 있으며, 여기서 바람직하게는 수용 기판(5)과 웨이퍼(10) 사이에 웨이퍼 결합(분자 접착)이 있다.
이 결합 기술은 대안과 함께 예컨대 Q.Y. Tong 및 U. Gosele 및 Wiley에 의한 문헌 "Semiconductor Wafer Bonding"(Science and Technology, Interscience Technology)에 기재되어 있다.
필요한 경우, 결합은 결합하고자 하는 각각의 표면의 적당한 종래 기술의 처리 및/또는 열 에너지의 공급에 의하여 수행된다.
따라서, 예컨대, 결합 도중에 수행되는 열처리는 결합의 강도가 증가되도록 한다.
상기 결합은 또한 상기 웨이퍼(10) 및 수용 기판(5) 사이에 삽입된 결합층에 의하여 강화될 수 있다.
이 결합층은 결합하고자 하는 2개의 표면 중 적어도 하나에 적용된다.
실리콘 산화물(실리카 또는 SiO2라고도 함)은 상기 결합층을 제조하기 위하 여 선택될 수 있는 물질이며, 이것은 산화물 증착 또는 열적 산화 또는 임의의 다른 기술에 의하여 결합층을 제조할 수 있다.
결합 전 및/또는 후에, 예컨대 에칭, 화학적-기계적 연마 CMP, 열 처리 또는 임의의 다른 평활 작업과 같은 표면 가공 작업이 수행될 수 있다.
일단 수용 기판(5)이 결합되면, 완화된 변형층(2')의 반대면 상의 웨이퍼(10) 일부분을 제거하고, 여기서 유용층(6)은 웨이퍼(10)의 잔존부이다.
물질 제거를 위한 다수의 공지된 기술이 이용될 수 있다.
당 기술 분야의 숙련자(및 웨이퍼 감소 기술을 처리하는 다수의 업무에서 발견될 수 있는 기재 사항)에게 공지된, 소위 스마트-컷
Figure 112005014436894-pct00001
(Smart-Cut
Figure 112005014436894-pct00002
)이라고 하는, 제1 물질 제거 기술은 하기 사항을 포함한다:
·주입 깊이와 근접한 깊이에 연약 영역을 형성하기 위하여, 수용 기판(5)과의 결합 전에, 원자종(수소 또는 헬륨 이온과 같은 것)의 주입;
·이어서, 연약 영역의 2 부분에서 웨이퍼(10)의 분리를 일으키기 위하여, 결합후, 연약 영역에 열 및/또는 기계적 처리 또는 또 다른 에너지 공급과 같은 에너지 공급.
바람직하게는, 연약 영역을 더 약화시키기 위하여, 주입 동안 또는 주입 후 웨이퍼(10)를 열처리한다.
상기 물질 제거를 수행하는 제1 방법에 있어서, 연약 영역은 지지 기판(1)과 완화된 변형층(2') 사이 또는 완화된 변형층(2')에 형성된다.
이 물질 제거를 수행하는 제2 방법에 있어서, 연약 영역은 지지 기판(1)에 형성된다.
연약 영역은 섭동층(3)의 형성 도중 또는 후에 형성될 수 있다.
물질 제거를 수행하는 상기 제2 방법의 특정 경우에 있어서, 그리고 섭동 영역(3)의 형성에 의한 전이층(4) 형성의 경우에, 연약 영역은, 소정의 에너지와 소정량의 원자 종을 가지고 원자 종의 이식과 같은 동일한 기술을 수행함으로써, 섭동 영역(3)과 동일한 위치에 형성될 수 있다.
이 특정 경우에 있어서, 연약 영역은 섭동 영역(3)이 형성되는 것과 동시에 형성될 수 있다.
이식 전 또는 후에, 웨이퍼(10)에는 또한 2가지 기능, 즉 추가로 연약 영역을 약화시키고 변형층(2)을 완화시키는 기능을 갖는 열처리를 수행할 수 있다.
따라서, 연약 영역은 거기에서 지지 기판(1)을 약화하는 기능 및 변형층(2)을 완화하는 기능의 2가지 기능을 갖도록 형성된다.
제2 물질 제거 기술은 하기의 단계를 포함한다:
·문헌 EP 0 849 788 A2 문헌에 기재되어 있는 바와 같이, 산화처리(anodization)에 의하여 적어도 하나의 다공성 층에 형성함으로써, 원자 종을 이식함으로써, 또는 임의의 다른 기공 형성 기술에 의하여, 웨이퍼(10)에 연약 경계면의 형성;
·연약층 내의 2 부분에서 웨이퍼(10)를 분리하기 위하여, 기계적 처리, 또는 또 다른 에너지 공급과 같이 연약층에 에너지 공급.
이 물질 제거를 수행하는 제1 방법에 있어서, 연약층은 지지 기판(10)과 완 화된 변형층(2') 사이 또는 완화된 변형층(2') 내에 형성된다.
이 물질 제거를 수행하는 제2 방법에 있어서, 연약층은 지지 기판(1)에 형성된다.
지지 기판(1) 내에 연약층을 형성하기 위하여, 바람직하게는 다공성층이 단일 결정 물질의 조각 상에 형성되고, 이어서 상기 조각의 것과 동일한 격자 파라미터를 갖는 비다공성 결정성 물질의 층의 제2 성장을 상기 다공성층 상에서 수행하여, 지지 기판(1)은 상기 조각, 다공성층 및 비다공성 Si 층으로 구성된다.
제1 및 제2의 비제한적인 물질 제거 기술은 웨이퍼(10)의 상당 부분이 총괄적으로 신속하게 제거되도록 한다.
이들 기술은 또한 웨이퍼(10)의 제거된 부분이 또 다른 공정, 예컨대 본 발명에 따른 공정에서 재사용되도록 한다.
따라서, 변형층(2) 및 가능한 경우 지지 기판(1) 및/또는 다른 층들의 일부는, 바람직하게는 지지 기판(1)의 표면이 연마된 후에, 재형성될 수 있다.
제3의 공지된 기술은 화학적 및/또는 화학적-기계적 물질 제거 공정를 사용하는 것으로 이루어진다.
예컨대, 제거하고자 하는 도너 웨이퍼(10) 물질의 임의적인 선택적 에칭은 "에치-백(etch-back)" 타입의 공정를 이용하여 수행될 수 있다. 이 기술은, 수용 기판(5) 상에 유지시키고자 하는 웨이퍼(10)의 상기 부분을 유지하기 위한 목적을 위하여, "뒷부분으로부터" 웨이퍼(10)를 에칭하는 것으로 이루어지며, 여기서 "뒷부 분으로부터"는 지지 기판(1)의 자유 표면으로부터를 의미한다.
물질이 제거되도록 할 수 있는 에칭 용액을 이용하는 습식 에칭이 수행될 수 있다.
또한, 상기 물질을 제거하기 위하여, 플라즈마 에칭 또는 스퍼터링과 같은 건식 에칭이 수행될 수도 있다.
또한, 에칭 작업 또는 작업들은 단지 화학적 또는 전기화학적 또는 광전기화학적일 수 있다.
에칭 작업 또는 작업들은, 랩핑(lapping), 연마, 기계적 에칭 또는 원자 종의 스퍼터링과 같은, 웨이퍼(10)의 기계적 공격에 의하여 진행되거나 그 전에 진행될 수 있다.
에칭 작업 또는 작업들은 임의로 CMP 공정에서 기계적 마찰(abrasive)과 조합된 연마와 같은 기계적 공격에 의하여 수행될 수 있다.
따라서, 제거하고자 하는 웨이퍼(10) 부분은 단지 화학적 수단 또는 화학적-기계적 수단에 의하여 전체적으로 제거될 수 있다.
이 물질 제거를 수행하는 제1 방법에 있어서, 에칭 작업 또는 작업들은 웨이퍼(10) 상에 적어도 일부분의 완화된 변형층(2')을 보호하도록 수행된다.
이 물질 제거를 수행하는 제2 방법에 있어서, 에칭 작업 또는 작업들은 지지 기판(1) 및 완화된 변형층(2')의 일부를 웨이퍼(10) 상에 보호하도록 수행된다.
제3 기술은 특히 그것의 결정 성장 동안 얻어질 수 있는 변형층(2)의 높은 표면 질 및 두께 균일성을 유지하는 것을 가능하게 한다.
이들 3가지 기술은 현재 문헌에서 예시로서 제안되나, 이들은 임의의 방법으로 제한을 구성하지 않으며, 본 발명은 본 발명에 따른 공정에 따라 웨이퍼(10)로부터 물질을 제거할 수 있는 임의의 타입의 기술로 확장된다.
이들 3가지 기술 또는 다른 공지된 기술로부터 선택된 물질 제거 기술이 무엇이든지, 바람직하게는 임의로 선택적인 화학적 에칭, CMP 연마, 열처리 또는 임의의 다른 평활 작업과 같은 표면 가공 기술이 유용층상에서 수행된다.
지지 기판(1)의 일부분이 이들 기술 중 하나가 수행된 후에 남아 있는 특정 경우에 있어서, 그리고 지지 기판(1)의 잔류층이 남아 있는 것을 원하지 않는다면, 완화된 변형층(2')에 대하여 지지 기판(1)의 잔존부의 선택적인 에칭을 포함하는 가공 단계를 수행하는 것이 바람직할 수 있다.
후자의 특정 경우에 있어서, 완화된 변형층(2')는 두께가 균일하도록, 및/또는 우수한 표면 가공을 갖도록, 작업-경화된 영역(work-hardened region)과 같이 종종 기계적 연마에 의한 경우에 있는 상당수의 결함이 출현하지 않도록, 얻어질 수 있다.
또한, 완화된 변형층(2')상에 선택적 에칭을 수행함으로써, 일정한 두께 및/또는 양호한 표면 마감을 갖는 완화된 변형층(2')의 일부분을 얻는 것이 가능하고, 여기에서 후자는 수행되는 에칭에 대한 정지층을 포함한다.
마지막에 매우 얇은 완화된 변형층들(2')을 얻기를 원한다면, 선택적 에칭을 포함하는 후자의 2개의 마감 조작이 특히 바람직하다.
모든 경우에서, 마지막에 얻어지는 것은 수용기판(5), 유용층(6) 및 임의의 삽입된 결합층을 포함하는 구조(20)이다.
물질 제거를 수행하는 제1의 방법에서, 완화된 변형층(2')의 적어도 일부만이 보존된다.
유용층(6)은 완화된 변형층(2')의 적어도 일부분으로 이루어진다.
물질 제거를 수행하는 제2의 방법에서, 완화된 변형층(2')의 적어도 일부만이 보존된다.
유용층(6)은 지지 기판(1) 및 완화된 변형층(2')의 보존된 일부분으로 이루어진다.
이러한 경우, 지지 기판(1)의 잔존 부분은 기초를 이루는 완화된 변형층(2')에 의해 적어도 일부에서 변형될 수 있다.
구조(20)을 사용하는 특정의 하나의 방법에서, 하나 이상의 결정 성장 조작은 구조(20)상에서 수행될 수 있다.
일단 최종 구조가 달성되면, 예를 들어, 유용층(6)과 수용 기판(5) 사이의 결합 경계면을 더욱 강화시키기 위한 어닐링 조작과 같은 마감 처리와 같은 마감단계를 임의로 수행할 수 있다.
구조(20)을 사용하는 하나의 특정 방법에서, 어떠한 구조(20)이 얻어지든, 하나 이상의 에피층(epilayer)이 웨이퍼(10)위에서 성장할 수 있다.
특히, Si 및 SiGe의 재료로 만들어진 층이 시험될 것이다.
상기 설명한 바와 같이, 30% Ge를 함유하는 SiGe는 Si의 것보다 약 1% 큰 공칭 격자 파라미터를 갖는다.
일정의 Ge 농도를 갖고, Si 지지 기판(1)상에 형성된 SiGe의 변형층(2)은 본발명의 공정을 수행하는데 적합할 수 있다.
본 발명에 의한 유용층을 형성하는 바람직한 공정을 다음의 실시예에서 나타낸다.
실시예 1 : 도 1a를 참고로 한다. 이는 웨이퍼(10)가
- Si 지지 기판(1); 및
- 소정 Ge 농도를 갖는 SiGe로 만들어지고, 임계 변형-말단(critical end-of-strain)두께 (상기 언급함) 보다 작은 두께를 갖는 변형층(2)을 포함하는 경우에 관한 것이다.
변형 SiGe층(2)은 15%보다 큰 전형적인 Ge 농도를 갖는다.
변형 SiGe층(2)은, 바람직하게는, 전위와 같은, 약 107cm-2 보다 작은 결점 밀도를 갖는다.
15%의 Ge를 함유하는 변형층(2)과, 30%의 Ge를 함유하는 변형층(2) 각각의 전형적 두께는 약 250nm 및 약 100nm 이어서, 아래에 잔존하는 이들 각각의 임계 탄성 변형 말단(critical end-of-elastic-strain) 두께이다.
도 1b를 참조하면, 섭동영역(3)은, H 또는 He와 같은 원자종을 주입함으로써 Si 지지 기판(1)내부에 형성된다.
사용된 H 또는 He 주입 에너지의 범위는 전형적으로 12 내지 25 keV 이다.
주입된 H 또는 He 양(dose)은 전형적으로 1014 내지 1017 cm-2이다.
- 따라서, 예를 들어, 15%의 Ge를 함유하는 변형층(2)에 대하여, 주입을 위해, 약 25 keV의 에너지에서 약 3 x 1016cm-2의 양을 가진 H를 사용하는 것이 바람직할 것이다.
- 따라서, 예를 들어, 30%의 Ge를 함유하는 변형층(2)에 대하여, 주입을 위해, 약 18 keV의 에너지에서 약 2.0 x 1016cm-2의 양을 가진 He를 사용하는 것이 바람직할 것이다.
원자종의 주입 깊이는 전형적으로 50 nm 내지 100nm 이다.
섭동영역(3)을 형성한 후, 특히 전이층(4)내에서 섭동을 대체시키고, 완화된 변형층(2')내에서의 전위를 없애기 위해서, 적합한 열처리를 수행한다.
열처리는 불활성 분위기에서 수행된다.
그러나, 열처리는 예를 들어 산화적 분위기와 같은 다른 분위기에서 수행될 수도 있다.
따라서, 이러한 타입의 웨이퍼(10)에 대하여 수행되는 특정의 열처리는, 전형적으로 600℃ 내지 1000℃의 온도범위에서, 전형적으로 약 5분 내지 약 15분의 시간범위에서 수행된다.
이러한 실험 기술의 더욱 상세한 것에 대하여는 B. Hollander et al 에 의해 수행된 연구, 특히 제목 "Strain relaxation of pseudomorphic Si1-xGex/ Si(100) heterostructures after hydrogen or helium ion implantation for virtual substrate fabrication"(in Nuclear and Instruments and Methods in Physics Research B 175 -177 (2001) 357 - 367)의 문헌을 참고로 한다.
본 발명에 의해 섭동영역(3)을 형성하는 또 다른 경우에서, 수소 또는 헬륨은 약 1017cm-2의 양으로 주입된다.
이러한 특정의 양은 스마트-컷(Smart-Cut®)타입의 공정을 사용하여 연약부위를 형성하는 것과 부합되고, 섭동영역(3) 및 연약영역의 양 영역을 형성하도록 한다.
따라서, 이러한 연약영역은, 위쪽에 형성되는 전이층(4)내에서 결정성 섭동을 형성할 수 있는 내부 변형을 일으키고, 에너지를 제공한 후에 두 부분에서 웨이퍼(10)를 떼어내기에 충분히 연약한, 2가지의 기능을 갖는다.
하나의 특정 실시예에서, 연속되는 열처리는 변형층(2)내에서 변형을 완화시키고 연약영역을 더욱 약화시키는 2가지의 기능을 가질 것이다.
전이층(4)을 형성하기 위해 어떠한 특정의 수행방법이 선택되든지, SiGe 변형층(2)은 SiGe 완화된 변형층(2')를 형성하기 위해, 적어도 부분적으로 완화된다.
도 1c를 참조하면, 웨이퍼(10)에 부착된 수용기판(5)은, 실리콘 또는 석영과 같은 임의의 재료로 구성될 수 있다.
SiO2 결합층은 바람직하게는 완화된 변형층(2') 및 수용기판(5) 사이에 삽입되어, 결국에는(도 1d 참조) SGOI 또는 Si/SGOI 타입의 구조(20)를 생성하는 것이 특히 가능하고, 이때 상기 구조(20)에서의 관심의 절연체는 SiO2 층이 된다.
도 1d를 참조하면, 물질을 제거하기 위해 하나 이상의 공지기술이 수행될 수 있다.
특히, Si의 선택적 에칭은 SiGe에 대하여 실질적인 선택성을 갖는 에칭용액을 사용하여 수행될 수 있는데, 상기 용액은, 문헌 WO 99/53539의 9페이지에 설명된 바와 같이, 다음의 화합물 중의 적어도 하나를 포함하는 용액이다.
: KOH, NH4OH (암모늄 하이드록사이드), TMAH, EDP 또는 HNO3 또는 현재 연구중인 용액으로서, HNO3, HNO2, H2O2, HF, H2SO4, H2SO2, CH3COOH 및 H2O와 같은 작용제를 조합한 용액.
첫번째의 경우에서, 후자의 선택적 에칭에 의해, 구조(2)상에 유지되는 완화된 변형층(2')에 대해 제거되는, 지지 기판(1)의 나머지 부분을 제거할 수 있고, 에칭후에 유용층(6)은 완화된 변형층(2')으로 구성되게 된다.
두번째의 경우에서, Si 에칭 정지층은 지지기판(1)내에 위치하고, 에치-백 타입의 선택적 화학적 에칭으로부터, 정지층위에 존재하는 Si층을 보존하는 것이 가능하고, 이경우에 유용층(6)은 완화된 변형층(2') 및 정지층위에 존재하는 Si 층을 포함한다.
정지층은, 예를 들어, SiGe로 만들어지고 관심의 선택적 화학적 에칭은 상기의 에칭 용액중의 어느 하나를 사용한다.
도 1d를 참고로 하면, 수용기판(5) 및 유용층(6)을 포함하는 구조(20)가 얻어진다.
유용층(6)은 SiGe 완화된 변형층(2')의 적어도 일부분 및 사용되는 제거방법에 따라 지지 기판(1)의 부분에 잔존하는, 임의의 Si층을 포함한다.
실시예 2 : 도 2를 참고로 한다. 본 실시예는 실시예 1과 동일한 웨이퍼(10)에 관한 것이지만, 변형된 SiGe 층상에 완화된 Si 층을 추가로 포함한다.
따라서, 변형층(2)은 변형된 SiGe층(2A) 및 완화된 Si층(2B)로 구성된다.
변형층(2)은 관심의 SiGe의 임계적 두께 보다 작은 두께는 갖는다. - 이 두께 이상에서는 SiGe는 완화한다.
변형층(2A)은 실시예 1의 변형 SiGe층(2)과 동일한 특성을 갖는다.
완화된 Si층(2B)은 전체 변형층(2) 두께보다 매우 작은 두께를 가져서, 변형층(2)은 전체적으로 변형된 구조 특성을 유지한다.
완화된 Si층(2B)은 약 수십 나노미터의 두께를 갖는다.
제거공정의 수행은 실시예 1의 것과 동일하다.
전이층(4)의 생성 및 실시예 1과 동일한 열처리의 부가적 이점은 다음과 같은 효과를 갖는다.
- 완화된 변형층(2A')(도시하지 않음)를 형성하기 위해 변형된 층(2A)을 탄성적으로 완화시킴.
- 변형된 완화층(2B')(도시하지 않음)를 형성하기 위해 완화된 층(2B)을 탄성적으로 변형시킴. 후자는 하부의 완화된 SiGe의 것에 근접한 격자 파라미터를 갖는다.
웨이퍼(10)가 중간결합층과 함께 또는 중간결합층 없이 변형된 완화층(2B')에서 수용기판(5)에 결합된 후에, 물질은 상기의 공지기술 중 하나 이상을 사용하여 제거될 수 있다.
물질 제거 수행의 첫번째의 방법에서, 완화된 변형층(2A') 및 변형된 Si층(2B')의 적어도 일부분을 유지하는 것이 바람직하고, 이어지는, 물질제거는 실시예 1에서 기술한 것과 동일하다.
최종적으로 얻어지는 것은 수용기판(5) 및 유용층(6)을 포함하는 구조(20)(도 1d에 보여지는 것과 유사함)이고, 상기 유용층(6)은 변형된 Si층(2B') 및 완화된 SiGe층(2A')의 적어도 일부분 및 (임의로 Si층 또는 사용되는 제거방법에 따라 지지기판(1)의 나머지 부분)으로 구성된다.
제거 공정 수행의 두번째의 방법에서, 완화된 Si층(2B')의 적어도 일부분만을 유지하는 것이 바람직하고, 이어서, 물질제거는, 완화된 SiGe층(2A')을 제거하는 부가적 단계를 추가적으로 가지면서, 실시예 1에서 기술한 것과 동일하다.
이러한 목적을 위해, HF:H2O2:CH3COOH를 포함하는 용액(선택도 약 1:1000)과 같은 Si에 대한 SiGe의 선택적 에칭을 위한 용액을 사용하여 수행될 수 있다.
공정 수행의 두번째 방법에서, 완화된 SiGe층(2A')은 희생적이 될 수 있다.
완화된 SiGe층(2A')의 이러한 희생은, 표면에 국한될 수 있고, 전이층(4)내에서의 섭동의 전달후에 전이층(4)와의 경계면의 근접에서, 결합전에 나타나는, 파라미터 상이 변형을 갖는 전위와 같은, 구조적 결점을 소멸하게 하는 것을 포함한다.
따라서, 완화된 SiGe층(2A')은, 본 발명에 의한 공정에서 사용되는 특정의 완화 방법으로부터 발생되는 가능한 구조적 결함으로부터, 변형된 Si층(2B')를 보존한다.
따라서, 상기 희생적 기술은 종국적으로 구조적 결점을 거의 갖지 않는 변형된 Si층(2B')을 얻는 데 특히 적합하다.
최종적으로 얻어지는 것은 수용기판(5) 및 유용층(6)을 포함하는 구조(20)(도 1d에 보여지는 것과 유사함)이고, 상기 유용층(6)은 변형된 Si층(2B')으로 구성된다.
실시예 3 : 도 3을 참고로 한다. 본 실시예는 실시예 2의 것과 동일한 웨이퍼(10)에 관한 것이고, 완화된 Si층상에 변형된 SiGe층을 추가로 포함한다.
변형층(2)은 변형된 SiGe층(2A), 완화된 Si층(2B) 및 변형된 SiGe층(2C)으로 구성된다.
변형층(2)은 관심의 SiGe의 임계적 두께보다 작은 두께를 갖고, 이 이상에서는 SiGe는 완화된다.
변형층(2A)는 실시예 1의 변형 SiGe 층(2)와 동일한 특성을 갖는다.
층(2A)의 두께는, 전이층(4)내에서의 섭동의 전달후에 전이층(4)와의 경계면 근처에서 나타나는 구조적 결함이 내부에 한정될 것 같은, 전형적인 두께 이상으로 선택하는 것이 바람직할 것이다.
이러한 변형된 SiGe층(2A)은 완화된 Si층(2B) 및 변형층(2)의 전체적인 완화 동안의 임의의 구조적 결함으로부터의 변형된 SiGe 층(2C)를 보존할 것이다.
따라서, 이러한 희생적인 기술은, 종국적으로 구조적 결점을 거의 갖지 않는 Si층(2B)을 얻는데 특히 적합할 것이다.
완화된 Si층(2B)은 전체 변형층(2)의 두께보다 매우 작은 두께를 갖고, 따라서, 변형층(2)는 전체적으로 변형된 구조적 특성을 유지한다.
완화된 Si층(2B)는 약 수십 나노미터의 두께를 갖는다.
변형된 SiGe층(2C)은 변형된 SiGe층(2A)와 동일한 특성을 갖는다.
그러나, 바람직하게는 변형된 SiGe층(2C)은 변형된 SiGe층(2A)보다 더 두껍다.
변형된 SiGe층(2C)은, 특정의 하나의 상황에서, 변형층(2)의 주요한 부분을 나타낸다.
제거공정의 수행은 실시예 2의 것과 동일하다.
전이층(4)의 생성 및 실시예 1과 동일한 열처리의 부가적 이점은 다음과 같은 효과를 갖는다.
- 완화된 변형층(2A')(도시하지 않음)을 형성하기 위해 변형된 층(2A)을 탄성적으로 완화시킴.
- 변형된 완화층(2B')(도시하지 않음)을 형성하기 위해 완화된 층(2B)을 탄성적으로 변형시킴. 후자는 하부의 완화된 SiGe의 것에 근접한 격자 파라미터를 갖는다.
- 완화된 변형층(2C')(도시하지 않음)을 형성하기 위해 변형된 층(2C)를 탄성적으로 완화시킴.
웨이퍼(10)가, 중간결합층과 함께 또는 중간결합층 없이 완화된 변형층(2C')에서 수용기판(5)에 결합된 후에, 물질은 상기의 공지기술 중 하나 이상을 사용하여 제거될 수 있다.
물질 제거 수행의 첫번째의 방법에서, 완화된 변형층(2A') 및 변형된 Si층(2B') 및 완화된 SiGe층(2C')의 적어도 일부분을 유지하는 것이 바람직하고, 이어서, 물질제거는 실시예 1에서 기술한 것과 동일하다.
최종적으로 얻어지는 것은 수용기판(5) 및 유용층(6)을 포함하는 구조(20)(도 1d에 보여지는 것과 유사함)이고, 상기 유용층(6)은 완화된 SiGe층(2C'), 변형된 Si층(2B') 및 완화된 SiGe층(2A')의 적어도 일부분 및 (임의로 Si층 또는 사용되는 제거방법에 따라 지지기판(1)의 나머지 부분)으로 구성된다.
물질제거 수행의 두번째의 방법에서, 변형된 Si층(2B') 및 완화된 SiGe층(2C')의 적어도 일부분만을 보존하는 것이 바람직하고, 이어서, 물질제거는 실시예 2의 물질 제거 수행의 두번째 방법과 동일하다.
최종적으로 얻어지는 것은 수용기판(5) 및 유용층(6)을 포함하는 구조(20)(도 1d에 보여지는 것과 유사함)이고, 상기 유용층(6)은 변형된 Si층(2B') 및 완화된 SiGe층(2C')의 적어도 일부분으로 구성된다.
공정 수행의 세번째의 방법에서, 완화된 SiGe층(2C')의 적어도 일부분만을 유지하는 것이 바람직하다. 이어서, 물질제거는, 변형된 Si층(2B')을 제거하는 부가적 단계를 추가적으로 가지면서, 상기 수행의 두번째 방법에서 기술한 것과 동일하다.
이러한 목적을 위해, 변형된 Si(2B')의 선택적 에칭은 다음의 화합물의 적어도 하나를 포함하는 용액을 사용하여 수행할 수 있다: KOH, NH4OH (암모늄 하이드록사이드), TMAH, EDP 또는 HNO3 또는 현재 연구중인 용액으로서, HNO3, HNO2, H2O2, HF, H2SO4, H2SO2, CH3COOH 및 H2O 와 같은 작용제를 조합한 용액.
완화된 SiGe층(2C')는 에칭 정지층이기 때문에, 결국 이러한 방법은 낮은 표면 거칠기를 갖는 두께에서 특히 균일한 층을 얻는 것이 가능하다.
따라서, 층의 질을 양호하게 유지하면서 매우 작은 두께의 층을 갖는 것이 가능하다.
최종적으로 얻어지는 것은 수용기판(5) 및 유용층(6)을 포함하는 구조(20)(도 1d에 보여지는 것과 유사함)이고, 상기 유용층(6)은 완화된 SiGe층(2C')를 구성한다.
구조(20)을 사용하는 특정의 하나의 방법에서, 어떠한 구조(20)가 얻어지든 지, SiGe층의 또는 변형된 Si층의 에픽택셜 성장, 또는 다층 구조를 형성하기 위해, SiGe층들 혹은 변형된 Si층들의 연속이 교대로 구성되는 다른 에피층과 같은, 하나 이상의 에피층이 웨이퍼(10)상에서 성장할 수 있다.
본 문헌에서 나타낸 반도체층들에서, 탄소와 같은 다른 구성성분이 여기에 추가될 수 있으며, 이때 관심의 층내에서의 탄소농도는 50% 이하, 또는 특히 5% 이하이다.
본 발명은 변형된 SiGe층(2) 및 Si 지지 기판(1)에 한정되지 않고, 본 발명에 따른 공정을 사용하여 사용될 수 있는 (2차, 3차, 또는 4차 타입의 또는 더욱 높은 차수 타입의) III-V 또는 II-VI 원자족의 물질과 같은 다른 물질에 또한 확장된다.
또한, 제거후에 얻어지는 최종적인 구조가 SGOI, SOI 또는 Si/SGOI 타입의 구조에 한정되지 않는다.
본 발명은 웨이퍼로부터의 유용층의 형성 방법에 관한 것으로서, 상기 웨이퍼는 결정성 물질로부터 각각 선택된 변형층 및 기판을 포함하고, 마이크로전자공학, 광학 또는 광전자공학에서 사용된다.

Claims (39)

  1. 마이크로 전자공학, 광학 또는 광전자공학에 응용하기 위한 웨이퍼(10)로부터 유용층(6)을 형성하는 공정으로서, 상기 웨이퍼(10)는 결정성 재료로부터 각각 선택되는 지지기판(1) 및 변형(strained)층(2)을 포함하고,
    (a) 규정된 깊이에서 구조적 섭동(perturbation)을 형성할 수 있는 섭동영역(3)을 지지 기판(1)내에 형성하는 단계;
    (b) 에너지를 공급하여, 변형층(2)내에 탄성 변형의 완화 또는 가완화(pseudo-relaxation)를 일으키는 단계;
    (c) 완화된 변형층(2')에 대하여 반대편 측면상에서 웨이퍼(10)의 일부분을 제거하여, 유용층(6)이 상기 웨이퍼(10)의 잔존하는 부분이 되는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  2. 제1항에 있어서, 단계 (b) 동안의 변형층(2)의 완화 또는 가완화는, 변형 층(2)으로부터 섭동 영역(3)을 분리하는 전이층(4)을 가로질러 발생하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  3. 제1항에 있어서, 섭동영역(3)은 원자종의 주입에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  4. 제2항에 있어서, 섭동영역(3)은 원자종의 주입에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 주입되는 원자종은 적어도 부분적으로 수소, 또는 헬륨, 또는 수소와 헬륨의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  6. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (b)동안에 공급되는 에너지는 열에너지를 포함하여, 변형층(2)내에서의 변형의 완화를 더욱 돕는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  7. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (c) 이전에, 변형층(2)의 측면상에서 수용 기판(5)을 웨이퍼(10)에 결합시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  8. 제7항에 있어서, 상기 결합단계 이전에, 결합층을, 결합될 두개의 면중 적어도 어느 하나에 적용하는 단계를 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  9. 제8항에 있어서, 결합층은 실리카로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  10. 제7항에 있어서, 결합될 두개의 면 중 적어도 어느 하나의 표면상에 수행되는 마무리 단계의 수행을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  11. 제7항에 있어서, 결합을 강화시키기 위한 열처리를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  12. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    - 단계 (c) 전에, 지지 기판(1)내에서의 연약영역의 형성을 포함하고,
    - 단계 (c)는 유용층(6)을 도너웨이퍼(10)로부터 떼어내기 위해, 상기 연약영역안으로 에너지를 공급하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  13. 제12항에 있어서, 연약영역은 원자종의 주입에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  14. 제13항에 있어서, 주입되는 원자종은 적어도 부분적으로 수소, 또는 헬륨, 또는, 수소와 헬륨의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  15. 제13항에 있어서, 연약영역 및 섭동영역(3)이 웨이퍼(10)내에서 동일한 곳에 위치하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  16. 제15항에 있어서, 연약영역 및 섭동영역(3)이 동일한 시간에, 동일한 수단에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  17. 제12항에 있어서, 연약영역은 웨이퍼(10)내에서 층의 다공화 (porosification)에 의해서 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  18. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계(c)는 제거되는 웨이퍼(10)의 적어도 일부분의 화학적 에칭을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  19. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (c)는 완화된 변형층(2')에 인접한 지지 기판(1)의 일부분의 선택적 화학적 에칭의 수행을 포함하고, 상기 완화된 변형층(2')은 이러한 에칭에 대한 정지층을 형성하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  20. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 완화된 변형층(2')은 화학적 에칭 정지층을 포함하고, 단계 (c)가, 정지층 상부에 존재하는 부분을 제거하기 위한 완화된 변형층(2')의 선택적 화학적 에칭의 수행을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  21. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 유용층(6)은 완화된 변형층(2')의 적어도 일부분으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  22. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 유용층(6)은 완화된 변형층(2') 및 단계 (c) 후에 잔존하는 지지 기판(1)의 일부분으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  23. 제22항에 있어서, 지지 기판(1)의 잔존층은 완화된 변형층(2)에 의해서 변형되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  24. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (c) 후에, 유용층(6)의 표면상에서 수행되는 마감단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  25. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계 (c) 후에, 유용층(6)상에 적어도 하나의 층의 형성을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  26. 제24항에 있어서, 유용층(6)상에 형성된 적어도 하나의 박층이, 완화된 변형층(2')에 의해 그 격자 파라미터가 변형된 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  27. 제1항에 있어서,
    - 지지 기판(1)은 실리콘으로 이루어지고;
    - 변형층(2)은 실리콘-게르마늄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  28. 제1항에 있어서,
    - 지지 기판(1)은 실리콘으로 이루어지고,
    - 변형층(2)은,
    일정 두께의 변형된 실리콘-게르마늄 (2A);
    일정 두께의 완화된 실리콘 (2B)의 연속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  29. 제1항에 있어서,
    - 지지 기판(1)은 실리콘으로 이루어지고,
    - 변형층(2)은,
    일정 두께의 변형된 실리콘-게르마늄 (2A);
    일정 두께의 완화된 실리콘 (2B);
    일정 두께의 변형된 실리콘-게르마늄 (2C)의 연속으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  30. 제28항 또는 제29항에 있어서,
    단계 (c)는, 지지 기판(1)에 인접하고, 단계 (a) 동안에 완화된, 변형된 실리콘-게르마늄 (2A)의 일정두께의 제거를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  31. 제28항 또는 제29항에 있어서,
    단계 (c)는, 단계 (b)의 수행 동안에 변형된 완화된 실리콘 (2B)의 일정두께의 제거를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  32. 삭제
  33. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 수용 기판(5)은 실리콘 또는 석영으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  34. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 공정동안에 사용되는 층 중 적어도 하나의 층은 탄소를 더 포함하며, 이때 상기 적어도 하나의 층에서의 탄소농도는 50% 이하인 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  35. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 이 공정동안에 사용되는 층 중 적어도 하나의 층은 탄소를 더 포함하며, 이때 상기 적어도 하나의 층에서의 탄소농도는 5% 이하인 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  36. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 단계(c) 이후에 얻어진 구조는 반도체-온-인슐레이터 구조이고, 그 구조의 반도체의 층은 상기 형성된 유용층을 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼로부터 유용층(6)을 형성하는 공정.
  37. 유용층(6)을 형성하기 위한 공정에 사용되는 웨이퍼(10)로서,
    제1 격자 파라미터를 갖는 지지 기판(1)과, 제2 격자 파라미터를 갖는 전체적으로 완화된 또는 가-완화된 층(2')을 포함하고, 버퍼층을 포함하지 않으며 연약영역을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼.
  38. 제37항에 있어서, 지지 기판(1)내에 섭동영역(3)을 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼(10).
  39. 제37항 또는 38항에 기재된 웨이퍼(10) 및 상기 웨이퍼(10)에 결합된 수용기판(5)을 포함하는 구조.
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