KR100764332B1 - 광화학 반응 처리 장치 및 광화학 반응 처리 방법 - Google Patents
광화학 반응 처리 장치 및 광화학 반응 처리 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (13)
- 관체가 합성 석영 유리로 이루어진 방전등을 복수 구비하고, 상기 방전등으로부터의 자외선 조사에 의해 피조사체의 광화학 반응 처리를 행하는 광화학 반응 처리 장치로서, 상기 방전등의 점등을 제어하는 점등 제어 장치를 구비하고, 상기 피조사체에 대한 광 조사량을 제어함으로써, 과잉의 자외선 조사량에 의해서 생성되는 의도하지 않은 부생성물을 억제하도록 한 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 방전등은 그 합성 석영 유리 관체가 내경 8㎜ 이상이고, 이 관체의 양단에 L(단위는 ㎝)의 간격으로 한 쌍의 필라멘트를 구비하고, 적량의 금속수은과 희소 가스를 봉입하는 방전등으로서, 상기 방전등을 0.4A∼1.4A의 램프 전류로 동작시키고, 점등시의 램프 전압 V[V], 램프 전류 I[A], 필라멘트간 거리 L(㎝), 방전로의 내경 D(㎜)에 대해, 다음의 관계식을 가지는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.(V-Vf)/L=X/(√D ·√I) 또한, 2.6 ≤X ≤4.2.(여기서, Vf는 점등 전원에 의존하는 정수 요인으로, 1㎑ 이상의 고주파 전원으로 점등한 경우는 Vf=10이며, 1㎑ 미만의 전원으로 점등한 경우는 Vf=50으로 한다.)
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 점등 제어 장치는, 점등하는 방전등의 수 또는 조광을 제어함으로써, 상기 피조사체에 대한 자외선 조사량을 소정의 수준으로 제어하는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.
- 제3항에 있어서, 상기 점등 제어 장치는, 점등하는 방전등의 수 또는 조광을 사용 시간 경과에 따라 제어하는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 방전등 중 일부의 방전등을 점등 혹은 조광 점등하고, 점등 혹은 조광 점등하는 방전등의 조합을 순차 전환함으로써, 자외선 조사량을 소정 수준으로 제어하는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.
- 제4항 또는 제5항에 있어서, 방전등의 경시적 조도 저하 특성을 기초로, 사용시간 경과에 따라, 점등 혹은 조광 점등하는 방전등 수와 소등하는 방전등 수의 비율을 변경시키는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 점등 혹은 조광 점등하는 방전등의 조합 및 전환 시기 및 상기 사용시간 경과에 따른 점등 혹은 조광 점등 방전등 수와 소등 방전등 수의 상기 비율의 변경 형태를 장치의 운전 개시 전에 미리 설정하고, 이 설정에 따라서 점등 혹은 조광 점등하는 방전등을 시간 경과에 따라 제어하는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 설정 내용은 운전 개시 후에 수정 가능한 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 장치.
- 제1항 또는 제2항 기재의 장치를 이용하여, 방전등으로부터 빛을 조사하여, 피조사체에 대하여 광화학 반응 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 방법.
- 제1항 또는 제2항 기재의 장치를 이용하여, 점등 혹은 조광 점등시키는 방전등과 소등시키는 방전등의 비율의 변경이나, 점등 혹은 조광 점등시키는 방전등의 로테이션에 의해, 방전등의 일제 교환기간을 연장시키는 것을 특징으로 하는 광화학 반응 처리 방법.
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