KR100720437B1 - Cleaning Device - Google Patents

Cleaning Device Download PDF

Info

Publication number
KR100720437B1
KR100720437B1 KR1020000083063A KR20000083063A KR100720437B1 KR 100720437 B1 KR100720437 B1 KR 100720437B1 KR 1020000083063 A KR1020000083063 A KR 1020000083063A KR 20000083063 A KR20000083063 A KR 20000083063A KR 100720437 B1 KR100720437 B1 KR 100720437B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
roll brush
roll
cleaning
cleaning apparatus
Prior art date
Application number
KR1020000083063A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20020053427A (en
Inventor
박재우
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020000083063A priority Critical patent/KR100720437B1/en
Publication of KR20020053427A publication Critical patent/KR20020053427A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100720437B1 publication Critical patent/KR100720437B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • B08B1/32—
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles

Abstract

본 발명은 롤 브러시를 회전과 동시에 진동시킴으로써 롤 브러시 포결의 치우침을 방지하여 세정력을 증대시키는 세정 장치에 관한 것으로서, 특히 기판을 세정하는 세정 장치에 있어서, 상기 기판을 이송시키는 복수의 반송 롤러; 상기 기판 상에 세정수를 분사하는 샤워; 상기 기판의 전면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 전면을 세정하는 복수의 제 1 롤 브러시; 상기 복수의 제 1 롤 브러시 각각에 대응되도록 상기 기판의 배면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 배면을 세정하는 복수의 제 2 롤 브러시; 상기 제 1 롤 브러시와 상기 제 2 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 서로 다른 방향으로 회전축에 평행하게 진동시키기 위한 구동모터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus that increases cleaning power by preventing roll brush trapping by vibrating a roll brush simultaneously with rotation, and particularly, a cleaning apparatus for cleaning a substrate, comprising: a plurality of conveying rollers for conveying the substrate; A shower spraying washing water on the substrate; A plurality of first roll brushes installed on the front surface of the substrate and rotating and vibrating to clean the front surface of the substrate; A plurality of second roll brushes installed on a rear surface of the substrate so as to correspond to each of the plurality of first roll brushes, and rotating and simultaneously vibrating to clean the rear surface of the substrate; And a drive motor for rotating the first roll brush and the second roll brush and simultaneously vibrating parallel to the rotation axis in different directions.

롤 브러시, 세정력, 진동 Roll brush, cleaning power, vibration

Description

세정 장치{Cleaning Device}Cleaning Device

도 1은 종래 기술에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면.1 is a view from above of a cleaning apparatus according to the prior art;

도 2는 종래 기술에 의한 세정 장치의 측면도.2 is a side view of a cleaning apparatus according to the prior art.

도 3은 종래 기술에 의한 세정 장치의 문제점을 설명하기 위한 롤 브러시의 부분 정면도,3 is a partial front view of a roll brush for explaining the problem of the cleaning apparatus according to the prior art,

도 4는 본 발명에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면.Figure 4 is a view from above of the cleaning apparatus according to the present invention.

도 5는 본 발명에 의한 세정 장치의 측면도.5 is a side view of the cleaning apparatus according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

11 : 기판 12 : 롤 브러시11: substrate 12: roll brush

14 : 반송롤러 14: conveying roller

본 발명은 세정 장치에 관한 것으로, 특히 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 진동(Oscillation)시키면서 기판의 표면 오염을 제거하는 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus, and more particularly, to a cleaning apparatus for removing surface contamination of a substrate while rotating a roll brush and simultaneously oscillating.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 종래 기술에 따른 세정 장치를 설명하면 다음 과 같다.Hereinafter, a cleaning apparatus according to the prior art will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래 기술에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면이고, 도 2는 종래 기술에 의한 세정 장치의 측면도이다.1 is a view of a conventional cleaning apparatus from above, and FIG. 2 is a side view of the conventional cleaning apparatus.

그리고, 도 3은 종래 기술에 의한 세정 장치의 문제점을 설명하기 위한 롤 브러시의 부분 정면도이다,And FIG. 3 is a partial front view of the roll brush for demonstrating the problem of the washing | cleaning apparatus by a prior art,

도 1 및 도 2를 참고하여 종래 기술에 의한 세정 장치를 살펴보면, 세정할 기판(1)의 상,하측에 적어도 하나 이상 설치된 롤 브러시(2)와, 상기 롤 브러시(2)에 연결되어 상기 롤 브러시를 회전하도록 구동시키는 구동모터(미도시)와, 상기 기판(1) 상,하부 측에 각각 위치하여 상기 기판(1)을 향해 세정수를 분사시키는 파이프 샤워(미도시)와, 상기 기판(1)을 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지시키지 않고 계속 이동시켜 주는 반송롤러(4)로 구성된다.Referring to FIGS. 1 and 2, a cleaning apparatus according to the related art is described. At least one roll brush 2 is installed on upper and lower sides of a substrate 1 to be cleaned, and the roll brush 2 is connected to the roll brush 2. A drive motor (not shown) for driving the brush to rotate, a pipe shower (not shown) positioned at the upper and lower sides of the substrate 1 to inject cleaning water toward the substrate 1, and the substrate ( It is composed of a conveying roller 4 which continuously moves 1) without stopping from the loader to the unloader.

이 때, 상기 세정 장치에 의해 세정되는 기판은 액정표시소자의 기판, 반도체 기판 등 다양하게 응용 가능하다.In this case, the substrate cleaned by the cleaning apparatus may be variously applied to a substrate of a liquid crystal display device, a semiconductor substrate, and the like.

상기와 같이 구성된 세정 장치는 상기 기판(1)이 이동하는 방향과 반대 방향 또는 같은 방향으로 상기 롤 브러시(2)를 회전시켜 그 상호 회전력에 의해 세정이 이루어지도록 한다.The cleaning apparatus configured as described above rotates the roll brush 2 in the direction opposite to or in the same direction as the substrate 1 moves so that cleaning is performed by the mutual rotational force.

또한, 상기 파이프 샤워에서는 상기 롤 브러시(2)의 오염을 제거하고, 제거된 오염 입자의 비산을 방지하고, 상기 기판(1) 상에 남아있는 유기오염을 제거하고 또한, 기판과 롤 브러시와의 계면 마찰을 줄일 수 있도록 하기 위해 초순수를 분사한다. In addition, the pipe shower removes the contamination of the roll brush 2, prevents scattering of the removed polluted particles, removes the organic pollution remaining on the substrate 1, and further, the substrate and the roll brush Ultrapure water is sprayed to reduce interfacial friction.

이때, 상기 기판(1)의 표면에 존재하는 오염의 제거정도는 상기 롤 브러시(2)의 회전력, 상기 기판(1)과 롤 브러시(2)의 밀착력, 상기 기판(1)의 이동속도, 상기 롤 브러시(2)의 포결상태 등에 의해서 결정된다.In this case, the degree of removal of contamination present on the surface of the substrate 1 may include the rotational force of the roll brush 2, the adhesion force between the substrate 1 and the roll brush 2, the moving speed of the substrate 1, and the It determines with the trapping state of the roll brush 2, etc.

특히, 상기 롤 브러시(2)의 포결상태는 회전에 의해 시간이 지남에 따라 변하게 되는데, 기판과 접촉되는 롤 브러시(2)의 표면의 포털(3)이 도 3에 도시된 바와 같이 한쪽 방향으로 치우치게 되어 오염 제거 능력이 떨어진다.In particular, the trapping state of the roll brush 2 is changed over time by the rotation, the portal 3 of the surface of the roll brush 2 in contact with the substrate in one direction as shown in FIG. It is biased and decontamination is inferior.

즉, 상기와 같은 종래의 세정 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.That is, the conventional cleaning apparatus as described above has the following problems.

기존의 세정 장치는 롤 브러시의 회전만으로 기판을 세정하는데, 시간이 경과함에 따라 기판과의 마찰에 의해 롤 브러시의 포결이 한 쪽 방향으로 치우치게 되어 계속적으로 그 상태를 유지한다.The conventional cleaning apparatus cleans the substrate only by the rotation of the roll brush. As time passes, trapping of the roll brush is biased in one direction due to friction with the substrate, thereby maintaining the state continuously.

따라서, 포결이 치우친 부위의 입자 제거력이 떨어지게 되어 기판의 전표면에 대한 균일한 세정이 불가능하게 된다.Therefore, the particle removal force at the portion where the swelling is biased is reduced, making it impossible to uniformly clean the entire surface of the substrate.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로, 기판 세정시 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축 방향으로 진동시켜 줌으로써 롤 브러시 포결의 치우침을 방지하여 세정력을 증대시키는 세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, to provide a cleaning device to increase the cleaning power by preventing the roll brush trapping by vibrating in the direction of the rotation axis while rotating the roll brush when cleaning the substrate. There is this.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 세정 장치는 기판을 세정하는 세정 장치에 있어서, 상기 기판을 이송시키는 복수의 반송 롤러; 상기 기판 상에 세정수를 분사하는 샤워; 상기 기판의 전면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 전면을 세정하는 복수의 제 1 롤 브러시; 상기 복수의 제 1 롤 브러시 각각에 대응되도록 상기 기판의 배면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 배면을 세정하는 복수의 제 2 롤 브러시; 상기 제 1 롤 브러시와 상기 제 2 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 서로 다른 방향으로 회전축에 평행하게 진동시키기 위한 구동모터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the cleaning apparatus of the present invention for achieving the above object, a cleaning apparatus for cleaning a substrate, comprising: a plurality of conveying rollers for transporting the substrate; A shower spraying washing water on the substrate; A plurality of first roll brushes installed on the front surface of the substrate and rotating and vibrating to clean the front surface of the substrate; A plurality of second roll brushes installed on a rear surface of the substrate so as to correspond to each of the plurality of first roll brushes, and rotating and simultaneously vibrating to clean the rear surface of the substrate; And a drive motor for rotating the first roll brush and the second roll brush and simultaneously vibrating parallel to the rotation axis in different directions.

즉, 기판 세정시 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하게 진동시켜줌으로써 롤 브러시 포결의 치우침을 방지하고 또한, 세정 방향을 종축 및 횡축으로 동시에 행하여 세정력을 증대시킨다.In other words, by rotating the roll brush at the time of cleaning the substrate and vibrating in parallel with the rotation axis, the roll brush trapping is prevented from being biased, and the cleaning direction is simultaneously performed on the vertical axis and the horizontal axis to increase the cleaning power.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 세정 장치를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the cleaning apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 의한 세정 장치를 상부에서 바라본 도면이고, 도 5는 본 발명에 의한 세정 장치의 측면도이다.4 is a view of the cleaning apparatus according to the present invention seen from above, and FIG. 5 is a side view of the cleaning apparatus according to the present invention.

도 4 및 도 5를 참고하여 본 발명에 의한 세정 장치를 살펴보면, 세정할 기판(11)의 상,하측에 적어도 하나 이상 설치된 롤 브러시(12)와, 상기 롤 브러시(12)에 연결되어 상기 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하게 진동되도록 롤 브러시를 구동시켜 주는 구동모터(미도시)와, 상기 기판(1) 상,하부 측에 각각 위치하여 상기 기판(11)을 향해 세정수를 분사시켜 주는 파이프 샤워(미도시)와, 상기 기판(11)을 로딩부(Loader)에서 언로딩부(Unloader)까지 정지시키지 않고 계속 이동시키는 반송롤러(14)로 구성된다.Looking at the cleaning apparatus according to the present invention with reference to Figures 4 and 5, at least one roll brush 12 is installed on the upper and lower sides of the substrate 11 to be cleaned, and the roll brush 12 is connected to the roll A driving motor (not shown) for driving a roll brush to rotate the brush and to vibrate parallel to the rotation axis at the same time, and to spray the cleaning water toward the substrate 11, respectively located on the upper and lower sides of the substrate (1) A pipe shower (not shown), and a conveying roller 14 for continuously moving the substrate 11 without stopping from the loader to the unloader.

이 때, 세정 장치에 의해 세정되는 상기 기판(11)은 액정표시소자의 유리기판, 반도체 기판 등 그 종류를 불문한다.At this time, the substrate 11 cleaned by the cleaning apparatus may be any type of glass substrate, semiconductor substrate, or the like of the liquid crystal display device.

그리고, 상기 기판(11)의 상면과 롤 브러시(roll brush)(12)는 서로 밀착되도록 설치되어 상기 롤 브러시가 회전 및 진동할 때, 상기 기판(11) 상의 오염이 제거되도록 한다.In addition, the upper surface of the substrate 11 and the roll brush 12 are installed to be in close contact with each other so that the contamination on the substrate 11 is removed when the roll brush rotates and vibrates.

상기와 같이 구성된 세정 장치는 상기 기판(11)의 이동 방향과 반대방향 또는 같은방향으로 상기 롤 브러시(12)를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하도록 롤 브러시를 진동시켜 기판이 이중으로 세정되도록 한다.The cleaning apparatus configured as described above rotates the roll brush 12 in the direction opposite to or in the same direction as the moving direction of the substrate 11 and simultaneously vibrates the roll brush so as to be parallel to the rotation axis so that the substrate is cleaned twice.

이와 같이 진동시킬 때, 서로 대응되는 상,하측의 롤 브러시가 같은 방향으로 진동되어도 되고 서로 다른 방향으로 진동되어도 된다.When vibrating in this manner, the upper and lower roll brushes corresponding to each other may vibrate in the same direction or may vibrate in different directions.

이로써, 세정 장치의 세정력이 증대된다.This increases the cleaning power of the cleaning device.

또한, 회전과 동시에 롤 브러시를 진동시켜 줌으로써 롤 브러시의 포결이 한 쪽 방향으로 치우치는 것도 방지된다.In addition, by vibrating the roll brush at the same time as the rotation, trapping of the roll brush is prevented from biasing in one direction.

따라서, 롤 브러시 자체의 오염 입자 제거 능력이 향상되고 수명이 길어진다. Therefore, the dirt removal ability of the roll brush itself is improved and its life is long.

상기 파이프 샤워에서는 상기 롤 브러시(12)의 오염을 제거하고, 제거된 오염 입자의 비산을 방지하고, 상기 기판(11) 상에 남아있는 유기오염을 제거할 수 있도록 하기 위해 초순수를 분사한다. In the pipe shower, ultrapure water is sprayed to remove the contamination of the roll brush 12, to prevent scattering of the removed polluted particles, and to remove the organic pollution remaining on the substrate 11.

상기와 같은 본 발명의 세정 장치는 다음과 같은 효과가 있다.The cleaning device of the present invention as described above has the following effects.

첫재, 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 회전축에 평행하게 진동시켜줌으로써 롤 브러시 포결의 치우침이 방지되어 오염 제거 능력이 향상되고 기판 전면에 대한 균일한 세정이 가능하게 되어 세정 불량이 감소한다.First, by rotating the roll brush and simultaneously vibrating parallel to the axis of rotation, the roll brush trapping is prevented, so that the decontamination ability is improved and uniform cleaning of the entire surface of the substrate is possible, thereby reducing the cleaning failure.

둘째, 롤 브러시의 장기 사용이 가능하게 된다. Second, long-term use of the roll brush is possible.                     

셋째, 기판 세정시 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 진동시켜 이중으로 세정하므로 세정력이 현저히 증대된다. Third, the cleaning power is remarkably increased because the roll brush is rotated at the same time as the substrate cleaning, and the vibration is simultaneously cleaned.

따라서, 세정력이 증대됨과 동시에 생산성이 향상된다.Therefore, the washing power is increased and the productivity is improved.

Claims (4)

기판을 세정하는 세정 장치에 있어서, In the cleaning apparatus for cleaning a substrate, 상기 기판을 이송시키는 복수의 반송 롤러;A plurality of conveying rollers for conveying the substrate; 상기 기판 상에 세정수를 분사하는 샤워;A shower spraying washing water on the substrate; 상기 기판의 전면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 전면을 세정하는 복수의 제 1 롤 브러시; A plurality of first roll brushes installed on the front surface of the substrate and rotating and vibrating to clean the front surface of the substrate; 상기 복수의 제 1 롤 브러시 각각에 대응되도록 상기 기판의 배면에 설치되어 회전함과 동시에 진동하여 상기 기판의 배면을 세정하는 복수의 제 2 롤 브러시; A plurality of second roll brushes installed on a rear surface of the substrate so as to correspond to each of the plurality of first roll brushes, and rotating and simultaneously vibrating to clean the rear surface of the substrate; 상기 제 1 롤 브러시와 상기 제 2 롤 브러시를 회전시킴과 동시에 서로 다른 방향으로 회전축에 평행하게 진동시키기 위한 구동모터를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 세정 장치.And a drive motor for rotating the first roll brush and the second roll brush and simultaneously oscillating parallel to the rotation axis in different directions. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
KR1020000083063A 2000-12-27 2000-12-27 Cleaning Device KR100720437B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000083063A KR100720437B1 (en) 2000-12-27 2000-12-27 Cleaning Device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000083063A KR100720437B1 (en) 2000-12-27 2000-12-27 Cleaning Device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020053427A KR20020053427A (en) 2002-07-05
KR100720437B1 true KR100720437B1 (en) 2007-05-22

Family

ID=27686802

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000083063A KR100720437B1 (en) 2000-12-27 2000-12-27 Cleaning Device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100720437B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100903175B1 (en) * 2008-09-22 2009-06-17 주식회사 에이유테크 Cleaning apparatus for display panel having plural cleaning wheel
KR100923531B1 (en) 2008-03-19 2009-10-27 (주)와이티에스 Oscillating device cleaning roller display panel unit
KR101056528B1 (en) * 2008-11-06 2011-08-11 엠.씨.케이 (주) Cleaner for LCD Panel

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100753566B1 (en) * 2001-05-28 2007-08-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Brushing apparatus for lcd panel cleaning system
KR100636709B1 (en) * 2004-10-01 2006-10-19 주식회사 신안에스엔피 Rotary Type Glass Washing Machine
CN112978365B (en) * 2021-05-13 2021-07-30 新乡职业技术学院 Automatic cargo grabbing and lifting device for logistics transportation

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH076987A (en) * 1993-06-15 1995-01-10 Toshiba Corp Cleaning apparatus
JPH081103A (en) * 1994-06-20 1996-01-09 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd Cleaning apparatus for plate body
JPH10256207A (en) * 1997-03-14 1998-09-25 Nec Corp Brush scrub device
JPH11176790A (en) * 1997-12-12 1999-07-02 Tokyo Electron Ltd Cleaning system
US5937469A (en) * 1996-12-03 1999-08-17 Intel Corporation Apparatus for mechanically cleaning the edges of wafers

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH076987A (en) * 1993-06-15 1995-01-10 Toshiba Corp Cleaning apparatus
JPH081103A (en) * 1994-06-20 1996-01-09 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd Cleaning apparatus for plate body
US5937469A (en) * 1996-12-03 1999-08-17 Intel Corporation Apparatus for mechanically cleaning the edges of wafers
JPH10256207A (en) * 1997-03-14 1998-09-25 Nec Corp Brush scrub device
JPH11176790A (en) * 1997-12-12 1999-07-02 Tokyo Electron Ltd Cleaning system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100923531B1 (en) 2008-03-19 2009-10-27 (주)와이티에스 Oscillating device cleaning roller display panel unit
KR100903175B1 (en) * 2008-09-22 2009-06-17 주식회사 에이유테크 Cleaning apparatus for display panel having plural cleaning wheel
KR101056528B1 (en) * 2008-11-06 2011-08-11 엠.씨.케이 (주) Cleaner for LCD Panel

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020053427A (en) 2002-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100850122B1 (en) Panel washing machine and washing method
JP4003837B2 (en) Roller with tread and system including the same
JP2001246331A (en) Cleaning device
KR100720437B1 (en) Cleaning Device
KR20170048136A (en) Cleaning head and cleaning method
KR100685919B1 (en) Cleaning Device
JPH065577A (en) Substrate cleaning device
WO2000034992A1 (en) Method and apparatus for processing wafer
KR100525927B1 (en) Equipment of processing a substrate for liquid crystal display device
JP2002239485A (en) Apparatus and method for cleaning substrate
JP2006278713A (en) Apparatus for cleaning substrate
JP2007141922A (en) Substrate-cleaning device and substrate-cleaning method using the same
JPH09223681A (en) Cleaning apparatus
JP2010017658A (en) Apparatus and method for cleaning end surface of substrate
KR20080073974A (en) Apparatus and method for cleaning sputtering target
JP4908316B2 (en) Cleaning apparatus, flat panel display manufacturing apparatus and flat panel display
JP2005012238A (en) Method and apparatus for cleaning substrate
JP2000150439A (en) Washing device
JP2000150441A (en) Roller brush washing device
JP4411766B2 (en) Substrate cleaning method and apparatus
KR101284681B1 (en) Cleaning device for substrate and method thereof
JP2008140928A (en) Cleaning equipment
JPH08141532A (en) Batchwise brush washing apparatus and method
KR0130743Y1 (en) Cleaning apparatus of a wafer
JP3331390B2 (en) Substrate cleaning equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120330

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130329

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150429

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160428

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170413

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180416

Year of fee payment: 12

LAPS Lapse due to unpaid annual fee