KR20080073974A - Apparatus and method for cleaning sputtering target - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명에 따른 스퍼터링용 타겟 세정장치의 구조를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view showing the structure of a target cleaning apparatus for sputtering according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 스퍼터링용 타겟 세정장치의 구조를 도시한 단면도이다. 2 is a cross-sectional view showing the structure of the target cleaning apparatus for sputtering according to the present invention.
도 3은 도 1의 A 영역을 확대한 사시도이다.3 is an enlarged perspective view of region A of FIG. 1.
도4는 본 발명의 변형예를 도시한 사시도이다.4 is a perspective view showing a modification of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
100 : 스퍼터링용 타겟 세정장치 110 : 초음파 세정부재100: target cleaning device for sputtering 110: ultrasonic cleaning member
120 : 이송부재 124 : 컨베이어 벨트120: transfer member 124: conveyor belt
126a, 126b : 배수 홀 130 : 습식 세정부재126a, 126b: drain hole 130: wet cleaning member
134 : 분사기 138 : 브러시134: injector 138: brush
140 : 건조부재 144 : 공기 분사기140: drying member 144: air injector
150 : 타겟 152, 154, 156, 158 : 광학 센서150:
200 : 스퍼터링용 타겟 세정장치 단계200: target cleaning device step for sputtering
본 발명은 스퍼터링용 타겟 세정장치에 관한 것으로서, 보다 자세하게는 스퍼터링용 타겟 표면에 있는 이물질을 시스템적으로 세정할 수 있는 스퍼터링용 타겟 세정장치에 관한 것이다. The present invention relates to a sputtering target cleaning device, and more particularly, to a sputtering target cleaning device that can systematically clean foreign substances on the surface of the sputtering target.
최근 FPD(Flat Panel Display), 기록 매체, 반도체 디바이스 등의 분야에서는 증착 및 표면처리 등을 위해 스퍼터링 타겟이 사용되고 있다. 그 중 FPD 분야에서는 화면의 대형화에 따라 스퍼터링 타겟 자체의 대형화가 진행하고 있다. Recently, in the fields of flat panel displays (FPDs), recording media, semiconductor devices, and the like, sputtering targets are used for deposition and surface treatment. Among them, in the field of FPD, the sputtering target itself is being enlarged as the screen is enlarged.
각 분야에서 사용되는 스퍼터링 타겟은 여러 가지 조성 재질의 것이 알려져 있지만, 스퍼터링 타겟은 타겟 표면에 먼지 및 유기물과 같은 이물질이 존재하게 되면 스퍼터링 시에 아킹(Arching) 현상이 발생할 수 있으며, 불필요한 이물질까지 스퍼터링 되어 박막 특성에 악영향을 미칠 수가 있다. 따라서 스퍼터링 전에 타겟으로부터 이물질을 제거하여 아킹(Arcing) 현상이나 기타 영향을 억제하는 것이 요구된다. 현재 타겟을 세정하기 위해서 초음파 세정부재가 사용되고 있으며 초음파 세정부재 사용 후에, 헝겊과 같은 도구로 타겟 표면을 닦아내는 세정 공정도 도입되고 있다. Although sputtering targets used in various fields are known to be made of various composition materials, sputtering targets may cause arcing when sputtering if foreign substances such as dust and organic materials are present on the surface of the target, and sputtering even unnecessary foreign substances. This can adversely affect the thin film properties. Therefore, it is required to remove the foreign matter from the target before sputtering to suppress the arcing phenomenon or other effects. At present, an ultrasonic cleaning member is used to clean the target, and after using the ultrasonic cleaning member, a cleaning process of wiping the target surface with a tool such as a cloth is also introduced.
하지만 기존에 사용하던 세정 공정은 초음파 세정부재을 이용한 기계적 공정을 거친 후 일일이 수작업으로 추가 세정을 하기 때문에 시간 및 인력 효율의 손실이 큰 문제점이 있다.However, the cleaning process used in the past has a large problem of loss of time and manpower efficiency since the cleaning process is manually performed after the mechanical process using the ultrasonic cleaning member.
또한, 기존에는 작업자의 실수 또는 주변환경 요건에 의하여 타겟 표면의 세정이 제대로 이루어지지 않을 수 있다. 이와 같이, 타겟 표면에 먼지 및 유기물과 같은 이물질이 존재하게 되면 스퍼터링시에 이물질이 스퍼터링 되어 박막 특성에 영향을 미치거나 이물질로 인하여 아킹이 발생하여 타겟의 수명을 저하시키는 문제점이 있다. In addition, the cleaning of the target surface may not be properly performed due to the mistake of the operator or the environmental requirements. As such, when foreign matters such as dust and organic material are present on the target surface, foreign matters are sputtered during sputtering, affecting thin film properties or arcing due to foreign matters, thereby deteriorating the life of the target.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서 안출한 것으로서, 본 발명은 타겟의 세정공정을 자동화할 수 있는 스퍼터링용 타겟 세정장치를 제공한다. 특히, 연속적으로 움직일 수 있는 타겟 세정장치의 자동화를 통해 타겟 세정공정의 작업 시간을 감소시키며, 나아가 작업 생산량을 증가시키는 스퍼터링용 타겟 세정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the present invention provides a sputtering target cleaning device that can automate the cleaning process of the target. In particular, it is an object of the present invention to provide a sputtering target cleaning device that reduces the working time of the target cleaning process through the automation of the target cleaning device that can be continuously moved, and further increases the work output.
또한, 본 발명은 작업자의 실수로 인한 세정 불량을 감소할 수 있는 스퍼터리용 타겟의 세정장치를 제공한다. 즉, 본 발명은 수작업에서 발생할 수 있는 2차 오염을 방지하며 타겟 표면의 먼지 및 유기물을 효율적으로 제거할 수 있게 되어 박막 특성에 영향을 미치지 않는 스퍼터링용 타겟 세정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, the present invention provides a cleaning apparatus for a target for sputtering, which can reduce a cleaning failure due to an operator mistake. That is, an object of the present invention is to provide a sputtering target cleaning device that prevents secondary contamination that may occur in manual operation and efficiently removes dust and organics from a target surface, and does not affect thin film properties.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 스퍼터링용 타겟 세정장치는 초음파 세정부재와 초음파 세정부재로부터 타겟을 이송하기 위한 이송부재, 이송부재에 인접하게 장착되어 이동하는 타겟을 습식으로 세정하기 위한 습식 세정부재, 이송부재에 인접하게 장착되어 습식 세정부 재를 통과한 타겟을 건조하는 건조부재를 구비한다.According to a preferred embodiment of the present invention for achieving the above object of the present invention, the target cleaning apparatus for sputtering is mounted to move adjacent to the transfer member, the transfer member for transferring the target from the ultrasonic cleaning member and the ultrasonic cleaning member A wet cleaning member for wet cleaning the target, and a drying member mounted adjacent to the conveying member to dry the target passed through the wet cleaning material.
초음파 세정부재는 물과 같은 액체를 이용하여 습식 환경에서 타겟을 세정할 수 있으며, 초음파를 이용하여 타겟 표면에 부착되어 있는 이물질을 제거할 수 있다. 타겟을 초음파 세정 및 세정액을 이용한 및 세정액을 이용하는 초음파 세정부재로서는 요구되는 조건에 따라 다양한 세정장치가 적용될 수 있으며, 그 형태와 구조에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.The ultrasonic cleaning member may clean the target in a wet environment by using a liquid such as water, and may remove foreign substances attached to the target surface by using ultrasonic waves. As the ultrasonic cleaning member using the ultrasonic cleaning and the cleaning liquid and the cleaning liquid as the target, various cleaning apparatuses can be applied according to the required conditions, and the present invention is not limited by the form and structure.
초음파 세정부재를 통해 일차적으로 이물질이 제거된 타겟은 다른 습식 세정부재를 통과할 수 있다. 습식 세정부재는 브러시와 분사기를 포함할 수 있으며, 브러시는 타겟의 표면에 초음파 세정 및 세정액을 이용한 공정에서 미처 제거되지 못하고 남은 이물질을 제거 할 수 있다. 본 발명에서 브러시는 원통형으로 형성되어 타겟에 대해 회전하며 통상의 빗자루와 같이 타겟의 표면에 남아 있는 이물질을 쓸어내리는 역할을 수행할 수 있다. 다시 말해 타겟과 접하는 브러시는 타겟이 움직이는 방향과 반대로 움직일 수 있다. 하지만 본 발명에 따른 브러시의 회전은 사용자의 보는 방향에 따라 그 회전 방향이 다를 수 있다. 따라서 브러시의 회전 방향이 본 발명을 한정하는 것은 아니며, 브러시의 형태가 본 발명을 한정하지도 않는다. The target from which foreign matter is first removed through the ultrasonic cleaning member may pass through another wet cleaning member. The wet cleaning member may include a brush and an injector, and the brush may remove foreign matters that could not be removed in a process using ultrasonic cleaning and a cleaning solution on the surface of the target. In the present invention, the brush is formed in a cylindrical shape and rotates with respect to the target and may serve to sweep off the foreign matter remaining on the surface of the target like a normal broom. In other words, the brush in contact with the target may move in a direction opposite to the direction in which the target moves. However, the rotation of the brush according to the present invention may vary in the direction of rotation according to the viewing direction of the user. Therefore, the rotational direction of the brush does not limit the present invention, and the shape of the brush does not limit the present invention.
또한 분사기는 브러시와 인접하게 형성되며, 타겟의 표면에 세정액과 같은 세정액을 분사하여 브러시에 세정액을 계속적으로 공급할 수 있다. 세정액은 타겟 상에 남아 있는 이물질을 지면 방향으로 떨어지게 해주는 역할을 수행할 수 있으며, 또한 브러시에 붙어 남아 있는 이물질도 분사기로 제거해 주는 역할을 수행할 수도 있다. In addition, the injector is formed adjacent to the brush, it is possible to continuously supply the cleaning liquid to the brush by spraying the cleaning liquid, such as the cleaning liquid on the surface of the target. The cleaning liquid may serve to drop foreign substances remaining on the target in the direction of the ground, and may also serve to remove foreign substances remaining on the brush with an injector.
초음파 세정공정과 습식 세정공정에 의해 세정되는 타겟은 이송부재를 따라 이송될 수 있다. 이송부재는 지면에 대하여 경사진 방향으로 형성될 수 있으며, 이때 타겟을 이송시키는 벨트가 사용될 수도 있다. 벨트는 컨베이어 형상으로 형성될 수 있으며, 벨트는 벨트 상에 잔류된 세정액을 배수시키기 위한 배수의 배수 홀을 포함할 수도 있다. The target cleaned by the ultrasonic cleaning process and the wet cleaning process may be transferred along the transfer member. The conveying member may be formed in an inclined direction with respect to the ground, and a belt for conveying the target may be used. The belt may be formed in a conveyor shape, and the belt may include a drain hole for draining the cleaning liquid remaining on the belt.
컨베이어 벨트는 타겟의 이송을 위해 복수개의 컨베이어 벨트로 형성될 수 있으며, 이러한 컨베이어 벨트는 서로 평행하게 형성되어 타겟이 이동될 수 있다. 바람직하게는, 컨베이어 벨트는 타겟이 이동될 때, 타겟이 흔들리거나 움직이지 않고 안정적으로 이동될 수 있도록 타겟의 양 끝 단이 위치하는 자리에 형성될 수 있다. The conveyor belt may be formed of a plurality of conveyor belts for the transfer of the target, and the conveyor belt may be formed in parallel with each other to move the target. Preferably, the conveyor belt may be formed at a position where both ends of the target are positioned so that the target can be stably moved without shaking or moving when the target is moved.
이송부재는 지면에 대해 일정 각도 기울어져 형성될 수 있으며, 이 각도는 0° 초과 90°미만의 각도에서 타겟의 미끄러짐이나 이탈 없이 이동될 수 있도록 이루어질 수 있다. 이와 같이 이송부재를 기울여 형성하는 이유는 타겟의 습식 세정에서 사용된 세정액이 자연스럽게 흘러내려갈 수 있기 때문이다. 타겟 세정에 관련된 공정이 자동화됨에 따라 수작업으로 인해 발생하는 타겟의 2차 오염을 방지할 수 있어 타겟 표면의 유기물을 보다 효율적으로 제거할 수 있다. 또한, 습식 세정 후에 남아 있는 세정액은 이송부재에 형성되어 있는 컨베이어 벨트의 배수 홀을 따라 흘러내리도록 구성되어 타겟의 재오염을 방지할 수 있다.The conveying member may be formed to be inclined at an angle with respect to the ground, and the angle may be made to be moved without slipping or deviation of the target at an angle greater than 0 ° and less than 90 °. The reason for the inclination of the transfer member is that the cleaning liquid used in the wet cleaning of the target can naturally flow down. As the process related to the target cleaning is automated, the secondary contamination of the target generated by manual operation can be prevented, so that organic matter on the target surface can be removed more efficiently. In addition, the cleaning liquid remaining after the wet cleaning is configured to flow along the drain hole of the conveyor belt formed in the conveying member to prevent re-contamination of the target.
이때 타켓의 이동경로 상에는 복수개의 광학 센서가 포함될 수 있다. 광학 센서는 타겟이 이동할 때 타겟의 움직임을 감지해 주어 이송부재가 자동적으로 움직여 타겟을 세정할 수 있는 역할을 수행한다. 타겟을 연속적으로 통과시켜 대량으로 세정할 수도 있지만, 광학 센서로 타겟의 처리량을 제한하여 타겟 간의 오염을 방지할 수도 있다. 예를 들어, 습식 세정부재를 지난 타겟의 표면에는 전반적인 이물질은 제거될 수 있으나, 분사기로 인한 세정액 또는 이물질이 다음 타겟으로 전달되어 2차 오염을 일으킬 수도 있기 때문이다. In this case, a plurality of optical sensors may be included on the movement path of the target. The optical sensor senses the movement of the target when the target moves, and the transfer member moves automatically to play the role of cleaning the target. Although the target may be continuously passed and cleaned in large quantities, the optical sensor may limit the throughput of the target to prevent contamination between the targets. For example, the entire surface of the target past the wet cleaning member may be removed, but the cleaning liquid or foreign matter from the sprayer may be transferred to the next target to cause secondary contamination.
타겟의 세정액을 제거하기 위해 건조부재가 형성될 수 있으며, 건조부재는 공기가 분사되는 공기 분사기를 포함할 수도 있다. 건조부재는 세정액의 자연 건조로 인해 타겟의 표면에 얼룩이 형성되는 것을 방지할 수 있으며, 건조 과정에서 먼지나 이물질이 타겟에 내려앉아 타겟이 2차적으로 오염되는 것을 방지할 수 있다.A drying member may be formed to remove the cleaning liquid of the target, and the drying member may include an air injector through which air is injected. The drying member may prevent stains from being formed on the surface of the target due to natural drying of the cleaning liquid, and may prevent dust or foreign matter from falling down on the target during the drying process and contaminate the target secondaryly.
건조부재는 이송부재를 중심으로 일정 각도 기울어져 형성되어 공기를 분사될 수 있다. 즉, 건조부재의 각도는 타겟의 표면에 형성되어 있는 세정액을 보다 쉽고 빠르게 건조할 수 있도록 형성될 수 있다. 또한 건조부재는 열이나 센서를 이용하여 형성되어 타겟에 형성된 세정액을 제거할 수도 있으나, 열이나 센서를 사용하는 건조부재의 경우 타겟의 표면에 형성되어 있는 세정액이 얼룩으로 남게 될 수도 있어 건조부재는 공기를 이용하여 형성되는 것이 바람직하다. The drying member is formed to be inclined at an angle with respect to the conveying member to inject air. That is, the angle of the drying member may be formed to more easily and quickly dry the cleaning liquid formed on the surface of the target. In addition, the drying member may be formed using heat or a sensor to remove the cleaning liquid formed on the target, but in the case of the drying member using the heat or sensor, the cleaning liquid formed on the surface of the target may remain as stains. It is preferably formed using air.
이하 첩부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해 구체적인 설명은 본 발명의 요지 를 명료하게 하기 위하여 생략될 수 있다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings, but the present invention is not limited or limited by the embodiments. In describing the present invention, a detailed description of known functions or configurations may be omitted to clarify the gist of the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 스퍼터링용 타겟 세정장치의 구조를 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 단면도이다.1 is a perspective view showing the structure of a target cleaning apparatus for sputtering according to the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view according to the present invention.
도 1 및 도 2에서 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 스퍼터링용 타겟 세정장치(100)는 초음파 세정부재(110), 이송부재(120), 습식 세정부재(130) 및 건조부재(140)를 포함한다. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the sputtering
초음파 세정부재(110)는 물과 같은 액체를 이용하여 습식 환경에서 타겟을 세정할 수 있으며, 초음파 발생을 위해 초음파 발생기를 포함할 수도 있다. 초음파 발생기의 초음파를 통해 타겟(150) 표면에 부착되어 있는 이물질을 일차적으로 제거할 수 있으며, 이 때의 초음파의 주파수 영역은 타겟의 특성 및 종류에 따라 다양하게 변경될 수 있다. 일 예로, 초음파 발생기에 제공되는 초음파는 에너지가 증가할수록 분자의 응집력이 파괴되고, 제공되는 초음파는 타겟(150)의 표면에 구멍을 형성할 수 있기 때문에 요구되는 조건에 따라 초음파의 주파수 영역은 적절하게 변경될 수 있다. 이때, 초음파 세정부재는 초음파 발생기에 한정되는 것은 아니며 초음파 세정공정을 이용하여 타겟(150)을 세정하는 다양한 초음파 세정부재가 적용될 수 있다. The
초음파 세정부재(110)에 의해 일차적으로 이물질이 제거된 타겟(150)은 이하 설명될 이송부재(120)를 따라 습식 세정부재(130)를 통과할 수 있다. 습식 세정부재(130)는 브러시(138)와 분사기(134)를 포함할 수 있다. 브러시(138)는 타겟(150)의 표면에 초음파 세정부재(110)에서 미처 제거되지 못하고 남아 있는 이물 질을 제거할 수 있다. 도 1 및 도 2에서 도시한 바와 같이 브러시(138)는 원통형으로 형성되어 통상의 빗자루와 같이 타겟(150)의 표면에 남아 있는 이물질을 쓸어내기는 역할을 수행할 수도 있다. 본 발명에 따르면 브러시(138)는 원통형으로 형성되는 것을 제시하였지만 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 타겟(150)의 표면에 남아 있는 이물질을 제거할 수 있는 다른 형태 및 크기를 갖도록 형성될 수도 있다. 이때 브러시(138)는 회전하여 이물질을 제거할 수 있으며, 회전 방향이나 회전 속도 및 회전의 강도 등이 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 다시 말해 타겟(150)이 이동하는 방향과 브러시(138)와 타겟(150)이 접하는 부분은 반대로 움직일 수 있으며, 회전 방향은 사용자의 보는 방향에 따라 바뀔 수 있으며 이에 따라 브러시(138)가 회전이 아닌 이물질을 쓸어낼 수도 있는 등 여러 가지 방법으로 타겟(150)의 이물질을 제거할 수 있다. The
또한 분사기(134)는 타겟(150)의 표면에 세정액을 분사하며, 이때 분사기(134)는 브러시(138)에서 분리되는 이물질을 배수 홀(126a)을 따라 흘러내려가 타겟(150)의 재오염을 방지하도록 해주며, 또한, 브러시(138)에서 분리되지 않고 브러시(138)에 남아 있는 이물질을 세정액으로 제거해주는 역할을 수행할 수도 있다. In addition, the
여기서 브러시(138)는 폴리머와 같은 재질로 형성되며, 이때 브러시(138)의 재질로 인하여 본 발명이 제한되지 않는다. 즉, 타겟(150)의 이물질이 보다 확실히 제거될 수 있는 다른 재질의 브러시로도 사용 가능하며, 이때 브러시(138)는 타겟(150)의 완벽한 세정을 위하여 적어도 하나 이상으로 형성되는 것이 바람 직 할 것이다. 또한 분사기(134)는 세정액을 분사하기 위한 노즐의 형태로 형성될 수 있으며, 이러한 노즐의 형태나 재질은 본 발명을 제한하거나 한정하지 않는다. 예를 들어, 브러시(138)의 제조를 위한 폴리머로는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등이 사용될 수 있다. Here, the
상기 초음파 세정공정과 습식 세정공정에 의해 세정되는 타겟(150)은 이송부재(120)를 따라 이송될 수 있다. 이송부재(120)는 지면에 대하여 경사진 방향으로 형성되어 있으며 이송부재(120)를 따라 세정된 타겟(150)이 이동될 수 있다. 또한 이송부재(120)는 타겟(150)을 이송시키는 벨트를 포함할 수 있으며 이러한 벨트는 컨베이어 벨트(124) 형상으로 형성될 수 있으며, 컨베이어 벨트(124)는 배수의 배수 홀(126a)을 포함할 수도 있다. The
컨베이어 벨트(124)는 타겟(150)의 이송을 위해 복수개의 컨베이어 벨트(124)로 형성될 수 있으며, 이러한 컨베이어 벨트(124)는 서로 평행하게 형성되어 타겟(150)이 이동될 수 있다. 즉, 컨베이어 벨트(124)는 타겟(150)이 이동될 때, 타겟(150)이 흔들리거나 움직이지 않도록 타겟(150)의 양 끝 단이 위치하는 자리에 형성될 수 있다. 또한 타겟(150)의 양 끝 단은 서로 마주보며 평행하고 있으므로 컨베이어 벨트(124)의 형상도 평행하게 형성될 수 있다. The
이송부재(120)는 지면을 기준으로 일정 각도(α)로 기울어져 형성될 수 있으며, 이 각도는 0° 초과 90°미만의 각도에서 타겟(150)의 미끄러짐이나 이탈 없이 이동될 수 있도록 이루어질 수 있다. 이와 같이 이송부재(120)를 기울여 형성하는 이유는 타겟(150)의 습식 세정에서 형성될 수 있는 세정액(136)을 제거할 수 있 기 때문이다.The conveying
이때 이송부재(120)의 컨베이어 벨트(124)에는 복수개의 광학 센서(128)를 포함할 수도 있다. 광학 센서(128)는 타겟(150)이 이동할 때 타겟(150)의 움직임을 감지해 주어 이송부재(120)가 자동적으로 움직여 타겟(150)을 세정할 수 있는 역할을 수행한다. 즉, 타겟(150)이 초음파 세정부재(110)에서 세정공정을 거치고 습식 세정부재(130)로 이동할 때, 초음파 세정부재(110)와 인접하게 장착된 광학 센서(152)가 작동되어 초음파 세정부재(110)의 동작을 멈출 수 있게 한다. 또한 이동하는 타겟(150)이 초음파 세정부재(110) 방향과 가깝게 장착된 광학 센서(152)를 지나게 되면 습식 세정부재(130)가 동작할 수 있다. 또한 초음파 세정부재(110)와 같은 방법으로 습식 세정부재(130)의 세정공정을 마치게 되면 타겟(150)이 지나는 방향 및 습식 세정부재(130)와 인접하도록 장착된 광학 센서(154)가 작동하여 분사기(134)와 브러시(138)은 동작을 멈출 수 있다. 이렇게 습식 세정부재(130)를 지난 타겟(150)은 초음파 세정부재(110)가 시작되는 광학 센서(156)를 지나게 되며 광학 센서(156)을 지남과 동시에 건조부재(140)가 작동하게 된다. 또한 건조부재(140)를 지나 건조된 타겟(150)이 건조부재(140)가 끝나는 광학 센서(158)을 지나게 되면 앞서 설명한 광학 센서(152, 156)와 같이 건조부재(140)의 그 동작을 멈출 수 있다.In this case, the
이렇게 습식 세정부재(130)를 지난 타겟(150)의 표면에는 전반적인 이물질은 제거될 수 있으나, 분사기(134)로 인한 세정액(136)이 형성되어 2차 오염을 일으킬 수도 있다. 즉, 세정액(136)으로 인한 타겟(150)의 표면이 얼룩이 형성될 수 도 있으며, 먼지나 이물질이 내려앉아 타겟(150) 2차 오염의 원인이 될 수도 있다. 따라서 타겟(150)의 세정액(136)을 제거하기 위해 건조부재(140)가 형성될 수 있으며, 건조부재(140)는 공기가 분사되는 공기 분사기(144)를 포함할 수도 있다. 이때 공기 분사기(144)는 노즐의 형태로 형성될 수 있으며, 이러한 노즐의 형태는 다양한 종류 및 형태의 노즐이 적용될 수 있으며, 노즐의 종류 및 특성에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 이러한 건조부재(140)의 동작은 앞서 설명한 바와 동일하게 컨베이어 벨트(124)에 장착되어 있는 광학 센서(128)에 의해 자동적으로 작동되며, 광학 센서(128)는 타겟(150)의 이동에 따라 타겟(150)의 위치를 감지하여 작동될 수 있다.In this way, the entire surface of the
건조부재(140)는 이송부재(120)를 중심으로 일정 각도(β) 기울어져 형성되어 공기를 분사되게 된다. 즉, 건조부재(140)의 각도(β)는 타겟(150)의 표면에 형성되어 있는 세정액(136)을 보다 쉽고 빠르게 건조할 수 있도록 형성되나, 상기 건조부재(140)의 각도가 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한 건조부재는 열이나 센서를 이용하여 형성되어 타겟(150)에 형성된 세정액(136)을 제거할 수도 있으나, 열이나 센서를 사용하는 건조부재의 경우 타겟(150)의 표면에 형성되어 있는 세정액(136)이 얼룩으로 남게 될 수도 있어 건조부재는 공기를 이용하여 형성되는 것이 바람직하다. 건조부재(140)까지 지난 타겟(150)은 건조된 상태에서 포장룸으로 이동하여 표면의 오염 없이 포장될 수 있다. The drying
한편, 도 3은 도 1의 A 영역을 확대한 사시도이다. 3 is an enlarged perspective view of region A of FIG. 1.
도 3에서 도시한 바와 같이 컨베이어 벨트(124)에는 복수개의 배수 홀(126a)이 형성되어 있으며, 배수 홀(126a)은 분사기(134)에서 분사되는 세정액(136)이 컨베이어 벨트(124)밖으로 빠져나가 타겟(150)의 2차 오염을 방지하는 역할을 수행할 수 있다. 예를 들어, 컨베이어 벨트에 배수 홀(126a)이 형성되지 않았다면 타겟(150)에 분사되는 세정액(136)이 타겟(138)의 후면으로 흐르게 될 수 있다. 후면으로 흐르는 세정액(136)에는 브러시(138)가 쓸어낸 이물질이 포함되어 있고 이러한 이물질이 타겟(150)의 후면으로 다시 흘러 들어와 타겟(150)의 2차 오염으로 이루어질 수 있다. 그러므로 컨베이어 벨트(124)에 형성되어 있는 배수 홀(126a)은 타겟(150)의 2차 오염을 방지하는 역할을 할 수 있다.As shown in FIG. 3, a plurality of
또한 도 4는 본 발명에 따른 변형예를 도시한 것이다. 아울러, 전술한 구성과 동일 및 동일 상당 부분에 대해서는 동일 또는 동일 상당한 참조 부호를 부여하고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.4 shows a modification according to the present invention. In addition, the same or equivalent reference numerals are given to the same or equivalent components as those described above, and detailed description thereof will be omitted.
전술 및 도시한 본 발명의 실시예에서는 배수 홀(126a)이 평행하고 있는 컨베이어 벨트(124)의 중앙에 위치하는 형태로 형성된 예를 들어 설명하고 있지만, 배수 홀(126a)을 형성하는 구조는 제품의 설치조건 및 요구되는 조건에 따라 다양하게 변경될 수 있다.In the above-described and illustrated embodiments of the present invention, an example in which the
일 예로서 컨베이어 벨트(124)는 일 면의 형태로 형성될 수도 있다. 즉, 도 4와 같이 일면으로 구성된 컨베이어 벨트(124) 상면에 배수 홀(126b)을 형성하여 타겟(150)이 습식 세정공정 후 남아있는 세정액(136)이 흘러내릴 수 있도록 형성할 수도 있다. 이때 배수 홀(126b)은 분사기(134)에서 분사되는 세정액(136)이 컨베이어 벨트(124)밖으로 빠져나가 타겟(150)의 2차 오염을 방지하는 역할을 수행 할 수 있다. 예를 들어, 컨베이어 벨트에 배수 홀(126b)이 형성되지 않았다면 타겟에 분사되는 세정액(136)이 타겟(150)의 후면으로 흐르게 되면 타겟(150)의 후면으로 흐르는 세정액(136)에는 브러시(138)가 털어낸 이물질이 세정된 타겟(150)에 묻을 수 있어, 타겟(150)의 2차 오염으로 이루어질 수 있다. 그러므로 컨베이어 벨트(124)에 형성되어 있는 배수 홀(126b)은 타겟(150)의 2차 오염을 방지하는 역할을 할 수 있다.As an example, the
한편, 스퍼터링용 타겟(150)은 초음파 세정부재(110)고 타겟(150)을 세정하는 단계를 지난다. 이때, 초음파 세정부재(110)는 초음파를 이용한 초음파 세정 및 세정액을 이용한 장치로 구성될 수도 있다. Meanwhile, the
다음, 초음파 세정부재(110)에서 일차적으로 세정을 끝낸 타겟(150)은 이송부재(120)로 이동할 수 있다. 이때 이송부재(120)는 지면을 중심으로 일정 각 경사진 형태로 형성된 이송부재(120)를 사용할 수 있다. 또한 이송부재(120)는 타겟(150)을 이송하기 위한 컨베이어 벨트(124)를 포함할 수도 있다. 또한 전술한 바와 같이 컨베이어 벨트(124)는 배수의 배수 홀(126a)을 포함할 수 있으며, 타겟(150)의 이송을 위하여 적어도 2개의 컨베이어 벨트(124)로 형성될 수 있다. 이때. 형성된2개의 컨베이어 벨트(124)는 서로 평행하게 이동되어 타겟(150)을 이동하는 역할을 수행할 수 있다.Next, the
다음, 이송부재(120)로 이송된 타겟(150)은 습식 세정부재(130)로 타겟을 세정하는 단계를 지난다. 이때, 전술한 바와 같이 습식 세정부재(130)는 이동하는 타겟(150)을 브러시(138)로 세정하고, 세정액(136)을 분사할 수도 있다. 여기서 브 러시는 폴리머로 구성되는 복수개의 브러시(138)로 형성될 수도 있다. 또한 타겟(150)에 분사되는 세정액(136)은 타겟(150)의 상면과 저면 모두 분사될 수 있으며, 브러시(138)와 세정액(136)은 동시에 구동될 수 있다. 습식 세정부재(130)에서 세정이 끝난 타겟(150)은 상기 언급된 이송부재(120)에 의해서 상부로 이동하게 된다. Next, the
다음, 상기의 단계들을 지자 세정된 타겟(150)을 건조부재(140)로 건조하는 단계를 지난다. 건조부재(140)를 지나 이물질 및 세정액(138)이 제거된 타겟(150)은 포장룸에서 포장을 거치게 될 수 있다. Next, the above steps are followed by drying the cleaned
이상에서 본 바와 같이, 본 발명에 따른 스퍼터링용 타겟 세정장치에 의하면 타겟을 연속적으로 세정 가능하도록 자동화가 구비된 스퍼터링용 타겟 세정장치를 제공하여 타겟 세정공정에 대한 편의를 제공할 수 있는 효과가 있다. 즉, 작업자의 영향 없이도 연속적으로 움직일 수 있는 타겟 세정장치가 제공되어 타겟 세정공정에 필요한 작업 시간을 감소시킬 수 있다. As described above, the sputtering target cleaning apparatus according to the present invention has an effect of providing convenience for the target cleaning process by providing a sputtering target cleaning apparatus equipped with automation so that the target can be continuously cleaned. . That is, the target cleaning device that can move continuously without the influence of the operator can be provided to reduce the work time required for the target cleaning process.
특히, 타겟 세정공정에 필요한 인력을 기계로 대체할 수 있어 작업에 필요한 인력이 효율적으로 사용될 수도 있다. 더불어 인력이 대체할 수 없는 작업에 기계가 대신하게 되어 작업 생산량의 증대로 꾀할 수 있다는 효과가 있다. In particular, since the manpower required for the target cleaning process can be replaced by a machine, manpower required for the work may be efficiently used. In addition, there is an effect that the machine can replace the work that can not be replaced by manpower to increase the work output.
또한, 종래의 타겟 세정공정의 수작업 시 발생하는 타겟의 2차 오염을 방지할 수 있으며, 3 단계의 세정공정을 거치게 되어 타겟 표면의 먼지 및 유기물을 보다 효율적으로 제거할 수 있다는 효과가 있다. In addition, it is possible to prevent the secondary contamination of the target generated during the manual target cleaning process of the conventional, there is an effect that the dust and organic matter on the target surface can be more efficiently removed through a three-step cleaning process.
특히, 종래의 기계적 세정이 초음파 세정공정이었던 것에 비하여 본 발명은 습식 세정공정을 더하여 타겟 세정공정에 있어서 보다 정확하게 이물질을 제거할 수 있다 또한 2차 세정공정 역시 기계공정으로 종래의 수작업에서 발생할 수 있는 2차 오염을 방지하여 타겟의 표면에 유기물이 남아있지 않게 되어 타겟의 박막 형성에 영향을 끼치지 않을 수 있다. 나아가, 습식 세정공정 후에 건조공정을 추가함으로써 습식 세정공정에서 발생할 수 있는 타겟의 재오염을 방지하는 효과가 있다. In particular, the present invention can remove foreign matters more accurately in the target cleaning process by adding a wet cleaning process, compared to the conventional mechanical cleaning process. By preventing secondary contamination, organic matter may not remain on the surface of the target, and thus may not affect the thin film formation of the target. Furthermore, by adding a drying process after the wet cleaning process, there is an effect of preventing re-contamination of the target that may occur in the wet cleaning process.
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KR1020070012897A KR20080073974A (en) | 2007-02-07 | 2007-02-07 | Apparatus and method for cleaning sputtering target |
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CN110575990A (en) * | 2019-10-08 | 2019-12-17 | 重庆日日新网络科技有限责任公司 | small-size apparatus belt cleaning device is used in medical treatment cosmetology |
CN110791736A (en) * | 2018-08-01 | 2020-02-14 | 合肥江丰电子材料有限公司 | Target cleaning device and working method thereof |
CN112452946A (en) * | 2020-10-13 | 2021-03-09 | 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 | Target cleaning method |
CN113458036A (en) * | 2021-07-19 | 2021-10-01 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | Method for cleaning ceramic target |
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