KR100693760B1 - Apparatus for treating of works capable of high-density developing and method of the same - Google Patents
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Abstract
고밀도 현상처리가 가능한 기판처리장치 및 방법이 개시된다. 그러한 기판처리장치는 기판 처리공정이 진행되는 챔버와, 상기 챔버의 내부에 회전가능하게 구비되고, 다수개의 기판을 순차적으로 인수하여 회전과정에서 현상공정을 진행시킬 수 있는 이송부와, 그리고 상기 이송부에 구비되어 상기 기판을 고정시킴으로써 기판이 회전하는 경우 낙하하는 것을 방지하는 고정부를 포함한다.Disclosed are a substrate processing apparatus and method capable of high density development. Such a substrate processing apparatus includes a chamber in which a substrate processing process is performed, a transfer unit rotatably provided in the chamber, and a transfer unit capable of taking over a plurality of substrates sequentially to advance a developing process in a rotation process, and the transfer unit. It is provided with a fixing portion for preventing the fall when the substrate is rotated by fixing the substrate.
기판, 현상, 챔버, 기판, 이송, 회전 Substrate, development, chamber, substrate, transfer, rotation
Description
도1 은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고밀도 현상장치가 포함된 기판처리라인을 개략적으로 도시하는 도면. 1 is a view schematically showing a substrate processing line including a high density developing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
도2 는 도1 에 도시된 고밀도 현상장치의 사시도.Fig. 2 is a perspective view of the high density developing device shown in Fig. 1;
도3 은 도2 에 도시된 제1 롤러부를 보여주는 부분 사시도.3 is a partial perspective view showing the first roller portion shown in FIG.
도4 는 도2 에 도시된 고밀도 현상장치의 내부구조를 보여주는 도면. 4 is a view showing an internal structure of the high density developing apparatus shown in FIG.
도5 는 도4 의 "A" 부분을 확대하여 보여주는 도면.FIG. 5 is an enlarged view of a portion “A” of FIG. 4; FIG.
본 발명은 기판처리장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다수개의 기판 이송용 롤러부를 일체로 형성하여 회전가능하게 구비함으로써 각 롤러부가 기판을 순차적으로 인수하여 일정 시간 회전하는 동안 현상처리할 수 있는 기판처리장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and method, and more particularly, a plurality of substrate transfer roller portions are integrally formed and rotatably provided so that each roller portion can take over the substrate sequentially and develop while rotating for a predetermined time. The present invention relates to a substrate processing apparatus and method.
일반적으로, 디스플레이 장치의 제조공정 중에서 글래스 기판에 회로 패턴 등을 형성하는 과정은 기판을 세정하고, 세정된 기판의 표면에 감광성 수지(photosensitive-polymer)를 도포하여 감광막을 형성하고, 감광막을 일정한 회로패턴을 통하여 노광(Expose)하고 이를 현상(develop)처리하는 공정으로 이루어진다.In general, a process of forming a circuit pattern or the like on a glass substrate in a manufacturing process of a display device includes cleaning a substrate, applying a photosensitive resin to a surface of the cleaned substrate, and forming a photosensitive film, and forming a photosensitive film with a constant circuit. Exposure is performed through a pattern and development is performed.
이러한 디스플레이 장치의 제조공정 중, 현상공정은 다수개의 챔버를 적절하게 배치하고, 이 챔버의 내부로 기판을 통과시키는 과정에서 현상액을 기판에 분사함으로써 현상공정이 진행될 수 있다.In the manufacturing process of such a display device, the developing process may be performed by appropriately arranging a plurality of chambers and spraying the developer onto the substrate in the process of passing the substrate into the chamber.
그러나, 이러한 현상공정은 챔버를 여러개 배치함으로써 라인 길이가 증가하는 문제점이 있다.However, this developing process has a problem in that the line length is increased by arranging several chambers.
또한, 기판이 여러 챔버를 순차적으로 통과하여 현상공정이 진행되므로 현상시간이 증가하는 문제점이 있다.In addition, since the development process is performed by the substrate sequentially passes through the various chambers, there is a problem that the development time is increased.
따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 안출 된 것으로서, 본 발명의 목적은 다수개의 기판 이송용 롤러부를 일체로 형성하여 회전가능하게 구비함으로써 각 롤러부가 기판을 순차적으로 인수하여 일정 시간 회전하는 동안 현상처리할 수 있는 기판처리장치 및 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a plurality of substrate transfer rollers integrally and rotatably so that each roller unit takes over the substrate sequentially and rotates for a predetermined time. The present invention provides a substrate processing apparatus and method capable of developing.
또한, 본 발명의 다른 목적은 하나의 챔버내에서 기판의 현상공정이 이루어짐으로써 현상시간 및 효율이 향상되는 기판처리장치 및 방법을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and method in which the developing time and efficiency are improved by performing the developing process of the substrate in one chamber.
본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 본 발명은 기판 처리공정이 진행되는 챔버와; 상기 챔버의 내부에 회전가능하게 구비되고, 다수개의 기판을 순차적으로 인 수하여 회전과정에서 현상공정을 진행시킬 수 있는 이송부와; 그리고 상기 이송부에 구비되어 상기 기판을 고정시킴으로써 기판이 회전하는 경우 낙하하는 것을 방지하는 고정부를 포함하는 기판처리장치를 제공한다.In order to realize the object of the present invention, the present invention comprises a chamber in which a substrate processing process is performed; A transfer unit rotatably provided in the chamber and configured to sequentially take a plurality of substrates and to advance a developing process in a rotating process; And a fixing part provided in the conveying part to fix the substrate to prevent the substrate from falling when the substrate rotates.
또한, 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 패스라인을 따라 이송한 기판이 롤러부에 안착되는 제1 단계와; 상기 롤러부에 안착된 기판을 고정부에 의하여 롤러부상에 고정시킴으로서 롤러부의 회전시 기판이 낙하하는 것을 방지하는 제2 단계와; 상기 롤러부가 회전하는 경우, 다른 롤러부가 회전하여 패스라인상에 위치하는 제3 단계와; 그리고 다른 기판이 상기 패스라인상의 롤러부에 안착하고, 고정부에 의하여 기판을 고정시키고, 회전시키는제4 단계를 포함함으로써, 상기 단계들을 반복적으로 수행함으로써 기판을 처리하는 기판처리방법을 제공한다.In addition, in order to achieve another object of the present invention, the present invention comprises a first step of mounting the substrate transferred along the pass line to the roller; A second step of preventing the substrate from falling during rotation of the roller part by fixing the substrate seated on the roller part on the roller part by a fixing part; If the roller portion rotates, a third step of rotating the other roller portion on the pass line; And a fourth step of placing another substrate on the roller portion on the pass line, fixing the substrate by the fixing portion, and rotating the substrate, thereby providing a substrate processing method for treating the substrate by repeatedly performing the above steps.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 고밀도 현상장치의 구조를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the structure of the high-density developing apparatus of the substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
도1 은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고밀도 현상장치가 포함된 기판처리 장치를 개략적으로 도시하는 도면이다. 1 is a view schematically showing a substrate processing apparatus including a high density developing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.
도시된 바와 같이, 본 발명이 제안하는 기판처리라인(1)은 기판이 로딩되는 로딩부(3)와, 로딩부로부터 이송된 기판을 다수개 적재하여 회전함으로써 동시에 현상을 진행하는 현상장치(5)와, 현상이 완료된 기판을 헹구는 린싱부(7)와, 린싱된 기판을 건조하는 건조부(9)와, 처리 완료된 기판을 배출하는 언로딩부(11)로 이루어진다.As shown in the drawing, the
이러한 기판처리라인에 있어서, 상기 현상장치(5)는 도2 내지 도4 에 도시된 바와 같이, 현상공정이 진행되는 챔버(15)와, 상기 챔버(15)의 내부에 회전가능하게 구비되고, 다수개의 기판(G)을 순차적으로 인수하여 회전과정에서 현상공정을 진행시킬 수 있는 이송부(17)와, 상기 이송부(17)에 구비되어 기판(G)을 고정시킴으로써 기판이 회전하는 경우 낙하하는 것을 방지하는 고정부(31,33,35,37)를 포함한다.In such a substrate processing line, the developing
이러한 구조를 갖는 현상장치에 있어서, 상기 챔버(15)는 육면체 형상을 갖으며 유입구(I) 및 배출구(O;도4)를 통하여 기판(G)이 유입되거나 배출될 수 있다.In the developing apparatus having such a structure, the
또한, 챔버(15)의 내부에 현상액 분사기(20)가 구비됨으로써 기판(G)상에 현상액을 분사하여 현상공정이 진행될 수 있도록 한다.In addition, the
이때, 상기 현상액 분사기(20)는 챔버(15) 내부의 천정에 구비되며, 바람직하게는 2개로 이루어진다.At this time, the
그리고, 상기 이송부(17)는 챔버(15)의 내부 양측에 회전가능하게 장착되는 연결바(27,28)와, 상기 연결바(27,28)의 사이에 각각 구비되어 회전가능하며, 기판(G)을 안착/이송할 수 있는 롤러부(19,21,23,25)와, 상기 연결바(27,28)를 회전시킴으로써 롤러부(19,21,23,25)를 회전시킬 수 있는 회전모터(29)를 포함한다.In addition, the
이러한 구조의 이송부에 있어서, 상기 연결바(27,28)는 챔버(15) 내부의 일측에 구비되는 제1 연결바(27)와, 타측에 구비되는 제2 연결바(28)로 이루어진다.In the transfer part of the structure, the
상기 제1 및 제2 연결바(27,28)는 각각 다수개, 바람직하게는 2개의 연결바가 십자형상으로 배치된다. 그리고, 제1 및 제2 연결바(27,28)의 교차지점에는 회 전축(30a,30b)이 돌출됨으로써 챔버(15)의 벽체에 베어링(B,B')에 의하여 결합된다.Each of the first and second connecting
또한, 제1 연결바(27)의 회전축(30a)은 회전모터(29)에 연결됨으로써, 회전모터(29) 구동시 회전가능하다.In addition, the
그리고, 상기 제1 및 제2 연결바(27,28)의 사이에는 롤러부(19,21,23,25)가 구비되어 회전가능하다.In addition,
즉, 제1 및 제2 연결바(27,28)가 챔버(15) 내부에 각각 회전가능하게 장착된 구조이고, 이중 제1 연결바(27)가 회전모터(29)에 의하여 회전가능하므로, 결과적으로 롤러부(19,21,23,25)가 회전가능하다.That is, since the first and
이러한 롤러부(19,21,23,25)는 복수개, 바람직하게는 제1 내지 제4 롤러부(19,21,23,25)를 포함하며, 각 롤러부는 회전하는 구조이므로 순차적으로 기판(G)의 패스라인에 위치하여 기판을 이송받고, 기판을 이송받은 상태에서 패스라인으로부터 이탈될 수 있다.The
상기 롤러부(19,21,23,25)는 각각의 롤러부가 동일한 구조를 가지므로 이하, 제1 롤러부(19)에 의하여 설명한다.Since the
즉, 도3 에 도시된 바와 같이, 제1 롤러부(19)는 한 쌍의 프레임(40a,40b)과, 한 쌍의 프레임(40a,40b) 사이에 회전가능하게 장착되어 기판(G)을 안착/이송시키는 다수의 회전롤러(42)와, 다수의 회전롤러(42)를 서로 연결함으로써 구동시키는 동력전달부재(48)와, 그리고, 상기 동력전달부재(48)를 회전시키는 모터 조립체(44)를 포함한다.That is, as shown in Fig. 3, the
이러한 제1 롤러부(19)는 한 쌍의 프레임(40a,40b)이 연결프레임(45a,45b)에 의하여 서로 일체로 연결되며, 각 연결프레임(45a,45b)의 중간부는 제1 및 제2 연결바(27,28)에 일체로 연결된다.The
그리고, 상기 다수의 회전롤러(42)는 한 쌍의 프레임(40a,40b)에 각각 베어링에 의하여 회전가능하게 장착됨으로써 제자리에서 공회전이 가능하다. In addition, the plurality of
또한, 다수의 회전롤러(42)의 일단부는 동력전달부재(48), 바람직하게는 체인 혹은 벨트에 의하여 서로 연결된다. 그리고, 이 동력전달부재(48)는 모터 조립체(44)에 연결된다.In addition, one end of the plurality of
따라서, 모터 조립체(44)가 구동하는 경우, 이 동력전달부재(48)에 의하여 회전력이 전달됨으로써 다수의 회전롤러(42)가 구동하여 안착된 기판(G)을 이송시킬 수 있다.Therefore, when the
상기한 바와 같은 제1 롤러부(19)는 제2 내지 제4 롤러부(21,23,25)와 동일한 구조를 가지므로 상기 제2 내지 제4 롤러부(21,23,25)도 각각 기판(G)이 이송되어 안착될 수 있다.Since the
한편, 롤러부(19,21,23,25)가 회전하는 경우, 기판(G)이 롤러부(19,21,23,25)의 상면으로부터 이탈되어 낙하하는 것을 방지하기 위하여 각 롤러부(19,21,23,25)에는 고정부(31,33,35,37)가 각각 구비된다.On the other hand, when the
그리고, 이러한 고정부(31,33,35,37)도 제1 내지 제4 고정부(31,33,35,37)의 4개가 구비됨으로써 제1 내지 제4 롤러부(19,21,23,25)에 각각 대응된다.Also, the
이러한 고정부(31,33,35,37)는 모두 동일한 구조를 가지므로, 이하 제1 고정 부(31,33,35,37)에 의하여 설명한다.Since the
즉, 도3 내지 도5 에 도시된 바와 같이, 제1 고정부(31)는 베이스(52)와, 상기 베이스(52)를 승하강 시키며, 상기 이송부(17)의 커넥팅바(62)에 고정되는 구동부(50)와, 상기 베이스(52)의 상면에 돌출 형성되며, 상승시 상기 제1 롤러부(19)상에 안착된 기판(G)을 고정시키는 고정구(31)를 포함한다.That is, as shown in FIGS. 3 to 5, the
이러한 구조를 갖는 고정부에 있어서, 상기 구동부(50)는 커넥팅바(62)에 의하여 제1 연결바(27)에 일체로 연결된다. 그리고, 커넥팅바(62)의 일단부에는 유압모터(58)가 구비된다. 또한, 유압모터(58)의 상부에는 피스톤(60)이 돌출되어 승하강 가능하며, 이 피스톤(60)의 상단은 베이스(52)의 저면에 일체로 연결된다.In the fixed part having such a structure, the
따라서, 상기 유압모터(58)가 구동하는 경우, 이 피스톤(60)이 돌출/수축함으로써 베이스(52)를 제1 롤러부(19) 방향으로 승하강시킬 수 있다.Therefore, when the
그리고, 이 베이스(52)의 상면에는 적어도 하나 이상의 고정구(31)가 일정 높이로 돌출되어 있다.At least one
이 고정구(31)는 상기 베이스(52)의 상면으로부터 돌출되는 지지핀(54)과, 상기 지지핀(54)의 상단에 일체로 결합되는 흡착판(56)으로 이루어진다.The
그리고, 지지핀(54)은 그 직경이 상기 다수의 회전롤러(42)의 사이(D)를 통과할 수 있을 정도의 직경을 갖는다. 또한, 상기 흡착판(56)은 플렉시블한 재질로 이루어진 통상적인 흡착판(56)을 포함한다. And, the
따라서, 상기 베이스(52)가 구동부(50)에 의하여 상승하는 경우, 상기 지지핀(54)이 회전롤러(42)의 사이를 통과하여 상승하게 되고, 이 흡착판(56)이 제1 롤 러부(19)에 안착된 기판(G)의 저면에 흡착된다.Therefore, when the
결과적으로, 기판(G)은 흡착판(56)에 의하여 제1 롤러부(19)상에 안정적으로 고정될 수 있음으로, 상기 제1 롤러부(19)가 측방향으로 회전하여 기울어진 상태에서도 기판(G)은 제1 롤러부(19)에 안정적으로 고정되어 낙하가 방지될 수 있다. As a result, the substrate G can be stably fixed on the
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고밀도 현상장치의 구동과정을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, a driving process of the high density developing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도1 내지 도5 에 도시된 바와 같이, 기판(G)에 대하여 현상공정을 실시하는 경우, 먼저, 기판(G)을 로딩부(3)를 통하여 현상장치(5)의 챔버(15) 내부로 유입시킨다. 이때, 상기 기판(G)은 패스라인(P/S)을 따라 챔버(15)의 입측구(I)를 통하여 진입하게 된다.As shown in FIGS. 1 to 5, when the developing process is performed on the substrate G, the substrate G is first introduced into the
챔버(15)의 내부로 유입된 기판(G)은 패스라인(P/S)상에 정열된 제1 롤러부(19)로 이송된다. 즉, 제1 롤러부(19)의 모터 조립체(44)가 구동함으로써 다수의 회전롤러(42)가 회전하여 챔버(15) 내부로 유입된 기판(G)을 약간 거리 이송하여 안착시킨다.The substrate G introduced into the
이 상태에서, 제1 고정부(31)의 구동부(50)가 구동함으로써 피스톤(60)이 상승하고, 베이스(52)가 일정 높이로 상승하게 된다. In this state, by driving the
그리고, 베이스(52)의 상승에 의하여 고정구(31)가 상승하게 되고, 이 고정구(31)의 흡착판(56)이 제1 롤러부(19)에 안착된 기판(G)의 저면에 흡착됨으로써 기판(G)을 안정적으로 고정하게 된다.Then, as the
이와 같이, 기판(G)이 제1 롤러부(19)상에 고정된 상태에서 현상액 분사기 (20)로부터 현상액이 기판(G)의 표면에 분사됨으로써 현상공정이 진행된다.As described above, the developing process is performed by spraying the developing solution from the
일정 시간 경과 후, 회전모터(29)가 구동함으로써 이송부(17)를 회전시켜, 제1 롤러부(19)가 측방향으로 회전하게 된다.After a certain period of time, the
제1 롤러부(19)가 측방향에 위치하게 되면, 기판(G)상에 분사된 현상액이 하부로 흘러내림으로써 현상액의 제거가 용이하다.When the
이와 같이, 제1 롤러부(19)가 측방향으로 회전하는 경우, 제2 롤러부(21)가 회전함으로써 제1 롤러부(19)가 있었던 위치, 즉 패스라인(P/S)상에 정열된다. 그리고, 로딩부(1)에 대기중이던 기판(G)이 이송되어 제2 롤러부(21)상에 안착되며, 제1 롤러부(19)와 동일한 과정을 거쳐서 현상공정이 진행된다.Thus, when the
이와 같은 순서에 의하여, 제1 내지 제4 롤러부(19,21,23,25)가 순차적으로 패스라인(P/S)을 통과하여 회전하게 됨으로써 현상공정이 하나의 챔버(15) 내부에서 이루어질 수 있다.In this order, the first to
그리고, 이러한 공정이 한 싸이클을 마치고 제1 롤러부(19)가 최초의 위치, 즉 패스라인(P/S)상에 다시 복귀하였을 때, 제1 롤러부(19)의 유압모터(58)가 구동하여 피스톤(60)이 하부로 하강하게 된다. 피스톤(60)이 하강함에 따라 기판(G)의 저면에 흡착되었던 흡착판(56)이 기판(G)으로부터 이탈된다.Then, when this process has finished one cycle and the
그리고, 제1 롤러부(19)의 모터 조립체(44)가 구동하므로써 회전롤러(42)를 회전시켜 안착된 기판(G)이 챔버(15)의 배출구(O)를 통하여 후공정으로 이송된다.Then, by driving the
상기한 바와 같은 공정을 통하여 기판(G)에 대한 현상공정을 진행할 수 있다.The developing process for the substrate G may be performed through the process as described above.
상기에서는 현상공정에 한정하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고, 식각, 세정 등의 처리라인에도 적용가능하다.In the above description, the present invention is limited to the developing step, but the present invention is not limited thereto, and the present invention can also be applied to processing lines such as etching and washing.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치 및 방법은 다수개의 기판 이송용 롤러부를 일체로 형성하여 회전가능하게 구비함으로써 각 롤러부가 기판을 순차적으로 인수하여 일정 시간 회전하는 동안 현상처리함으로써 현상효율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.As described above, in the substrate processing apparatus and method according to the preferred embodiment of the present invention, a plurality of substrate transfer roller parts are integrally formed and rotatably provided so that each roller part takes over the substrate sequentially and rotates for a predetermined time. There is an advantage to improve the development efficiency by the treatment.
또한, 하나의 챔버내에서 기판의 현상공정이 이루어짐으로써 현상시간 및 효율이 향상될 수 있는 장점이 있다.In addition, there is an advantage that the development time and efficiency can be improved by developing the substrate in one chamber.
본 발명은 당해 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 특허청구의 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어나지 않고도 다양하게 변경실시 할 수 있으므로 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니한다.The present invention can be variously changed by those skilled in the art without departing from the gist of the present invention claimed in the claims, and is not limited to the specific preferred embodiments described above. .
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2005
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