KR100693760B1 - Apparatus for treating of works capable of high-density developing and method of the same - Google Patents

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Abstract

고밀도 현상처리가 가능한 기판처리장치 및 방법이 개시된다. 그러한 기판처리장치는 기판 처리공정이 진행되는 챔버와, 상기 챔버의 내부에 회전가능하게 구비되고, 다수개의 기판을 순차적으로 인수하여 회전과정에서 현상공정을 진행시킬 수 있는 이송부와, 그리고 상기 이송부에 구비되어 상기 기판을 고정시킴으로써 기판이 회전하는 경우 낙하하는 것을 방지하는 고정부를 포함한다.Disclosed are a substrate processing apparatus and method capable of high density development. Such a substrate processing apparatus includes a chamber in which a substrate processing process is performed, a transfer unit rotatably provided in the chamber, and a transfer unit capable of taking over a plurality of substrates sequentially to advance a developing process in a rotation process, and the transfer unit. It is provided with a fixing portion for preventing the fall when the substrate is rotated by fixing the substrate.

기판, 현상, 챔버, 기판, 이송, 회전 Substrate, development, chamber, substrate, transfer, rotation

Description

고밀도의 현상처리가 가능한 기판처리장치 및 방법{APPARATUS FOR TREATING OF WORKS CAPABLE OF HIGH-DENSITY DEVELOPING AND METHOD OF THE SAME}Substrate processing apparatus and method capable of high-density development {APPARATUS FOR TREATING OF WORKS CAPABLE OF HIGH-DENSITY DEVELOPING AND METHOD OF THE SAME}

도1 은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고밀도 현상장치가 포함된 기판처리라인을 개략적으로 도시하는 도면. 1 is a view schematically showing a substrate processing line including a high density developing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도2 는 도1 에 도시된 고밀도 현상장치의 사시도.Fig. 2 is a perspective view of the high density developing device shown in Fig. 1;

도3 은 도2 에 도시된 제1 롤러부를 보여주는 부분 사시도.3 is a partial perspective view showing the first roller portion shown in FIG.

도4 는 도2 에 도시된 고밀도 현상장치의 내부구조를 보여주는 도면. 4 is a view showing an internal structure of the high density developing apparatus shown in FIG.

도5 는 도4 의 "A" 부분을 확대하여 보여주는 도면.FIG. 5 is an enlarged view of a portion “A” of FIG. 4; FIG.

본 발명은 기판처리장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다수개의 기판 이송용 롤러부를 일체로 형성하여 회전가능하게 구비함으로써 각 롤러부가 기판을 순차적으로 인수하여 일정 시간 회전하는 동안 현상처리할 수 있는 기판처리장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and method, and more particularly, a plurality of substrate transfer roller portions are integrally formed and rotatably provided so that each roller portion can take over the substrate sequentially and develop while rotating for a predetermined time. The present invention relates to a substrate processing apparatus and method.

일반적으로, 디스플레이 장치의 제조공정 중에서 글래스 기판에 회로 패턴 등을 형성하는 과정은 기판을 세정하고, 세정된 기판의 표면에 감광성 수지(photosensitive-polymer)를 도포하여 감광막을 형성하고, 감광막을 일정한 회로패턴을 통하여 노광(Expose)하고 이를 현상(develop)처리하는 공정으로 이루어진다.In general, a process of forming a circuit pattern or the like on a glass substrate in a manufacturing process of a display device includes cleaning a substrate, applying a photosensitive resin to a surface of the cleaned substrate, and forming a photosensitive film, and forming a photosensitive film with a constant circuit. Exposure is performed through a pattern and development is performed.

이러한 디스플레이 장치의 제조공정 중, 현상공정은 다수개의 챔버를 적절하게 배치하고, 이 챔버의 내부로 기판을 통과시키는 과정에서 현상액을 기판에 분사함으로써 현상공정이 진행될 수 있다.In the manufacturing process of such a display device, the developing process may be performed by appropriately arranging a plurality of chambers and spraying the developer onto the substrate in the process of passing the substrate into the chamber.

그러나, 이러한 현상공정은 챔버를 여러개 배치함으로써 라인 길이가 증가하는 문제점이 있다.However, this developing process has a problem in that the line length is increased by arranging several chambers.

또한, 기판이 여러 챔버를 순차적으로 통과하여 현상공정이 진행되므로 현상시간이 증가하는 문제점이 있다.In addition, since the development process is performed by the substrate sequentially passes through the various chambers, there is a problem that the development time is increased.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 안출 된 것으로서, 본 발명의 목적은 다수개의 기판 이송용 롤러부를 일체로 형성하여 회전가능하게 구비함으로써 각 롤러부가 기판을 순차적으로 인수하여 일정 시간 회전하는 동안 현상처리할 수 있는 기판처리장치 및 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a plurality of substrate transfer rollers integrally and rotatably so that each roller unit takes over the substrate sequentially and rotates for a predetermined time. The present invention provides a substrate processing apparatus and method capable of developing.

또한, 본 발명의 다른 목적은 하나의 챔버내에서 기판의 현상공정이 이루어짐으로써 현상시간 및 효율이 향상되는 기판처리장치 및 방법을 제공하는데 있다.In addition, another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and method in which the developing time and efficiency are improved by performing the developing process of the substrate in one chamber.

본 발명의 목적을 실현하기 위하여, 본 발명은 기판 처리공정이 진행되는 챔버와; 상기 챔버의 내부에 회전가능하게 구비되고, 다수개의 기판을 순차적으로 인 수하여 회전과정에서 현상공정을 진행시킬 수 있는 이송부와; 그리고 상기 이송부에 구비되어 상기 기판을 고정시킴으로써 기판이 회전하는 경우 낙하하는 것을 방지하는 고정부를 포함하는 기판처리장치를 제공한다.In order to realize the object of the present invention, the present invention comprises a chamber in which a substrate processing process is performed; A transfer unit rotatably provided in the chamber and configured to sequentially take a plurality of substrates and to advance a developing process in a rotating process; And a fixing part provided in the conveying part to fix the substrate to prevent the substrate from falling when the substrate rotates.

또한, 본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 패스라인을 따라 이송한 기판이 롤러부에 안착되는 제1 단계와; 상기 롤러부에 안착된 기판을 고정부에 의하여 롤러부상에 고정시킴으로서 롤러부의 회전시 기판이 낙하하는 것을 방지하는 제2 단계와; 상기 롤러부가 회전하는 경우, 다른 롤러부가 회전하여 패스라인상에 위치하는 제3 단계와; 그리고 다른 기판이 상기 패스라인상의 롤러부에 안착하고, 고정부에 의하여 기판을 고정시키고, 회전시키는제4 단계를 포함함으로써, 상기 단계들을 반복적으로 수행함으로써 기판을 처리하는 기판처리방법을 제공한다.In addition, in order to achieve another object of the present invention, the present invention comprises a first step of mounting the substrate transferred along the pass line to the roller; A second step of preventing the substrate from falling during rotation of the roller part by fixing the substrate seated on the roller part on the roller part by a fixing part; If the roller portion rotates, a third step of rotating the other roller portion on the pass line; And a fourth step of placing another substrate on the roller portion on the pass line, fixing the substrate by the fixing portion, and rotating the substrate, thereby providing a substrate processing method for treating the substrate by repeatedly performing the above steps.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치의 고밀도 현상장치의 구조를 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the structure of the high-density developing apparatus of the substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도1 은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고밀도 현상장치가 포함된 기판처리 장치를 개략적으로 도시하는 도면이다. 1 is a view schematically showing a substrate processing apparatus including a high density developing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명이 제안하는 기판처리라인(1)은 기판이 로딩되는 로딩부(3)와, 로딩부로부터 이송된 기판을 다수개 적재하여 회전함으로써 동시에 현상을 진행하는 현상장치(5)와, 현상이 완료된 기판을 헹구는 린싱부(7)와, 린싱된 기판을 건조하는 건조부(9)와, 처리 완료된 기판을 배출하는 언로딩부(11)로 이루어진다.As shown in the drawing, the substrate processing line 1 proposed by the present invention includes a loading unit 3 on which a substrate is loaded, and a developing apparatus 5 for simultaneously developing by loading and rotating a plurality of substrates transferred from the loading unit. ), A rinsing unit 7 for rinsing the developed substrate, a drying unit 9 for drying the rinsed substrate, and an unloading unit 11 for discharging the processed substrate.

이러한 기판처리라인에 있어서, 상기 현상장치(5)는 도2 내지 도4 에 도시된 바와 같이, 현상공정이 진행되는 챔버(15)와, 상기 챔버(15)의 내부에 회전가능하게 구비되고, 다수개의 기판(G)을 순차적으로 인수하여 회전과정에서 현상공정을 진행시킬 수 있는 이송부(17)와, 상기 이송부(17)에 구비되어 기판(G)을 고정시킴으로써 기판이 회전하는 경우 낙하하는 것을 방지하는 고정부(31,33,35,37)를 포함한다.In such a substrate processing line, the developing device 5 is rotatably provided in the chamber 15 and the chamber 15 where the developing process is performed, as shown in FIGS. The transfer unit 17 and the transfer unit 17 provided in the transfer unit 17 to fix the substrate (G) in order to proceed with the development process in the rotation process by taking over a plurality of substrates (G) in order to fall when the substrate rotates And fixing parts 31, 33, 35, and 37 for preventing.

이러한 구조를 갖는 현상장치에 있어서, 상기 챔버(15)는 육면체 형상을 갖으며 유입구(I) 및 배출구(O;도4)를 통하여 기판(G)이 유입되거나 배출될 수 있다.In the developing apparatus having such a structure, the chamber 15 has a hexahedral shape and the substrate G may be introduced or discharged through the inlet I and the outlet O (Fig. 4).

또한, 챔버(15)의 내부에 현상액 분사기(20)가 구비됨으로써 기판(G)상에 현상액을 분사하여 현상공정이 진행될 수 있도록 한다.In addition, the developer injector 20 is provided in the chamber 15 to inject the developer onto the substrate G so that the developing process may proceed.

이때, 상기 현상액 분사기(20)는 챔버(15) 내부의 천정에 구비되며, 바람직하게는 2개로 이루어진다.At this time, the developer injector 20 is provided on the ceiling inside the chamber 15, and preferably consists of two.

그리고, 상기 이송부(17)는 챔버(15)의 내부 양측에 회전가능하게 장착되는 연결바(27,28)와, 상기 연결바(27,28)의 사이에 각각 구비되어 회전가능하며, 기판(G)을 안착/이송할 수 있는 롤러부(19,21,23,25)와, 상기 연결바(27,28)를 회전시킴으로써 롤러부(19,21,23,25)를 회전시킬 수 있는 회전모터(29)를 포함한다.In addition, the transfer part 17 is provided between the connection bars 27 and 28 rotatably mounted on both sides of the chamber 15 and the connection bars 27 and 28, respectively, and is rotatable, and the substrate ( G) A rotation capable of rotating the rollers 19, 21, 23, 25 by rotating the roller parts 19, 21, 23, 25 for mounting / transferring and the connecting bars 27, 28. And a motor 29.

이러한 구조의 이송부에 있어서, 상기 연결바(27,28)는 챔버(15) 내부의 일측에 구비되는 제1 연결바(27)와, 타측에 구비되는 제2 연결바(28)로 이루어진다.In the transfer part of the structure, the connection bars 27 and 28 are formed of a first connection bar 27 provided on one side of the chamber 15 and a second connection bar 28 provided on the other side.

상기 제1 및 제2 연결바(27,28)는 각각 다수개, 바람직하게는 2개의 연결바가 십자형상으로 배치된다. 그리고, 제1 및 제2 연결바(27,28)의 교차지점에는 회 전축(30a,30b)이 돌출됨으로써 챔버(15)의 벽체에 베어링(B,B')에 의하여 결합된다.Each of the first and second connecting bars 27 and 28 is arranged in a cross shape, and a plurality of connecting bars are preferable. In addition, the rotation shafts 30a and 30b protrude from the intersection points of the first and second connection bars 27 and 28 and are coupled to the walls of the chamber 15 by bearings B and B '.

또한, 제1 연결바(27)의 회전축(30a)은 회전모터(29)에 연결됨으로써, 회전모터(29) 구동시 회전가능하다.In addition, the rotation shaft 30a of the first connection bar 27 is connected to the rotation motor 29, so that the rotation shaft 29 may rotate when the rotation motor 29 is driven.

그리고, 상기 제1 및 제2 연결바(27,28)의 사이에는 롤러부(19,21,23,25)가 구비되어 회전가능하다.In addition, rollers 19, 21, 23, and 25 are provided between the first and second connection bars 27 and 28 to be rotatable.

즉, 제1 및 제2 연결바(27,28)가 챔버(15) 내부에 각각 회전가능하게 장착된 구조이고, 이중 제1 연결바(27)가 회전모터(29)에 의하여 회전가능하므로, 결과적으로 롤러부(19,21,23,25)가 회전가능하다.That is, since the first and second connection bars 27 and 28 are rotatably mounted in the chamber 15, respectively, the first connection bar 27 is rotatable by the rotation motor 29, As a result, the roller portions 19, 21, 23, 25 are rotatable.

이러한 롤러부(19,21,23,25)는 복수개, 바람직하게는 제1 내지 제4 롤러부(19,21,23,25)를 포함하며, 각 롤러부는 회전하는 구조이므로 순차적으로 기판(G)의 패스라인에 위치하여 기판을 이송받고, 기판을 이송받은 상태에서 패스라인으로부터 이탈될 수 있다.The rollers 19, 21, 23, 25 include a plurality of, preferably the first to fourth rollers (19, 21, 23, 25), each roller portion is rotated structure so that the substrate (G) The substrate may be transferred to the substrate at a pass line, and may be separated from the pass line while the substrate is transferred.

상기 롤러부(19,21,23,25)는 각각의 롤러부가 동일한 구조를 가지므로 이하, 제1 롤러부(19)에 의하여 설명한다.Since the rollers 19, 21, 23, and 25 each have the same structure, the first roller 19 will be described below.

즉, 도3 에 도시된 바와 같이, 제1 롤러부(19)는 한 쌍의 프레임(40a,40b)과, 한 쌍의 프레임(40a,40b) 사이에 회전가능하게 장착되어 기판(G)을 안착/이송시키는 다수의 회전롤러(42)와, 다수의 회전롤러(42)를 서로 연결함으로써 구동시키는 동력전달부재(48)와, 그리고, 상기 동력전달부재(48)를 회전시키는 모터 조립체(44)를 포함한다.That is, as shown in Fig. 3, the first roller portion 19 is rotatably mounted between the pair of frames 40a and 40b and the pair of frames 40a and 40b to form the substrate G. A plurality of rotary rollers 42 for seating / transfer, a power transmission member 48 for driving by connecting the plurality of rotary rollers 42 with each other, and a motor assembly 44 for rotating the power transmission member 48. ).

이러한 제1 롤러부(19)는 한 쌍의 프레임(40a,40b)이 연결프레임(45a,45b)에 의하여 서로 일체로 연결되며, 각 연결프레임(45a,45b)의 중간부는 제1 및 제2 연결바(27,28)에 일체로 연결된다.The first roller 19 is a pair of frames (40a, 40b) are connected to each other integrally by a connecting frame (45a, 45b), the intermediate portion of each of the connecting frame (45a, 45b) first and second It is connected to the connecting bar (27, 28) integrally.

그리고, 상기 다수의 회전롤러(42)는 한 쌍의 프레임(40a,40b)에 각각 베어링에 의하여 회전가능하게 장착됨으로써 제자리에서 공회전이 가능하다. In addition, the plurality of rotating rollers 42 are rotatably mounted in a pair of frames 40a and 40b by bearings, respectively, to allow idle rotation in place.

또한, 다수의 회전롤러(42)의 일단부는 동력전달부재(48), 바람직하게는 체인 혹은 벨트에 의하여 서로 연결된다. 그리고, 이 동력전달부재(48)는 모터 조립체(44)에 연결된다.In addition, one end of the plurality of rotary rollers 42 is connected to each other by a power transmission member 48, preferably a chain or a belt. The power transmission member 48 is then connected to the motor assembly 44.

따라서, 모터 조립체(44)가 구동하는 경우, 이 동력전달부재(48)에 의하여 회전력이 전달됨으로써 다수의 회전롤러(42)가 구동하여 안착된 기판(G)을 이송시킬 수 있다.Therefore, when the motor assembly 44 is driven, the rotational force is transmitted by the power transmission member 48 so that the plurality of rotating rollers 42 may be driven to transport the seated substrate G.

상기한 바와 같은 제1 롤러부(19)는 제2 내지 제4 롤러부(21,23,25)와 동일한 구조를 가지므로 상기 제2 내지 제4 롤러부(21,23,25)도 각각 기판(G)이 이송되어 안착될 수 있다.Since the first roller portion 19 as described above has the same structure as the second to fourth roller portions 21, 23 and 25, the second to fourth roller portions 21, 23 and 25 are also substrates. (G) can be transported and seated.

한편, 롤러부(19,21,23,25)가 회전하는 경우, 기판(G)이 롤러부(19,21,23,25)의 상면으로부터 이탈되어 낙하하는 것을 방지하기 위하여 각 롤러부(19,21,23,25)에는 고정부(31,33,35,37)가 각각 구비된다.On the other hand, when the rollers 19, 21, 23, 25 are rotated, the respective roller parts 19 to prevent the substrate G from falling off the upper surface of the rollers 19, 21, 23, 25 and falling. 21, 23, and 25 are provided with fixing parts 31, 33, 35, and 37, respectively.

그리고, 이러한 고정부(31,33,35,37)도 제1 내지 제4 고정부(31,33,35,37)의 4개가 구비됨으로써 제1 내지 제4 롤러부(19,21,23,25)에 각각 대응된다.Also, the fixing parts 31, 33, 35, and 37 are also provided with four of the first to fourth fixing parts 31, 33, 35, and 37, so that the first to fourth roller parts 19, 21, 23, 25) respectively.

이러한 고정부(31,33,35,37)는 모두 동일한 구조를 가지므로, 이하 제1 고정 부(31,33,35,37)에 의하여 설명한다.Since the fixing parts 31, 33, 35, 37 all have the same structure, the first fixing parts 31, 33, 35, 37 will be described below.

즉, 도3 내지 도5 에 도시된 바와 같이, 제1 고정부(31)는 베이스(52)와, 상기 베이스(52)를 승하강 시키며, 상기 이송부(17)의 커넥팅바(62)에 고정되는 구동부(50)와, 상기 베이스(52)의 상면에 돌출 형성되며, 상승시 상기 제1 롤러부(19)상에 안착된 기판(G)을 고정시키는 고정구(31)를 포함한다.That is, as shown in FIGS. 3 to 5, the first fixing part 31 raises and lowers the base 52 and the base 52, and is fixed to the connecting bar 62 of the transfer part 17. And a fastener 31 protruding from the upper surface of the base 52 and fixing the substrate G seated on the first roller part 19 when raised.

이러한 구조를 갖는 고정부에 있어서, 상기 구동부(50)는 커넥팅바(62)에 의하여 제1 연결바(27)에 일체로 연결된다. 그리고, 커넥팅바(62)의 일단부에는 유압모터(58)가 구비된다. 또한, 유압모터(58)의 상부에는 피스톤(60)이 돌출되어 승하강 가능하며, 이 피스톤(60)의 상단은 베이스(52)의 저면에 일체로 연결된다.In the fixed part having such a structure, the driving part 50 is integrally connected to the first connection bar 27 by the connecting bar 62. One end of the connecting bar 62 is provided with a hydraulic motor 58. In addition, the piston 60 is protruded to the upper and lower portions of the hydraulic motor 58, the upper end of the piston 60 is integrally connected to the bottom of the base (52).

따라서, 상기 유압모터(58)가 구동하는 경우, 이 피스톤(60)이 돌출/수축함으로써 베이스(52)를 제1 롤러부(19) 방향으로 승하강시킬 수 있다.Therefore, when the hydraulic motor 58 is driven, the base 52 can be raised and lowered in the direction of the first roller portion 19 by the piston 60 protruding / contracting.

그리고, 이 베이스(52)의 상면에는 적어도 하나 이상의 고정구(31)가 일정 높이로 돌출되어 있다.At least one fastener 31 protrudes to a predetermined height on the upper surface of the base 52.

이 고정구(31)는 상기 베이스(52)의 상면으로부터 돌출되는 지지핀(54)과, 상기 지지핀(54)의 상단에 일체로 결합되는 흡착판(56)으로 이루어진다.The fixture 31 is composed of a support pin 54 protruding from the upper surface of the base 52, and the adsorption plate 56 integrally coupled to the upper end of the support pin 54.

그리고, 지지핀(54)은 그 직경이 상기 다수의 회전롤러(42)의 사이(D)를 통과할 수 있을 정도의 직경을 갖는다. 또한, 상기 흡착판(56)은 플렉시블한 재질로 이루어진 통상적인 흡착판(56)을 포함한다. And, the support pin 54 has a diameter that the diameter can pass between the (D) of the plurality of rotary rollers 42. In addition, the suction plate 56 includes a conventional suction plate 56 made of a flexible material.

따라서, 상기 베이스(52)가 구동부(50)에 의하여 상승하는 경우, 상기 지지핀(54)이 회전롤러(42)의 사이를 통과하여 상승하게 되고, 이 흡착판(56)이 제1 롤 러부(19)에 안착된 기판(G)의 저면에 흡착된다.Therefore, when the base 52 is raised by the driving unit 50, the support pin 54 is raised through the rotation roller 42, the suction plate 56 is the first roller portion ( 19 is adsorbed to the bottom surface of the substrate G seated on 19).

결과적으로, 기판(G)은 흡착판(56)에 의하여 제1 롤러부(19)상에 안정적으로 고정될 수 있음으로, 상기 제1 롤러부(19)가 측방향으로 회전하여 기울어진 상태에서도 기판(G)은 제1 롤러부(19)에 안정적으로 고정되어 낙하가 방지될 수 있다. As a result, the substrate G can be stably fixed on the first roller portion 19 by the suction plate 56, so that the substrate G is rotated laterally and tilted. (G) is stably fixed to the first roller portion 19 can be prevented from falling.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 고밀도 현상장치의 구동과정을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, a driving process of the high density developing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도1 내지 도5 에 도시된 바와 같이, 기판(G)에 대하여 현상공정을 실시하는 경우, 먼저, 기판(G)을 로딩부(3)를 통하여 현상장치(5)의 챔버(15) 내부로 유입시킨다. 이때, 상기 기판(G)은 패스라인(P/S)을 따라 챔버(15)의 입측구(I)를 통하여 진입하게 된다.As shown in FIGS. 1 to 5, when the developing process is performed on the substrate G, the substrate G is first introduced into the chamber 15 of the developing apparatus 5 through the loading unit 3. Inflow. In this case, the substrate G enters through the entrance opening I of the chamber 15 along the pass line P / S.

챔버(15)의 내부로 유입된 기판(G)은 패스라인(P/S)상에 정열된 제1 롤러부(19)로 이송된다. 즉, 제1 롤러부(19)의 모터 조립체(44)가 구동함으로써 다수의 회전롤러(42)가 회전하여 챔버(15) 내부로 유입된 기판(G)을 약간 거리 이송하여 안착시킨다.The substrate G introduced into the chamber 15 is transferred to the first roller portion 19 arranged on the pass line P / S. That is, the motor assembly 44 of the first roller unit 19 is driven to rotate the plurality of rotary rollers 42 to transport the substrate G introduced into the chamber 15 a little distance to be seated.

이 상태에서, 제1 고정부(31)의 구동부(50)가 구동함으로써 피스톤(60)이 상승하고, 베이스(52)가 일정 높이로 상승하게 된다. In this state, by driving the drive part 50 of the 1st fixed part 31, the piston 60 will raise and the base 52 will raise to a fixed height.

그리고, 베이스(52)의 상승에 의하여 고정구(31)가 상승하게 되고, 이 고정구(31)의 흡착판(56)이 제1 롤러부(19)에 안착된 기판(G)의 저면에 흡착됨으로써 기판(G)을 안정적으로 고정하게 된다.Then, as the base 52 is raised, the fastener 31 is raised, and the adsorption plate 56 of the fastener 31 is adsorbed on the bottom surface of the substrate G seated on the first roller portion 19. It is to stably fix (G).

이와 같이, 기판(G)이 제1 롤러부(19)상에 고정된 상태에서 현상액 분사기 (20)로부터 현상액이 기판(G)의 표면에 분사됨으로써 현상공정이 진행된다.As described above, the developing process is performed by spraying the developing solution from the developer injector 20 onto the surface of the substrate G while the substrate G is fixed on the first roller portion 19.

일정 시간 경과 후, 회전모터(29)가 구동함으로써 이송부(17)를 회전시켜, 제1 롤러부(19)가 측방향으로 회전하게 된다.After a certain period of time, the rotary motor 29 is driven to rotate the feed section 17, so that the first roller section 19 rotates laterally.

제1 롤러부(19)가 측방향에 위치하게 되면, 기판(G)상에 분사된 현상액이 하부로 흘러내림으로써 현상액의 제거가 용이하다.When the 1st roller part 19 is located in the lateral direction, the developing solution injected on the board | substrate G will flow down, and it will be easy to remove a developing solution.

이와 같이, 제1 롤러부(19)가 측방향으로 회전하는 경우, 제2 롤러부(21)가 회전함으로써 제1 롤러부(19)가 있었던 위치, 즉 패스라인(P/S)상에 정열된다. 그리고, 로딩부(1)에 대기중이던 기판(G)이 이송되어 제2 롤러부(21)상에 안착되며, 제1 롤러부(19)와 동일한 과정을 거쳐서 현상공정이 진행된다.Thus, when the 1st roller part 19 rotates laterally, the 2nd roller part 21 rotates and arrange | positions on the position where the 1st roller part 19 was located, ie, the pass line P / S. do. Subsequently, the substrate G, which is waiting for the loading unit 1, is transferred and seated on the second roller unit 21, and the developing process is performed through the same process as the first roller unit 19.

이와 같은 순서에 의하여, 제1 내지 제4 롤러부(19,21,23,25)가 순차적으로 패스라인(P/S)을 통과하여 회전하게 됨으로써 현상공정이 하나의 챔버(15) 내부에서 이루어질 수 있다.In this order, the first to fourth roller parts 19, 21, 23, and 25 are sequentially rotated through the pass line P / S, so that a developing process is performed in one chamber 15. Can be.

그리고, 이러한 공정이 한 싸이클을 마치고 제1 롤러부(19)가 최초의 위치, 즉 패스라인(P/S)상에 다시 복귀하였을 때, 제1 롤러부(19)의 유압모터(58)가 구동하여 피스톤(60)이 하부로 하강하게 된다. 피스톤(60)이 하강함에 따라 기판(G)의 저면에 흡착되었던 흡착판(56)이 기판(G)으로부터 이탈된다.Then, when this process has finished one cycle and the first roller portion 19 returns to its original position, that is, on the pass line P / S, the hydraulic motor 58 of the first roller portion 19 The piston 60 is lowered downward by driving. As the piston 60 descends, the suction plate 56 adsorbed on the bottom surface of the substrate G is separated from the substrate G.

그리고, 제1 롤러부(19)의 모터 조립체(44)가 구동하므로써 회전롤러(42)를 회전시켜 안착된 기판(G)이 챔버(15)의 배출구(O)를 통하여 후공정으로 이송된다.Then, by driving the motor assembly 44 of the first roller 19, the substrate G seated by rotating the rotary roller 42 is transferred to the post process through the outlet O of the chamber 15.

상기한 바와 같은 공정을 통하여 기판(G)에 대한 현상공정을 진행할 수 있다.The developing process for the substrate G may be performed through the process as described above.

상기에서는 현상공정에 한정하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고, 식각, 세정 등의 처리라인에도 적용가능하다.In the above description, the present invention is limited to the developing step, but the present invention is not limited thereto, and the present invention can also be applied to processing lines such as etching and washing.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판처리장치 및 방법은 다수개의 기판 이송용 롤러부를 일체로 형성하여 회전가능하게 구비함으로써 각 롤러부가 기판을 순차적으로 인수하여 일정 시간 회전하는 동안 현상처리함으로써 현상효율을 향상시킬 수 있는 장점이 있다.As described above, in the substrate processing apparatus and method according to the preferred embodiment of the present invention, a plurality of substrate transfer roller parts are integrally formed and rotatably provided so that each roller part takes over the substrate sequentially and rotates for a predetermined time. There is an advantage to improve the development efficiency by the treatment.

또한, 하나의 챔버내에서 기판의 현상공정이 이루어짐으로써 현상시간 및 효율이 향상될 수 있는 장점이 있다.In addition, there is an advantage that the development time and efficiency can be improved by developing the substrate in one chamber.

본 발명은 당해 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진자라면 누구든지 특허청구의 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어나지 않고도 다양하게 변경실시 할 수 있으므로 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니한다.The present invention can be variously changed by those skilled in the art without departing from the gist of the present invention claimed in the claims, and is not limited to the specific preferred embodiments described above. .

Claims (12)

기판 처리공정이 진행되는 챔버와;A chamber in which a substrate processing process is performed; 상기 챔버의 내부에 회전가능하게 구비되고, 다수개의 기판을 순차적으로 인수하여 회전과정에서 현상공정을 진행시킬 수 있는 이송부와; 그리고A transfer unit rotatably provided in the chamber and configured to sequentially take over a plurality of substrates and to advance a developing process in a rotating process; And 상기 이송부에 구비되어 상기 기판의 저면을 흡착에 의하여 고정시킴으로써 기판이 회전하는 경우 낙하하는 것을 방지하는 고정부를 포함하는 기판처리장치.And a fixing part provided in the conveying part to fix the bottom surface of the substrate by adsorption to prevent the substrate from falling when the substrate rotates. 제1 항에 있어서, 상기 챔버의 내부에 현상액 분사기가 구비됨으로써 상기 기판에 현상액을 분사하는 기판처리장치.The substrate processing apparatus of claim 1, wherein a developer is sprayed into the chamber to spray the developer onto the substrate. 제1 항에 있어서, 상기 이송부는 상기 챔버의 내부 양측면에 회전가능하게 각각 구비되는 한 쌍의 연결바와, 한 쌍의 연결바의 사이에 구비되어 한 쌍의 연결바가 회전하는 경우 연동하여 회전가능하며 그 상면에 기판을 안착/이송시킬 수 있는 롤러부와, 상기 한 쌍의 연결바를 회전시키는 회전모터를 포함하는 기판처리장치.The method of claim 1, wherein the transfer unit is provided between a pair of connecting bars rotatably provided on both sides of the interior of the chamber, and a pair of connecting bars are rotatable interlocking when the pair of connecting bars is rotated. And a roller unit capable of mounting / transferring the substrate on the upper surface thereof, and a rotating motor for rotating the pair of connecting bars. 제3 항에 있어서, 상기 롤러부는 제1 내지 제4 롤러부를 포함하며, 제1 내지 제4 롤러부는 그 양측부가 상기 한 쌍의 연결바의 사이에 각각 연결되는 한 쌍의 프레임과, 한 쌍의 프레임 사이에 회전가능하게 장착되어 기판을 안착/이송시키는 다수의 회전롤러와, 다수의 회전롤러를 서로 연결함으로써 구동시키는 동력전달부재와, 동력전달부재를 회전시키는 모터 조립체를 포함하는 기판처리장치.According to claim 3, wherein the roller portion comprises a first to fourth roller portion, the first to fourth roller portion a pair of frames, each side of which is connected between the pair of connecting bars, a pair of And a plurality of rotary rollers rotatably mounted between the frames to seat / transfer the substrate, a power transmission member for driving by connecting the plurality of rotation rollers to each other, and a motor assembly for rotating the power transmission member. 제4 항에 있어서, 상기 동력전달부재는 밸트 혹은 체인중 어느 하나를 선택적으로 포함하는 기판처리장치.The substrate processing apparatus of claim 4, wherein the power transmission member selectively includes any one of a belt and a chain. 제4 항에 있어서, 상기 고정부는 상기 제1 내지 제4 롤러부의 내측에 각각 구비됨으로써 제1 내지 제4 롤러부에 안착된 기판을 고정시키는 기판처리장치.The substrate treating apparatus of claim 4, wherein the fixing parts are provided inside the first to fourth roller parts, respectively, to fix the substrate seated on the first to fourth roller parts. 제6 항에 있어서, 상기 고정부는 베이스와, 상기 베이스를 승하강 시키는 구동부와, 상기 베이스의 상면에 돌출 형성되며, 상승시 상기 롤러부상에 안착된 기판을 고정시키는 고정구를 포함하는 기판처리장치.The substrate processing apparatus of claim 6, wherein the fixing part includes a base, a driving part for raising and lowering the base, and a fixing part protruding to an upper surface of the base, and fixing the substrate seated on the roller part when raised. 제7 항에 있어서, 상기 구동부는 상기 베이스의 저면에 연결되는 피스톤과, 상기 피스톤을 승하강시키는 유압모터와, 상기 유압모터를 상기 한 쌍의 프레임에 연결시키는 커넥팅바를 포함하는 기판처리장치.The substrate processing apparatus of claim 7, wherein the driving unit comprises a piston connected to the bottom of the base, a hydraulic motor for raising and lowering the piston, and a connecting bar for connecting the hydraulic motor to the pair of frames. 제7 항에 있어서, 상기 고정구는 상기 베이스로부터 돌출되는 지지핀과, 상기 지지핀의 상단에 일체로 결합되는 흡착판을 포함하며, 상기 흡착판이 기판의 저면에 흡착되어 기판을 고정시키는 기판처리장치. 8. The substrate treating apparatus of claim 7, wherein the fixture comprises a support pin protruding from the base and an adsorption plate integrally coupled to an upper end of the support pin, wherein the adsorption plate is adsorbed on a bottom surface of the substrate to fix the substrate. 패스라인을 따라 이송한 기판이 롤러부에 안착되는 제1 단계와;A first step of placing the substrate transferred along the pass line on the roller unit; 상기 롤러부에 안착된 기판의 저면을 고정부에 의하여 흡착하여 롤러부상에 고정시킴으로서 롤러부의 회전시 기판이 낙하하는 것을 방지하는 제2 단계와;A second step of preventing the substrate from falling during rotation of the roller by adsorbing the bottom surface of the substrate seated on the roller by the fixing unit and fixing the lower surface on the roller unit; 상기 롤러부가 회전하는 경우, 다른 롤러부가 회전하여 패스라인상에 위치하는 제3 단계와; 그리고If the roller portion rotates, a third step of rotating the other roller portion on the pass line; And 다른 기판이 상기 패스라인상의 롤러부에 안착하고, 고정부에 의하여 기판을 고정시키고, 회전시키는제4 단계를 포함함으로써,And a fourth step in which another substrate is seated on the roller portion on the pass line, and the substrate is fixed and rotated by the fixing portion, 상기 단계들을 반복적으로 수행함으로써 기판을 처리하는 기판처리방법.And treating the substrate by repeatedly performing the above steps. 제1O 항에 있어서, 상기 제1 및 제3 단계에서 롤러부는 4개를 구비함으로써 기판을 각각 적치가능한 기판처리방법.10. The substrate processing method according to claim 10, wherein the substrate is provided by four roller portions in the first and third steps, respectively. 제10 항에 있어서, 상기 제2 단계에서는 고정부의 베이스가 상승함으로써 베이스상에 구비된 다수의 흡착판이 기판의 저면에 흡착됨으로써 기판을 고정할 수 이쓴 기판처리방법.The substrate processing method according to claim 10, wherein in the second step, the base of the fixing unit is lifted so that a plurality of adsorption plates provided on the base are adsorbed onto the bottom surface of the substrate.
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