KR100683382B1 - 반도체 노광 장비 및 이를 이용한 반도체 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 웨이퍼를 인터페이스에서 프리얼라인하여, 이동시 발생할 수 있는 웨이퍼의 파괴를 방지할 수 있는 웨이퍼 프리얼라인 장치를 구비하는 반도체 노광 장비 및 이를 이용하는 반도체 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 반도체 노광 장비는 웨이퍼 상에 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙; 상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 웨이퍼를 노광하기 위한 스텝퍼; 및 상기 트랙 및 스텝퍼를 연결하는 인터페이스;를 포함하며, 상기 인터페이스는 상기 웨이퍼를 프리얼라인하기 위한 웨이퍼 프리얼라인 장치를 구비하는 인터페이스를 포함하는 것을 특징으로 한다.
반도체 노광 장비, 인터페이스, 프리얼라인
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비를 설명하기 위한 개략도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비의 프리얼라인 장치를 설명하기 위한 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비를 이용한 반도체 제조 방법을 설명하기 위한 순서도.
(도면의 주요 부위에 대한 부호의 설명)
10; 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙
20; 인터페이스
30; 스텝퍼
100; 프리얼라인 장치
110; 프리얼라인 스테이지
120; 프리얼라인 가이드부
121; 에어 컨트롤러
122; 유압식 해머
123; 프리얼라인 가이드
본 발명은 반도체 노광 장비 및 이를 이용하는 반도체 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 웨이퍼를 인터페이스에서 프리얼라인하여, 이동시 발생할 수 있는 웨이퍼의 파괴를 방지할 수 있는 웨이퍼 프리얼라인 장치를 구비하는 반도체 노광 장비 및 이를 이용하는 반도체 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 노광 장비는 반도체 웨이퍼 상에 포토레지스트(photoresist)를 도포하고 현상하는 트랙(track)과 패턴 노광 장치인 스텝퍼(stepper)가 인터페이스(interface)에 의하여 하나로 연결되는 인라인(inline)으로 구성하는 추세로 나아가소 있다.
상기한 바와 같은 반도체 노광 장비는 하기와 같이 작동한다.
우선, 상기 트랙에 반도체 웨이퍼를 안착시킨다.
그런 다음, 상기 웨이퍼 상에 마스크 패턴 형성을 위한 포토레지스트를 도포하고 현상한다.
상기 웨이퍼 상에 포토레지스트를 도포 및 현상한 후, 상기 스텝퍼와 연결되는 인터페이스로 상기 웨이퍼를 이송한다.
상기 웨이퍼를 인터페이스로 이송한 후, 상기 스텝퍼에서 이전의 웨이퍼를 노광하는 동안 대기하한다.
이전의 웨이퍼의 노광이 완료되면, 상기 인터페이스 내의 웨이퍼를 상기 스텝퍼로 이송하고, 상기 스텝퍼를 이용하여 노광함으로써, 상기 웨이퍼 상에 마스크 패턴을 형성한다.
이때, 상기 스텝퍼에서는 상기 웨이퍼의 얼라인이 중요하다. 이는 상기 스텝퍼의 노광 위치가 일반적으로 고정되어 있어, 정확한 위치에 상기 웨이퍼를 얼라인시켜야만 상기 웨이퍼 상에 정확한 마스크 패턴이 형성되기 때문이다.
또한, 상기 웨이퍼의 이송은 일반적으로 로봇 암(robot arm)을 이용하여 수행된다.
한편, 상기 인터페이스 내에서 상기 웨이퍼가 기울어져 있거나, 그 위치가 로봇 암의 작동 경로에 정확히 배치되어 있지 않은 경우, 상기 웨이퍼가 상기 스텝퍼에 정확히 얼라인되지 않는 경우가 있다.
이때, 상기 스텝퍼에서 상기 웨이퍼의 얼라인 오차가 적은 경우에는 얼라인을 통하여 수정할 수 있으나, 그 오차가 큰 경우에는 에러로 인식되어 노광 공정이 중지된다.
또한, 상기 로봇 암을 통하여 이송시에 상기 웨이퍼가 파괴될 수도 있다.
본 발명의 목적은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명은 반도체 웨이퍼를 인터페이스에서 프리얼라인하여, 이동시 발생할 수 있는 웨이퍼의 파괴를 방지할 수 있는 웨이퍼 프리얼라인 장치를 구비하는 반도체 노광 장비 및 이를 이용하는 반도체 제조 방법를 제공하는 데에 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 반도체 노광 장비는 웨이퍼 상에 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙; 상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 웨이퍼를 노광하기 위한 스텝퍼; 및 상기 트랙 및 스텝퍼를 연결하는 인터페이스;를 포함하며, 상기 인터페이스는 상기 웨이퍼를 프리얼라인하기 위한 웨이퍼 프리얼라인 장치를 구비하는 인터페이스를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 웨이퍼 프리얼라인 장치는 웨이퍼가 안착되는 프리얼라인 스테이지; 및 웨이퍼를 일정 위치에 프리얼라인하기 위한 프리얼라인 가이드부;를 구비하는 것이 바람직하다.
상기 프리얼라인 가이드부는 에어 컨트롤러, 상기 에어 컨트롤러에 의해 작동하는 유압식 해머 및 상기 유압식 해머에 의하여 작동하는 웨이퍼를 소정 위치에 프리얼라인시키는 프리얼라인 가이드를 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 반도체 제조 방법은 포토레지스트가 도포 및 현상된 웨이퍼를 프리얼라인 스테이지로 이송시키는 단계와; 에어 컨트롤러, 상기 에어 컨트롤러에 의해 작동하는 유압식 해머 및 상기 유압식 해머에 의하여 작동하는 프리얼라인 가이드를 구비하는 프리얼라인 가이드부를 이용하여 상기 웨이퍼를 프리얼라인 하는 단계와; 상기 프리얼라인된 웨이퍼를 스텝퍼로 이송시키는 단계를 포함하여 진행된다.
상기 웨이퍼를 프리얼라인하는 단계는 상기 반도체 웨이퍼가 프리얼라인 스 테이지에 안착되면, 상기 에어 컨트롤러를 작동시켜 상기 유압식 해머를 통하여 상기 프리얼라인 가이드를 구동함으로써, 상기 반도체 웨이퍼를 소정 위치에 프리얼라인시키는 것이 바람직하다.
이하 첨부된 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예를 설명한다.
도면의 동일한 참조 부호는 동일한 구성 요소를 나타낸다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비를 설명하기 위한 개략도이며, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비의 프리얼라인 장치를 설명하기 위한 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시에에 따른 반도체 노광 장비는 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙(10), 인터페이스(20) 및 인터페이스(30)를 구비하는 구조로 이루어진다.
상기 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙(10)은 반도체 웨이퍼(W) 상에 마스크 패턴을 형성하기 위하여 포토레지스트를 도포하고 현상하는 부분이다.
상기 인터페이스(20)는 상기 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙(10) 및 인터페이스(30)를 연결하는 부분으로, 현재의 추세인 반도체 노광 장비에서 PR 도포 및 현상과 노광 공정을 인라인으로 수행하기 위하여 도입된 부분이다.
이때, 상기 인터페이스(20)는 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 반도체 웨이퍼(W)를 상기 인터페이스(30)로 이송하여 노광하기 전, 상기 반도체 웨이퍼(W)를 프리얼라인하는 프리얼라인 장치(100)를 구비하는 것이 바람직하다.
상기 인터페이스(30)는 상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 반도체 웨이퍼(W)를 소정 패턴으로 노광하여 상기 반도체 웨이퍼(W) 상에 소정의 마스크 패턴을 형성하는 부분이다.
한편, 도 2에 도시된 바와 같이 상기 인터페이스(20)의 프리얼라인 장치(100)는 상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 반도체 웨이퍼(W)가 안착되는 프리얼라인 스테이지(110) 및 상기 반도체 웨이퍼(W)를 일정 위치에 얼라인하기 위한 웨이퍼(W) 프리얼라인 가이드부(120)를 구비한다.
상기 프리얼라인 스테이지(110)는 상기 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙(10)에서 포토레지스트가 도포 및 현상된 반도체 웨이퍼(W)가 이송되어 안착되는 부분으로, 소정의 평판 또는 테이블로 이루어진다.
상기 프리얼라인 가이드부(120)는 상기 프리얼라인 스테이지(110)에 안착된 반도체 웨이퍼(W)를 상기 인터페이스(30)로 이송하기 전 프리얼라인하는 부분으로, 에어 컨트롤러(121), 유압식 해머(122) 및 웨이퍼(W) 프리얼라인 가이드(123)를 구비한다.
상기 프리얼라인 가이드부(120)는 상기 프리어라인 스테이지에 반도체 웨이퍼(W)가 안착되면, 상기 에어 컨트롤러(121)를 작동시켜, 상기 유압식 해머(122)가 상기 웨이퍼(W) 프리얼라인 가이드(123)에 압력을 가하여 상기 프리얼라인 가이드(123)를 구동시켜, 상기 반도체 웨이퍼(W)를 일정 위치로 얼라인시킨다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비를 이용한 반도체 제조 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비를 이용한 반도체 제조 방법은 웨이퍼 상에 PR 도포 및 현상하는 단계(S1), 웨이퍼를 프리얼라인 스테이지로 이송하는 단계(S2), 프리얼라인 가이드부를 이용하여 웨이퍼를 프리얼라인하는 단계(S3) 및 상기 웨이퍼를 인터페이스로 이송하는 단계(S4)를 포함하여 진행된다.
보다 상세히 설명하면, 상기 웨이퍼 상에 PR 도포 및 현상하는 단계(S1)에서는 상기 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙(10)에서 반도체 웨이퍼(W) 상에 마스크 패턴 형성을 위한 포토레지스트를 도포하고 현상한다.
그런 다음, 상기 웨이퍼를 프리얼라인 스테이지로 이송하는 단계(S2)에서는 상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 반도체 웨이퍼(W)를 상기 인터페이스(20) 프리얼라인 장치(100)의 프리얼라인 스테이지(110)로 이송하여 안착시킨다.
상기 프리얼라인 가이드부를 이용하여 웨이퍼를 프리얼라인하는 단계(S3)는 상기 웨이퍼(W)를 프리얼라인 스테이지(110)로 이송(S2)한 후, 상기 에어 컨트롤러(121), 유압식 해머(122) 및 웨이퍼(W) 프리얼라인 가이드(123)를 구비하는 프리얼라인 가이드부(120)를 이용하여 상기 반도체 웨이퍼(W)를 소정 위치로 프리얼라인시킨다.
이때, 상기 프리얼라인 가이드부(120)는 상기 반도체 웨이퍼(W)가 프리얼라인 스테이지(110)에 안착됨을 인식한 후, 상기 에어 컨트롤러(121)를 작동시켜 상기 유압식 해머(122)를 통하여 상기 프리얼라인 가이드(123)를 구동함으로써, 상기 반도체 웨이퍼(W)를 소정 위치에 프리얼라인시킨다.
또한, 상기 반도체 웨이퍼(W)의 프리얼라인은 상기 인터페이스(30)에서 이전의 웨이퍼(W)가 노광이 완료될 때까지의 대기 기간동안 수행된다.
상기 웨이퍼를 인터페이스로 이송하는 단계(S4)에서는 상기 프리얼라인된 반도체 웨이퍼(W)를 로봇 암 등을 이용하여 상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 반도체 웨이퍼(W)를 노광하여 마스크 패턴을 형성하기 위한 인터페이스(30)로 이송한다.
상기한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 노광 장비는 상기 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙(10) 및 인터페이스(30)를 연결하는 인터페이스(20)에 반도체 웨이퍼(W) 프리얼라인 장치(100)를 구비함으로써, 상기 반도체 웨이퍼(W)를 상기 인터페이스(30)에 보다 정확히 얼라인되도록 안착시킬 수 있으며, 인터페이스(30)로 이동하기 전 위치 불량으로 인한 반도체 웨이퍼(W)의 파괴를 방지할 수 있다.
또한, 상기 반도체 웨이퍼(W)가 상기 인터페이스(20)의 프리얼라인 장치(100)에 위치하는 대기 시간 동안 프리얼라인하여, 상기 인터페이스(30) 내에서의 얼라인을 위한 시간을 감소시킬 수 있다.
상기한 바와 같이 본 발명에 따르면, 본 발명은 반도체 웨이퍼를 인터페이스에서 프리얼라인하여, 이동시 발생할 수 있는 웨이퍼의 파괴를 방지할 수 있는 웨이퍼 프리얼라인 장치를 구비하는 반도체 노광 장비 및 이를 이용하는 반도체 제조 방법을 제공할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
Claims (5)
- 웨이퍼 상에 포토레지스트 도포 및 현상을 위한 트랙;상기 포토레지스트가 도포 및 현상된 웨이퍼를 노광하기 위한 스텝퍼; 및상기 트랙 및 스텝퍼를 연결하는 인터페이스;를 포함하며,상기 인터페이스는, 웨이퍼가 안착되는 프리얼라인 스테이지 및 웨이퍼를 일정 위치에 프리얼라인하기 위한 프리얼라인 가이드부를 구비하는 플리얼라인 장치를 포함하고,상기 프리얼라인 가이드부는 에어 컨트롤러, 상기 에어 컨트롤러에 의해 작동하는 유압식 해머 및 상기 유압식 해머에 의하여 작동하는 웨이퍼를 소정 위치에 프리얼라인시키는 프리얼라인 가이드를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 장비.
- 삭제
- 삭제
- 포토레지스트가 도포 및 현상된 웨이퍼를 프리얼라인 스테이지로 이송시키는 단계와;에어 컨트롤러, 상기 에어 컨트롤러에 의해 작동하는 유압식 해머 및 상기 유압식 해머에 의하여 작동하는 프리얼라인 가이드를 구비하는 프리얼라인 가이드부를 이용하여 상기 웨이퍼를 프리얼라인 하는 단계와;상기 프리얼라인된 웨이퍼를 스텝퍼로 이송시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 방법.
- 제 4항에 있어서,상기 웨이퍼를 프리얼라인하는 단계는상기 반도체 웨이퍼가 프리얼라인 스테이지에 안착되면, 상기 에어 컨트롤러를 작동시켜 상기 유압식 해머를 통하여 상기 프리얼라인 가이드를 구동함으로써, 상기 반도체 웨이퍼를 소정 위치에 프리얼라인시키는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 방법.
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| JP2000068351A (ja) * | 1998-08-24 | 2000-03-03 | Nikon Corp | 基板処理装置 |
| KR20040079124A (ko) * | 2003-03-06 | 2004-09-14 | 삼성전자주식회사 | 스피너와 노광장치가 결합된 인라인 설비 |
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- 2004-12-28 KR KR1020040114382A patent/KR100683382B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
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| JP2000068351A (ja) * | 1998-08-24 | 2000-03-03 | Nikon Corp | 基板処理装置 |
| KR20040079124A (ko) * | 2003-03-06 | 2004-09-14 | 삼성전자주식회사 | 스피너와 노광장치가 결합된 인라인 설비 |
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