KR100675557B1 - Apparatus for transferring substrates and system for treating substrates using the apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 평판 디스플레이(flat panel display)의 제조 공정에서 기판의 경사를 조절하며 처리부로/로부터 기판을 이송하는 장치 및 그것을 사용한 기판 처리 시스템에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to an apparatus for transferring a substrate to / from a processing unit and controlling a substrate in a manufacturing process of a flat panel display, and a substrate processing system using the same.

본 발명의 기판 이송 장치는 컨베이어부재가 설치된 지지판을 수평상태 또는 경사진 상태로 변환시켜주는 경사변환부재를 포함한다. 이 경사변환부재는 베이스의 일단에서 지지판의 일단을 지지하는 경첩부와, 경첨부를 축으로 하여 지지판의 타단을 승강시키기 위한 구동부를 포함한다. 이 구동부는 실린더와, 이 실린더의 피스톤 로드와 지지판의 타단을 연결하는 편심보정을 위한 링크를 포함한다.The substrate transfer apparatus of the present invention includes an inclination converting member for converting the support plate on which the conveyor member is installed into a horizontal state or an inclined state. The inclination converting member includes a hinge portion for supporting one end of the support plate at one end of the base, and a driving part for elevating the other end of the support plate with the axial part as the axis. The drive unit includes a cylinder and a link for eccentricity correction connecting the piston rod of the cylinder and the other end of the support plate.

Description

기판 이송 장치 및 그 장치를 사용한 기판 처리 시스템{APPARATUS FOR TRANSFERRING SUBSTRATES AND SYSTEM FOR TREATING SUBSTRATES USING THE APPARATUS } Substrate transfer apparatus and substrate processing system using the apparatus {APPARATUS FOR TRANSFERRING SUBSTRATES AND SYSTEM FOR TREATING SUBSTRATES USING THE APPARATUS}

도 1은 일반적인 기판 이송을 위한 컨베이어부를 개략적으로 보여주는 도면;1 is a view schematically showing a conveyor unit for transferring a general substrate;

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 시스템을 개략적으로 보여주는 블록도;2 is a block diagram schematically illustrating a substrate processing system according to a preferred embodiment of the present invention;

도 3은 도 2의 기판 이송 장치의 구성을 보여주는 평면도;3 is a plan view showing the configuration of the substrate transfer apparatus of FIG. 2;

도 4는 수평상태의 기판 이송 장치를 보여주는 측면도;4 is a side view showing the substrate transport apparatus in a horizontal state;

도 5는 경사진 상태의 기판 이송 장치를 보여주는 측면도이다.5 is a side view showing the substrate transfer apparatus in an inclined state.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

120 : 기판 이송 장치120: substrate transfer device

122 : 베이스122: base

124 : 지지판124: support plate

130 : 컨베이어 부재130: conveyor member

132 : 이송축132: feed shaft

133 : 롤러 133: roller

134 : 구동부재134: drive member

140 : 경사변환부재140: inclination conversion member

142 : 경첩부142: hinge part

144 : 구동부 144 drive unit

146 : 실린더146: cylinder

148 : 링크148: link

본 발명은 기판이송장치 및 그것을 사용한 기판 처리 시스템에 관한 것으로, 더 상세하게는 평판 디스플레이(flat panel display)의 제조 공정에서 기판의 경사를 조절하며 처리부로/로부터 기판을 이송하는 장치 및 그것을 사용한 기판 처리 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a substrate transfer apparatus and a substrate processing system using the same, and more particularly, to an apparatus for transferring a substrate to / from a processing unit and controlling the inclination of the substrate in a flat panel display manufacturing process, and a substrate using the same. To a processing system.

최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 주로 디스플레이 장치로는 주로 브라운관(cathode ray tube) 모니터가 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 적고 저전압 구동형인 액정 표시 소자(liquid crystal display)가 널리 사용되고 있다.Recently, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and faster information processing speeds. This information processing apparatus has a display device for displaying the operated information. Until now, a cathode ray tube monitor has been mainly used as a display device, but in recent years, with the rapid development of semiconductor technology, the use of a flat panel display which is light and occupies small space is rapidly increasing. There are various types of flat panel displays, and among them, liquid crystal displays having low power consumption and volume and low voltage driving type are widely used.

이들 액정 표시 소자 제작을 위해서 기판(glass substrate) 상에는 패턴 형성을 위해 복수의 단위 공정들이 수행되며, 식각, 수세, 또는 건조와 같은 공정 진행시에 기판은 복수의 이송롤러 상에 기판이 재치됨으로써 이루어진다. 이들 공정에서 기판은 전면에 균일한 처리가 이루어지도록 일정각도가 기울어진 상태로 놓여질 수 있다. 이를 위해 기판은 일정각도로 경사진 상태로 처리실로 이송되어야 한다. 이를 위해 일반적으로 컨베이어부로 이송된 기판의 경사조절은 다음과 같이 이루어진다. In order to fabricate these liquid crystal display devices, a plurality of unit processes are performed on a glass substrate to form a pattern. In the process of etching, washing or drying, the substrate is formed by placing the substrate on a plurality of feed rollers. . In these processes, the substrate may be placed at an inclined angle so that uniform processing is performed on the entire surface. To this end, the substrate must be transferred to the processing chamber at an angled angle. For this purpose, the inclination of the substrate transferred to the conveyor is generally made as follows.

컨베이어부는 도 1에서 보는 바와 같이 일정각도로 경사진 회전샤프트들(42)과 샤프트들(42) 사이로 승강 및 하강되는 리프트 핀들(30)을 가지며, 리프트 핀들(30)이 승강된 상태에서 기판(10)은 아암(20)에 의해 리프트 핀들(30) 상에 올려진다. 이후 리프트 핀들(30)이 하강하면서 기판(10)은 샤프트(42)를 삽입하고 있는 롤러들(44) 상에 안착되고, 롤러(44)가 회전하면서 기판(10)은 처리실 내로 유입된다.The conveyor unit has lift pins 30 which are lifted and lowered between the rotating shafts 42 and the shafts 42 which are inclined at a predetermined angle as shown in FIG. 1, and in the state in which the lift pins 30 are lifted, the substrate ( 10 is lifted on the lift pins 30 by the arm 20. Subsequently, as the lift pins 30 descend, the substrate 10 rests on the rollers 44 into which the shaft 42 is inserted, and the substrate 10 flows into the process chamber while the roller 44 rotates.

그러나 상술한 방법에 의하면 기판은 경사진 롤러들(44) 상에 직접 놓여지므로 기판(10)의 크게 휘게 되는 문제가 있고, 또한 아암(20)에 의해 이송된 기판이 컨베이어부를 통해 처리실로 이송되기까지, 아암(20)에 의해 컨베이어부로 이송되는 단계, 리프트 핀들(30)이 승강하고 하강하는 단계, 그리고 이후에 샤프트들(42)이 회전하는 단계를 거쳐야 하므로 많은 시간이 소요되어 처리량(through-put)이 감소되는 문제가 있다. However, according to the above-described method, since the substrate is placed directly on the inclined rollers 44, there is a problem of large bending of the substrate 10, and the substrate transferred by the arm 20 is transferred to the processing chamber through the conveyor unit. Until this time, it takes a lot of time because it must go through the step of being transferred to the conveyor by the arm 20, the lifting pins 30 are raised and lowered, and then the shafts 42 rotate. put) is reduced.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 기판의 경사 조절이 안정적으로 이루어질 수 있는 새로운 형태의 기판이송장치 및 그것을 사용한 기판 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.  It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus of a new type and a substrate processing system using the same that can stably adjust the inclination of the substrate.

상기 기술적 과제들을 이루기 위한 기판 이송 장치는 베이스; 상기 베이스 상부에 설치되는 지지판; 상기 지지판 상에 설치되는 그리고 기판이 이송되는 컨베이어부재; 및 상기 베이스와 상기 지지판 사이에 설치되며, 상기 지지판을 수평상태 또는 경사진 상태로 변환시켜주는 경사변환부재를 포함한다.The substrate transfer apparatus for achieving the above technical problem is a base; A support plate installed on the base; A conveyor member installed on the support plate and to which the substrate is conveyed; And an inclination converting member installed between the base and the support plate and converting the support plate into a horizontal state or an inclined state.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 경사변환부재는 상기 베이스의 일단에서 상기 지지판의 일단을 지지하는 경첩부; 상기 경첨부를 축으로 하여 상기 지지판의 타단을 승강시키기 위한 구동부를 포함하되; 상기 구동부는 상기 베이스의 타단에 설치되는 그리고 피스톤 로드를 갖는 실린더와, 일단은 상기 실린더의 피스톤 로드에 설치되고, 타단은 상기 지지판의 타단에 설치되어 상기 지지판의 경사변환에 따른 편심보정을 위한 링크를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the inclination converting member includes a hinge portion supporting one end of the support plate at one end of the base; A driving part for elevating the other end of the support plate with the axial part as the axis; The drive unit is installed on the other end of the base and the cylinder having a piston rod, one end is installed on the piston rod of the cylinder, the other end is installed on the other end of the support plate for linkage for eccentricity correction according to the inclination change of the support plate It includes.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 경사변환부재는 상기 실린더의 피스톤 로드가 하강하는 과정에서 발생되는 충격을 완화시켜주기 위한 완충장치를 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the inclination converting member further includes a shock absorber for mitigating the shock generated during the lowering of the piston rod of the cylinder.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 링크는 상기 실린더의 피스톤 로드에 결합되는 그리고 제1회전축을 갖는 제1고정부; 상기 지지판의 타단에 결합되는 그리고 제2회전축을 갖는 제2고정부; 상기 제1고정부의 제1회전축과 상기 제2고정부의 제2 회전축에 회전가능하게 결합되는 연결부를 포함한다.According to an embodiment of the invention, the link comprises: a first fixing portion coupled to the piston rod of the cylinder and having a first axis of rotation; A second fixing part coupled to the other end of the support plate and having a second axis of rotation; And a connection part rotatably coupled to the first rotating shaft of the first fixing part and the second rotating shaft of the second fixing part.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 컨베이어부재는 기판의 이송방향을 따라 평행하게 설치되는 이송축과, 상기 이송축들을 회전시키기 위한 구동부재, 및 상기 이송축 상에 기판이 놓여진 상태에서 이송되도록 상기 이송축에 설치되는 다수의 롤러들을 갖는다.According to an embodiment of the present invention, the conveyor member is a feed shaft installed in parallel along the conveying direction of the substrate, a drive member for rotating the conveying shaft, and the feed so that the substrate is placed on the conveying shaft It has a plurality of rollers installed on the feed shaft.

상기 기술적 과제들을 이루기 위한 기판 제조 시스템은 기판이 경사진 상태에서 기판처리공정이 이루어지는 처리실과; 상기 처리실로 기판이 유입되는 입구측과 상기 처리실로부터 기판이 유출되는 출구측에 각각 설치되는 기판이송장치를 포함하되; 상기 기판이송장치는 수평한 상태에서 경사진 상태로 변환하여 기판을 이송하거나 또는 경사진 상태에서 수평한 상태로 변환하여 기판을 이송한다.A substrate manufacturing system for achieving the above technical problem comprises a processing chamber in which a substrate treatment process is performed in a state in which the substrate is inclined; A substrate transfer apparatus installed at an inlet side through which the substrate is introduced into the processing chamber and at an outlet side through which the substrate is discharged from the processing chamber; The substrate transfer device transfers the substrate by converting from the horizontal state to the inclined state, or transfers the substrate by converting from the inclined state to the horizontal state.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 기판이송장치는 베이스; 상기 베이스 상부에 설치되는 지지판; 상기 지지판 상에 설치되는 그리고 기판이 이송되는 컨베이어부재; 및 상기 베이스와 상기 지지판 사이에 설치되며, 상기 지지판을 수평상태 또는 경사진 상태로 변환시켜주는 경사변환부재를 포함하되; 상기 컨베이어부재는 기판의 이송방향을 따라 평행하게 설치되는 이송축과, 상기 이송축들을 회전시키기 위한 구동부재, 및 상기 이송축 상에 기판이 놓여진 상태에서 이송되도록 상기 이송축에 설치되는 다수의 롤러들을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the substrate transfer apparatus includes a base; A support plate installed on the base; A conveyor member installed on the support plate and to which the substrate is conveyed; And an inclination converting member installed between the base and the support plate and converting the support plate into a horizontal state or an inclined state; The conveyor member includes a conveying shaft installed in parallel along a conveying direction of the substrate, a driving member for rotating the conveying shafts, and a plurality of rollers provided on the conveying shaft so as to be conveyed in a state where the substrate is placed on the conveying shaft. Include them.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 경사변환부재는 상기 베이스의 일단에서 상기 지지판의 일단을 지지하는 경첩부; 상기 경첨부를 축으로 하여 상기 지지판의 타단을 승강시키기 위한 구동부를 포함하되; 상기 구동부는 상기 베이스의 타단 에 설치되는 그리고 피스톤 로드를 갖는 실린더와, 일단은 상기 실린더의 피스톤 로드에 설치되고, 타단은 상기 지지판의 타단에 설치되어 상기 지지판의 경사변환에 따른 편심보정을 위한 링크를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the inclination converting member includes a hinge portion supporting one end of the support plate at one end of the base; A driving part for elevating the other end of the support plate with the axial part as the axis; The drive unit is installed on the other end of the base and the cylinder having a piston rod, one end is installed on the piston rod of the cylinder, the other end is installed on the other end of the support plate for linkage for eccentricity correction according to the inclination change of the support plate It includes.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 경사변환부재는 상기 실린더의 피스톤 로드가 하강하는 과정에서 발생되는 충격을 완화시켜주기 위한 완충장치를 더 포함하고, 상기 링크는 상기 실린더의 피스톤 로드에 결합되는 그리고 제1회전축을 갖는 제1고정부; 상기 지지판의 타단에 결합되는 그리고 제2회전축을 갖는 제2고정부; 상기 제1고정부의 제1회전축과 상기 제2고정부의 제2회전축에 회전가능하게 결합되는 연결부를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the inclination converting member further includes a shock absorber for mitigating the shock generated during the lowering of the piston rod of the cylinder, the link is coupled to the piston rod of the cylinder and A first fixing part having a first rotating shaft; A second fixing part coupled to the other end of the support plate and having a second axis of rotation; And a connection part rotatably coupled to the first rotating shaft of the first fixing part and the second rotating shaft of the second fixing part.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도 2 내지 도 5를 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 상기 도면들에 있어서 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호가 병기되어 있다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 2 to 5. In the drawings, the same reference numerals are given to components that perform the same function.

본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

본 실시예에서 기판은 평판 디스플레이(flat panel display, 이하 'FPD') 소자를 제조하기 위한 것으로, FPD는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display), FED(FieldEmission Display), ELD(Electro Luminescence Display) 일 수 있다.In this embodiment, the substrate is for manufacturing a flat panel display (FPD) device, and the FPD is a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), a vacuum fluorescent display (VFD), or a field emission (FED). Display), ELD (Electro Luminescence Display).

도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 기판 처리 시스템(100)을 개략적으로 보여주는 블럭도이다. 도 2를 참조하면 기판 처리 시스템(100)은 처리실(110)과 이 처리실의 입구측과 출구측에 각각 설치되는 기판 이송 장치(120) 그리고 아암(도시되지 않음180)을 가진다.2 is a schematic block diagram of a substrate processing system 100 in accordance with one preferred embodiment of the present invention. Referring to FIG. 2, the substrate processing system 100 has a processing chamber 110, a substrate transfer device 120, and an arm (not shown 180) installed at the inlet and outlet sides of the processing chamber, respectively.

상기 처리실(110)은 기판에 식각, 수세공정, 건조공정 등과 같은 소정의 공정이 진행되는 식각부, 수세부, 건조부 등을 포함할 수 있다. 그러나 이와 달리 상기 처리실(110) 내에서 다른 다양한 공정이 수행될 수 있다. 식각, 수세, 건조 등의 공정이 진행되는 처리실(110)에서 기판의 이송은 샤프트와 롤러들을 가지는 일반적인 이송시스템(도시되지 않음)에 의해 이루어 질 수 있다. 상기 처리실(110)에서의 공정 진행은 기판의 전체면이 균일한 식각(또는 세정)이 이루어지도록 하고, 기판의 상부면에 약액이나 탈이온수 등이 잔존하는 것을 방지하기 위해 기판은 일정각도로 경사진 상태에서 이송되는 것이 일반적이다. The treatment chamber 110 may include an etching part, a washing part, a drying part, and the like in which a predetermined process such as an etching, a washing process, a drying process, or the like is performed on the substrate. Alternatively, however, various other processes may be performed in the processing chamber 110. In the processing chamber 110 where the process of etching, washing, drying, etc. is performed, the transfer of the substrate may be performed by a general transfer system (not shown) having shafts and rollers. The process proceeds in the process chamber 110 so that the entire surface of the substrate is uniformly etched (or cleaned), and the substrate is formed at a predetermined angle to prevent chemical liquids or deionized water from remaining on the upper surface of the substrate. It is common to be transferred in the photographic state.

이를 위하여 상기 처리실(110)의 입구측과 출구측에는 각각 기판 이송 장치(120)가 배치된다. To this end, the substrate transfer device 120 is disposed at the inlet side and the outlet side of the processing chamber 110, respectively.

상기 처리실(110)의 입구측에 인접한 기판 이송 장치(120)는 외부로부터 이송된 기판(w)이 일정각도 경사지게 하고, 기판을 처리실(110)로 이송하는 부분이다. 또한, 상기 처리실(110)의 출구측에 인접한 기판 이송장치(120)는 처리실(110)에서 공정이 완료된 기판이 다시 수평이 유지되도록 하고, 기판을 외부로 이송하는 부분이다. 상기 기판 이송 장치(120)들의 구조는 동일하므로, 본 실시예에서는 처리실 내로 기판을 이송하는 기판 이송 장치(120)에 대해서 설명한다. The substrate transfer apparatus 120 adjacent to the inlet side of the process chamber 110 is a portion for inclining the substrate w transferred from the outside at an angle and transferring the substrate to the process chamber 110. In addition, the substrate transfer apparatus 120 adjacent to the exit side of the process chamber 110 is a portion for maintaining the substrate is completed horizontally in the process chamber 110, and transfers the substrate to the outside. Since the structure of the substrate transfer apparatus 120 is the same, the substrate transfer apparatus 120 for transferring the substrate into the process chamber will be described in the present embodiment.

도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 기판 이송 장치를 개략적으로 보여주는 평면도이고, 도 4와 도 5는 각각 컨베이어 부재가 수평상태일 때와 컨베이어 부재가 경사진 상태의 기판 이송 장치를 보여주는 도면이다.3 is a plan view schematically illustrating a substrate transfer apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 4 and 5 are views illustrating a substrate transfer apparatus when the conveyor member is in a horizontal state and the conveyor member is inclined, respectively. to be.

도 3과 도 4를 참조하면, 상기 기판 이송 장치(120)는 베이스(122), 지지판(124), 컨베이어 부재(130) 그리고 경사변환부재(140)를 포함한다. 상기 경사변환부재는 실린더와 링크로 이루어진 구동부와, 경첩부를 갖는다. 3 and 4, the substrate transfer apparatus 120 includes a base 122, a support plate 124, a conveyor member 130, and an inclination converting member 140. The inclination converting member has a driving portion consisting of a cylinder and a link, and a hinge portion.

상기 베이스(122)의 상부에는 지지판(124)이 위치된다. 이 지지판(124)에는 기판 놓여지는 그리고 기판이 이송되는 컨베이어 부재(130)가 설치된다. The support plate 124 is positioned above the base 122. The support plate 124 is provided with a conveyor member 130 on which the substrate is placed and to which the substrate is conveyed.

상기 컨베이어 부재(130)는 기판의 이송방향을 따라 평행하게 설치되는 이송축(132)들과, 이 이송축(132)들을 회전시키는 구동부재(134) 그리고 이송축(132)들에 설치되는 다수의 롤러(133)들을 포함한다.The conveyor member 130 includes a plurality of conveying shafts 132 installed in parallel along the conveying direction of the substrate, a driving member 134 and a plurality of conveying shafts 132 for rotating the conveying shafts 132. Rollers 133.

상기 이송축(132)들 각각은 지지판(124)의 양단에 설치된 브라켓(126)상에 회전가능하게 설치되며, 이송축(132)들 각각에는 풀리(136)들이 설치된다. 인접하는 풀리들(136)은 서로 벨트(138)에 의해 연결되고, 풀리(136)들 중 하나는 모터(139)에 의해 회전되는 풀리(136)와 벨트에 의해 연결될 수 있다. 그러나 이와 달리 각각의 이송축(132)에 모터가 결합되고, 각각의 모터에 의해 이송축(132)이 회전될 수 있다. 기판은 롤러들(133) 상에 놓여진다. 모터(139)가 구동되면, 풀리(136)와 벨트들(138)을 통해 회전력이 이송축(132)과 롤러들(133)에 전달되며, 이로 인해 롤러들(133) 상에 놓인 기판은 일방향으로 이동된다. Each of the transfer shafts 132 is rotatably installed on a bracket 126 provided at both ends of the support plate 124, and pulleys 136 are installed at each of the transfer shafts 132. Adjacent pulleys 136 may be connected to each other by a belt 138, and one of the pulleys 136 may be connected by a belt and a pulley 136 rotated by a motor 139. However, unlike this, a motor may be coupled to each feed shaft 132, and the feed shaft 132 may be rotated by each motor. The substrate is placed on the rollers 133. When the motor 139 is driven, rotational force is transmitted to the feed shaft 132 and the rollers 133 through the pulley 136 and the belts 138, so that the substrate placed on the rollers 133 is in one direction. Is moved to.

한편, 상기 컨베이어 부재(130)에는 항상 수평한 상태에서 기판(w)이 놓여진 다. 만약, 경사진 상태의 컨베이어 부재에 기판이 놓여질 경우, 기판이 크게 휘어지는 문제가 발생될 수 있기 때문이다. 상기 기판(w)이 컨베이어 부재(130)에 놓여지면, 상기 컨베이어 부재(130)는 상기 경사변환부재(140)의 작동에 의해 수평상태에서 대략 10도 정도의 기울기로 경사진다. 기판은 10도 기울어진 상태를 유지하면서 처리실(110) 안으로 이송된다. 상기 컨베이어 부재(130)는 상기 처리실(110)에서 기판이 경사지는 각도와 동일한 각도로 변환된다. Meanwhile, the substrate w is placed on the conveyor member 130 in a horizontal state at all times. This is because, if the substrate is placed on the inclined conveyor member, the substrate may be largely bent. When the substrate w is placed on the conveyor member 130, the conveyor member 130 is inclined at an inclination of about 10 degrees in a horizontal state by the operation of the inclination converting member 140. The substrate is transferred into the process chamber 110 while maintaining the inclination of 10 degrees. The conveyor member 130 is converted to an angle equal to the angle at which the substrate is inclined in the processing chamber 110.

상기 기판(w)이 경사된 상태로 이송되기 위해서는 상기 지지판(124)의 경사가 조절되어야 하며, 이 지지판(124)의 경사는 상기 경사변환부재(140)에 의해 변환된다.In order to transport the substrate w in an inclined state, the inclination of the support plate 124 must be adjusted, and the inclination of the support plate 124 is converted by the inclination converting member 140.

상기 지지판(124)는 일단이 상기 경사변환부재(140)의 경첩부(142)(일명, 회전 베어링이라고도 함)에 의해 회전가능하게 지지되며, 타단은 구동부(144)에 의해 승강 가능하게 지지된다. 상기 지지판(124)은 상기 구동부(144)의 승강에 따라 상기 경첨부(142)를 축으로 소정각도(0~10도) 기울어진다. 상기 구동부(144)는 상기 베이스(122)의 타단에 설치되는 실린더(146)와, 실린더의 피스톤 로드(146a)에서 상기 지지판(124)의 타단으로 힘을 전달하는 링크(148)를 갖는다. 상기 링크(148)는 상기 실린더의 피스톤 로드(146a)에 설치되는 제1고정부(148a)(하단), 지지판의 타단에 설치되는 제2고정부(148b)(상단), 그리고 그들을 연결하는 연결부(148c)를 갖는다. 상기 제1고정부(148a)는 상기 연결부(148c)의 일단과 연결되는 제1회전축(x1)을 가지며, 제2고정부(148b)는 상기 연결부(148c)의 타단과 연결되는 제2회전축(x2)을 갖는다. 도 4에서와 같이, 수평상태에서 상기 링크(148)는 5도 기울어져 있다가, 도 5에서와 같이 상기 실린더의 업 동작에 의해 상기 지지판(124)이 10도 기울어지면, 그 회전각도에 따라 상기 링크(148)의 기울기는 15도가 된다. One end of the support plate 124 is rotatably supported by the hinge part 142 (also referred to as a rotating bearing) of the inclination converting member 140, and the other end of the support plate 124 is supported by the driving unit 144 to be lifted and lowered. . The support plate 124 is inclined at a predetermined angle (0 to 10 degrees) with respect to the axial part 142 as the driving unit 144 moves up and down. The driving unit 144 has a cylinder 146 installed at the other end of the base 122 and a link 148 for transmitting a force from the piston rod 146a of the cylinder to the other end of the support plate 124. The link 148 is a first fixing part 148a (bottom) installed on the piston rod 146a of the cylinder, a second fixing part 148b (upper part) installed on the other end of the support plate, and a connection part connecting them. (148c). The first fixing part 148a has a first rotating shaft x1 connected to one end of the connecting part 148c, and the second fixing part 148b has a second rotating shaft connected to the other end of the connecting part 148c. x2). As shown in FIG. 4, when the link 148 is tilted 5 degrees in a horizontal state, and the support plate 124 is tilted 10 degrees by the up operation of the cylinder as shown in FIG. 5, according to the rotation angle thereof. The slope of the link 148 is 15 degrees.

도 5에서와 같이, 상기 실린더(146)의 업(up)동작에 의해 상기 지지판(124)이 10도 기울어질 때, 상기 링크(148)는 상기 지지판(124)의 경사변환에 따른 편심을 보정하여 상기 지지판(124)의 원할한 회전을 도와주게 된다. 이때 링크는 15도 기울어진다. 다시 말해, 상기 링크(148)는 상기 실린더(146)의 직선 이동을 상기 지지판(124)의 회전 이동으로 원활하게 변환(전달)해주는 기능을 갖는 것이다. 만약에, 상기 링크(148)를 제거하고, 상기 실린더의 피스톤 로드를 직접 지지판의 저면에 연결하면, 피스톤 로드는 직선 이동되고, 지지판의 타단은 회전 이동되기 때문에, 상호 연결부분에 심각한 틀어짐이 발생될 뿐만 아니라, 심한 경우에는 지지판의 경사 변환이 불가능해지는 경우도 발생될 수 있다. As shown in FIG. 5, when the support plate 124 is inclined 10 degrees by an up operation of the cylinder 146, the link 148 corrects an eccentricity due to the inclination change of the support plate 124. By helping the smooth rotation of the support plate 124. The link is tilted 15 degrees. In other words, the link 148 smoothly converts (transfers) the linear movement of the cylinder 146 into the rotational movement of the support plate 124. If the link 148 is removed and the piston rod of the cylinder is directly connected to the bottom of the support plate, the piston rod is linearly moved and the other end of the support plate is rotated so that a serious twist in the interconnect portion occurs. In addition, in severe cases, it may also occur that the inclination of the support plate becomes impossible.

이와 같이, 상기 경사변환장치(140)의 실린더(146)가 업(up)되면, 상기 지지판(124)은 경사를 가지게 되고, 실린더가 다운 되면 지지판(124)은 수평을 이루게 된다. 이에 의해 회전축상에 놓여진 기판도 일정각도 경사지게 된다. As such, when the cylinder 146 of the inclination converter 140 is up, the support plate 124 has an inclination, and when the cylinder is down, the support plate 124 is horizontal. As a result, the substrate placed on the rotating shaft is also inclined at a predetermined angle.

한편, 상기 실린더(146)의 피스톤 로드(148a)가 하강하는 과정에서 발생되는 충격은 실린더에 설치되는 완충장치(190; shock absober)에 의해 완충된다. On the other hand, the shock generated during the lowering of the piston rod 148a of the cylinder 146 is buffered by a shock absorber 190 installed in the cylinder.

본 발명에 따른 기판 이송 장치(120)에서의 기판 이송 단계를 순차적으로 설명하면 다음과 같다. Referring to the substrate transfer step in the substrate transfer apparatus 120 according to the present invention sequentially.

기판은 수평한 상태로 아암에 의해 컨베이어부재(130)의 이송축(132) 상부로 이송된다. 이후에 아암이 아래로 하강되면서 기판은 롤러들(133) 상에 놓여진다. 이후에 상기 실린더(146)가 업 되면, 이에 의해 지지판(124)은 경첩부(142)를 중심으로 일정각도 회전하면서 경사지게 된다. 기판은 처리실(110)로 유입되기 전에 요구되는 경사를 가지며, 이후에 처리실(110) 내로 이송된다. 참고로, 상기 기판은 이송되는 도중에 기판 경사가 조절될 수도 있고, 또는 정지된 상태에서 기판 경사가 조절된 후 이송될 수 있다. 물론, 상기 처리실에서 공정을 마친 기판은 경사진 상태로 이송되므로, 처리실 출구측에 배치된 기판이송장치에서 경사가 조절된다. The substrate is transferred to the upper portion of the transfer shaft 132 of the conveyor member 130 by the arm in a horizontal state. Subsequently the arm is lowered and the substrate is placed on the rollers 133. After the cylinder 146 is up, the support plate 124 is thereby inclined while rotating at a predetermined angle about the hinge portion 142. The substrate has a slope required before entering the process chamber 110 and is then transferred into the process chamber 110. For reference, the substrate may be adjusted while the substrate is inclined while being transferred, or may be transferred after the substrate is inclined in the stationary state. Of course, since the substrate is finished in the process chamber is transferred to the inclined state, the inclination is adjusted in the substrate transfer apparatus disposed on the exit side of the process chamber.

한편, 본 발명은 상기의 구성으로 이루어진 기판이송장치 및 그것을 사용한 기판 처리 시스템은 다양하게 변형될 수 있고 여러 가지 형태를 취할 수 있다. 본 발명은 상기의 상세한 설명에서 언급되는 특별한 형태로 한정되는 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 오히려 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.On the other hand, the present invention is a substrate transfer device and a substrate processing system using the same configuration having the above configuration can be variously modified and can take various forms. It is to be understood that the invention is not to be limited to the specific forms referred to in the foregoing description, but rather includes all modifications, equivalents and substitutions that fall within the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. It must be understood.

이상에서, 본 발명에 따른 기판이송장치 및 그것을 사용한 기판 처리 시스템은 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, the substrate transfer apparatus and the substrate processing system using the same according to the present invention have been shown in the configuration and operation according to the above description and drawings, but this is merely described for example and various within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. Of course, change and change are possible.

상술한 바와 같이 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과를 갖는다. 첫째, 기판의 이송에 소요되는 시간을 크게 줄일 수 있어, 처리량을 증대시킬 수 있는 효과가 있다. 둘째, 지지판이 회전되는 과정에서 실린더와 지지판간의 틀어짐이 링크에 의 해 완화됨으로써 안정적인 경사변환이 가능해 졌다. As described above, the present invention has the following effects. First, it is possible to greatly reduce the time required to transfer the substrate, there is an effect that can increase the throughput. Second, as the support plate is rotated, the distortion between the cylinder and the support plate is alleviated by the link, which enables stable inclination change.

Claims (9)

기판 이송 장치에 있어서:In the substrate transfer device: 베이스; Base; 상기 베이스 상부에 설치되는 지지판; A support plate installed on the base; 상기 지지판 상에 설치되는 그리고 기판이 이송되는 컨베이어부재; 및A conveyor member installed on the support plate and to which the substrate is conveyed; And 상기 베이스와 상기 지지판 사이에 설치되며, 상기 지지판을 수평상태 또는 경사진 상태로 변환시켜주는 경사변환부재를 포함하되;It is installed between the base and the support plate, including a tilt conversion member for converting the support plate in a horizontal state or inclined state; 상기 경사변환부재는 The inclination converting member 상기 베이스의 일단에서 상기 지지판의 일단을 지지하는 경첩부; A hinge portion supporting one end of the support plate at one end of the base; 상기 경첨부를 축으로 하여 상기 지지판의 타단을 승강시키기 위한 구동부를 포함하고,It includes a drive unit for elevating the other end of the support plate with the axial part as the axis, 상기 구동부는 The driving unit 상기 베이스의 타단에 설치되는 그리고 피스톤 로드를 갖는 실린더와, A cylinder installed at the other end of the base and having a piston rod, 일단은 상기 실린더의 피스톤 로드에 설치되고, 타단은 상기 지지판의 타단에 설치되어 상기 지지판의 경사변환에 따른 편심보정을 위한 링크를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.One end is installed on the piston rod of the cylinder, the other end is installed on the other end of the support plate characterized in that it comprises a link for eccentricity correction according to the inclination change of the support plate. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 경사변환부재는 The inclination converting member 상기 실린더의 피스톤 로드가 하강하는 과정에서 발생되는 충격을 완화시켜주기 위한 완충장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.Substrate transfer apparatus further comprises a shock absorber for mitigating the impact generated during the lowering of the piston rod of the cylinder. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 링크는 The link is 상기 실린더의 피스톤 로드에 결합되는 그리고 제1회전축을 갖는 제1고정부;A first fixing part coupled to the piston rod of the cylinder and having a first axis of rotation; 상기 지지판의 타단에 결합되는 그리고 제2회전축을 갖는 제2고정부;A second fixing part coupled to the other end of the support plate and having a second axis of rotation; 상기 제1고정부의 제1회전축과 상기 제2고정부의 제2회전축에 회전가능하게 결합되는 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.And a connection part rotatably coupled to the first rotation shaft of the first fixing part and the second rotation shaft of the second fixing part. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 컨베이어부재는 기판의 이송방향을 따라 평행하게 설치되는 이송축과, 상기 이송축들을 회전시키기 위한 구동부재, 및 상기 이송축 상에 기판이 놓여진 상태에서 이송되도록 상기 이송축에 설치되는 다수의 롤러들을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 이송 장치.The conveyor member includes a conveying shaft installed in parallel along a conveying direction of the substrate, a driving member for rotating the conveying shafts, and a plurality of rollers provided on the conveying shaft so as to be conveyed in a state where the substrate is placed on the conveying shaft. The substrate transfer apparatus characterized by having these. 기판을 제조하기 위한 시스템에 있어서,In a system for manufacturing a substrate, 기판이 경사진 상태에서 기판처리공정이 이루어지는 처리실과;A processing chamber in which a substrate processing step is performed while the substrate is inclined; 상기 처리실로 기판이 유입되는 입구측과 상기 처리실로부터 기판이 유출되는 출구측에 각각 설치되는 기판이송장치를 포함하되;A substrate transfer apparatus installed at an inlet side through which the substrate is introduced into the processing chamber and at an outlet side through which the substrate is discharged from the processing chamber; 상기 기판이송장치는 수평한 상태에서 경사진 상태로 변환하여 기판을 이송하거나 또는 경사진 상태에서 수평한 상태로 변환하여 기판을 이송하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.The substrate transfer apparatus transfers the substrate by converting from the horizontal state to the inclined state, or transfers the substrate by converting from the inclined state to the horizontal state. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 기판이송장치는 The substrate transfer device 베이스;Base; 상기 베이스 상부에 설치되는 지지판;A support plate installed on the base; 상기 지지판 상에 설치되는 그리고 기판이 이송되는 컨베이어부재; 및A conveyor member installed on the support plate and to which the substrate is conveyed; And 상기 베이스와 상기 지지판 사이에 설치되며, 상기 지지판을 수평상태 또는 경사진 상태로 변환시켜주는 경사변환부재를 포함하되;It is installed between the base and the support plate, including a tilt conversion member for converting the support plate in a horizontal state or inclined state; 상기 컨베이어부재는 기판의 이송방향을 따라 평행하게 설치되는 이송축과, 상기 이송축들을 회전시키기 위한 구동부재, 및 상기 이송축 상에 기판이 놓여진 상태에서 이송되도록 상기 이송축에 설치되는 다수의 롤러들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.The conveyor member includes a conveying shaft installed in parallel along a conveying direction of the substrate, a driving member for rotating the conveying shafts, and a plurality of rollers provided on the conveying shaft so as to be conveyed in a state where the substrate is placed on the conveying shaft. Substrate processing system comprising a. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 경사변환부재는 The inclination converting member 상기 베이스의 일단에서 상기 지지판의 일단을 지지하는 경첩부; A hinge portion supporting one end of the support plate at one end of the base; 상기 경첨부를 축으로 하여 상기 지지판의 타단을 승강시키기 위한 구동부를 포함하되;A driving part for elevating the other end of the support plate with the axial part as the axis; 상기 구동부는 The driving unit 상기 베이스의 타단에 설치되는 그리고 피스톤 로드를 갖는 실린더와, A cylinder installed at the other end of the base and having a piston rod, 일단은 상기 실린더의 피스톤 로드에 설치되고, 타단은 상기 지지판의 타단에 설치되어 상기 지지판의 경사변환에 따른 편심보정을 위한 링크를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.One end is installed on the piston rod of the cylinder, the other end is provided on the other end of the support plate, the substrate processing system, characterized in that it comprises a link for eccentricity correction according to the inclination change of the support plate. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 경사변환부재는 The inclination converting member 상기 실린더의 피스톤 로드가 하강하는 과정에서 발생되는 충격을 완화시켜주기 위한 완충장치를 더 포함하고,Further comprising a shock absorber for mitigating the impact generated during the lowering of the piston rod of the cylinder, 상기 링크는 상기 실린더의 피스톤 로드에 결합되는 그리고 제1회전축을 갖는 제1고정부;The link is coupled to a piston rod of the cylinder and having a first axis of rotation; 상기 지지판의 타단에 결합되는 그리고 제2회전축을 갖는 제2고정부; A second fixing part coupled to the other end of the support plate and having a second axis of rotation; 상기 제1고정부의 제1회전축과 상기 제2고정부의 제2회전축에 회전가능하게 결합되는 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 시스템.And a connection part rotatably coupled to the first rotation shaft of the first fixing part and the second rotation shaft of the second fixing part.
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