KR100665788B1 - Vacuum evaporation equipment - Google Patents

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Abstract

일단 진공조내의 고정부에 세트한 혹은 중합 세트하는 마스크와 기판과의 중합위치를 조외부에 설치한 보정구동기구(8)에 의해서 자동보정제어할 수 있고, 이에 따라 항상 자동적으로 적정중합위치에 세트하는(정밀도가 높은 위치맞춤을 한다)것을 할 수 있고, 마스크위치의 변경이나 마스크의 교환에 있어서도, 진공조내에서 자동적으로 항상 적정중합위치에 자동보정수정하여 고정할 수 있고, 또한 증착시에 막두께를 균일하게 하기 위해서 고정부를 회전시키는 회전기구를 구비하는 구성으로서도 상술한 바와 같이 진공조내에서의 자동위치맞춤이 자동적으로 행하고, 항상 마스크와 기판을 적정한 중합위치에 보정수정하여 세트할 수 있는 극히 실용성에 뛰어난 증착장치를 제공하는 것이다.The correction driving mechanism 8 provided with the mask and the substrate which is set or fixed to the fixed part in the vacuum chamber and the substrate can be automatically compensated and controlled so that it is always automatically adjusted to the appropriate polymerization position. It is possible to set (adjust high-precision alignment), and to automatically correct and fix the proper polymerization position at all times in the vacuum chamber automatically even when changing the mask position or replacing the mask. As described above, the automatic positioning in the vacuum chamber is automatically performed as described above, and the mask and the substrate can be always corrected, corrected, and set at the appropriate polymerization position as described above. It is to provide a deposition apparatus that is extremely practical.

감압분위기로 하는 증착실(1) 내에, 마스크(2)를 중합한 기판(3)을 고정하는 고정부(4)만 설치하거나 또는 증착시에 고정부를 회전시키는 회전기구(5)와 고정부(4)를 일체로 설치하고, 이 고정부(4)에 설치한 중합고정기구(6)에 의해 상기 마스크(2)와 상기 기판 (3)을 중합고정하여, 증착원(7)으로부터 발생하는 성막재료가 상기 마스크(2)에 설치한 개구부를 통해 상기 기판(3)상에 퇴적하여, 이 마스크(2)에 의해 정해지는 기판(3)의 소정부에 박막이 형성되도록 구성한 증착장치에 있어서, 상기 고정부(4)만 혹은 상기 회전기구(5)와 일체로 된 고정부(4)를 상기 증착실(1) 외부에 설치한 보정구동기구(8)에 의해 이동이 자유롭게 설치함과 동시에, 상기 중합고정기구(6)의 해제에 의해 상기 고정부(4)로의 고정이 해제된 상태의 상기 기판(3)을 유지하는 기판유지기구(9)를 설치하여, 상기 마스크(2)와 기판(3)과의 적정중합위치를 판별하는 지표(10)를 시인하는 카메라부(11)를 설치하여, 이 카메라부(11)의 화상에 근거하는 판별에 의해 상기 보정구동기구(8)를 작동하여 상기 마스크(2)를 고정 혹은 지지하고 있는 상기 고정부(4)를, 상기 기판유지기구(9)에 의해 유지되어 있는 기판(3)에 대하여 이동제어하여 적정중합위치에 보정하는 보정제어부를 구비한 증착장치이다. In the deposition chamber 1 which is a pressure-reduced atmosphere, only the fixing part 4 which fixes the board | substrate 3 which superposed | polymerized the mask 2 is provided, or the rotating mechanism 5 and the fixing part which rotate the fixing part at the time of vapor deposition (4) are integrally provided, and the mask (2) and the substrate (3) are polymerized and fixed by the polymerization fixing mechanism (6) provided in the fixing portion (4), In the vapor deposition apparatus in which the film-forming material is deposited on the said board | substrate 3 through the opening provided in the said mask 2, and a thin film is formed in the predetermined part of the board | substrate 3 determined by this mask 2, By the correction driving mechanism 8 provided with the fixed part 4 or the fixed part 4 integrated with the rotary mechanism 5 outside the deposition chamber 1, the movement is freely installed. And a substrate holding mechanism for holding the substrate 3 in a state where the fixing to the fixing portion 4 is released by the release of the polymerization fixing mechanism 6 ( 9) is provided, and a camera unit 11 for viewing the indicator 10 for discriminating the proper polymerization position between the mask 2 and the substrate 3 is provided and based on the image of the camera unit 11, By the determination, the correction driving mechanism 8 is operated to fix the fixing portion 4 holding or supporting the mask 2 to the substrate 3 held by the substrate holding mechanism 9. The vapor deposition apparatus is provided with the correction control part which correct | amends to an appropriate polymerization position by carrying out the movement control with respect to it.

Description

증착장치{VACUUM EVAPORATION EQUIPMENT}Evaporation Equipment {VACUUM EVAPORATION EQUIPMENT}

도 1은 본 실시예의 개략구성설명도, 1 is a schematic configuration explanatory diagram of this embodiment;

도 2는 본 실시예의 기판을 기판유지기구에 의해 유지하여, 기판에 대하여 보정구동기구를 작동제어하여 마스크의 중합위치를 얼라이먼트하는 상태의 개략구성설명도, Fig. 2 is a schematic structural explanatory diagram of a state in which the substrate of the present embodiment is held by the substrate holding mechanism, and the correction driving mechanism is operated to control the substrate to align the polymerization position of the mask.

도 3은 본 실시예의 고정부에 마스크와 기판을 중합고정기구에 중합고정하여, 증착하는 상태의 개략구성설명도, Fig. 3 is a schematic structural explanatory diagram of a state in which a mask and a substrate are polymerized and fixed to a polymerization fixing mechanism by a fixing part of the present embodiment and deposited;

도 4는 본 실시예의 증착시의 개략구성설명도, 4 is a schematic configuration explanatory diagram at the time of vapor deposition of this embodiment;

도 5는 본 실시예의 고정부 및 기판유지기구를 나타내는 주요부의 개략구성설명평면도,Fig. 5 is a schematic configuration explanatory plan view of a main part showing the fixing part and the substrate holding mechanism of this embodiment;

도 6은 본 실시예의 고정부 및 기판유지기구를 나타내는 주요부의 개략구성설명정면도,Fig. 6 is a schematic configuration explanatory front view of principal parts showing the fixing part and the substrate holding mechanism of this embodiment;

도 7은 본 실시예의 보정구동기구 및 그 동작을 나타내는 설명평면도,7 is an explanatory plan view showing a correction driving mechanism and its operation according to the present embodiment;

도 8은 본 실시예의 얼라이먼트동작을 나타내는 마스크와 기판과의 중합상태 (지표가 위치 어긋남상태로부터 일치한 적정중합상태에 보정되는 것)을 나타내는 설명평면도이다. Fig. 8 is an explanatory plan view showing the polymerization state of the mask and the substrate showing the alignment operation of this embodiment (what is corrected in the proper polymerization state in which the indicator coincides with the misalignment state).

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명> <Description of the symbols for the main parts of the drawings>                 

1 : 증착실 2 : 마스크 1: deposition chamber 2: mask

3 : 기판 4 : 고정부3: board | substrate 4: fixed part

5 : 회전기구 6 : 중합고정기구5: rotating mechanism 6: polymerization fixing mechanism

7 : 증착원 8 : 보정구동기구7: deposition source 8: correction driving mechanism

9 : 기판유지기구 10 : 지표 9 substrate holding mechanism 10 indicator

11 : 카메라부 13 : 연설부11: camera unit 13: speech unit

14 : 벨로우즈 15 : 투명창부14: bellows 15: transparent window

16 : 증착용 개구부
16: opening for deposition

본 발명은 예컨대 기판에 마스크를 통해 EL재료를 증착하여 성막하여 EL표시장치를 제작하는 증착장치에 관한 것이다. The present invention relates to a vapor deposition apparatus for producing an EL display device by, for example, depositing and depositing an EL material on a substrate through a mask.

예를 들면, 풀칼라의 유기 EL을 제작할 때, 진공화한 증착실(진공조)내에서 빨강, 파랑, 초록의 발광재(EL 재료)를 유리기판에 증착하는 경우에는, 고선명한 마스크와 유리기판과의 고정밀도인 위치맞춤중합이 ±5μ의 정밀도로 필요하다. For example, when fabricating a full-color organic EL, in the case of depositing red, blue, and green light emitting materials (EL materials) on a glass substrate in a vacuum deposition chamber (vacuum bath), a high-definition mask and glass Highly accurate alignment polymerization with the substrate is required with a precision of ± 5 μ.

그러나, 이 마스크와 유리기판은 진공조내에 설치한 고정부에 고정하는 것이기 때문에, 일단 진공조내의 고정부에 세트한 후 다시 이 맞춤위치를 수정(얼라이먼트)하는 것은 극히 성가신 작업이고, 그 때문에 세트전에 미리 고정밀도로 위치 맞춤해 놓지 않으면 안되고, 또한 그 상태대로 세트할 필요가 있는 것이기 때문에, 대단히 작업능률이 나쁘고, 또한 위치맞춤 정밀도가 불충분하여지는 두려움도 있었다. However, since the mask and the glass substrate are fixed to a fixed part installed in the vacuum chamber, it is extremely cumbersome to set the fixed position in the vacuum chamber and then correct this alignment again. Since it has to be precisely aligned beforehand and needs to be set as it is, there is a fear that work efficiency is very bad and the positioning accuracy is insufficient.

또한, 예컨대 막두께분포를 균일하게 하기 위해서는, 마스크를 중합한 유리기판을 증착시에 회전시키는 회전기구를 구비하지만, 이러한 회전기구를 구비한 고정부에 마스크와 유리기판의 중합위치를 조정하는 얼라이먼트기구를 부가하는 것은 구조상 용이하지 않다. In addition, for example, in order to make the film thickness uniform, a rotation mechanism for rotating the glass substrate polymerized with the mask is provided at the time of deposition, but an alignment for adjusting the polymerization position of the mask and the glass substrate in the fixing unit provided with the rotation mechanism is provided. Adding a mechanism is not easy in structure.

본 발명은 일단 진공조내의 고정부에 세트한 혹은 중합 세트하는 마스크와 기판과의 중합위치를 조 외부에 설치한 보정구동기구(8)에 의해서 자동보정제어할 수 있고, 이에 따라 항상 자동적으로 적정중합위치에 세트하는(정밀도가 높은 위치맞춤을 한다) 것을 할 수 있어, 마스크위치의 변경이나 마스크의 교환에 있어서도, 진공조내에서 자동적으로 항상 적정중합위치에 자동보정수정하여 고정할 수 있고, 또한 증착시에 막두께를 균일하게 하기 위해서 고정부를 회전시키는 회전기구를 구비하는 구성으로서도 상술한 바와 같이 진공조내에서의 자동위치맞춤이 자동적으로 행하고, 항상 마스크와 기판을 적정한 중합위치에 보정수정하여 세트할 수 있는 극히 실용성에 뛰어난 증착장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. The present invention can be automatically compensated and controlled by the correction driving mechanism (8), which has once set the polymerization position between the mask and the substrate, which are set or polymerized in the fixed part of the vacuum chamber, outside the tank, and accordingly always appropriately automatically. It can be set at the polymerization position (high-precision alignment), and even in the change of the mask position or the replacement of the mask, it can always be automatically corrected and fixed at the proper polymerization position automatically in the vacuum chamber, and As described above, the automatic positioning in the vacuum chamber is automatically performed as described above, and the mask and the substrate are always corrected and corrected at an appropriate polymerization position. An object of the present invention is to provide a vapor deposition apparatus that is extremely practical and can be set.

첨부도면을 참조하여 본 발명의 요지를 설명한다. The gist of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

감압분위기로 하는 증착실(1) 내에, 마스크(2)를 중합한 기판(3)을 고정하는 고정부(4)만 설치하거나 또는 증착시에 고정부를 회전시키는 회전기구(5)와 고정부(4)를 일체로 설치하고, 이 고정부(4)에 설치한 중합고정기구(6)에 의해 상기 마스크(2)와 상기 기판 (3)을 중합고정하여, 증착원(7)으로부터 발생하는 성막재료가 상기 마스크(2)에 설치한 개구부를 통해 상기 기판(3)상에 퇴적하여, 이 마스크(2)에 의해 정해지는 기판(3)의 소정부에 박막이 형성되도록 구성한 증착장치에 있어서, 상기 고정부(4)만 혹은 상기 회전기구(5)와 일체로 된 고정부(4)를 상기 증착실(1) 외부에 설치한 보정구동기구(8)에 의해 이동이 자유롭게 설치함과 동시에, 상기 중합고정기구(6)의 해제에 의해 상기 고정부(4)로의 고정이 해제된 상태의 상기 기판(3)을 유지하는 기판유지기구(9)를 설치하여, 상기 마스크(2)와 기판(3)과의 적정중합위치를 판별하는 지표(10)을 시인하는 카메라부(11)를 설치하여, 이 카메라부(11)의 화상에 근거하는 판별에 의해 상기 보정구동기구(8)를 작동하여 상기 마스크(2)를 고정 혹은 지지하고 있는 상기 고정부(4)를, 상기 기판유지기구(9)에 의해 유지되어 있는 기판(3)에 대하여 이동제어하여 적정중합위치에 보정하는 보정제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 증착장치에 관한 것이다. In the deposition chamber 1 which is a pressure-reduced atmosphere, only the fixing part 4 which fixes the board | substrate 3 which superposed | polymerized the mask 2 is provided, or the rotating mechanism 5 and the fixing part which rotate the fixing part at the time of vapor deposition. (4) are integrally provided, and the mask (2) and the substrate (3) are polymerized and fixed by the polymerization fixing mechanism (6) provided in the fixing portion (4), In the vapor deposition apparatus in which the film-forming material is deposited on the said board | substrate 3 through the opening provided in the said mask 2, and a thin film is formed in the predetermined part of the board | substrate 3 determined by this mask 2, By the correction driving mechanism 8 provided with the fixed part 4 or the fixed part 4 integrated with the rotary mechanism 5 outside the deposition chamber 1, the movement is freely installed. And a substrate holding mechanism for holding the substrate 3 in a state where the fixing to the fixing portion 4 is released by the release of the polymerization fixing mechanism 6 ( 9) is provided, and a camera unit 11 for viewing the indicator 10 for discriminating the proper polymerization position between the mask 2 and the substrate 3 is provided, and based on the image of the camera unit 11, By the determination, the correction driving mechanism 8 is operated to fix the fixing portion 4 holding or supporting the mask 2 to the substrate 3 held by the substrate holding mechanism 9. It relates to a vapor deposition apparatus characterized by comprising a correction control unit for correcting the movement at the proper polymerization position.

또한, 상기 보정구동기구(8)의 고정측을 상기 증착실(1)에 고정하고, 이동측을 상기 증착실(1)내에 배치하는 고정부(4)와 연이어 설치하여, 이 증착실(1)외부에 설치한 보정구동기구(8)의 작동에 의해 증착실(1)내에 설치한 고정부(4)를 이동제어할 수 있도록 구성하여, 상기 마스크(2)를 중합시킨 상기 기판(3)을 상기 중합고정기구(6)에 의해 상기 고정부(4)에 고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구(6)에 의한 고정을 해제하여 상기 기판유지기구(9)에 의해 상기 기판(3)을 유지한 상태로, 고정부(4)를 상기 보정구동기구(8)의 작동에 의해 이동제어하는 것으로 고정부(4)에 배치한 상기 마스크(2)를 상기 기판(3)에 대하여 이동제어하도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항1기재의 증착장치에 관한 것이다. In addition, the fixed side of the correction drive mechanism 8 is fixed to the deposition chamber 1, and the moving side is provided in series with the fixed part 4 which is arranged in the deposition chamber 1, and the deposition chamber 1 The substrate 3 in which the mask 2 is polymerized by controlling the movement of the fixing part 4 installed in the deposition chamber 1 by the operation of the correction driving mechanism 8 provided outside. Is fixed to the fixing portion 4 by the polymerization fixing mechanism 6, the fixing by the polymerization fixing mechanism 6 is released, and the substrate 3 is held by the substrate holding mechanism 9. In the state of holding, the mask 2 disposed on the fixing part 4 is controlled to move with respect to the substrate 3 by controlling the fixing part 4 by the operation of the correction driving mechanism 8. It relates to the vapor deposition apparatus of Claim 1 characterized by the above-mentioned.

또한, 상기 보정구동기구(8)는 고정측에 대하여 이동측이 X, Y 및 θ 방향으로 이동제어되는 구성으로 하여, 이 X, Y 및 θ방향으로 이동하는 이동측에 상기 증착실(1)내의 상기 고정부(4)에 연이어 설치하는 연설부(13)를 설치하여, 이 연설부(13)를 벨로우즈(14)로 덮어 증착실(1)내에 수직설치하여, 이 연설부(13)에 상기 고정부(4)를 설치한 것을 특징으로 하는 청구항2 기재의 증착장치에 관한 것이다. Further, the correction driving mechanism 8 is configured such that the moving side is controlled to move in the X, Y and θ directions with respect to the fixed side, and the deposition chamber 1 is located on the moving side moving in the X, Y and θ directions. The speaker 13 which is provided in succession to the fixed part 4 in the inside is provided, this speaker 13 is covered with the bellows 14, and is installed vertically in the vapor deposition chamber 1, The vapor deposition apparatus of Claim 2 provided with the said fixing | fixed part 4 is provided.

또한, 상기 고정부(4)는 증착시에 상기 마스크(2)를 중합한 상기 기판(3)을 회전시키기 위해서 이 고정부(4)를 회전시키는 상기 회전기구(5)를 구비하여, 이 회전기구(5)는 고정부(4)와 같이 상기 보정구동기구(8)의 이동측에 설치한 것을 특징으로 하는 청구항1∼3중 어느 한 항에 기재의 증착장치에 관한 것이다.Further, the fixing part 4 is provided with the rotating mechanism 5 which rotates the fixing part 4 so as to rotate the substrate 3 polymerized with the mask 2 during deposition. The mechanism 5 relates to the vapor deposition apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the mechanism 5 is provided on the moving side of the correction drive mechanism 8 as in the fixed portion 4.

또한, 상기 카메라부(11)는 상기 증착실(1) 외부에 설치하여, 상기 마스크 (2)와 상기 기판(3)에 설치한 상기 지표(10)의 일치·위치 어긋남을 투명창부(15)를 통해 증착실(1)외부에서 포착하여 이 화상 데이터에 따라서 상기 보정제어부에 의해 상기 보정구동기구(8)를 이동제어하도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항1∼3중 어느 한 항에 기재의 증착장치에 관한 것이다. In addition, the camera unit 11 is provided outside the deposition chamber 1, and the transparent window portion 15 is configured to match the position and the positional deviation of the indicator 10 provided on the mask 2 and the substrate 3. The vapor deposition apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the correction drive unit 8 is configured to control movement of the correction driving mechanism 8 by the correction control unit according to the image data, which is captured from outside the deposition chamber 1 through the chamber. It is about.

또한, 상기 카메라부(11)는 상기 증착실(1)외부에 설치하여, 상기 마스크(2)와 상기 기판(3)에 설치한 상기 지표(10)의 일치·위치 어긋남을 투명창부(15)를 통해 증착실(1)외부에서 포착하여 이 화상 데이터에 따라서 상기 보정제어부에 의 해 상기 보정구동기구(8)를 이동제어하도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항4에 기재의 증착장치에 관한 것이다. In addition, the camera portion 11 is provided outside the deposition chamber 1, and the transparent window portion 15 is arranged to match the position of the indicator 10 provided on the mask 2 and the substrate 3 and shift the position. The deposition apparatus according to claim 4, wherein the correction driving unit 8 is configured to move and control the correction driving unit 8 according to the image data by capturing outside the deposition chamber 1 through the chamber.

또한, 상기 고정부(4)는 마스크·기판부착 유니트로서 상기 보정구동기구(8)의 이동측과 일체화된 상태로 증착실(1)내에 늘어뜨려 배치되고, 이 고정부(4)에 설치한 증착용 개구부(16)를 덮도록 상기 마스크(2)를 배치하여, 이 마스크(2)에 상기 기판(3)을 중합배치하여 상기 중합고정기구(6)에 의해 중합고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구(6)에 의한 중합고정을 해제함과 동시에 상기 기판유지기구(9)에 의해 상기 기판(3)을 유지하고, 상기 고정부(4)를 기판(3)으로부터 상대적으로 이격 이동하는 것으로, 상기 기판유지기구(9)에 의해 유지된 기판(3)에 대하여 마스크(2)를 배치한 상기 고정부(4)를 상기 보정구동기구(8)에 의해 이동제어할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항1∼3중 어느 한 항에 기재된 증착장치에 관한 것이다. In addition, the fixing part 4 is arranged in the deposition chamber 1 in a state in which it is integrated with the moving side of the correction driving mechanism 8 as a mask / substrate attaching unit, and is provided in the fixing part 4. The mask 2 is disposed so as to cover the opening 16 for vapor deposition, and the substrate 3 is polymerized in the mask 2 to be polymerized and fixed by the polymerization fixing mechanism 6, thereby polymerizing the polymerization. By releasing the polymerization fixation by the fixing mechanism 6 and holding the substrate 3 by the substrate holding mechanism 9, the fixing portion 4 is relatively moved away from the substrate 3. And the fixing part 4 in which the mask 2 is disposed with respect to the substrate 3 held by the substrate holding mechanism 9 to be controlled by the correction driving mechanism 8. It relates to the vapor deposition apparatus in any one of Claims 1-3.

또한, 상기 고정부(4)는 마스크·기판부착 유니트로서 상기 보정구동기구(8)의 이동측과 일체화된 상태로 증착실(1)내에 늘어뜨려 배치되어, 이 고정부(4)에 설치한 증착용 개구부를 덮도록 상기 마스크(2)를 배치하여, 이 마스크(2)에 상기 기판(3)을 중합배치하여 상기 중합고정기구(6)에 의해 중합고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구(6)에 의한 중합고정을 해제함과 동시에 상기 기판유지기구(9)에 의해 상기 기판(3)을 유지하고, 상기 고정부(4)를 기판(3)으로부터 상대적으로 이격이동 하는 것으로, 상기 기판유지기구(9)에 의해 유지된 기판(3)에 대하여 마스크(2)를 배치한 상기 고정부(4)를 상기 보정구동기구(8)에 의해 이동제어할 수 있 도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항5에 기재의 증착장치에 관한 것이다. In addition, the fixing part 4 is arranged in the deposition chamber 1 in a state in which it is integrated with the moving side of the correction driving mechanism 8 as a mask / substrate attaching unit, and is provided in the fixing part 4. The mask 2 is disposed so as to cover an opening for vapor deposition, and the substrate 3 is polymerized in this mask 2 to be polymerized and fixed by the polymerization fixing mechanism 6, and the polymerization fixing mechanism ( The substrate is held by the substrate holding mechanism 9 while releasing the polymerization fixation by 6), and the fixing part 4 is relatively moved away from the substrate 3 so that the substrate is moved. Claims, characterized in that the fixing part (4) having the mask (2) arranged with respect to the substrate (3) held by the holding mechanism (9) can be controlled by the correction driving mechanism (8). The vapor deposition apparatus of 5 is related.

또한, 상기 고정부(4)는 마스크·기판부착 유니트로서 상기 보정구동기구(8)의 이동측과 일체화된 상태로 증착실(1)내에 늘어뜨려 배치되어, 이 고정부(4)에 설치한 증착용 개구부를 덮도록 상기 마스크(2)를 배치하여, 이 마스크(2)에 상기 기판(3)을 중합배치하여 상기 중합고정기구(6)에 의해 중합고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구(6)에 의한 중합고정을 해제함과 동시에 상기 기판유지기구(9)에 의해 상기 기판(3)을 유지하고, 상기 고정부(4)를 기판(3)으로부터 상대적으로 이격 이동하는 것으로, 상기 기판유지기구(9)에 의해 유지된 기판(3)에 대하여 마스크(2)를 배치한 상기 고정부(4)를 상기 보정구동기구(8)에 의해 이동제어할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 청구항6에 기재의 증착장치에 관한 것이다. In addition, the fixing part 4 is arranged in the deposition chamber 1 in a state in which it is integrated with the moving side of the correction driving mechanism 8 as a mask / substrate attaching unit, and is provided in the fixing part 4. The mask 2 is disposed so as to cover an opening for vapor deposition, and the substrate 3 is polymerized in this mask 2 to be polymerized and fixed by the polymerization fixing mechanism 6, and the polymerization fixing mechanism ( The substrate is held by the substrate holding mechanism 9 while releasing the polymerization fixation by 6), and the fixing portion 4 is relatively moved away from the substrate 3, thereby maintaining the substrate 3. Claim 6, characterized in that the fixing part 4 having the mask 2 disposed on the substrate 3 held by the holding mechanism 9 can be controlled by the correction driving mechanism 8. It relates to the vapor deposition apparatus of description.

[발명의 실시의 형태] [Embodiment of the Invention]

바람직하다고 생각하는 본 발명의 실시의 형태(발명을 어떻게 실시할까)를, 도면에 따라서 그 작용효과를 나타내어 간단히 설명한다. Embodiments of the present invention (how to carry out the invention), which are considered to be preferable, will be described briefly with the effect thereof according to the drawings.

마스크(2)를 중합한 기판(3)은 중합고정기구(6)에 의해 증착실(1)(진공조)내의 고정부(4)에 중합고정시키지만, 이 마스크(2)와 기판(3)을 항상 적정중합위치로 중합고정시키기 위해서, 상기 중합고정기구(6)에 의한 중합고정을 해제한 상태로 기판유지기구(9)에 의해 마스크(2)와 별도로 기판(3)만을 유지한다. The substrate 3 polymerized with the mask 2 is polymerized and fixed to the fixing portion 4 in the deposition chamber 1 (vacuum bath) by the polymerization fixing mechanism 6, but the mask 2 and the substrate 3 are polymerized. In order to always polymerize and fix to the proper polymerization position, only the board | substrate 3 is hold | maintained separately from the mask 2 by the board | substrate holding | maintenance mechanism 9 in the state which superposition | polymerization fixation by the said polymerization fixing mechanism 6 was carried out.

이 상태로 예컨대 고정부(4)가 약간 하강이동등에 의해 마스크(2)와 기판(3)을 상대적으로 이격한 상태로 하여, 이 상태로 보정구동기구(8)에 의해 기판(3)에 대한 마스크(2)의 이동보정을 한다. In this state, for example, the fixing part 4 is relatively spaced apart from the mask 2 and the substrate 3 by a slight downward movement or the like, and in this state, the correction driving mechanism 8 is applied to the substrate 3. Movement correction of the mask 2 is performed.                     

즉, 예컨대 도 8에 도시한 바와 같이, 적정중합위치이면 서로 일치하는 것 등에 의해 적정중합위치를 시사하는 지표(10)을 마스크(2)와 기판(3)에 각각 설치하여, 이 지표(10)을 증착실(1)외부에 설치한 카메라부(11)에 의해 파악하여, 이 화상에 따라서 보정제어부에 의해 증착실(1)외부에 설치한 보정구동기구(8)를 예컨대 X, Y, θ방향으로 소정량 작동시켜, 이 보정구동기구(8)의 이동측과 일체화하고 있는 증착실(1)내의 고정부(4)를 상기 지표(10)이 적정중합위치를 시사하는 위치가 되도록 이동제어한다. That is, as shown in FIG. 8, for example, when the proper polymerization position coincides with each other, an indicator 10 indicating the proper polymerization position is provided on the mask 2 and the substrate 3, respectively. ) Is captured by the camera unit 11 provided outside the deposition chamber 1, and the correction driving mechanism 8 provided outside the deposition chamber 1 by the correction control unit according to this image is, for example, X, Y, Operate a predetermined amount in the θ direction to move the fixed portion 4 in the deposition chamber 1 integrated with the moving side of the correction drive mechanism 8 such that the index 10 indicates a proper polymerization position. To control.

이 보정을 끝낸 후, 예컨대 고정부(4)를 상승하는 등하여 이격하고 있는 마스크(2)와 기판(3)을 중합하여, 중합고정기구(6)에 의해 이 마스크(2)와 기판(3)을 고정부(4)에 중합고정한 후, 기판유지기구(9)를 해제하여, 마스크(2)와 기판(3)을 적정중합위치로 고정부(4)에 세트하는 것을 완료한다. After the correction is completed, the mask 2 and the substrate 3 spaced apart from each other by, for example, raising the fixing portion 4, and the polymerization fixing mechanism 6 causes the mask 2 and the substrate 3 to polymerize. ) Is polymerized and fixed to the fixing portion 4, and then the substrate holding mechanism 9 is released to complete setting the mask 2 and the substrate 3 to the fixing portion 4 at an appropriate polymerization position.

또한, 회전기구(5)를 구비한 경우에는, 이 고정부(4)를 회전기구(5)에 의해 회전하면서, 증착실(1)내의 증착원(7)으로부터 발생하는 성막재료를 고정부(4)의 증착용 개구부(16)에서 노출하는 마스크(2)의 개구부를 통해 기판(3)상에(이 마스크개구부에 의해서 결정된 기판(3)상의 소정부에) 퇴적하여 박막을 형성한다. In addition, when the rotating mechanism 5 is provided, the fixed portion 4 is rotated by the rotating mechanism 5 while the film forming material generated from the deposition source 7 in the deposition chamber 1 is fixed to the fixed portion ( A thin film is formed by depositing on the substrate 3 (the predetermined portion on the substrate 3 determined by the mask opening) through the opening of the mask 2 exposed by the vapor deposition opening 16 in 4).

이와 같이 막두께를 균일하게 하기 위해서 고정부(4)를 증착시에 회전시키는 회전기구(5)를 구비하는 경우라도, 이 회전기구(5)를 고정부(4)와 같이 보정구동기구(8)의 이동측에 일체적으로 설치함으로써, 상기 작용·효과는 확실히 발휘된다. In this way, even when the fixing mechanism 4 is rotated at the time of vapor deposition in order to make the film thickness uniform, the correction driving mechanism 8 is similar to the fixing portion 4. By integrally installing on the moving side of the above), the above operation and effects can be reliably exhibited.

즉, 회전기구(5)를 구비하여, 마스크(2)와 기판(3)을 고정하는 중합고정기구 (6)등의 부착구조를 구비한 고정부(4)를, 보정구동기구(8)의 이동측에, 회전하는 마스크 기판부착 유니트로서 일체화시켜 설치함과 동시에, 예컨대 벨로우즈(14)로 덮어 외기와 차단시키면서 진공화한 증착실(1)내에 수직 설치하는 구성으로 하여, 또한 마스크(2)와 기판(3)과의 얼라이먼트를 하는 경우에는, 상술한 바와 같이 기판유지기구(9)에 의해 마스크(2)와는 별도로 기판(3)을 유지하여 이 유니트마다 보정구동기구(8)에 의해 카메라부(11)(보정제어부에 의한 마이크로컴퓨터제어)에 의해서 증착실(1)내에서 기판(3)에 대한 마스크(2)의 중합위치를 자동보정제어할 수 있는 구성으로 하고 있기 때문에, 성가신 마스크(2)의 교환이나 수정작업을 전혀 필요하지 않고서, 감압분위기로 하는(진공화 한다) 증착실(1)내에서 자동적으로 항상 적정중합위치에 얼라이먼트하여 중합고정 세트할 수 있는 획기적인 증착장치가 용이하게 실현되는 것으로 된다. That is, the fixing part 4 including the rotation mechanism 5 and the attachment structure such as the polymerization fixing mechanism 6 for fixing the mask 2 and the substrate 3 is connected to the correction driving mechanism 8. The mask 2 has a configuration in which the moving side is integrally provided as a rotating mask substrate attaching unit and installed vertically in the evaporation chamber 1 that is covered with a bellows 14 and evacuated while being shielded from outside air. And the substrate 3, the substrate holding mechanism 9 holds the substrate 3 separately from the mask 2 as described above, and the camera is driven by the correction driving mechanism 8 for each unit. Since the polymerization position of the mask 2 with respect to the board | substrate 3 is automatically corrected in the vapor deposition chamber 1 by the part 11 (microcomputer control by a correction control part), it is an annoying mask. (2) No need for replacement or correction at all In the vapor deposition chamber 1, a revolutionary vapor deposition apparatus capable of automatically and always aligning and setting polymerization polymerization at an appropriate polymerization position is easily realized.

[실시예] EXAMPLE

본 발명의 구체적인 실시예에 관해서 도면에 따라서 설명한다. Specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

본 실시예는 도 1에 도시한 바와 같이, 진공펌프에 의해 진공화하는 증착실 (1)내에, 마스크(2)를 중합한 유리기판(3)을 고정하여 증착시에는 도 4에 도시한 바와 같이 회전기구(5)에 의해서 회전하는(마스크기판부착 유니트로서의) 고정부 (4)를 윗쪽으로부터 매달아 늘어뜨린 상태로 설치하고 있다. As shown in Fig. 1, the present embodiment is shown in Fig. 4 when the glass substrate 3 polymerized with the mask 2 is fixed in the deposition chamber 1 to be evacuated by a vacuum pump. Similarly, the fixing part 4 which rotates by the rotating mechanism 5 (as a mask substrate mounting unit) is provided in the state suspended from the upper side.

이 고정부(4)의 하부의 마스크 홀더(4A)는 증착용 개구부(16)을 가지는 틀형상 구성으로 하여, 이 증착용 개구부(16)을 덮도록 얇은 판형상의 마스크(2)를 수평으로 얹어 놓아, 이 위에 얇은 판형상의 유리기판(3)을 중합하여, 이 중합끝단부에 설치한 중합고정기구(6)에 의해 기판(3)을 윗쪽으로부터 눌러 마스크(2)와 기판(3)을 마스크 홀더(4A) 상에 중합고정하는 구성으로 하고 있다. The mask holder 4A at the lower part of the fixing part 4 has a frame shape having a vapor deposition opening 16, and horizontally mounts a thin plate-shaped mask 2 to cover the vapor deposition opening 16. Then, a thin plate-shaped glass substrate 3 is polymerized thereon, and the mask 2 and the substrate 3 are masked by pressing the substrate 3 from above by the polymerization fixing mechanism 6 provided at the polymerization end. It is set as the structure which carries out polymerization fixation on the holder 4A.

즉, 증착실(1)외부 상부에 회전기구(5)(회전구동원과 회전축등으로 이루어진다)를 설치하여, 증착시에는 이 회전기구(5)에 의해 회전하는 고정부(4)[마스크 홀더(4A)]를, 연설부(13)(회전축을 가진다)를 통해 증착실(1)내에 매달아 배치하여, 이 증착실(1)내 바닥부에 설치한 증착원(7)으로부터 발생하는 성막재료가 고정부 (4)의 증착용 개구부(16)에서 노출하고 있는 마스크(2)에 설치한 개구부를 통해 기판(3)상에 퇴적하여, 이 마스크(2)의 중합위치[마스크(2)의 개구부 위치]에 의해 정해지는 기판(3)상의 소정부에 박막이 형성되도록 구성하고 있다. That is, a rotary mechanism 5 (consisting of a rotational drive source and a rotating shaft) is provided above the vapor deposition chamber 1, and is fixed by the rotary mechanism 5 (mask holder [ 4A) is suspended in the deposition chamber 1 through the opening 13 (having a rotational axis), and the film forming material generated from the deposition source 7 provided in the bottom portion of the deposition chamber 1 It deposits on the board | substrate 3 through the opening provided in the mask 2 exposed by the vapor deposition opening 16 of the fixing | fixed part 4, and superposition | polymerization position of this mask 2 (opening of the mask 2). The thin film is formed in a predetermined portion on the substrate 3 determined by the position.

본 실시예로서는, 이 증착실(1)외부에 설정되는 회전기구(5) 및 이것과 일체로 되어 증착실(1)내에서 회전하는 고정부(4)를 상기 증착실(1)외부 상부에 설치한 보정구동기구(8)에 의해 이동이 자유롭게 설치하고 있다. In this embodiment, a rotary mechanism 5 set outside the deposition chamber 1 and a fixing portion 4 which is integral with this and rotate in the deposition chamber 1 are provided above the deposition chamber 1. The correction drive mechanism 8 is free to move.

즉, 이 보정구동기구(8)의 고정측을 상기 증착실(1)[증착실(1) 상부면]에 고정하여, 이동측에 회전기구(5)를 설치함과 동시에 이 이동측과 증착실(1)내에 배치하는 고정부(4)를 회전축을 가지는 연설부(13)에서 연이어 설치하여, 이 증착실 (1) 외부에 설치한 보정구동기구(8)의 작동에 의해 증착실(1)내에 설치한 고정부 (4)를 회전기구(5)와 같이 이동제어할 수 있도록 구성하고 있다. That is, the fixed side of the correction drive mechanism 8 is fixed to the deposition chamber 1 (the upper surface of the deposition chamber 1), and the rotary mechanism 5 is provided on the moving side, and the moving side and the vapor deposition are simultaneously deposited. The fixed part 4 arrange | positioned in the chamber 1 is provided in succession by the extending part 13 which has a rotating shaft, and the vapor deposition chamber 1 is operated by operation | movement of the correction drive mechanism 8 provided in this vapor deposition chamber 1 outside. ), So that the fixed part 4 provided in the inside) can be moved and controlled like the rotation mechanism 5.

또한, 상기 중합고정기구(6)의 해제에 의해 상기 고정부(4)로의 가압고정이 해제된 상태의 상기 기판(3)을 유지하여 증착실(1)에 대하여 고정하는 기판유지기구(9)를 설치하고 있다. Further, the substrate holding mechanism 9 for holding and holding the substrate 3 in the state where the pressure fixing to the fixing portion 4 is released by the release of the polymerization fixing mechanism 6 and fixed to the deposition chamber 1. Is installing.

즉, 상술한 바와 같이 마스크(2)를 중합시킨 기판(3)을 중합고정기구(6)에 의해 상기 고정부(4)에 가압고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구(6)에 의한 가압고정을 해제하여, 증착실(1)에 설치한 상기 기판유지기구(9)에 의해 상기 기판(3)을 유지한 상태로, 고정부(4)를 상기 보정구동기구(8)의 작동에 의해 이동제어하는 것으로 고정부(4)에 배치한 마스크(2)를, 증착실(1)에 대하여 유지고정되어 있는 기판(3)에 대하여 이동제어하도록 구성하고 있다. That is, as described above, the substrate 3 on which the mask 2 is polymerized is configured to be pressurized by the polymerization fixing mechanism 6 to the fixing portion 4, and the pressure fixing by the polymerization fixing mechanism 6 is performed. Is released, and the fixing part 4 is moved by operation of the correction driving mechanism 8 while the substrate 3 is held by the substrate holding mechanism 9 provided in the deposition chamber 1. By controlling, the mask 2 arranged in the fixed part 4 is comprised so that the movement control with respect to the board | substrate 3 hold | maintained and fixed with respect to the vapor deposition chamber 1 may be carried out.

더욱 설명하면, 도 8에 도시한 바와 같이, 이 마스크(2)와 기판(3)과는 적정중합위치를 판별하는 지표(10)이 각각 모서리부에 설치되어 있어, 이것이 일치하는 것으로 적정한 중합위치가 되어, 이것이 어긋나고 있는 것으로 이동보정이 필요하다는 것을 알도록 하여, 이 지표(10)을 증착실(1) 외부에 설치한 카메라부(11)에 의해 투명창부(15)를 통해 시인하도록 설치하여, 이 카메라부(11)의 화상에 근거하는 판별에 의해 상기 보정구동기구(8)를 작동하여 상기 마스크(2)를 지지하고 있는 상기 고정부(4)를, 상기 기판유지기구(9)에 의해 유지되어 있는 기판(3)에 대하여 이동제어하여 적정중합위치가 될 때까지 자동보정하는 보정제어부를 구비한 구성으로 하고 있다. In further detail, as shown in Fig. 8, the mask 2 and the substrate 3 are provided with an index 10 for discriminating the proper polymerization position, respectively. This shift is made to know that the movement correction is necessary because it is shifted, and the indicator 10 is installed so as to be visually recognized through the transparent window 15 by the camera unit 11 installed outside the deposition chamber 1. And the fixing portion 4 which holds the mask 2 by operating the correction driving mechanism 8 by discrimination based on the image of the camera portion 11 to the substrate holding mechanism 9. The board | substrate 3 hold | maintained by this is comprised, and the structure provided with the correction control part which automatically corrects until it reaches a suitable polymerization position.

더욱 구체적으로 설명하면, 본 실시예의 상기 보정구동기구(8)는 증착실(1) 상부에 고정하는 고정판을 고정측으로 하여, 이 고정판에 대하여 이동하는 이동 테이블(8A)를 이동측으로 하여, 도 7에 도시한 바와 같이, 고정판과 이동 테이블(8A)와의 사이에 가이드부와 구동부를 가지는 모듈(8B)를 복수설치함과 동시에, 수평회동지점부(8C)를 설치하여, 각 모듈(8B)를 구동제어하는 것으로 이동 테이블(8A)가 X, Y 및 θ방향으로 이동제어되는 얇은 편평형상의 얼라이먼트기구를 증착실(1) 상 부에 구성하고, 이 X, Y 및 θ방향으로 이동하는 이동 테이블(8A)에 회전기구(5)를 설치함과 동시에 이 회전축을 가지는 연설부(13)를 증착실(1)내에 수직 설치하여, 이 연설부(13)를 벨로우즈(14)로 덮어 외기와 차단하여 증착실(1)내의 고정부(4)와 연이어 설치하고 있다. More specifically, the correction drive mechanism 8 of the present embodiment has the fixed plate fixed on the upper part of the deposition chamber 1 as the fixed side, and the moving table 8A moving relative to the fixed plate as the movable side, FIG. 7. As shown in the figure, a plurality of modules 8B having a guide part and a driving part are provided between the fixed plate and the moving table 8A, and a horizontal pivot point part 8C is provided to provide each module 8B. The drive table which comprises a thin flat alignment mechanism in which the movement table 8A is moved-controlled in the X, Y and θ directions by the drive control on the upper part of the deposition chamber 1, and moves in the X, Y and θ directions ( While the rotary mechanism 5 is provided at 8A), a speaker 13 having this axis of rotation is vertically installed in the deposition chamber 1, and the speaker 13 is covered with a bellows 14 to block outside air. It is provided in series with the fixed part 4 in the vapor deposition chamber 1.

또한, 상기 카메라부(11)는 CCD 카메라를 채용하여 증착실(1)외부에 설치하고, 상기 마스크(2)와 상기 기판(3)에 설치한 상기 지표(10)의 일치·위치 어긋남을 투명창부(15)를 통해 증착실(1)외부에서 포착하여 이 화상 데이터에 따라서 상기 보정제어부에 의해 상기 보정구동기구(8)를 X, Y, θ등의 방향으로 얼마만큼 이동시키므로 제어처리하여 상기 각 모듈(8B)를 구동하고, 이동 테이블(8A)를 이동제어하도록 구성하고 있다. In addition, the camera unit 11 employs a CCD camera and is provided outside the deposition chamber 1 to transparently match and shift the position of the indicator 10 provided on the mask 2 and the substrate 3. Captured outside the deposition chamber 1 through the window 15 and moved by the correction control unit in the direction of X, Y, θ, etc. by the correction control unit according to the image data so as to control the above process. Each module 8B is driven to control movement of the movement table 8A.

즉, 상기 고정부(4)는 마스크·기판부착 유니트로서 상기 보정구동기구(8)의 이동 테이블(8A)와 일체화된 상태로 증착실(1)내에 늘어뜨려 배치되고, 이 고정부 (4)에 설치한 증착용 개구부(16)을 덮도록 마스크(2)을 배치하여, 이 마스크(2)에 기판(3)을 중합배치하여 상기 중합고정기구(6)에 의해 가압중합고정하도록 구성하고 있다. 카메라부(11)(보정제어부)를 사용하여 얼라이먼트하는 경우에는, 이 중합고정기구(6)에 의한 중합고정을 해제함과 동시에, 증착실(1)에 설치한 상기 기판유지기구(9)에 의해 기판(3)을 척유지한다. That is, the fixing part 4 is arranged side by side in the deposition chamber 1 in a state in which it is integrated with the movement table 8A of the correction driving mechanism 8 as a mask / substrate attaching unit. The mask 2 is arrange | positioned so that the opening part 16 for vapor deposition may be provided, and the board | substrate 3 is arrange | positioned in this mask 2, and it is comprised so that the pressurization polymerization fixation may be carried out by the said polymerization fixing mechanism 6. . In the case of alignment using the camera unit 11 (correction control unit), the polymerization fixing by the polymerization fixing mechanism 6 is released, and at the same time the substrate holding mechanism 9 provided in the deposition chamber 1 is provided. The substrate 3 is chucked by this.

이 기판유지기구(9)는 중합하고 있는 마스크(2)와 기판(3)의 끝단부에 대하여 진퇴하는 척부(9A)를 증착실(1)내면에 설치하고, 이 척부(9A)를 상기 중합끝단부에 접근이동하여 마스크(2)상의 기판(3)의 끝단부만을 척할 수 있는 위치로 정지 하여, 척작동에 의해 기판(3)만을 척하여 기판(3)을 유지하도록 구성하고 있다. The substrate holding mechanism 9 has a chuck portion 9A advancing with respect to the mask 2 being polymerized and the end portion of the substrate 3 on the inner surface of the deposition chamber 1, and the chuck portion 9A is polymerized. It is configured to hold the substrate 3 by chucking the substrate 3 by the chucking operation by stopping and moving to the position where the end of the substrate 3 on the mask 2 can be chucked.

또한, 상기 고정부(4)를 기판(3)으로부터 상대적으로 이격이동이 자유롭게 설치하여, 기판유지기구(9)에 의해 척하여 기판(3)을 유지한 상태로 조금 고정부 (4)의 마스크(2)를 얹어 놓은 마스크 홀더(4A) 부분을 하강하도록 구성하고 있다. (보정종료후는 반대로 상승하는 것으로 기판유지기구(9)에 유지되어 있는 기판(3)과 마스크(2)는 적정중합위치가 되어 중합하여, 중합고정기구(6)에 의해 이 중합을 가압고정한 후, 기판유지기구(9)를 해제하는 것으로 세트완료하도록 구성하고 있다). Further, the fixing part 4 is relatively freely moved away from the substrate 3, and the mask of the fixing part 4 is slightly masked while being held by the substrate holding mechanism 9 to hold the substrate 3. The mask holder 4A on which (2) is mounted is configured to descend. (The substrate 3 and the mask 2 held in the substrate holding mechanism 9 are polymerized in the proper polymerization position by rising after the end of the correction. The polymerization fixing mechanism 6 pressurizes and fixes the polymerization. After that, the substrate holding mechanism 9 is released to complete the set).

이와 같이 기판(3)은 증착실(1)측에 설치한 기판유지기구(9)에 의해 유지하여, 마스크(2)는 고정부(4)에 얹어 놓은 상태로 아래쪽으로 약간 이격한 상태로 되고, 이 상태로 기판(3)에 대하여 마스크(2)를 배치한 상기 고정부(4)를 상기 보정구동기구(8)에 의해 이동제어할 수 있도록 구성하고 있다. Thus, the board | substrate 3 is hold | maintained by the board | substrate holding mechanism 9 provided in the vapor deposition chamber 1 side, and the mask 2 is spaced apart slightly downwards in the state mounted on the fixing part 4, In this state, the fixing part 4 in which the mask 2 is disposed with respect to the board | substrate 3 is comprised so that a movement control may be performed by the said correction drive mechanism 8.

따라서, 본 실시예로서는, 증착실(1)내에 마스크(2)와 기판(3)을 세트하기 전에 미리 적정한 중합위치에 위치맞춤해 놓아 증착실(1)내의 고정부(4)에 세트할 필요는 없고, 또한 마스크(2)의 교환에 있어서 다시 이러한 세트를 필요하지 않고서, 예컨대 도 1에 나타내는 고정부(4)의 마스크 홀더(4A) 상에 마스크(2)와 기판 (3)을 중합하여 얹어 놓으면, 우선 도 2에 도시한 바와 같이, 위쪽의 기판(3)은 기판유지기구(9)에 의해 자동적으로 척유지되어, 조금 고정부(4)를 내려 기판(3)과 마스크(2)를 이격상태가 되어, 보정구동기구(8)에 의해 기판(3)에 대한 마스크(2)의 이동보정을 할 수 있는 이 보정을 끝낸 후, 예컨대 도 3에 도시한 바와 같이 고 정부(4)를 상승하여 이격하고 있는 마스크(2)와 기판(3)을 중합하여, 중합고정기구 (6)에 의해 이 마스크(2)와 기판(3)을 고정부(4)에 중합고정한 후, 기판유지기구 (9)를 해제하여, 마스크(2)와 기판(3)을 항상 적정중합위치로 고정부(4)에 자동 세트하는 것을 완료할 수가 있다. Therefore, in this embodiment, before setting the mask 2 and the board | substrate 3 in the deposition chamber 1, it is necessary to set it in the fixed part 4 in the deposition chamber 1 before positioning to an appropriate polymerization position. In addition, the mask 2 and the substrate 3 are polymerized and placed on the mask holder 4A of the fixing portion 4 shown in FIG. 1, without requiring such a set again in the replacement of the mask 2. When placed, first, as shown in FIG. 2, the upper substrate 3 is automatically held by the substrate holding mechanism 9 to lower the fixing portion 4 to lower the substrate 3 and the mask 2. After the completion of this correction, which allows the movement of the mask 2 with respect to the substrate 3 by the correction driving mechanism 8 to the spaced apart state, for example, as shown in FIG. The mask 2 and the substrate 3 that are raised and spaced are polymerized, and the mask 2 and the substrate 3 are fixed by the polymerization fixing mechanism 6. It is possible to complete the automatic set to 4, polymerization was fixed, by turning off the substrate holding mechanism 9, a mask (2) and said substrate (3) is always at an appropriate position polymerization unit 4 in.

즉, 회전기구(5)를 구비하여, 마스크(2)와 기판(3)을 고정하는 중합고정기구 (6)등의 장치하여 구조를 구비한 고정부(4)를, 보정구동기구(8)의 이동측에, 회전하는 마스크기판부착 유니트로서 일체화시켜 설치함과 동시에, 예컨대 벨로우즈 (14)로 덮어 외기와 차단시키면서 진공화한 증착실(1)내에 수직 설치하는 구성으로 하여, 또한 마스크(2)와 기판(3)과의 얼라이먼트를 하는 경우에는, 상술과 같이 기판유지기구(9)에 의해 마스크(2)와는 별도로 기판(3)을 유지하여 이 유니트마다 보정구동기구(8)에 의해 카메라부(11)(보정제어부)에 의해서 증착실(1)내에서 기판 (3)에 대한 마스크(2)의 중합위치를 자동보정제어할 수 있는 구성으로 하고 있기 때문에, 성가신 마스크(2)의 교환이나 수정작업을 전혀 필요하지 않고서, 감압분위기로 하는(진공화 한다) 증착실(1)내에서 자동적으로 항상 적정중합위치에 얼라이먼트하여 중합고정세트할 수 있는 획기적인 증착장치가 용이하게 실현되는 것이 된다. That is, the correction drive mechanism 8 includes a rotating mechanism 5 and a fixed portion 4 having a structure such as a polymerization fixing mechanism 6 for fixing the mask 2 and the substrate 3. The mask 2 is mounted on the moving side of the mask substrate with a rotating mask substrate, and is installed vertically in the vacuum deposition chamber 1 covered with the bellows 14 and blocked with outside air, for example. ) And the substrate 3, the substrate holding mechanism 9 holds the substrate 3 separately from the mask 2 as described above, and the camera is driven by the correction driving mechanism 8 for each unit. Since the polymerization position of the mask 2 with respect to the board | substrate 3 with respect to the board | substrate 3 is set by the part 11 (compensation control part) automatically, it can replace the cumbersome mask 2 Deposition chamber (1) in vacuum atmosphere (without vacuum) Automatically always in the proper alignment position in the polymerization it is to be a revolutionary deposition apparatus that can set a fixed polymerization easily realized.

한편, 본 발명은 본 실시예에 한정되는 것이 아니라, 각 구성요건의 구체적 구성은 적절히 설계할 수 있는 것이다. In addition, this invention is not limited to a present Example, The specific structure of each structural requirement can be designed suitably.

본 발명은 상술한 바와 같이 구성하였기 때문에, 일단 증착실내의 고정부에 세트한 혹은 중합 세트하는 마스크와 기판과의 중합위치를 실외부에 설치한 보정구동기구에 의해서 자동보정제어할 수 있고, 이에 따라 항상 자동적으로 적정중합위치에 세트하는(정밀도가 높은 위치맞춤을 한다) 것을 할 수 있고, 마스크위치의 변경이나 마스크의 교환에 있어서도, 증착실내에서 자동적으로 항상 적정중합위치에 자동보정수정하여 고정할 수 있고, 또한 증착시에 막두께를 균일하게 하기 위해서 고정부를 회전시키는 회전기구를 구비하는 구성으로서도 상술한 바와 같이 진공조내에서의 자동위치맞춤이 자동적으로 행하고, 항상 마스크와 기판을 적정한 중합위치에 보정수정하여 세트할 수 있는 지극히 실용성에 뛰어난 획기적인 증착장치가 된다. Since the present invention is constituted as described above, the automatic correction control can be performed by the correction driving mechanism provided with the polymerization position between the mask and the substrate, which are once set or polymerized in the fixed part in the vapor deposition chamber, in the outdoor part. Therefore, it is always possible to automatically set the proper polymerization position (high precision positioning), and even automatically change and fix the fixed polymerization position automatically in the deposition chamber even when changing the mask position or replacing the mask. In addition, as described above, the automatic positioning in the vacuum chamber is automatically performed, and the mask and the substrate are properly polymerized as described above as a configuration including a rotating mechanism for rotating the fixing portion to make the film thickness uniform during deposition. It is a breakthrough deposition apparatus that is extremely practical and can be corrected and set at a position.

즉, 감압분위기로 하는(진공화한다) 증착실내에서 자동적으로 항상 적정중합위치에 얼라이먼트하여 중합고정 세트할 수 있는 획기적인 증착장치가 용이하게 실현되는 것이 된다. In other words, it is easy to realize a breakthrough deposition apparatus that can always be automatically aligned at the appropriate polymerization position and set in a polymerization chamber in a vacuum chamber at reduced pressure (vacuumization).

또한, 청구항2∼9기재된 발명에 있어서는, 상기 작용·효과를 발휘하는 본 발명을 한층더 간이한 구성으로 용이하게 실현되는 한층더 실용성에 뛰어난 획기적인 증착장치가 된다.In addition, in the invention described in claims 2 to 9, it becomes a groundbreaking vapor deposition apparatus excellent in further practicality which is easily realized by the simpler structure of the present invention exhibiting the above-described action and effect.

Claims (9)

감압분위기로 하는 증착실 내에, 마스크를 중합한 기판을 고정하는 고정부만 설치하거나 또는 증착시에 고정부를 회전시키는 회전기구와 고정부를 일체로 설치하고, 이 고정부에 설치한 중합고정기구에 의해 상기 마스크와 상기 기판을 중합고정하여, 증착원으로부터 발생하는 성막재료가 상기 마스크에 설치한 개구부를 통해 상기 기판상에 퇴적하여, 이 마스크에 의해 정해지는 기판의 소정부에 박막이 형성되도록 구성한 증착장치에 있어서, 상기 고정부만 또는 상기 회전기구와 일체로 된 고정부를 상기 증착실 외부에 설치한 보정구동기구에 의해 이동이 자유롭게 설치함과 동시에, 상기 중합고정기구의 해제에 의해 상기 고정부로의 고정이 해제된 상태의 상기 기판을 유지하는 기판유지기구를 설치하여, 상기 마스크와 기판과의 적정중합위치를 판별하는 지표를 시인하는 카메라부를 설치하여, 이 카메라부의 화상에 근거하는 판별에 의해 상기 보정구동기구를 작동하여 상기 마스크를 고정 혹은 지지하고 있는 상기 고정부를, 상기 기판유지기구에 의해 유지되어 있는 기판에 대하여 이동제어하여 적정중합위치에 보정하는 보정제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 증착장치. In the deposition chamber under a reduced pressure atmosphere, only a fixing part for fixing the substrate on which the mask is polymerized is provided or a rotation mechanism for rotating the fixing part at the time of vapor deposition and the fixing part integrally provided, and the polymerization fixing device provided in this fixing part. To polymerize and fix the mask and the substrate so that a film-forming material generated from a deposition source is deposited on the substrate through an opening provided in the mask so that a thin film is formed on a predetermined portion of the substrate defined by the mask. In the vapor deposition apparatus, the movement is freely provided by a correction driving mechanism provided only on the fixed portion or a fixed portion integrated with the rotary mechanism outside the deposition chamber, and is released by the release of the polymerization fixing mechanism. Proper polymerization position between the mask and the substrate is provided by providing a substrate holding mechanism for holding the substrate in a state where the fixing to the fixing portion is released. A camera portion for visualizing discriminating indicators is provided, and the fixing portion for holding or supporting the mask by operating the correction driving mechanism by discrimination based on the image of the camera portion is held by the substrate holding mechanism. And a correction control unit for controlling movement to the substrate and correcting it at an appropriate polymerization position. 제 1 항에 있어서, 상기 보정구동기구의 고정측을 상기 증착실에 고정하고, 이동측을 상기 증착실 내에 배치하는 고정부와 연이어 설치하여, 이 증착실 외부에 설치한 보정구동기구의 작동에 의해 증착실 내에 설치한 고정부를 이동제어할 수 있도록 구성하여, 상기 마스크를 중합시킨 상기 기판을 상기 중합고정기구에 의해 상기 고정부에 고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구에 의한 고정을 해제하여 상기 기판유지기구에 의해 상기 기판을 유지한 상태로, 고정부를 상기 보정구동기구의 작동에 의해 이동제어하는 것으로 고정부에 배치한 상기 마스크를 상기 기판에 대하여 이동제어하도록 구성한 것을 특징으로 하는 증착장치. 2. The operation of the correction driving mechanism as set forth in claim 1, wherein the fixed side of the correction driving mechanism is fixed to the deposition chamber, and the moving side is provided in series with a fixing portion arranged in the deposition chamber. By the polymerization fixing mechanism to fix the substrate to which the mask is polymerized by the polymerization fixing mechanism, thereby releasing the fixing by the polymerization fixing mechanism. The substrate is held by the substrate holding mechanism, and the fixing part is moved by the operation of the correction driving mechanism so that the mask placed on the fixing part is controlled to be moved relative to the substrate. Device. 제 2 항에 있어서, 상기 보정구동기구는 고정측에 대하여 이동측이 X, Y 및 θ방향에 이동제어되는 구성으로 하여, 이 X, Y 및 θ방향으로 이동하는 이동측에 상기 증착실내의 상기 고정부에 연이어 설치하는 연설부를 설치하여, 이 연설부를 벨로우즈로 덮어 증착실내에 수직 설치하여, 이 연설부에 상기 고정부를 설치한 것을 특징으로 하는 증착장치. 3. The correction driving mechanism is configured such that the moving side is controlled to move in the X, Y, and θ directions with respect to the fixed side, and the moving side moves in the X, Y, and θ directions. And a speaker provided in succession to the fixed part, the speaker being covered with a bellows to be vertically installed in the vapor deposition chamber, and the fixed part provided in the speaker. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정부는 증착시에 상기 마스크를 중합한 상기 기판을 회전시키기 위해서 이 고정부를 회전시키는 상기 회전기구를 구비하여, 이 회전기구는 고정부와 같이 상기 보정구동기구의 이동측에 설치한 것을 특징으로 하는 증착장치. The fixing part according to any one of claims 1 to 3, wherein the fixing part includes the rotating mechanism for rotating the fixing part to rotate the substrate on which the mask is polymerized during deposition. And a vapor deposition apparatus installed on the moving side of the correction drive mechanism. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 카메라부는 상기 증착실 외부에 설치하여, 상기 마스크와 상기 기판에 설치한 상기 지표의 일치·위치 어긋남을 투명창부를 통해 증착실외부에서 포착하여 이 화상 데이터에 따라서 상기 보정제어부에 의해 상기 보정구동기구를 이동제어하도록 구성한 것을 특징으로 하 는 증착장치. 4. The camera unit according to any one of claims 1 to 3, wherein the camera unit is provided outside the deposition chamber to capture the coincidence and positional shift between the mask and the indicator provided on the substrate from the deposition chamber outside. And the correction driving mechanism is moved to control the correction driving mechanism in accordance with the image data. 제 4 항에 있어서, 상기 카메라부는 상기 증착실외부에 설치하여, 상기 마스크와 상기 기판에 설치한 상기 지표의 일치·위치 어긋남을 투명창부를 통해 증착실외부에서 포착하여 이 화상 데이터에 따라서 상기 보정제어부에 의해 상기 보정구동기구를 이동제어하도록 구성한 것을 특징으로 하는 증착장치. 5. The camera unit according to claim 4, wherein the camera unit is provided outside the deposition chamber, and the coincidence and positional shift between the mask and the indicator provided on the substrate is captured outside the deposition chamber through a transparent window and corrected according to the image data. And a control unit configured to control movement of the correction driving mechanism. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정부는 마스크·기판부착 유니트로서 상기 보정구동기구의 이동측과 일체화된 상태로 증착실내에 늘어뜨려 배치되어, 이 고정부에 설치한 증착용 개구부를 덮도록 상기 마스크를 배치하여, 이 마스크에 상기 기판을 중합배치하여 상기 중합고정기구에 의해 중합고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구에 의한 중합고정을 해제함과 동시에 상기 기판유지기구에 의해 상기 기판을 유지하여, 상기 고정부를 기판으로부터 상대적으로 이격 이동하는 것으로, 상기 기판유지기구에 의해 유지된 기판에 대하여 마스크를 배치한 상기 고정부를 상기 보정구동기구에 의해 이동제어할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 증착장치. The said fixed part is a mask and board | substrate attachment unit, arrange | positioned in the deposition chamber in the state integrated with the moving side of the said correction drive mechanism, and installed in this fixed part. The mask is disposed so as to cover the wearing opening, and the substrate is polymerized to the mask to polymerize and fixed by the polymerization fixing mechanism, thereby releasing the polymerization fixation by the polymerization fixing mechanism, and simultaneously to the substrate holding mechanism. Holding the substrate so that the fixing portion is relatively separated from the substrate so that the fixing portion having a mask with respect to the substrate held by the substrate holding mechanism can be controlled by the correction driving mechanism. Deposition apparatus characterized in that configured. 제 5 항에 있어서, 상기 고정부는 마스크·기판부착 유니트로서 상기 보정구동기구의 이동측과 일체화된 상태로 증착실내에 늘어뜨려 배치되어, 이 고정부에 설치한 증착용 개구부를 덮도록 상기 마스크를 배치하여, 이 마스크에 상기 기판을 중합배치하여 상기 중합고정기구에 의해 중합고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구에 의한 중합고정을 해제함과 동시에 상기기판유지기구에 의해 상기 기판을 유지하여, 상기 고정부를 기판으로부터 상대적으로 이격이동 하는 것으로, 상기 기판유지기구에 의해 유지된 기판에 대하여 마스크를 배치한 상기 고정부를 상기 보정구동기구에 의해 이동제어할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 증착장치. 6. The mask according to claim 5, wherein the fixing portion is arranged as a mask / substrate attachment unit in a deposition chamber in an integrated state with the moving side of the correction driving mechanism, and covers the mask so as to cover the deposition openings provided in the fixing portion. Arranged to polymerize and fix the substrate to the mask so as to polymerize the substrate by the polymerization fixing mechanism, release the polymerization fixation by the polymerization fixing mechanism, and hold the substrate by the substrate holding mechanism. And moving the fixing part relatively from the substrate so that the fixing part having a mask with respect to the substrate held by the substrate holding mechanism can be controlled by the correction driving mechanism. 제 6 항에 있어서, 상기 고정부는 마스크·기판부착 유니트로서 상기 보정구동기구의 이동측과 일체화된 상태로 증착실내에 늘어뜨려 배치되어, 이 고정부에 설치한 증착용 개구부를 덮도록 상기 마스크를 배치하여, 이 마스크에 상기 기판을 중합배치하여 상기 중합고정기구에 의해 중합고정하도록 구성하여, 이 중합고정기구에 의한 중합고정을 해제함과 동시에 상기 기판유지기구에 의해 상기 기판을 유지하고, 상기 고정부를 기판으로부터 상대적으로 이격 이동하는 것으로, 상기 기판유지기구에 의해 유지된 기판에 대하여 마스크를 배치한 상기 고정부를 상기 보정구동기구에 의해 이동제어할 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 증착장치.8. The mask according to claim 6, wherein the fixing portion is arranged as a mask / substrate attachment unit in a deposition chamber in an integrated state with the moving side of the correction driving mechanism, and covers the mask so as to cover the deposition opening provided in the fixing portion. Arranged to polymerize and fix the substrate to the mask so as to polymerize the substrate by the polymerization fixing mechanism, release the polymerization fixation by the polymerization fixing mechanism, and hold the substrate by the substrate holding mechanism. And moving the fixing part relatively away from the substrate so that the fixing part having a mask with respect to the substrate held by the substrate holding mechanism can be controlled by the correction driving mechanism.
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