KR100644647B1 - 정전 토너 전사를 이용한 멀티-패스 전자사진 공정에서 전사 보조층을 사용하는 화상 형성 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 전사 보조 재료를 중간 전사 부재에 적용하는 단계 및 감광 요소와 대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계를 포함한다. 각각의 완전한 전사 보조 재료의 공정 사이클 동안 톤 화상이 형성되고 바이어스의 적용에 의해 중간 전사 부재에 전사된다. 상기 중간 전사 부재의 멀티 공정 사이클에서 상기 공정에 의해 전사 보조 재료 및 적어도 하나의 톤 화상이 중간 전사 부재상에 복합 화상을 형성한다. 상기 방법은 적어도 일부의 복합 화상층을 최종 화상 수용체에 전사할 정도로 충분히 강한 바이어스를 적용하는 동안 상기 복합 화상층을 최종 화상 수용체와 접촉시키는 것을 포함한다.
멀티 패스 전자 사진 시스템, 전사 보조 재료, 중간 전사 부재, 정전 전사
Description
본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명될 것이며 각 도면을 통해 동일한 구조는 동일한 숫자로 불린다.
도 1은 본 발명에 따른 정전 전사 공정에서 멀티 패스 구성을 이용하는 전자 사진 장치 일부의 개략도이다.
도 2a 및 2b는 감광체에서 최종 수용체로의 토너 전사를 포함하는 단계들에서 토너 및 전사 보조층 배치의 측면 개략도이며, 전사 보조층은 잉크/토너층이 적용되기 전에 감광체에 적용된다.
도 3a 및 3b는 전사 보조층을 사용하거나 사용하지 않는 층들의 분리를 포함하는, 서로에 상대적으로 배치된 토너 및 전사 보조층의 측면 개략도이다.
도 4a 및 4b는 감광체에서 최종 수용체로의 토너 전사를 포함하는 단계들에서 토너 및 전사 보조층 배치의 측면 개략도이며, 전사 보조층은 잉크/토너층이 적용된 뒤에 감광체에 적용된다.
도 5는 정전 전사 및 중간 전사 부재를 사용하는 멀티 패스 공정을 이용하는 전자 사진 장치 일부의 개략도이다.
도 6a, 6b및 6c는 감광체에서 중간 전사 부재로, 그 후에 최종 수용체로 토너 전사를 포함하는 단계들에서 토너 및 전사 보조층 배치의 측면 개략도이며, 전사 보조층은 잉크/토너층이 적용되기 전에 감광체에 적용된다.
도 7a, 7b및 7c는 감광체에서 중간 전사 부재로, 그 후에 최종 수용체로 토너 전사를 포함하는 단계들에서 토너 및 전사 보조층 배치의 측면 개략도이며, 전사 보조층은 잉크/토너가 적용된 후에 감광체에 적용된다.
도 8은 감광체상에 부착된 화상의 일 실시예의 평면도인데, 전사 보조층은 전체 화상 영역에 초기에 적용된다.
도 9a 및 9b는 감광체상에 부착된 화상의 평면도인데, 전사 보조층이 어떻게 착색된 습식 토너를 수용하는 영역에만 적용되는지를 보여준다.
본 발명은 전자사진 공정에 사용하는 토너 전사를 보조하는 방법 및 시스템에 관한 것으로서, 특히 습식 토너 재료가 사용된 상기 방법과 시스템에 관한 것이다.
전자사진술은 복사 및 일부 형태의 레이저 인쇄를 포함하여 각종 공지된 화상 공정의 기술적 기초를 형성한다. 다른 화상 공정은 정전 혹은 이오노그래피(ionographic)인쇄를 이용한다. 정전인쇄는 유전(dielectric) 수용체 또는 지지체 가 대전된 스타일러스(stylus)에 의해 화상 방식으로 쓰여져(written) , 유전 수용체 표면상에 정전 잠상을 남기는 인쇄술이다. 이러한 유전 수용체는 감광성이 아니며 일반적으로 재사용이 불가능하다. 일단 화상 패턴이 유전 수용체 상에 (+)극성 또는 (-) 극성의 정전하 패턴 형태로 쓰여지면, 반대로 대전된 토너 입자들이 유전 수용체에 가해져 잠상이 현상된다. 예시적인 정전 화상 공정은 미국 특허 제 5,176,974호에 기재되어 있다.
이와 반대로, 전자사진 화상 공정은 통상적으로 최종적인 영구 화상 수용체상에 전자사진 화상을 형성하는 공정에서, 감광체(photoreceptor)로 알려져 있는 재사용가능하고, 감광성인, 일시적 화상 수용체의 사용을 포함한다. 대표적인 전자사진공정은 대전, 노광, 현상, 전사, 정착, 크리닝 및 제전을 포함하여, 수용체상에 화상을 형성하는 일련의 단계들을 포함한다.
대전 단계에서는, 감광체가 통상적으로 코로나 또는 대전 롤러에 의해 (-)극성 또는 (+)극성의 소망 극성 전하로 도포된다. 노광 단계에서는, 통상적으로 레이저 스캐너 또는 다이오드 배열인 광학 시스템이 감광체를 전자기 광선에 선택적으로 노출시켜 감광체의 대전된 표면을 최종 화상 수용체상에 형성될 소망 화상에 대응하는 화상방식(imagewise manner)으로 방전시켜 잠상을 형성한다. 전자기 광선은 빛 혹은 화학광선(actinic radiation)이라고도 불릴 수 있으며 예를 들어 적외선, 가시광선 및 자외선을 포함할 수 있다.
현상 단계에서는, 통상적으로 대전된 토너 입자를 감광 요소 근처에 가져가는 전기적으로 바이어스된 현상 롤러를 사용하여, 적절한 극성의 토너 입자들이 감 광체상의 잠상과 접촉하게 되는 것이 일반적이다. 현상 롤러의 극성은 토너 입자의 극성과 같아야 하고 현상롤러상의 정전 바이어스 포텐셜이 화상 방식으로 방전된 감광체 표면의 포텐셜보다 더 높아야, 토너 입자들이 감광체로 이동하고 정전기력에 의해 잠상을 선택적으로 현상하여 감광체상에 톤 화상을 형성한다.
전사 단계에서는, 톤 화상이 감광체에서 소망 최종 화상 수용체로 전사되며, 톤 화상을 감광체에서 최종 화상 수용체로 순차적으로 전사하기 위해 중간 전사 요소가 때때로 사용된다. 통상적으로 화상 전사는 이하의 2 방법들 중 하나에 의해 일어난다: 탄성 보조(또한 본 발명에서 "접착 전사"로 불린다) 또는 정전 보조(또한 본 발명에서 "정전 전사"로 불린다).
탄성 보조 또는 접착 전사는 일반적으로 화상 전사가 주로 잉크, 감광체 표면 및 토너용 일시적 캐리어 표면 내지 매질 사이의 상대적인 표면 에너지 균형에 의해 일어나는 공정을 말한다. 이러한 탄성 보조 혹은 접착 전사의 효율은 표면 에너지, 온도, 힘 및 토너 레올로지를 포함하는 각종 변수들에 의해 제어된다. 예시적인 탄성 보조/접착 화상 전사 공정은 미국 특허 제5916718호에 기재되어 있다.
정전 보조 혹은 정전 전사는 일반적으로 화상 전사가 주로 수용체 표면 및 토너용 일시적 캐리어 표면 혹은 매질 사이의 정전하 혹은 전하 차동(differential) 현상에 의해 영향 받는 공정을 말한다. 정전 전사는 표면 에너지, 온도 및 힘에 의해 영향을 받으나 토너 화상이 최종 수용체에 전달되는 주된 추진력은 정전기력이다. 예시적인 정전 전사 공정은 미국 특허 제 4,420,244호에 기재되어 있다.
정착 단계에서는, 최종 화상 수용체상에서 톤 화상이 가열되어 토너 입자를 연화 또는 용융시키고, 이로써 톤 화상을 최종 수용체에 정착시킨다. 다른 정착 방법은 열 존재 또는 비존재시 고압하에서 최종 수용체에 토너를 정착시키는 것을 포함한다. 크리닝 단계에서는, 전사 단계 후에 감광체상에 잔존하는 모든 잔류 토너가 제거된다. 마지막으로, 제전 단계에서는, 감광체 전하가 특정 파장 밴드의 광선에 노출되어 실질적으로 균일하게 낮은 값으로 감소되고, 이로써 원래 잠상의 잔류물이 제거되고 감광체가 후속 화상 형성 사이클을 준비한다.
전자사진 화상 공정은 또한 멀티칼라 혹은 단색 인쇄 공정이 되는가에 의해서도 구별될 수 있다. 멀티-칼라 인쇄 공정은 일반적으로 그래픽 아트 혹은 사진 화상 인쇄에 사용되지만 단색 인쇄는 주로 활자(text) 인쇄에 사용된다. 일부 멀티-칼라 전자사진 인쇄공정은 중간 전사 부재를 거치거나 혹은 직접적으로 최종 화상 수용체에 전달될 복합 화상을 형성하기위해 감광체상에 필요한 만큼 멀티 칼라를 적용하는 멀티 패스 공정을 사용한다. 이러한 공정의 일 실시예는 미국 특허 제 5,432,591호에 기재되어 있다.
예시적인 전자사진, 멀티 칼라, 멀티 패스 공정의 일 예에서, 감광체는 상대적으로 반경이 큰 드럼의 형태를 취하여 감광체 둘레 주위에 2 이상의 멀티 칼라 현상 장치의 배치를 가능하게 한다. 다르게는, 각종 칼라의 토너들이 전자사진 잠상을 현상시키기 위해 필요한 만큼 감광체에 인접한 위치로 개별적으로 움직일 수 있는 가동 슬래드(movable sled)상에 배치된 현상 유닛에 포함될 수 있다. 감광체 드럼의 1 회전은 일반적으로 싱글 칼라의 현상에 해당하므로, 4-칼라(예를 들어 풀 칼라) 화상을 현상하기 위해서는 4회 드럼 회전과 4회 슬래드 이동이 필요하다. 멀티-칼라 화상은 일반적으로 중복구성으로 감광체상에 형성되고 그 후에 중간 전사 부재를 거치거나 혹은 직접적으로 화상방식 레지스트레이션 (imagewise registration)에 존재하는 각각의 칼라의 풀 컬러 화상이 최종 화상 수용체로 전사된다.
예시적인 전자사진, 4-칼라, 4-패스 풀 칼라 인쇄 공정의 일 예에서, 감광체의 대전, 노광 및 현상 단계들은 일반적으로 감광체 드럼의 매 회전 마다 실행되지만, 전사, 정착, 크리닝 및 제전 단계들은 일반적으로 감광체 4 회전 마다 한번씩 실행된다. 그렇지만, 멀티 칼라, 멀티 패스 화상 공정은 각각의 칼라 평면이 감광체의 매 회전마다 감광체에서 중간 전사 요소로 전사되는 것으로 알려져 있다. 이러한 공정에서는, 전사, 크리닝 및 제전 단계들이 일반적으로 감광체의 매 회전마다 실행되어 풀 칼라 화상이 중간 전사 요소상에 형성되고 중간 전사 요소에서 최종 화상 수용체로 순차적으로 전사되고 정착된다.
다르게는, 전자사진 화상 공정은 완전히 단색일 수 있다. 이러한 시스템에서는 감광체상에 중복 칼라가 필요치 않기 때문에 통상적으로 페이지당 단지 1-패스가 존재한다. 그렇지만, 단색 공정도 예를 들어 최종 화상 수용체상에 더 높은 화상 밀도 혹은 더 건조한 화상을 얻는 것이 필요한 경우에 멀티 패스를 포함할 수 있다.
멀티 칼라 화상을 현상하기 위한 싱글 패스 전자사진 공정도 또한 알려져 있으며 탠덤(tandem) 공정이라 불릴 수 있다. 탠덤 칼라 화상 공정은 예를 들어 미국 특허 제 5,916,718호 및 제 5,420,676호에 설명되어 있다. 탠덤 공정에서, 감광체는 단지 감광체의 싱글 패스로도 감광체상에 필요한 모든 칼라가 적용되는 방식으로 서로 위치하는 현상 장치들로부터 칼라 토너를 받아들인다.
예시적인 4-칼라 탠덤 공정에서, 각각의 칼라는 순차적으로 각각의 현상 장치를 통해 지나가는 감광 요소에 적용되며, 각각의 연속적인 칼라 평면을 감광체상에 중복시켜 완전한 4-칼라 화상을 형성하고 그 후에 레지스트레이션된 4-칼라 화상을 최종 화상 수용체에 전사한다. 이러한 예시 공정에서, 감광체 대전, 노광 및 현상 단계들은 일반적으로 각각의 연속적인 칼라마다 1회씩 4회가 실행되나 전사, 정착, 크리닝 및 제전 단계들은 통상적으로 단지 1회만 실행된다. 4-칼라 화상을 감광체상에 현상한 후, 화상은 최종 화상 수용체로 직접 전사되거나 또는 다르게 중간 전사 부재로 전사되고 그 후에 최종 화상 수용체로 전사된다.
다른 형태의 멀티 칼라 탠덤 화상 장치에서는, 각각의 개별적인 칼라 현상 장치가 작은 감광체를 포함할 수 있고 상기 감광체상에 전체 화상에 대한 각각의 칼라의 기여가 부착된다. 중간 전사 부재가 각각의 감광체를 통과하면서, 화상이 중간 전사 부재로 전사된다. 멀티 칼라 화상은 이로써 각각의 개별적인 착색된 토너 층의 중복 레지스트레이션으로 중간 전사 요소상에 조립되고 그 후에 최종 화상 수용체에 전사된다.
2타입의 토너가 상업적으로 광범위하게 사용된다: 습식 토너 및 건식 토너. 건식 이란 용어는 건식토너가 액체 성분을 전적으로 가지지 않는다는 것을 의미하는 것은 아니고, 토너 입자가 의미있는 수준의 용매, 예를 들면 통상적으로 10 중 량% 미만의 용매를 함유한다는 것을 의미하며(일반적으로 건식 토너는 용매 함량으로 나타냈을 때 실질적으로 건식인 것이다), 마찰대전 전하(triboelectric charge)를 수반할 수 있다는 것을 의미한다. 이것은 건식 토너 입자를 습식 토너 입자와 구별시킨다.
통상적인 습식 토너 조성물은 일반적으로 액체 캐리어에 현탁 또는 분산된 토너 입자를 포함한다. 액체 캐리어는 통상적으로 비전도성 분산제 이므로 정전 잠상을 방전 시키는 것을 피할 수 있다. 습식 토너 입자는 일반적으로 액체 캐리어(또는 캐리어 액체)에 어느 정도 용매화 되는데, 통상적으로 저극성, 저유전상수의 실질적으로 비수성인 캐리어 용매의 50중량% 넘게 용매화된다. 습식 토너 입자는 일반적으로 캐리어 용매에서 해리되는 극성 작용기를 사용하여 화학적으로 대전되어 있으나, 액체 캐리어에 용매화 및/또는 분산되는 동안 마찰대전 전하를 수반하지는 않는다. 또한, 습식 토너 입자는 통상적으로 건식 토너 입자보다 더 작다. 약 5미크론 내지 서브미크론으로 입경이 작기 때문에 습식 토너는 매우 고해상도인 톤화상을 형성할 수 있으므로, 고해상도, 멀티 칼라 인쇄 어플리케이션에 바람직하다.
습식 토너 조성물에 사용되는 대표적인 토너 입자는 일반적으로 시각 개선 첨가제(예를 들면, 유색 안료 입자) 및 중합체 바인더를 포함한다. 중합체 바인더는 전자사진 공정 동안 및 공정 후 모두의 경우에 기능을 만족시킨다. 가공성 면에서는, 바인더 특성은 토너 입자의 대전 및 전하 안정성, 유동성 및 정착성에 영향을 준다. 이러한 특성은 현상, 전사 및 정착 공정 동안에 우수한 성능을 달성하는 데 중요하다. 화상이 최종 수용체에 형성된 후, 바인더의 성질(예를 들면, 유리 전이 온도, 용융 점도, 분자량) 및 정착 조건(예를 들면, 온도 압력 및 정착기 배치)은 내구성(예를 들면, 내블로킹성 및 내삭제성(erasure resistance)), 수용체에 대한 접착력, 광택 등에 영향을 준다. 예시적인 습식 토너 및 습식 전자사진 화상 공정은 Schmidt, S. P. and Larson, J. R.에 의해 Handbook of Imaging Materials (Diamond, A. S., Ed: Marcel Dekker: New York; Chapter 6, pp 227-252)에 기재되어 있다.
습식 토너 조성물은 전사 타입에 따라 크게 변할 수 있는데 이는 접착 전사 화상 공정에 사용되는 습식 토너 입자는 "필름-형성(film-formed)" 상태가 되어야 하고 감광체상에서 현상된 후 접착 특성을 가져야 하지만, 정전 전사 화상 공정에 사용되는 습식 토너는 감광체상에 현상된 후 명확히 대전된 입자로 남아야 하기 때문이다.
접착 전사 공정에 유용한 토너 입자는 일반적으로 유효 유리 전이 온도가 대략 30℃ 미만이고 부피 평균 입경이 0.1 내지 1 마이크론이다. 또한, 부착 전사 화상 공정에 사용되는 습식 토너의 경우에 캐리어 액체는 통상적으로 증기압이 충분히 높아 토너가 감광체, 전사 벨트 및/또는 수용체 판상에 부착된 후 용매가 빠르게 휘발된다. 특히, 멀티 칼라가 순차적으로 부착되고 중복되어 단일 화상을 형성하는 경우에 그러한데, 이는 접착 전사 시스템의 경우 높은 점착 세기(cohesive strength; 통상적으로 "필름-형성" 상태로 불린다)를 가지는 건조 톤 화상(drier toned image)에 의해 전사가 촉진되기 때문이다. 일반적으로, 톤 화상이 대략 68 내지 74부피% 고형분 보다 높게 건조되어야 우수한 접착 전사를 나타내기에 충분한 "필름-폼드" 상태가 된다. 미국 특허 등록 제 6,255,363호는 접착 전사를 이용한 화상 공정에 사용하기 적합한 습식 전자 사진 토너의 처방을 기재한다.
반대로, 정전 전사 공정에 유용한 토너 입자들은 일반적으로 실질적인 유리 전이 온도가 대략 40℃ 이상이고 부피 평균 입경이 3 내지 10 미크론이다. 정전 전사 화상 공정에 사용되는 습식 토너의 경우 톤 화상은 우수한 전사를 위하여 다만 대략 30중량% 고형분 정도가 바람직하다. 그러므로, 정전 전사를 이용한 화상 형성 공정에는 빠르게 휘발되는 캐리어 액체가 바람직하지 않다. 미국 특허 등록 제 4,413,048호는 정전 전사를 이용한 화상 공정에 사용하기 적합한 습식 전자 사진 토너 일 타입의 처방을 기재한다.
감광체는 일반적으로 광도전층이 활성 전자기 광선 또는 빛에 노출되었을 때 (전자 전달 또는 정공 전달 메커니즘에 의해) 전하를 전달하는 광도전층을 가진다. 광도전층은 일반적으로 전도성 드럼 또는 알루미늄이나 다른 도체가 증기 코팅된 절연체 같은 광도전 지지체에 부착된다. 감광체의 표면은 (-) 또는 (+)로 대전될 수 있어 활성 전자기 광선이 화상방식으로 광도전층의 표면에 부딪칠 때 전하가 감광체를 통해 전도되어 활성화된 영역의 표면 포텐셜을 중화, 방전 혹은 감소시켜 잠상을 형성한다.
배리어층이 광도전층을 보호하고 그로 인해 광도전층의 수명을 연장시키시 위해 광도전층위에 선택적으로 사용될 수 있다. 접착층, 프라이밍(priming)층 또는 전하 주입 블로킹층과 같은 다른 층들도 일부 감광체에 사용된다. 이러한 층들은 감광체 재료의 화학적 처방에 포함되거나, 감광층 적용 전에 감광체 지지체에 적용되거나 감광체 맨 위에 적용될 수 있다. "영구 결합(permanently bonded)"된 내구성 있는 이형층은 특히 접착 전사 공정이 사용될 경우 감광체에서 종이와 같은 최종 수용체나 중간 전사 요소로 화상의 전사를 용이하게 하기위해 감광체 표면상에 사용될 수 있다. 미국 특허 제 5,733,698호는 접착 전사를 이용한 화상 공정에 사용되기 적합한 예시적인 내구성 있는 이형층을 기재한다.
많은 전자사진 화상 공정은 현상된 톤 화상을 최종 화상 수용체에 전사하는 것을 보조하기 위해 중간전사부재(IMT's)를 이용한다. 특히, 멀티 패스 전자사진 공정에서 이러한 중간전사부재는 전체 화상을 중간전사부재에 전사하는 것을 보조하기 위해 감광체상에 형성된 최종 화상과 접촉할 수 있다. 상기 화상은 그 후에 통상적으로 중간전사부재와 최종 수용체의 접촉을 통해 중간전사부재에서 최종 화상 수용체로 전사될 수 있다.
탠덤(tandem) 공정에서는, 개별적인 감광체가 칼라 성분들에 의해 형성된 화상들을 중간 전사 부재상에 적층(layer)한다. 전체 화상이 이런 방식으로 구성되면 통상적으로 최종 화상 수용체로 전사된다. 그렇지만, 예를 들어 미국 특허 제 5,432,591호는 예를 들어, 멀티 패스 습식 전자사진 공정에서 전체 화상을 감광체에서 제거하고 이를 최종수용체에 전사하기 위해 옵셋 롤러를 사용하는 것을 개시하고 있다. 각종 구현예에서 중간전사부재는 순환벨트, 롤러 또는 드럼일 수 있다.
전자사진술에서 계속되는 일 문제점은, 직접적 또는 중간전사부재를 사용하여 간접적으로 토너 입자가 감광체에서 최종화상수용체로 효과적으로 전사되는 것 을 보장하는 것이다. 흔히, 토너층의 상당한 퍼센트가 각 전사단계에서 남겨져 감소된 화상 충실도, 낮은 광학 밀도 및 나쁜 화질의 화상이 최종 화상 수용체상에 발생하고, 토너가 효과적으로 제거되어야 할 각종 기계 표면에 잔류한다. 이러한 낮은 전사 효율의 문제는 특히 습식 전자화상 토너에서 문제가 되는데, 이 경우 톤 화상의 캐리어 액체 함량을 약간 변화시킴으로써 감광체에서 최종화상수용체로의 상기 화상의 탄성 전사 또는 정전 전사 효율을 조절할 수 있다.
일시적 화상 수용체(예를 들어, 감광체)에서 최종 화상 수용체(예를 들어, 종이)로 습식 톤 화상의 전사를 보조하기 위해 전사층을 이용하려는 각종 시도가 있어 왔다. 정전 또는 이오노그래픽 인쇄 공정에서, 유전 박막층(dielectric peel layer)이 일시적 화상 수용체에서의 전사를 증가시키기 위해 사용되어 왔다(예를 들어 미국 특허 제 5,176,974호 참조). 다르게는, 접착제가 코팅된 적층 보호 필름이 일시적 화상 수용체로부터 습식 토너의 전사를 증가시키기 위해 사용되어 왔다(예를 들어 미국 특허 제 5,370,960호 참조).
습식 전자사진 인쇄의 경우에, 고점도 또는 비뉴톤(non-Newtonian) 액체 전사층의 실질적으로 연속적이고 균일한 코팅이 탄성 또는 접착 전사를 이용한 감광체에서 최종 화상 수용체로의 토너 입자 전사를 보조하기 위해 적용되어 왔다. 각종 박리 및 이형 가능한 전사 보조 필름도 습식 전자사진 인쇄 공정에 사용되어 왔는데, 감광체는 표면 이형 특성을 가지며 톤 화상을 감광체 표면으로부터 전사하는데 탄성(접착)전사가 사용된다. 박리 또는 이형 가능한 필름은 토너 전사도를 향상시키고, 최종 화상 수용체나 화상 수용 재료 타입에 무관하게 고화질 고충실도의 멀티 칼라 화상을 제공하며, 최종 화상의 저장 안정성을 향상시킨다고 말해진다(예를 들어 미국 특허 제 5,648,190호, 제 5,582,941호, 제 5,689,785호 및 제 6,045,956호 참조).
습식 전자사진 인쇄 공정에서 전사 보조 재료를 사용하는 이러한 각각의 방법들은, 표면 이형 특성을 구비한 특별히 설계된 감광체에서 직접 최종 화상 수용체로 또는 간접적으로 중간 전사 부재로 그 후에 최종 화상 수용체로 접착 또는 탄성 전사를 이용하여 화상을 전사하는 멀티 패스 공정으로 유도된다. 이러한 각각의 방법들은 감광체상에 실질적으로 균일한 또는 연속적인 필름으로 전사 보조 재료를 적용하는 것을 포함한다. 상기 전사 보조 재료는 톤 화상이 현상된 영역뿐만 아니라 화상이 없는 배경 영역에도 부착되기 때문에 약간의 전사 재료는 최종 화상 수용체상의 배경 영역에 남게 되어, 전사 보조 재료를 사용하는 비용을 증가시키고 잠재적으로 종이 상의 최종 화상의 화질을 떨어뜨린다. 전자사진 기술은 향상된 습식 토너 전사 공정 및 습식 토너 입자를 보다 완벽하게 전사하여, 최종 화상 수용체상에 낮은 가격으로 고화질의 내구성 있는 멀티 칼라 화상을 만드는 것을 가능하게 하는 방법과 재료를 계속적으로 탐색하고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 전사 보조 재료 층을 이용하여 습식 토너 전사 공정을 향상시키고 습식 토너 입자를 더욱 완벽하게 전사하여, 최종 화상 수용체상에 낮은 가격으로 고화질의 내구성 있는 멀티 칼라 화상을 만드는 것을 가능하게 하는 방법 및 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 태양은, 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 생성하는 방법을 제공한다. 본 방법은 소정의 공정 사이클을 구비한 감광 요소를 제공하는 단계 및 대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 감광요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로 상대적인 공정위치로 운동하는 단계를 포함한다. 그 후에, 하기의 단계 (a) 내지 (c)가 상기 감광 요소의 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 현상 유닛에 대해 실행되는 것이 바람직하다: (a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 감광 요소 표면에 가하는 단계; (b) 상기 감광 요소 표면의 일부를 화상 방식으로 선택적으로 광방전하여 감광요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 작은 제 2 정전 포텐셜을 갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계; 및, (c) 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착되어 제 1 잠상을 현상하고 톤 화상을 형성하는 단계. 본 방법은 대전된 입자를 가지는 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계 및 감광 요소 및 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로 상대적인 공정위치로 이동시키는 단계를 더 포함한다. 전사 보조 재료는 그 후에 감광 요소상에 복합 화상층을 형성하기 위해 감광 요소의 공정 사이클 동안 톤 화상의 적어도 일부에 적용된다. 본 방법은 감광 요소에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부를 전사할 만큼 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 최종 화상 수용체를 복합 화상층과 접촉시키는 단계를 더 포함한다. 본 발명의 다른 구현예에서, 토너 입자를 감광 요소에 전사하기 전에 전사 보조 재료가 감광 요소에 적용된다.
본 발명의 또 다른 태양은, 중간 전사 부재를 구비한 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 다른 방법을 제공한다. 본 방법은 대전된 입자를 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계, 및 중간 전사 부재 및 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로 상대적인 공정위치로 운동시키는 단계를 포함한다. 그 후에, 전사 보조 재료가 중간 전사 부재의 적어도 일부에 적용된다. 본 방법은 감광 요소와 대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계를 더 포함하는데, 감광 요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 운동한다. 그 후에, 하기의 단계 (a) 내지 (d)는 중간 전사 부재의 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 현상 유닛에 대해 실행될 수 있다: (a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 감광 요소 표면에 가하는 단계; (b) 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전시켜 감광요소 표면상의 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 작은 제 2 정전 포텐셜을 가지는 제 1 잠상을 화상 방식으로 형성하는 단계; (c) 감광요소 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착되어 제 1 잠상을 현상하고 톤 화상을 형성하는 단계; 및 (d) 감광 요소에서 중간 전사 부재로 톤 화상의 적어도 일부를 전사할 만큼 충분히 강한 바이어스를 가함으로써 감광 요소상의 톤 화상의 적어도 일부를 중간 전사 부재로 전사하는 단계. 전사 보조 재료 및 그에 의한 적어도 하나의 톤 화상은 중간 전사 부재의 멀티 공정 사이클에서 중간 전사 부재상에 복합 화상층을 형성한다. 본 방법은 중간 전사 부재에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 만큼 충분히 강한 바이어스를 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 복합 화상층을 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 더 포함한다. 다른 구현예에서, 전사 보조 재료를 중간 전사 부재에 가하는 단계 전에 제 1 잠상이 중간 전사 부재상에 형성된다.
습식 토너가 전자사진 공정에서 요구되는 각종 필요한 단계들을 거쳐 최종 수용체에 도달하도록 효과적으로 전사하는 것은 몇가지 난제를 제기한다. 본 발명에 따라, 전사 보조층 또는 전사 보조재료를 일부 멀티-패스 전자사진 공정에 포함시키는 것은 이러한 층이 멀티-패스 공정의 어디에 사용되느냐에 따라 일정한 잇점을 제공할 수 있다. 비록 비착색된 잉크(non-pigmented ink)와 같이 일반적으로 투명한 재료가 바람직하나, 본 발명에 기재된 바와 같이 전사 보조층이 반드시 어느 일 특정 재료 또는 재료 타입은 아니다. 본 발명에 따르면, 일 예로 전사 보조층이 이형 특성을 가져 전사 보조층 및 토너층이 감광체에 접착되지 않는 것이 유리할 수 있다. 그렇지만, 전사 보조층이 이형 특성을 제공해야만 하는 것은 아니다. 전사 보조층은 그것이 구비할 수 있는 모든 문제 해결 특징 외에도 인쇄에 가치와 품질을 더해줄 부가적이고 독자적인 잇점을 구비할 수 있으며, 이하에서 보다 상세히 설명될 것이다.
본 발명은 첨부 도면을 참조하여 추가적으로 설명될 것이며, 동일 구조는 각 도면을 통해 동일 숫자로 인용된다. 도 1은 정전 전사를 이용한 멀티-패스 공정을 사용하는 전자사진 장치(1)의 관련 부분의 개략도이다. 감광체 또는 감광 요소(2)는 전자사진 장치(1)에 포함되고 멀티 현상 유닛 또는 스테이션들( 4a, 4b, 4c, 4d 및 4e)이 필요한 만큼 감광체(2)에 상대적인 공정상의 위치로 운동할 수 있다. 여기에 기재된 대로, 현상 유닛 또는 스테이션들이 감광체에 상대적인 공정상의 위치에 있을 때 상기 현상 유닛들은 감광체와 접촉할 수 있거나 또는 그 대신 약간의 갭(gap)이 상기 현상 유닛 또는 스테이션들과 모든 감광체 사이에 존재할 수 있다. 만일 갭이 제공된다면, 정전기력은 상기 재료들이 감광체로 전사하기 위해 이동하는데 필요할 추가적인 거리를 감당하도록 조절되는 것이 바람직하다. 또한, 감광체 및 현상 유닛들 중 단지 하나만을 이동시켜 상기 성분들이 서로에 상대적인 그들의 소망 위치에 위치할 수 있거나, 감광체 및 현상 유닛 또는 스테이션들 모두를 이동시켜 소망 배치를 얻을 수 있다. 특정 장치에 5개의 현상 유닛이 제공되는 경우, 현상 유닛 중 4개는 착색된 습식 잉크 재료를 제공하고 1개의 현상 유닛은 전사 보조 재료를 제공하는 것이 바람직하다. 또한, 본 구현예에서 5개 현상 유닛이 제공되지만, 단일 전자사진 장치 내에서 습식 잉크를 포함하는 현상 유닛의 수와 전사 보조 재료를 포함하는 현상 유닛의 수를 폭 넓게 조합하여, 5개 초과 또는 미만의 현상 유닛들이 특정 전자 사진 장치에 제공될 수 있다.
감광체(2)는 본 비한정적 실시예에서 드럼으로 도시되나 그 대신 벨트, 시트 또는 어떤 다른 감광체 구성이 될 수도 있다. 감광체의 단일 회전은 공정 사이클로 불릴 수 있으며 일반적으로 단일 칼라의 현상에 해당한다. 따라서, 4칼라(예를 들어, 풀 칼라) 화상을 현상하기 위해서 드럼으로 구성된 감광체의 4회전 또는 공정 사이클 및 감광체에 대한 현상 유닛의 상응하는 4회의 위치선정(positioning)이 통상적으로 요구될 것이다. 감광체가 드럼과 다른 형태를 취할 경우, 공정 사이클은 감광체가 시작 위치로부터 중간 위치를 거쳐 최종 위치로 가는 1 완전 이동에 일반적으로 해당할 것이며, 1 사이클의 최종 위치는 다음 순서 사이클의 시작 위치와 일치하도록 선택할 수 있다. 일 예시적 구현예에서, 감광체는 그것의 각 회전 동안 감광체 대전, 노광 및 현상 단계들을 포함하는 공정 사이클을 갖는 드럼이다. 현상 유닛들(4a-4e)은 각각 대전된 습식 잉크 또는 전사 보조 재료를 보유하고, 대전된 착색 또는 비착색된 잉크 내지 토너 입자를 잡아당겨 대전된 입자를 감광체상의 방전된 영역에 소망한대로 적용하는 적어도 하나의 유연 롤러(compliant roller)를 포함하는 것이 바람직하다. 제공될 수 있는 그러한 유연 롤러의 한가지는 현상 롤러로 불릴 수 있는데, 습식 토너의 감광체로의 균일한 커버리지를 보장하기 위해 현상 유닛 내에서 회전되는 것이 통상적일 것이다. 미국 특허 제 5,916,718호는 멀티-패스 전자 사진 공정에 사용될 수 있는 전사 유닛 또는 전사 카트리지의 일 예를 기재하는데, 이는 인용에 의하여 본 명세서에 통합된다. 한편, 미국 특허 제 5,432,591호는 본 발명과 같이 멀티-패스 전자사진 공정에 사용될 수 있는 현상 유닛 또는 현상 카트리지의 또 다른 예이며, 이는 인용에 의하여 본 명세서에 통합된다. 그렇지만, 본 발명의 공정 내에서 사용되는 상기 현상 유닛들은 잉크 또는 전사 보조 재료를 감광체에 전사하기 위해 다양한 서로 다른 구성과 장치들을 포함할 수 있음이 숙지되어야 한다.
도 1은 현상 유닛 위치선정 트랙(6)의 바람직한 일 구현예의 예를 개시하며 상기 트랙은 각각의 현상 유닛들(4a, 4b, 4c, 4d 및 4e)이 소망한 대로 감광체(2)에 상대적으로 위치하도록 (화살표 7에 보여지는 바와 같은) 슬라이딩 또는 병진-타입 운동(translating-type movement)으로 기계화될 수 있다. 특정 화상을 위해 모든 현상 유닛들이 감광체(2)에 상대적인 공정상의 위치에 위치하는 것이 요구되지는 않지만, 상기 트랙(6)의 운동은 감광체(2)에 상대적인 공정상의 위치에 현상 유닛들(4a-4e)이 순차적으로 위치할 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 단일 화상의 형성에서 특정 현상 유닛이 그 공정상의 위치로 1회 이상 운동하는 것이 가능하다. 또한, 현상 유닛들(4a-4e)이 재료를 감광체(2)에 제공하는 차례(order) 또는 순서는 반드시 인접한 현상 유닛들이 순차적으로 사용되는 것을 요구하지 않는다(예를 들어, 현상 유닛 4b가 반드시 현상 유닛 4a 바로 다음에 감광체에 재료를 제공할 필요는 없다). 오히려, 위치선정 트랙(6)을 조절하여 인접하지 않은 현상 유닛들을 감광체(2)에 상대적인 그들의 공정상의 위치로 순차적으로 이동시켜 단일 장치가 현상 유닛에서 감광체(2)로 재료를 제공하는 차례에 유연성을 제공하도록 할 수 있다. 기계화된 현상롤러를 사용한 공정의 일 예는 미국 특허 제 5,434,591호에 기재되어 있으며 이는 인용에 의하여 본 명세서에 포함된다. 그렇지만, 도 1의 현상 유닛-위치선정 트랙(6)과 같은 슬라이딩 트랙 시스템 대신에 각종 시스템 및 장치가 현상 유닛의 운동에 사용될 수도 있다.
현상 유닛들(4a, 4b, 4c, 4d 및 4e) 내에서 제공되는 습식 토너 또는 비착색된 전사 보조 재료(미도시)는 전하 디렉터(charge director)를 구비하는 것이 바람직하며 감광체의 방전된 영역이 현상 유닛들 중 하나와 근접하거나 접촉할 경우 감 광체의 방전된 영역으로 끌어 당겨진다. 감광체(2)의 방전된 영역은 빛을 사용하는 것과 같은 화상 방식으로 감광 요소의 표면의 부분들을 선택적으로 광방전시킴으로써 제공되는 것이 통상적이다. 상기 전하 디렉터는 토너 입자 또는 전사 보조 재료의 정전 전사를 용이하게 하기 위해 사용되는 것이 통상적이다. 대전된 입자를 준비하는 일 예는 미국 특허 제 6,255,363호에 기재되어 있으며, 이는 인용에 의해 본 명세서에 포함된다. 전하 디렉터는 때때로 당해 기술분야에서 대전 조절제(charge control agent)로도 불리는데, 토너입자에 소망하는 일정 전하 극성을 제공하는 것이 통상적이다. 달리 말하면, 전하 디렉터는 캐리어 액체에 분산될 경우 토너 입자상에 선택된 극성의 전하를 부여하는 작용을 한다. 전하 디렉터는 바인더 입자의 외부에 코팅되는 것이 바람직하다. 다르게 또는 부가적으로, 전하 디렉터는 공중합체를 형성하기 위해 적절한 단량체를 다른 단량체와 공중합하거나, 전하 디렉터를 토너 입자와 화학적으로 반응시키거나, 전하 디렉터를 토너 입자상에 화학적 또는 물리적으로 흡착시키거나, 또는 전하 디렉터를 토너 입자에 포함된 작용기에 킬레이팅(chelating) 시키는 것과 같은 폭 넓은 방법을 사용하여 토너입자에 도입될 수 있다.
소정의 토너 배합물에서 바람직한 전하 디렉터 또는 대전 제어 첨가제(charge control additive)의 양은 중합체 바인더의 조성을 포함한 많은 인자들에 의존할 것이다. 바람직한 중합체 바인더는 그래프트 양친매성 공중합체(graft amphipathic copolymer)이다. 오가노졸(organosol) 바인더 입자를 사용할 경우 바람직한 전하 디렉터 또는 대전 제어 첨가제의 양은 그래프트 공중합체의 S부분의 조성, 오가노졸의 조성, 오가노졸의 분자량, 오가노졸의 입자 크기, 그래프트 공중합체의 코어/쉘 (core/shell) 비, 토너 제조에 사용된 색소 및 오가노졸 대 색소의 비에 더욱 의존한다. 또한, 바람직한 전하 디렉터 또는 대전 제어 첨가제의 양은 또한 전자 사진 화상 형성 공정의 본질 특히 현상 하드웨어와 감광 요소의 설계에 의존할 것이다. 그렇지만, 전하 디렉터 또는 대전 제어 첨가제의 수준은 특정 용도에 대한 소망 결과를 얻기 위해 각종 파라미터를 기초로 조절될 수 있다.
당해 기술분야에서 기재된 다수의 전하 디렉터가 토너 입자상에 선택된 극성의 전하를 부여하기 위해 본 발명의 습식 토너 또는 전사 보조 재료에 사용될 수 있다. 예를 들면 전하 디렉터는 다가 금속 이온 및 카운터 이온으로서 유기 음이온으로 이루어지는 금속염 형태를 갖출 수 있다. 적당한 금속 이온으로는 Ba(II), Ca(II), Mn(II), Zn(II), Zr(IV), Cu(II), Al(III), Cr(III), Fe(II), Fe(III), Sb(III), Bi(III), Co(II), La(III), Pb(II), Mg(II), Mo(III), Ni(II), Ag(I), Sr(II), Sn(IV), V(V), Y(III) 및 Ti(IV)를 포함한다. 적당한 유기 음이온은 지방족 또는 방향족 카르복실산 또는 술폰산, 바람직하게는 스테아르산, 베헨산, 네오데칸산, 디이소프로필살리실산, 옥탄산, 아비에트산(abietic acid), 나프텐산, 라우르산, 탈산(tallic acid) 등과 같은 지방족 지방산으로부터 유도된 카르복실레이트 또는 술포네이트를 포함한다. 바람직한 (+) 전하 디렉터는 미국 특허 제 3,411,936호에 기재되어 있으며 본 명세서에 인용에 의해 통합된 금속 카르복실레이트(비누)를 포함한다. 특히 바람직한 (+) 대전 제어제는 지르코늄 테트라옥토에이트(OMG Chemical Company(Cleveland, OH)로부터 Zirconium HEX-CEM으로 구입가 능)이다.
당해 기술분야에서 기재된 것과 같은 다수의 전하 디렉터가 토너 입자상에 (-) 전하를 부여하기 위해 본 발명의 습식 토너 또는 전사 보조 재료에 사용될 수 있다. 예를 들어, 전하 디렉터는 레시틴, 유용성 페트롤리엄 술포네이트(Sonneborn Division of Witco Chemical Corp.(New York, NY)에서 제조된 중성 Calcium PetronateTM, 중성 Barium PetronateTM, 및 염기성 Barium PetronateTM
와 같은), 폴리부틸렌 숙신이미드(polybutylene succinimides)(Chevron Corp. 에서 판매되는 OLOATM 1200및 Amoco 575와 같은), 및 글리세라이드 염(Chan 등에 의해 미국 특허 제 4,886,726호에 개시된 대로 불포화 및 포화 치환기를 가진 포스페이티드 모노-및 디글리세라이드의 소듐염과 같은)이 될 수 있다. 글리세라이드 전하 디렉터의 바람직한 타입은 포스포글리세라이드(phosphoglyceride)의 알칼리 금속(예를 들어, Na) 염이다. 그러한 전하 디렉터의 바람직한 예는 Witco Chemical Corp.(New York, NY)의 EmphosTM D70-30C로서 포스페이티드 모노- 및 디글리세라이드의 소듐염이다.
소정의 토너 배합물에서 바람직한 전하 첨가 수준은 그래프트 안정화제 및 오가노졸의 조성, 오가노졸의 분자량, 오가노졸의 입자 크기, 그래프트 안정화제의 코어/쉘(core/shell) 비, 토너 제조에 사용된 색소, 및 오가노졸 대 색소의 비를 포함한 많은 인자들에 의존할 것이다. 또한, 바람직한 전하 첨가 수준은 전자사진 화상형성 공정의 본질 특히 현상 하드웨어 및 감광 요소의 설계에도 의존할 것이다. 그렇지만, 전하 첨가 수준은 특정 용도에 대한 소망하는 결과를 얻기 위해 각 종 파라미터를 기초로 조절될 수 있다.
일단 감광체(2)가 습식 토너층 및 어느 전사 보조층을 수용하면, 복합 화상이 화살표(12) 방향으로 이동하는 최종 화상 수용체(8)에 직접 전사될 수 있다. 전사 롤러(10)는 표지(11)에 의해 개시된 바와 같이 감광체(2)로부터 최종 수용체(8)로의 전체 화상의 정전 전사에 영향을 주기 위해 바이어스될 수 있다. 톤 화상은 정전 인력에 의해 감광체(2)상에 유지되는 것이 바람직할 것이므로, 감광체(2)에서 최종 수용체(8)로 대전된 토너 입자를 당기거나 끌기 위해서 상당히 더 큰 전기장이 필요할 것이다. 따라서, 적절한 극성의 비교적 높은 전압을 전사 롤러(10)에 가함으로써, 감광체(2)와 전사 롤러(10)사이의 전기장이 토너 입자를 최종 화상 수용체(8)에 부착시킨다.
본 발명에 따르면, 현상 유닛들(4a-4e) 중 적어도 하나는 각종 서로 다른 공정 순서에서 감광체(2)에 적용하기 위한 전사 보조층을 포함하며 이하에서 기술될 것이다. 이러한 타입의 장치에서 전사 보조층은 전하 디렉터를 포함하는 비채색된 습식 토너(오가노졸)와 같은 무색 액체일 수 있다. 전하 디렉터는 전사 보조 재료가 감광체(2) 상의 화상 처리될(혹은 이미 화상 처리된) 영역 및 최종 수용체(8)로 정전 전사 되는 것을 가능하게 할 것이다. 이러한 공정에서, 습식 토너 현상 유닛들(4a, 4b, 4c, 4d, 4e)은 필요한 만큼 감광체(2)에 접촉하거나 근접하도록 위치할 수 있으므로, 전사 보조 재료는 현상 유닛들의 어디에도 위치할 수 있다. 이러한 멀티-패스 시스템은 따라서 다양한 순서로 멀티층을 적용하는데 상대적으로 유연하게 되는 잇점을 제공하며, 상기 순서는 예를 들어 컴퓨터의 지시사항을 재프로그래 밍함으로써 변화시킬 수 있다.
특정 전자사진 장치의 다른 현상 유닛들은 토너 현상 유닛들로 불릴 수 있는데 시안(C), 마젠타(M), 옐로우(Y), 및 블랙(K) 칼라를 포함하는 것이 바람직하나, 각각의 현상 유닛에 있는 칼라는 어떠한 칼라도 포함할 수 있으며, 예를 들어, 레드(R), 그린(G), 블루(B), 및 블랙(K) 시스템 또는 다른 변형들도 포함할 수 있다. 본 발명에 따라, 어떤 토너층 또는 화상도 하나 이상의 칼라 또는 층을 포함할 수 있으나, 그러한 층들 및 화상들이 여기에서는 기재와 예시의 명확성을 위해 일반적으로 단일 토너 층으로 개시되고 기재될 것이다. 그 후에 컴퓨터 신호가 어느 시점에서 전사 보조 재료가 감광체(2)에 적용되는지를 제어할 것이다. 전사 보조 재료는 이하에 기재된 바와 같이 컬러 토너가 적용되기 전에 감광체(2)에 적용되거나 톤 화상 위에 적용될 것이다.
토너 조성물의 일부로 사용될 경우, 각종 적합한 토너 수지가 본 발명의 전사 보조 재료와 혼합하기 위해 선택될 수 있다. 통상적인 수지의 예들은 폴리아미드, 에폭시, 폴리우레탄, 비닐 수지, 폴리카보네이트, 폴리에스테르 등과 이들의 혼합물들이다. 임의의 적합한 비닐 수지가 2 이상의 비닐 단량체의 호모중합체 또는 공중합체를 포함하여 선택될 수 있다. 그러한 비닐 단량체 유닛의 통상적인 예는 다음을 포함한다: 스티렌; 비닐 나프탈렌; 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 이소부틸렌 등과 같은 에틸렌성 불포화 모노-올레핀; 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 벤조에이트, 비닐 부티레이트 등과 같은 비닐 에스테르; 부타디엔, 이소프렌 등과 같은 에틸렌성 불포화 디올레핀; 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이 크, n-부틸 아크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 도데실 아크릴레이트, n-옥틸 아크릴레이트, 페닐 아크릴레이트, 메틸 메타아크릴레이트, 에틸 메타아크리레이트, 부틸 메타아크릴레이트 등과 같은 불포화 모노 카르복실산의 에스테르; 아크리로니트릴; 메타아크릴로니트릴; 비닐 메틸 에테르, 비닐 이소부틸 에테르, 비닐 에틸 에테르 등과 같은 비닐 에테르; 비닐 메틸 케톤, 비닐 헥실 케톤, 메틸 이소프로페닐 케톤 등과 같은 비닐 케톤; 및 이들의 혼합물. 또한, 하나 이상의 다른 수지들과 혼합된 각종 비닐 수지들이 토너 수지로 선택될 수 있으며, 상기 다른 수지들은 다른 비닐 수지들이 바람직하며 이들은 우수한 마찰대전(triboelectric) 특성 및 물리적 성능저하에 대한 일정한 내구성을 보장한다. 또한, 개질 페놀포름알데히드 수지, 오일 개질 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리에테르 수지, 폴리에스터 수지 및 이들의 혼합물을 포함하는 비닐 타입이 아닌 열가소성 수지가 또한 채용될 수 있다.
바람직하게는, 상기 토너는 액체 캐리어에 분산되어 오가노졸을 형성하고 이후에 다른 성분과 혼합되어 습식 토너 조성물을 형성하는 그래프트 양친매성 공중합체를 포함한다. 통상적으로, 오가노졸은 저유전(low dielectric) 탄화수소 용매(캐리어 액체)에 분산된 공중합체 바인더 입자를 형성하는 중합 가능 화합물(예를 들어, 단량체)의 비수성 분산 중합에 의하여 합성된다. 이러한 분산된 공중합체 입자들은 캐리어 액체에 의해 용매화된 입체 안정화제(예를 들어 그래프트 안정화제)가 중합 반응에서 형성될 때 분산된 코어 입자로 화학 결합함으로써 응집에 대해 입체적으로 안정화된다. 그러한 입체 안정화 메커니즘의 상세한 설명은 Napper, D. H., Polymeric stabilization of Colloidal Dispersion , Academic Press, New York, N.Y., 1983에 기재되어 있다. 자기-안정 오가노졸을 합성하는 과정은 Dispersion Polymerization in Organic Media , K. E. J. Barrett, ed., John Wiley: New York, N.Y., 1975에 기재되어 있다.
일단 오가노졸이 형성되면, 하나 이상의 첨가제가 소망한 만큼 포함될 수 있다. 예를 들면, 하나 이상의 시각 개선제(예를 들면, 색조(tinting) 재료) 및/또는 대전 조절제 또는 디렉터가 포함될 수 있다. 그 후에 조성물은 균질화, 마이크로유동화(microfluidization), 볼-밀링, 분쇄기 밀링, 고에너지 비드(샌드)밀링, 바스켓 밀링 또는 분산액에서 입자 크기를 감소시키기 위한 당해 기술분야에서 공지된 다른 방법과 같은 하나 이상의 혼합 공정을 거칠 수 있다. 혼합 공정은 응집된 시각 개선 첨가제 입자가 존재하는 경우, 이것들을 1차 입자(직경이 0.05 내지 5.0 마이크론)로 분쇄하고, 분산된 공중합체 바인더를 시각개선첨가제 표면과 결합할 수 있는 단편으로 부분적으로 잘게 만든다.
그 후에 분산된 공중합체 또는 공중합체로부터 유래한 단편들은 예를 들어 시각 개선 첨가제 표면에 흡착 또는 부착되어 시각 개선 첨가제와 결합됨으로써 토너 입자를 형성한다. 그 결과 부피 평균 입경(레이저 회절법으로 측정)이 약 0.05 내지 약 50.0 미크론, 보다 바람직하게는 약 1 내지 약 10 미크론, 가장 바람직하게는 약 1.5 내지 약 5 미크론인 입체적으로 안정화되고 비수성인 토너 입자 분산액을 얻는다. 또한 본 발명의 정전 전사 공정에 사용되는 토너 입자들은 유효 유리 전이 온도가 약 35℃보다 높은 것이 바람직하며 약 40℃보다 높을 수도 있다. 몇몇 구현예에서 필요하다면 혼합 후 하나 이상의 전하 디렉터 또는 대전 조절제를 첨가할 수 있다.
착색된 잉크 및 착색 내지 비착색된 토너 보조 재료의 액체 캐리어는 실질적 비수성 용매 또는 용매 혼합액이 바람직하다. 달리 말하면, 단지 액체 캐리어의 부수적 성분(일반적으로 25중량% 이하)으로 수분을 포함한다. 실질적 비수성 액체 캐리어는 20중량% 이하의 수분을 포함하는 것이 바람직하고, 10중량% 이하의 수분이 더욱 바람직하며, 3중량% 이하의 수분이 더욱 더 바람직하며, 1중량% 이하의 수분이 가장 바람직하다. 캐리어 액체는 당해 기술분야에서 공지된 다양한 재료 또는 이들의 조합에서 선택될 수 있으나, 30ml 미만의 카우리 부탄올 넘버(Kauri-butanolnumber)를 가지는 것이 바람직하다. 상기 액체는 바람직하게는 친유성이고, 다양한 조건에서 화학적으로 안정하며 전기적 절연성이다. 전기적 절연성은 유전 상수가 낮고 높은 전기적 비저항의 분산액을 의미한다. 바람직하게는 액체 분산액은 유전상수가 5미만; 더욱 바람직하게는 3 미만이다. 캐리어 액체의 전기적 비저항은 통상적으로 109 Ohm-cm보다 크고; 더욱 바람직하게는 1010 Ohm-cm보다 크다. 또한, 액체 캐리어는 토너 입자를 배합하는데 사용되는 성분들에 대해 대부분의 구현예에서 화학적 비활성인 것이 바람직하다.
적당한 액체 캐리어의 예는 지방족 탄화수소류(n-펜탄, 헥산, 헵탄 등), 환상지방족 탄화수소류(시클로펜탄, 시클로헥산 등), 방향족 탄화수소류(벤젠, 톨루엔, 크실렌 등), 할로겐화 탄화수소 용매(염소화 알칸, 플루오르화 알칸, 클로로플 루오로카본 등), 실리콘 오일 및 이들 용매의 혼합물을 포함한다. 바람직한 캐리어 액체는 IsoparTM G, IsoparTM H, IsoparTM K, IsoparTM L, Isopar
TM M 및 IsoparTM V (미국 뉴저지 소재 Exxon Corporation으로부터 입수가능)와 같은 분지형 파라핀계 용매 혼합물을 포함하고, 가장 바람직한 캐리어는 NorparTM 12, NorparTM 13 및 NorparTM 15 (미국 뉴저지 소재Exxon Corporation으로부터 입수 가능)와 같은 지방족 탄화수소 용매 혼합물이다. 특히 바람직한 캐리어 액체는 약 13MPa1/2 내지 약 15 MPa1/2의 힐데브란트(Hildebrand) 용해도 파라미터를 가진다.
본 발명의 토너 조성물의 액체 캐리어는 양친매성 공중합체의 제조에 사용된 용매와 동일한 액체인 것이 바람직하다. 다르게는, 중합은 적절한 어떤 용매에서도 실행될 수 있으며, 용매의 교환은 토너 조성물에 필요한 액체 캐리어를 제공하기 위해 실행될 수 있다.
습식 토너 조성물의 전도도는 전자사진 화상의 현상에서 토너의 효율을 기술하는데 사용될 수 있다. 1 x 10-11 mho/cm 내지 3 x 10-10 mho/cm범위의 값은 당해 기술분야의 전문가들에게 유리한 것으로 여겨진다. 높은 전도도는 일반적으로 토너 입자상의 전하들의 비효율적인 결합을 나타내고, 이는 전류 밀도와 현상하는 동안 부착된 토너간의 낮은 관련성에서 알 수 있다. 낮은 전도도는 토너 입자가 거의 또는 전혀 대전되지 않았음을 나타내고 매우 낮은 현상 속도를 초래한다. 토너 입자 상의 흡착 부위에 매치되는 대전 조절 디렉터 또는 조절제(agent)를 사용하는 것은 각 토너 입자와 결합하는 충분한 전하를 보장하기 위한 통상적인 실무이다.
다른 첨가제도 종래의 실무에 따라 토너 배합물에 첨가될 수 있다. 이러한 것들로는 하나 이상의 UV 안정화제, 방미제(mold inhibitor), 살세균제, 살진균제, 대전 방지제, 광택 개질제, 다른 중합체 또는 올리고머 재료, 산화 방지제 등을 포함한다.
도 2a는 도 1의 장치(1)와 같은 장치에 의해 적용될 수 있는 감광체(20)상에 적용 또는 위치된 전사 보조층(22)을 개시한다. 임의의 소정의 순서로 적용되는 하나 이상의 칼라를 포함할 수 있는 토너층(24)이 적용 또는 위치되어 적어도 부분적으로는 전사 보조층(22)을 덮는다. 도 2b는 화상이 감광체(20)에서 최종 화상 수용체(26)로 전사된 후에 그 구성에서 도 2a의 층들의 배치를 보여준다. 본 구현예에서와 같이 전사 보조층(22)이 토너층 또는 층들(24) 전에 감광체(20) 상에 위치한 경우에는, 최종 수용체(26)로의 화상의 전사는 토너층(24)이 최종 수용체(26)와 직접 접촉하고 전사 보조층(22)은 외부에 위치하게 된다. 전사 보조층 또는 층들(22) 및 토너층 또는 층들(예를 들면, 복합층)(24)의 임의의 다양한 조합들이 복합, 완전, 또는 전체 화상층(32)으로 여기에 기재된다.
전사 보조층(22)이 이러한 방식으로 토너층 또는 층들(24)전에 감광체(20)에 적용될 경우 상기 층(22)은 몇가지 잇점을 제공할 수 있다. 통상적으로, 정전 전사를 이용하는 전자사진 응용을 위해 토너 입자 크기를 선택하는 경우, 착색된 잉크 입자의 크기는 중요한 고려 대상이다. 바람직하게는 상기 입자들의 부피 평균 입경 (예를 들어, 레이저 회절법으로 측정)은 약 0.05 내지 약 50.0미크론이며, 보다 바람직하게는 약 1 내지 약 10 미크론, 가장 바람직하게는 약 1.5 내지 약 5미크론이다. 만일 착색된 잉크 입자가 예를 들어 약 1 내지 약 5미크론으로 비교적 크다면, 상기 토너는 감광체에서 예를 들어 선택적인 중간 전사 부재와 같은 또 다른 부재로 비교적 쉽게 전사될 것이다. 그렇지만, 이러한 큰 착색된 잉크 입자는 또한 입자들이 인쇄 표면을 고르게 덮기에는 너무 크다는 사실로 인해 갭 또는 공극이 톤 화상에 존재할 수 있기 때문에 불균일한 인쇄 화상을 만들 수 있다. 반대로, 비교적 작은 착색된 잉크 입자(예를 들어 1미크론 미만)는 몇몇 경우에 매우 세밀한 해상도의 화상을 만들 수 있다; 그렇지만, 상기 입자들은 매우 작으므로 화상의 소망 밀도를 제공하기 위해서는 비교적 두꺼운 토너층이 필요할 수 있다. 이러한 비교적 두꺼운 토너층은 적절히 전사하기에는 너무 두꺼울 수 있어, 일부 또는 전부의 토너층을 뒤에(예를 들어, 지지체로부터 전사되지 않은 토너층) 남겨 놓을 수 있다. 따라서, 본 발명에 따라, 전체 착색된 층이 보다 효과적으로 전사되도록 비교적 두꺼운 작은 입자 토너 색소층에 인접(예를 들어, 아래 또는 위)하게 비교적 큰 착색된 잉크 입자를 구비한 전사 보조층을 제공하여 소망 광학 밀도를 유지하는 보다 완전한 토너 전사가 이루어지게 하는 것이 유리하다. 바람직하게는, 상기 대전된 전사 보조 재료 입자들의 부피 평균 입경(예를 들어, 레이저 회절법으로 측정)은 약 0.05 내지 약 50.0미크론이며, 보다 바람직하게는 약 1 내지 약 10 미크론, 가장 바람직하게는 약 1.5 내지 약 5미크론이다
따라서, 감광체(20)에서 최종 수용체(26)로의 토너층(24)의 직접 전사는 전 사 보조층(22)을 대전시키고 전사 보조 재료로서 비교적 큰 입자 크기의 입자들을 사용함으로써 향상시킬 수 있다. 또한, 전사 보조층은 전사보조층의 일부 또는 전부를 최종 화상의 착색된 입자들과 같이 최종 화상 수용체에 전사하는 이형층으로 작용할 수 있다. 그 후에 투명한 것이 바람직한 전사층은 토너층의 미시적 공극 또는 갭을 채울 수 있고 이로써 화상의 화질, 광학 밀도, 또는 화상 광택을 향상시킨다. 이형제로 사용될 수 있는 전사 보조 재료의 몇몇 예들은 이형 작용기가 포함된 오가노졸을 포함하여, 통상적으로 그래프트 안정화제의 경우에 이들의 구체적인 예는 실리콘 모노머 또는 폴리디메틸실록산을 포함한 그래프트 안정화제를 포함한다. 이형 특성의 제공을 도와줄 수 있는 재료들의 다른 예는, 표면 이형 촉진 부분(moiety)을 포함하는 중합 분산액의 예들의 목록을 제공하는 미국 특허 제 5,521,271호, 제 5,604,070호, 및 제 5,919,866호에서 설명된 예들을 포함하며 이들은 인용에 의해 본 명세서에 통합된다. 이형 특성을 보다 촉진(예를 들면, 점착성을 최소화 또는 제거)시키기 위하여, 전사 보조 재료가 약 35℃보다 높은 유리 전이 온도를 가지는 것이 보다 바람직하고 약 40℃보다 높을 수도 있다.
도 2a 및 2b는 감광체로부터의 완전한 이형을 제공하기 위하여 전사 보조층이 어떻게 포함될 수 있는지를 도시하지만, 전사 보조층이 사용될 경우에 완전한(100%) 전사는 필요하지 않을 수 있다. 예를 들어, 도 3a 및 3b에는 전사 보조층을 구비하거나 구비하지 않은 화상의 전사가 도시되어 있으며, 도 3b는 전사 보조층을 희생층(sacrificial layer)으로 사용하는 것을 도시한다. 먼저 도 3a에서 감광체(40)는 감광체상에 톤화상(토너층;42)을 가지는 것으로 도시된다. 화살표에 의하여 나타낸 바와 같이, 이 공정의 제 2 단계는 상기 화상을 최종 수용체(44)에 전사하는 것이 도시되며, 이때 전체 토너층(42)이 전사되지는 않는다. 상기 도는 만일 토너의 전사가 불완전하면 단지 토너층(42)의 일부가 최종 수용체(44)에 전사되고 층(42b)(부분 층)으로 도시된다. 감광체(40)상에 남겨진 부분(42a)은 화상의 화질과 광학 밀도에 기여하는 토너이다. 상기 결과로 최종 수용체상의 화상이 화상에 분산된 미소공극의 존재로 인해 감소된 광학 품질(optical quality)과 종이 같은(papery) 화질을 가질 수 있다.
본 발명에 따라, 도 3b는 전사 보조층이 사용된 경우와 동일한 현상을 도시한다. 특히, 전사 보조 재료층(46) 및 토너층(42)을 구비한 감광체(40)가 제공된다. 화살표에 의하여 지시된 바와 같이, 상기 공정의 제 2 단계는 화상을 최종 수용체에 전사하는 것이 필요할 경우에 발생한다. 상기 도에서 도시된 바와 같이, 전사 보조층(46)은 전사 보조층의 일부(46b)가 토너층(42)과 같이 최종 화상 수용체(44)로 가고, 전사 보조층의 일부(46a)는 감광체(40)상에 남겨지는 방식으로 분리(split) 또는 나누어진다. 전체 토너 화상층(42)은 이렇게 최종 화상 수용체(44)에 전사되는 것이 유리하고, 이로써 화상의 소망 광학 밀도를 유지하는 것을 도와준다.
상기 공정은 전사 보조와 관련 없는 추가적 잇점을 가질 수 있다. 예를 들면, 전사 보조층은 화상이 최종 수용체에 고정 또는 정착될 경우에 상기 보조층을 내구성있는 화상 보호제로 만드는 첨가제를 구비할 수 있다. 그러한 첨가제의 예는 TCHMA, 이소보닐아크릴레이트, 또는 이소보닐메타아크릴레이트와 같은 높은 Tg 모 노머를(예를 들어, 본 출원인의 2003년 6월 30일에 출원된 미국특허출원 제 10/612,765호(ORGANOSOL INCLUDING HIGH TG AMPHIPATHIC COPOLMERIC BINDER AND LIQUID TONER FOR ELECTROPHOTOGRAPHIC APPLICATIONS)에 기재된 바와 같으며, 상기의 전체 내용은 본 명세서에 인용에 의해 통합되어 있다) 포함하거나 또는 C16 내지 C26 의 탄소수를 포함하는 아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트와 같은 중합 결정화가 가능한 공유 결합된 모노머를(예를 들어, 헥사데실-아크릴레이트 또는 -메타아크릴레이트, 스테아릴-아크릴레이트 또는 -메타아크릴레이트, 비헤닐(behenyl)-아크릴레이트 또는 메타아크릴레이트) (예를 들어, 본 출원인의 2003년 6월 30일에 출원된 미국특허출원 제 10/612,534호(ORGANOSOL LIQUID TONER INCLUDING AMPHIPATHIC COPOLMERIC BINDER HAVING CRYSTALLINE COMPONENT)에 기재된 바와 같으며, 상기의 전체 내용은 본 명세서에 인용에 의해 통합되어 있다)포함한 오가노졸을 포함한다. 전사 보조층은 또한 예를 들어 마모저항 또는 내자외선성을 구비하도록 조절될 수 있다. 상기 보조층은 또한 최종 수용체상에서 화상이 보이는 방식을 향상시키기 위해 광택성 표면을 제공하도록 변경될 수 있다. 이러한 실시 형태들은 효과적인 전사 보조층의 필요 조건은 아니지만, 다른 화상 형성시의 문제점 또는 결점을 해결하는 향상된 전사 보조층의 요소가 될 수 있다.
도 1에 관해 상기에 기재한 바와 같이, 전사 보조 재료는 감광체(2)에 부착되기 위해 어떠한 현상 유닛 위치(4a, 4b, 4c, 4d, 4e)에도 존재할 수 있다. 그렇지만, 상기에 기재된 구현예들은 전사 보조 재료를 포함하는 현상 유닛이 토너 재료를 적용하기 전에 감광체에 전사 보조 재료를 적용하는 공정을 포함한다. 전사 보조층은 이하에 기재된 바와 같이 그 대신에 톤 화상이 감광체상에 놓여진 후에 감광체(2)에 적용될 수도 있다.
도 4a 및 4b는 전사 보조층이 초기에 톤 화상 위에 위치하는 공정에 대한 상기 층들 및 전사 단계들이 도시된 본 발명의 또 다른 구현예를 보여준다. 특히, 도 4a는 감광체상에 적어도 하나의 토너층(62) 및 적어도 부분적으로 토너층(62)을 덮는 전사 보조층(64)으로 이루어진 완전한 톤 화상을 가지는 감광체를 도시한다. 그런 다음, 상기 화상이 최종 수용체에 전사될 경우(도 4b에 도시된 대로) 전사 보조층(64)은 최종 화상 수용체(66)와 접촉하고 토너층(62)은 외부에 존재한다 (예를 들면, 토너층(62)은 상층이다).
도 4a 및 4b의 본 구현예는 상기 위치에 전사 보조층을 사용함으로써 얻어질 수 있는 향상된 전사효율을 보여준다. 특히, 이러한 전사 효율은 대전된 입자를 더욱 추가함으로써 정전 전사를 촉진시키려는 더 두꺼운 대전 입자 토너층에 의해 향상될 수 있다. 이러한 방식으로 사용된 전사 보조층이 이형층을 제공하거나 또는 감광체로부터 갈라짐으로써 반드시 전사 효율을 촉진시키는 것은 아니다. 그렇지만, 본 구현예에서 전사 보조층은 비교적 작은 색소 입자들과 전기적으로 결합하는데 사용될 수 있고, 그럼으로써 더 강한 응집 강도 및 더 큰 대전 입자를 만들어 전사 효율과 화질을 향상 및 개선시킨다.
또한, 전사 보조층의 본 구현예는 점착성 표면을 갖도록 처방될 수 있으며, 그럼으로써 착색된 토너 입자와 최종 화상 수용체의 결합을 촉진시킨다. 실제로, 만일 유리 전이 온도(Tg)가 비교적 낮도록(점착성이 되도록) 처방된다면, 정착 온 도를 비교적 낮게 조절하여 색소 입자가 다공성 최종 수용체 속으로 보다 쉽게 녹아 들어가는 것을 가능하게 할 수 있고, 그럼으로써 토너와 최종 수용체 사이에 강한 결합을 형성할 수 있다. 바람직하게는, 본 구현예의 전사 보조층은 약 35℃보다 낮은 Tg를 가지며 약 -10℃이하가 될 수도 있다. 또한, 전사 보조층은 이러한 전사 보조층이 없는 경우에 비해 더 낮은 온도에서 화상의 정착을 용이하게 하는 향상된 특성을 가지고 있어 제조 및 안전성 관점에서 잇점을 제공할 수 있다. 또한, 본 구현예는 톤 화상과 최종 수용체 사이에 베이스 코트(base coat; 예를 들어 접착을 촉진할 수 있다)를 제공하는 것과 같이 전사 효율의 향상과 반드시 관련되지는 않는 잇점을 가질 수 있다. 이것은 예를 들어 오에이치피 필름(OHP film)상에 습식 토너를 인쇄하는 경우에 특히 유용할 수 있다.
도 5는 도 1의 장치와 유사한 본 발명에 따른 전자사진 장치(3)의 또다른 구현예를 도시한다. 상기 장치(3)는 감광체(2)와 백업 또는 전사 롤러(10) 사이에 위치한 적어도 하나의 중간 전사 부재(14)의 사용을 추가적으로 도입한다. 감광체(2)는 전자사진 장치(3)에 포함되며 멀티 현상 유닛들(4a, 4b, 4c, 4d 및 4e)이 공정상 필요한 만큼 감광체(2)에 상대적인 공정상의 위치로 이동할 수 있도록 위치한다. 본 구현예에서 5 현상 유닛들이 제공되지만, 특정 전자사진 장치의 경우에 5 초과 또는 미만의 현상 유닛이 제공될 수 있다. 이러한 유닛들은 토너를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛과 전사 보조 재료를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 포함할 수 있다. 감광체(2)는 상기 비제한적인 예에서 드럼으로 도시되지만, 대신에 벨트, 시트, 또는 어떤 다른 감광체 구성물이 될 수도 있다. 도 1의 장치(1)의 경우와 같이, 도 5의 장치(3)에서 현상 유닛의 바람직한 일 구현예는 각각의 현상 유닛을(4a, 4b, 4c, 4d 또는 4e) 필요한만큼 감광체(2)에 상대적인 공정상의 위치로 위치시키는 슬라이딩 또는 병진-타입 운동(화살표 7에 보여지는 바와 같이)으로 기계화될 수 있는 위치선정 트랙(6)을 포함한다. 그렇지만, 대신 감광체가 하나 이상의 현상 유닛들에 상대적인 감광체의 공정 위치를 얻기 위해 이동하거나 감광체 및 현상 유닛들 모두가 서로에 상대적으로 운동할 수 있다.
특정 화상을 위해 모든 현상 유닛들이 이러한 방식으로 위치하는 것이 요구되지는 않지만, 현상 유닛들의 위치선정에 사용되는 상기 트랙(6)의 운동 또는 다른 메카니즘은 감광체(2)에 상대적인 현상 유닛들(4a-4e)이 순서대로 위치하도록 하는 것이 바람직할 것이다. 또한, 단일 화상의 형성에서 특정 현상 유닛 또는 복수개의 현상 유닛들이 각각 감광체(2)와 1회 이상 접촉하는 것이 가능하다. 또한, 현상 유닛들(4a-4e)이 감광체(2)와 접촉하는 차례(order) 또는 순서는 반드시 인접한 현상 유닛들이 순차적으로 사용되는 것을 요구하지 않는다(예를 들어, 현상 유닛 4b가 반드시 현상 유닛 4a 바로 다음에 감광체와 접촉할 필요는 없다). 오히려, 위치선정 트랙(6)을 조절하여 인접하지 않은 현상 유닛들이 순차적으로 감광체(2)와 접촉할 수 있다. 이러한 방식으로, 단일 장치가 현상 유닛들이 감광체(2)에 상대적인 그들의 공정상의 위치에 위치하는 순서에 유연성을 제공할 수 있다.
본 공정의 멀티-패스에서, 소정 갯수의 토너층 및 가능하게는 소정 갯수의 전사 보조 재료층도 각종 현상 유닛들에 의해 감광체(2)에 적용될 수 있다. 톤 화상은 적어도 하나의 전사 보조 재료층을 포함하거나 포함하지 않을 수 있고 그 후 에 최종 화상 수용체(8)로 전사 되기 전에 중간 전사 부재로 전사된다(여기에서는 중간 전사 롤러로 도시되나 시트, 드럼 또는 벨트일 수 있다). 이렇게 감광 요소(2)상의 토너층 또는 층들을 중간 전사 부재(14) 표면으로 전사하는 것은 중간 전사 부재(14) 및 감광체(2) 중 하나 또는 상기 부재(14) 및 상기 감광체(1) 모두를 서로 인접 또는 접촉시킴으로써 용이하게 된다. 이것을 달성하기 위하여, 중간 전사 부재(14)는 감광체(2)에 의해 제공되는 것 보다 더 강한 정전 인력을 톤 화상에 제공하도록 바이어스되는(참조 번호 11로 표시된 대로) 것이 바람직하다. 이러한 방식으로, 상기 부재가 화살표(18)로 도시되는 방향으로 회전하면서 상기 화상이 중간 전사 부재(14)로 전사될 수 있다. 그 후에, 화살표(12)로 지시된 방향으로 이동하는 최종 화상 수용체(8)가, 바이어스 되며 화살표(19)로 지시된 방향으로 이동하는 것이 바람직한 전사 롤러(10)에 의해 중간 전사 부재에 대해서 압착(pressed)된다. 상기 화상이 최종 화상 수용체(8)와 접촉하기 위해 중간 전사 부재(14)의 외부 경계를 따라 회전함에 따라, 전사 롤러(10)의 바이어스가 토너 및 모든 대전된 전사 보조 재료 입자를 최종 수용체(8)로 끌어 당긴다.
도 1에 대해 설명한 대로, 전사 보조층은 습식 토너를 적용하기 전 또는 후에 감광체상에 적용될 수 있다. 그러한 전사 보조층이 사용될 경우, 감광체와 접촉하기 위한 현상 유닛의 운동을 제어하는 메커니즘 및/또는 소프트웨어는 전사 보조 재료의 적용 타이밍을 제어할 수 있기 때문에 상기 보조층은 어떠한 현상 위치에도 위치할 수 있다. 본 발명의 또 다른 구현예에서, 도 6a는 도 5에 도시된 것과 유사한 장치를 사용하는 전자사진 공정의 제 1 단계를 도시한다. 도 6a에서 전사 보조 층(82)이 먼저 감광체(80)에 적용되고 그 후에 하나 이상의 토너 칼라를 포함하는 토너층(84)이 전사 보조층(82) 위에 적용된다. 토너 중첩이 완성되면 그 후에 상기 완성된 또는 복합 화상이 도 6b에 개략적으로 도시되는 바와 같이 중간 전사 부재(86)에 전사될 수 있다. 이 단계에서, 토너층(84)은 중간 전사 부재(86)에 전사되고 그 후에 전사 보조층(82)은 상기 층들의 상부에 온다. 도 6c에 보여지는 상기 공정의 최종 단계에서 상기 화상은 최종 수용체 또는 지지체(88)로 전사된다. 이로써 전사 보조층(82)이 최종 수용체(88)와 토너층(84) 사이에 위치하고 토너층(84)이 상부에 오는 결과가 된다.
상기 공정의 이러한 구현예에서(예를 들어, 중간 전사 부재의 사용) 전사 보조층은 도 2a 및 2b에 기재되듯이 이형층으로 작용하거나 도 3b에 기재되듯이 갈라지는 "희생층"으로 작용할 수 있다. 전사 보조층의 이러한 작용들은 주로 감광체 및 토너층들에 대한 보조층의 상대적인 위치에 의해 결정된다. 일 태양에서, 도 6a 내지 6c에서 층(82)으로 도시되는 전사 보조층은 중간 전사 부재(86)로의 전사에서 감광체(미도시)상에 부분적으로 남겨질 수 있다. 본 구현예에서, 도 6b의 전사 보조층(82)은 도 6a의 초기 전사 보조층(82) 보다 적어도 약간 덜 두꺼울 것이다. 전사 보조층(82)은 또한 도 4에 대해 기재된 바와 같이 토너 입자(84)와의 화학적 및 전기적 결합에 의해 전사를 향상시키고 최종 수용체(88)로의 접착을 촉진시키는 작용을 할 수 있다. 또한, 실제 전사 성능과 관계없이 전사 보조층에 포함될 수 있는 상기 설명된 모든 추가적인 잇점 및 특성(예를 들어, 마모 및 자외선 보호 그리고 접착 촉진을 포함하여)들이 본 구현예의 범위 내에 포함될 수 있다.
본 발명의 또 다른 구현예에서도, 도 6a에 도시된 층들은 다르게는 감광체(80)상에 적용되는 토너층(84)만을 포함할 수 있다(예를 들어, 전사 보조층(82)은 이 단계에 적용되지 않을 것이다). 전사 보조 재료층을 톤 화상층 위로 감광체에 적용하는 대신에, 전사 보조층(82)이 도 6b에서 중간 전사 부재(86)로 전사된 후에 적어도 일부의 토너층(84)위로 처음 적용될 수 있다. 도 5에서 구체적으로 보여지지는 않았지만, 카트리지 및 어플리케이터(applicator)가 최종 톤 화상 상부에 전사 보조층(82)을 계량(meter) 또는 화상방식 전사하는데 충분한 공간을 제공하도록 더 큰 중간 전사 부재가 사용될 수 있다.
도 7a-7c는 중간 전사 부재를 사용한 공정의 전사 단계 및 층 배치를 보여주며 전사 보조층은 톤 화상이 완전히 형성된 후에 감광체상에 위치하게 된다. 도 7a에 도시된 바와 같이, 토너층(92)이 감광체(90)상에 적용 또는 위치하게 되며 전사 보조층(94)은 톤 화상(92)의 상부에 적용된다. 도 7b에 도시된 이 공정의 다음 단계에서, 상기 화상은 중간 전사 부재(96)에 전사되며 전사 보조층(94)은 중간 전사 부재(96)와 접촉하고 토너층(92)이 노출된다. 도 7c에 도시된 이 공정의 최종 단계에서, 상기 화상은 최종 수용체(98)에 전사되어 토너층(92)이 수용체(98)와 접촉하고 전사 보조층(94)이 노출된다.
본 구현예는 전사 보조층(94)이 중간 전사 부재(96)로부터의 이형 또는 희생층으로 작용하는 능력을 이용하는 잇점이 있으며, 이 층의 그러한 잇점들은 도 2 및 3에 대해 상기에 기재된 잇점들과 유사하다. 감광체(90)상의 토너층(92)위로 전사 보조층(94)의 적용(도 7a의 경우와 같이)을 피하고, 그 대신 톤 화상 전에 중간 전사 부재(96)상에 계량 롤러(metering roller)로 또는 화상방식으로(미도시) 전사 보조층(94)을 적용하는 것이 가능하다. 이것은 감광요소(2)와 최종수용체(8) 사이에 중간 전사 부재(14)와 접촉하고 있는 카트리지 또는 어플리케이터(미도시)를 추가함으로써 도 5의 장치에 구현될 수 있다. 이러한 경우에, 전사 보조 재료는 상기 화상이 감광체(2)에서 중간 전사 부재(14)로 전사되기 전에 중간 전사 부재(14)에 적용된다. 또한, 이 구현예는 예를 들어 자외선 보호 및 마모 저항과 같은 특징들을 촉진하기 위해 최종 수용체(98)상의 화상(92) 표면에 전사 보조층(94)을 이용한다.
상기 이러한 구현예들은 정전 전사를 이용하는 멀티-패스 전자사진 공정에서 전사 보조층을 이용한 기본 배치를 기재한다. 본 발명에 따라, 전사 보조층은 필요하다면 모든 토너층 사이에 적용될 수 있다. 또한, 멀티 전사 보조층은 적용될 수 있는 바와 같이 특정 전자사진 공정에 적용될 수 있기 때문에 각종 전사 보조층이 다양한 유리한 특성을 화상과 공정에 제공할 수 있다.
본 발명에 대한 각종 도면은 토너 패치(patch) 또는 토너층과 거의 같은 면적을 덮는 전사 보조층을 보여준다. 이것은 단지 예시적인 목적만을 위한 것으로, 단일 화상 공정내에서도 실제 적용에서는 각종 두께와 적용 면적의 토너층 및 전사 보조층이 포함될 수 있다. 예를 들어, 도 8은 최종 수용체(미도시)와 접촉할 전사 보조층(106)으로 부착 또는 일반적으로 덮인 감광체(104)를 보여준다. 이러한 전사 보조층은 예를 들어 어떤 토너 화상의 적용 전에 전체 드럼 또는 감광체가 전사 보조 재료로 코팅되는 "플러드 코팅(flood coating)"으로 적용될 수 있다. 이것은 만 일 전사 보조층(106)이 보호 코팅으로 작용하는 것과 같이 인쇄된 화상의 표면에서 끝나는 경우에 특히 유용할 수 있다. 상기 토너는 그 후에 방전된 토너 화상 영역(102)에서 전사 보조층(106)의 상부에 화상 방식으로 적용될 수 있다. 그런 다음, 화상 영역(102)의 토너 및 전사 보조층(106) 모두가 최종 화상 수용체(미도시)에 전사될 수 있다.
몇몇 경우에, 전사 보조 재료를 배경 영역에 적용하는 것은 낭비일 수 있다. 도 9a에서 보여지듯이, 전사 보조 재료는 화상 방식으로 감광체(120)에 적용될 수 있으며 전사 보조 입자는 이후에 토너 입자들이 부착될 영역에 해당하는 방전된 화상 영역(122)상에만 부착되며 이러한 화상 영역(122)을 둘러싸는 영역에는 어떠한 전사 보조 재료도 적용되지 않을 것이다. 대전된 토너 입자로 이루어진 토너 화상(124)은 그 후에 도 9b에 도시된 대로 전사 보조층(122)위에 형성될 것이다. 이러한 방식으로 전사 재료상에 토너 입자들의 실질적인 중첩이 있을 것이다. 이러한 타입의 시스템은 전사 보조층 또는 재료의 주목적이 감광체 또는 중간 전사 부재로부터의 이형성을 제공하는 곳에서 가장 필요할 것이다.
본 발명은 이제까지 상기 발명의 몇가지 구현예를 참조하여 기재되었다. 여기에 동정된 모든 특허 또는 특허 출원의 전체 명세서는 인용에 의해 여기에 통합된다. 상기 상세한 설명 및 실시예들은 단지 명확한 이해를 위해 주어졌다. 그로 인한 불필요한 제한은 없어야 할 것이다. 당해 기술분야의 전문가들에게 본 발명의 범위를 벗어남이 없이 기재된 구현예에 많은 변화가 이루어질 수 있음은 명백하다. 따라서, 본 발명의 범위는 여기에 기재된 구조들에 한정되어서는 아니되며, 특허청 구범위의 언어에 의해 기재된 구조들 및 그러한 구조와 동등한 구조들에 의해서만 한정되어야 한다.
상기한 바와 같이 본 발명에 따르면, 전사 보조 재료 층을 이용하여 습식 토너 전사 공정을 향상시키고 습식 토너 입자를 더욱 완벽하게 전사하여, 최종 화상 수용체상에 낮은 가격으로 고화질의 내구성 있는 멀티 칼라 화상을 만드는 것이 가능하다.
Claims (130)
- 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:소정의 공정 사이클을 구비한 감광 요소를 제공하는 단계;대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 감광 요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 감광 요소 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 상기 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (c) 단계들을 실행하는 단계;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을 갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계; 및(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 제 1 잠상을현상하고 톤 화상을 형성하는 단계;대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;상기 감광 요소 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로에 상대적인 공정위치로 이동시키고, 상기 감광 요소상에 복합 화상층을 형성하기 위해 상기 감광 요소의 공정 사이클 동안 상기 전사 보조 재료를 상기 톤 화상의 적어도 일부에 적용하는 단계; 및상기 감광 요소에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상에 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 (a) 내지 (c) 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (c) 단계의 각 순서가 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 상기 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 상기 대전된 입자들이 1미크론 보다 큰 부피 평균 입경을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너(non-pigmented liquid toner)인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 화상층의 상기 최종 화상 수용체로의 접착을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 -10℃에서 약 35℃사이의 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료 현상 유닛이 상기 감광 요소에 상대적인 공정위치에 있을 때 상기 전사 보조 재료를 상기 톤 화상의 적어도 일부에 적용하는 상기 단계는 실질적으로 일정한 정전 포텐셜을 상기 감광체상의 상기 톤 화상의 표면에 가하는 단계, 상기 감광 요소상에서 상기 톤 화상 표면의 적어도 일부를 화상 방식으로 선택적으로 광방전하여 잠상을 형성하는 단계, 및 상기 감광 요소의 적어도 방전된 영역상에 상기 전사 보조 재료를 선택적으로 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:소정의 공정 사이클을 구비한 감광 요소를 제공하는 단계;대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;상기 감광 요소 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로에 상대적인 공정위치로 이동시키고, 상기 감광 요소의 공정 사이클 동안 상기 감광요소 표면의 적어도 일부에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 단계대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 감광 요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 감광 요소 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 상기 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (c) 단계들을 실행하는 단계;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계; 및(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 제 1 잠상을 현상하고 전사 보조 재료의 적어도 일부상에 톤 화상을 형성하는 단계,여기서, 상기 감광 요소상의 상기 전사 보조 재료 및 상기 톤 화상이 상기 감광 요소에 의해 완성되는 멀티 공정 사이클 동안 형성된 복합 화상층을 형성하는 단계;상기 감광 요소에서 최종 화상 수용체로 상기 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 상기 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 18항에 있어서, 상기 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상의 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, (a) 내지 (c)의 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (c) 단계의 각 순서가 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 상기 대전된 입자들이 1미크론 보다 큰 부피 평균 입경을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 상기 대전된 입자들이 표면 이형성을 나타내는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료를 상기 감광 요소에 적용하는 상기 단계는 실질적으로 일정한 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는 단계, 상기 감광 요소 표면의 적어도 일부를 화상 방식으로 선택적으로 광방전하여 잠상을 형성하는 단계, 및 상기 전사 보조 재료를 상기 감광 요소의 적어도 방전된 영역상에 선택적으로 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 18항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:소정의 공정 사이클을 구비한 감광 요소를 제공하는 단계;대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 감광 요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 감광 요소 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 상기 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (c) 단계들을 실행하는 단계;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계; 및(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 제 1 잠상을현상하고 톤 화상을 형성하는 단계;대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;상기 감광 요소 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로에 상대적인 공정위치로 이동시키고, 상기 감광 요소상에 복합 화상층을 형성하기 위해 상기 감광 요소의 공정 사이클 동안 적어도 일부의 상기 톤 화상에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 단계;상기 복합 화상을 상기 감광 요소에서 중간 전사 부재로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 구비한 상기 중간 전사 부재와 접촉시키는 단계; 및상기 중간 전사 부재에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상에 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, (a) 내지 (c)의 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (c) 단계의 각 순서가 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 39 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 상기 대전된 입자들이 표면 이형성을 나타내는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료 현상 유닛이 상기 감광 요소에 상대적인 공정위치에 있을 때 톤 화상의 적어도 일부에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 단계는 실질적으로 일정한 정전 포텐셜을 상기 감광 요소상의 상기 톤 화상 표면에 가하는 단계, 상기 감광 요소상의 상기 톤 화상 표면의 적어도 일부에 화상 방식으로 선택적으로 광방전하여 잠상을 형성하는 단계, 및 상기 감광 요소의 적어도 방전된 영역상에 상기 전사 보조 재료를 선택적으로 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 35항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:소정의 공정 사이클을 구비한 감광 요소를 제공하는 단계;대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;상기 감광 요소 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 감광 요소의 공정 사이클 동안 상기 감광요소 표면의 적어도 일부에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 단계;대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 감광 요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 감광 요소 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 상기 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (c) 단계들을 실행하며;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을 갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계; 및(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 적어도 일부의전사 보조 재료상에 제 1 잠상을 현상하고 톤 화상을 형성하는 단계;상기 감광 요소상의 상기 전사 보조 재료 및 상기 톤 화상이 상기 감광 요소에 의해 완성되는 멀티 공정 사이클 동안 형성된 복합 화상층을 형성하는 것을 특징으로 하는 단계;상기 복합 화상을 상기 감광 요소에서 중간 전사 부재로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 구비한 상기 중간 전사 부재와 접촉시키는 단계; 및상기 중간 전사 부재에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 51항에 있어서, 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상에 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, (a) 내지 (c)의 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (c) 단계의 각 순서가 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 55 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 화상층의 상기 최종 화상 수용체로의 접착을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 -10℃에서 약 35℃사이의 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료를 상기 감광 요소에 적용하는 상기 단계는 실질적으로 일정한 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는 단계, 상기 감광 요소 표면의 적어도 일부를 화상 방식으로 선택적으로 광방전하여 잠상을 형성하는 단계, 및 상기 감광 요소의 적어도 방전된 영역상에 상기 전사 보조 재료를 선택적으로 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:소정의 공정 사이클을 구비한 감광 요소를 제공하는 단계;대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 감광 요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 감광 요소의 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 상기 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (c) 단계들을 실행하는 단계;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을 갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계; 및(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 제 1 잠상을현상하고 톤 화상을 형성하는 단계;상기 톤 화상을 상기 감광 요소에서 중간 전사 부재로 적어도 일부의 톤 화상이 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 구비한 상기 중간 전사 부재와 접촉시키는 단계;대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;상기 중간 전사 부재 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로에 상대적인 공정위치로 이동시키고, 상기 중간 전사 부재상에 복합 화상층을 형성하기 위해 톤 화상의 적어도 일부에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 단계; 및상기 중간 전사 부재에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 67항에 있어서, 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상에 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, (a) 내지 (c)의 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (c) 단계의 각 순서가 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 71 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법
- 제 67 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 51 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 화상층의 상기 최종 화상 수용체로의 접착을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 -10℃에서 약 35℃ 사이의 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료 현상 유닛이 상기 중간 전사 부재에 상대적인 공정위치에 있을 때 톤 화상의 적어도 일부에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 상기 단계는 정전 바이어스 포텐셜을 상기 중간 전사 부재에 적용하는 단계 및 대전된 전사 보조 재료를 중간 전사 부재의 표면에 톤 화상의 적어도 일부 위로 정전기적으로 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 67 항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:소정의 공정 사이클을 구비한 감광 요소를 제공하는 단계;대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 감광 요소 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 감광 요소의 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 상기 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (c) 단계들을 실행하는 단계;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을 갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계; 및(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 제 1 잠상을현상하고 톤 화상을 형성하는 단계;대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;중간 전사 부재 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로에 상대적인 공정위치로 이동시켜, 상기 톤 화상을 수용하게 될 중간 전사 부재 표면의 적어도 일부에 전사 보조 재료를 적용하는 단계;톤 화상의 적어도 일부를 감광 요소에서 중간 전사 부재로 전사하여 복합 화상층을 형성할 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 중간 전사 부재를 통해 가하는 동안 상기 톤 화상을 상기 중간 전사 부재와 접촉시켜, 톤 화상의 적어도 일부가 중간 전사 부재상에서 적어도 일부의 전사 보조 재료상에 위치하여, 복합 화상층이 감광 요소에 의해 완성되는 멀티 공정 사이클 동안 형성되는 것을 특징으로 하는 단계; 및상기 중간 전사 부재에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상에 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법
- 제 83 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, (a) 내지 (c)의 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (c) 단계의 각 순서가 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 87 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 상기 대전된 입자들이 표면 이형성을 나타내는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 35℃보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83 항에 있어서, 상기 중간 전사 부재 표면에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 상기 단계는 정전 바이어스 포텐셜을 상기 중간 전사 부재에 적용하는 단계 및 상기 대전된 전사 보조 재료를 상기 중간 전사 부재에 정전기적으로 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 83항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 중간 전사 부재를 구비한 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:감광 요소 및 대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 중간 전사 부재 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 중간 전사 부재의 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (d) 단계들을 실행하는 단계;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을 갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계;(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 제 1 잠상을현상하고 톤 화상을 형성하는 단계; 및(d) 상기 감광 요소에서 상기 중간 전사 부재로 적어도 일부의 톤 화상을 전사할 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 가하여 상기 감광 요소상의 톤 화상의 적어도 일부를 상기 중간 전사 부재로 전사하는 단계;대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;중간 전사 부재 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나를 서로에 상대적인 공정위치로 이동시키고, 상기 중간 전사 부재상에 복합 화상을 형성하기 위해 상기 중간 전사 부재의 공정 사이클 동안 상기 톤 화상의 적어도 일부에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 단계; 및상기 중간 전사 부재에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 99항에 있어서, 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상에 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, (a) 내지 (d)의 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (d) 단계들이 각각의 순서대로 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 103 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃ 보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 화상층의 상기 최종 화상 수용체로의 접착을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 -10℃에서 약 35℃ 사이의 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료 현상 유닛이 상기 감광 요소에 상대적인 공정위치에 있을 때 상기 중간 전사 부재상의 상기 톤 화상의 적어도 일부에 상기 전사 보조 재료를 적용하는 단계는 정전 바이어스 포텐셜을 상기 중간 전사 부재에 가하는 단계 및 중간 전사 부재의 표면상에 톤 화상의 적어도 일부 위로 대전된 전사 보조 재료를 정전기적으로 부착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 99 항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 중간 전사 부재를 구비한 멀티 패스 전자사진 시스템에서 화상 데이터로부터 최종 화상 수용체상에 화상을 형성하는 방법으로서:대전된 입자들을 포함한 습식 전사 보조 재료를 포함하는 전사 보조 재료 현상 유닛을 제공하는 단계;중간 전사 부재 및 상기 전사 보조 재료 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 전사 보조 재료를 상기 중간 전사 부재의 적어도 일부에 적용하는 단계;감광 요소 및 대전된 토너 입자를 포함하는 적어도 하나의 현상 유닛을 제공하는 단계로서, 상기 중간 전사 부재 및 각각의 현상 유닛 중 적어도 하나가 서로에 상대적인 공정위치로 이동하여 상기 중간 전사 부재의 각각의 완전한 공정 사이클 동안 각각의 현상 유닛에 대해 이하의 (a) 내지 (d) 단계들을 실행하는 단계;(a) 실질적으로 일정한 제 1 정전 포텐셜을 상기 감광 요소의 표면에 가하는단계;(b) 상기 감광 요소의 표면의 일부를 화상방식으로 선택적으로 광방전시켜감광 요소 표면상에 제 1 정전 포텐셜의 절대값보다 낮은 제 2 정전 포텐셜을 갖는 제 1 잠상을 형성하는 단계;(c) 상기 감광 요소의 표면을 대전된 토너 입자에 노출시켜, 대전된 토너 입자가 감광 요소 표면의 방전된 부분상에 선택적으로 부착하여 제 1 잠상을현상하고 톤 화상을 형성하는 단계; 및(d) 상기 감광 요소에서 상기 중간 전사 부재로 톤 화상의 적어도 일부를 전사할 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 가하여 상기 감광 요소상에서 톤 화상의 적어도 일부를 상기 중간 전사 부재에 전사하는 단계;상기 전사 부재 및 적어도 하나의 톤 화상이 중간 전사 부재의 멀티 공정 사이클에서 중간 전사 부재상에 복합 화상층을 형성하는 것을 특징으로 하는 단계; 및,상기 중간 전사 부재에서 최종 화상 수용체로 복합 화상층의 적어도 일부가 전사될 정도로 충분히 강한 정전 바이어스 포텐셜을 최종 화상 수용체를 통해 가하는 동안 상기 복합 화상층을 상기 최종 화상 수용체와 접촉시키는 단계를 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 115항에 있어서, 복합 화상층의 적어도 일부를 전사하기 위해 최종 화상 수용체를 통해 가해지는 상기 정전 바이어스 포텐셜이 상기 감광 요소상에 상기 복합 화상을 형성하는 대전된 입자들의 극성과 반대되는 극성을 갖는것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 전사된 복합 화상층의 적어도 일부를 상기 최종 화상 수용체상에 정착시키는 단계를 더 포함하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, (a) 내지 (d)의 단계들이 적어도 두개의 현상 유닛들에 의해 순차적으로 반복되며, 상기 감광 요소의 개별적인 공정 사이클 동안 상기 (a) 내지 (d) 단계들이 각각의 순서대로 실행되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 감광 요소가 회전 가능한 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 119 항에 있어서, 상기 감광 요소가 감광 드럼인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 캐리어 액체에 분산된 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 약 35℃ 보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 대전된 토너 입자들이 감광 요소와 동일한 극성을 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 비착색된 습식 토너인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 화상층의 상기 최종 화상 수용체로의 접착을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료는 상기 최종 수용체상의 상기 화상층의 내구성을 향상시키기 위한 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료의 대전된 입자들이 약 35℃ 보다 큰 유리 전이 온도를 가지는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 최종 화상 수용체가 종이인 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 전사 보조 재료를 상기 중간 전사 부재의 표면에 적용하는 상기 단계는 정전 바이어스 포텐셜을 중간 전사 부재에 적용하는 단계, 및 상기 대전된 전사 보조 재료를 정전기적으로 바이어스된 중간 전사 부재에 정전기적으로 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
- 제 115 항에 있어서, 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 광방전하는 상기 (c) 단계는 자외선, 가시광선 및 적외선으로 이루어진 그룹에서 선택된 화학광선(actinic radiation)에 상기 감광 요소 표면의 일부를 선택적으로 노출시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 방법.
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