KR100640035B1 - 경계 추출 방법, 프로그램 및 이것을 이용한 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 배경측 화상이 불안정하거나, 배경과 원고의 재질이 유사하여도, 원고의 에지를 높은 정밀도로 검출할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 에지 검출 방법은 화상을 형성하는 모든 탐색행에 대하여, 화상의 끝으로부터 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하고, 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 모든 탐색행에 대하여, 화상의 중앙 부근에서 화상의 끝으로 탐색함으로써, 에지편을 검출한다. 이들의 에지편으로부터 직선 에지를 결정한다. 모든 탐색행에 대한 에지편으로부터 복수의 에지 후보를 구하여, 그 중에 최적의 후보를 선택한다. 화상에 있어서 원고로부터 괘선을 추출하고, 이 괘선과의 비교에 기초하여 최적의 후보를 선택한다.

Description

경계 추출 방법, 프로그램 및 이것을 이용한 장치{BOUNDARY EXTRACTING METHOD, PROGRAM, AND DEVICE USING THE SAME}

도 1은 본 발명에 의해 취득 화상으로부터 원고의 1 에지를 검출하는 동작을 도시하는 흐름도이다.

도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 의한 화상 처리 장치의 구성을 도시하는 도면이다.

도 3은 본 발명에 의해 경계 추출을 행하는 화상의 예를 도시하는 도면이다.

도 4는 도 1의 단계 100의 처리예를 상세히 도시하는 흐름도이다.

도 5는 도 1의 인자 영역 제외 처리에 의해 인자 영역이 제외되는 모습을 도시하는 도면이다.

도 6은 도 1의 단계 104에 있어서의 특징 강조 처리의 예를 상세히 도시하는 흐름도이다.

도 7은 도 6의 특징 강조 처리에 의해 샘플 화상에 대하여 행한 2 DFFT의 결과를 도시하는 데이터 표이다.

도 8은 도 1의 단계 106에 있어서 에지 후보의 에지편을 구하는 처리의 예를 상세히 도시하는 흐름도이다.

도 9는 도 8의 임시 에지 결정 처리(단계 106)의 결과로 얻어진 에지편의 예 를 도시하는 도면이다.

도 10은 도 1의 복수의 에지 후보 추출 처리(단계 108)의 예를 상세히 도시하는 흐름도이다.

도 11은 단계 110에 있어서 복수의 임시 에지 후보로부터 괘선에 가장 평행한 것을 선택하는 방법을 예시하는 도면으로서, (a)는 흐름도, (b)는 비교한 모습을 도시하는 도면이다.

도 12는 도 1의 에지 결정 처리(단계 112)의 예를 상세히 도시하는 흐름도이다.

도 13은 도 15의 단계 120이 처리 대상지로 하는 화소 영역을 도시하는 도면이다.

도 14는 도 1에 도시한 본 발명의 에지 검출 원리에 의해 원고를 추출하는 동작을 도시하는 흐름도이다.

도 15는 도 18에 있어서, 원고 4개의 에지를 검출할 때의 2 가지의 탐색 방법을 도시하는 도면이다.

도 16은 본 발명의 경계 추출 프로그램을 컴퓨터에 로딩하여 실행하는 실시예를 도시하는 대략 블록도이다.

도 17은 본 발명의 경계 추출 프로그램을 컴퓨터에 로딩하여 실행하는 제2 실시예를 도시하는 대략 블록도이다.

도 18은 본 발명에 의한 경계 추출 프로그램을 이용한 화상 취급 시스템의 동작예를 도시하는 흐름도이다.

도 19는 본 발명에 의한 경계 추출 프로그램을 이용한 제2 화상 취급 시스템의 동작예를 도시하는 흐름도이다.

도 20은 본 발명의 경계 추출 프로그램에 의해 취득 화상으로부터 원고를 추출하고, 문자 인식을 행하는 시스템의 동작예를 도시하는 흐름도이다.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉

1: 화상 처리 장치

10: 원고 커버

12: 화상 처리 장치 본체

14: 스캐너 기구부

16: 화상 인쇄 기구부

20: 전자 장치부

22: 제어부

24: 입력 인터페이스

26: 2차 기억 장치

32: 오퍼레이팅 시스템

34: 스캐너 드라이버

36: 본 발명의 경계 추출 프로그램

38: 여러 가지의 프로그램

40: 스캐너

42: 컴퓨터

44: 파일링 컴퓨터

본 발명은 대체로 화상 처리 장치에 관한 것으로, 더 상세하게는 화상 처리장치에 있어서 스캐닝한 배경을 포함하는 화상으로부터 용지 부분을 추출하는 기술에 관한 것이다.

예컨대, 종이 등으로 만들어진 원고을 판독할 수 있는 장치로서, 스캐너, 복사기, 팩시밀리 등의 화상 처리 장치가 잘 알려져 있다. 이러한 화상 처리 장치에 있어서 원고 화상의 판독은 일반적으로, 화상 판독 장치의 판독면을 향하여 원고의 표면(판독 대상면)이 세트되어, 그 원고의 배면으로부터 원고를 덮는 원고 커버가 씌워진 상태에서 판독이 행하여진다. 그리고, 화상 판독할 때, 세트된 원고표면을 향하여 판독면측으로부터 광을 조사하고, 반사광을 판독면 측에 구성된 광 판독부(CCD)에서 판독한다. 원고의 크기가 판독면보다도 작을 경우에는 판독면측으로부터 본 원고의 주위에 원고 커버(이후, 배경으로 약칭함)도 나타나게 되어, 화상 판독시에는 원고의 표면에 더해져 이 배경도 판독되어지므로, 당연, 취득되는 화상 데이터는 원고 주위에 배경이 찍히게 되는 것이다.

그래서, 발명자들은 화상을 스캐닝하는 시점에서는, 특별한 고안을 필요로 하지 않고, 스캐닝한 후의 화상 처리만으로 배경과 원고의 재질의 차이를 이용하여 원고의 에지를 검출하는 기술을 개시했다(특허 문헌 1).

그러나, 배경과 원고의 재질이 유사한 경우나 플랫 헤드형 스캐너로 판독한 화상과 같이 배경측의 화상이 불안정한 경우 등은 에지 검출 정밀도가 떨어지는 문제가 있었다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 2002-370596호 공보(도 2)

본 발명은 배경측 화상이 불안정하거나, 배경과 원고의 재질이 유사하여도 원고의 에지를 높은 정밀도로 검출할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위하여, 원고를 스캐너로 스캐닝하여 얻은 화상에 있어서 재질의 차이를 이용하여 원고의 경계를 구성하는 하나의 에지를 검출하는 방법을 제공한다. 본 방법은 화상을 다하는 모든 탐색행에 대하여, 화상의 끝으로부터 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하는 단계와, 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 모든 탐색행에 대하여, 화상의 중앙 부근으로부터 화상의 끝으로 탐색함으로써, 에지편을 검출하는 단계와, 모든 탐색행에 대한 에지편으로부터 직선 에지를 결정하는 에지 결정 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

에지 결정 단계는 바람직하게는, 모든 탐색행에 대한 에지편으로부터 복수의 에지 후보를 구하는 후보 결정 단계와 복수의 에지 후보로부터 최적의 후보를 선택하는 선택 단계로 이루어진다.

선택 단계는 괘선의 비교에 기초하여 최적의 후보를 선택하는 단계로 구성하여도 좋다.

본 발명은 다른 면에서는, 프로그램을 저장하는 기억 매체와 프로그램의 제어 아래에서 동작하는 CPU(중앙 정보 처리 장치)를 구비한 장치에 있어서, 기억 매체에 저장되어 CPU에 실행되고, 원고를 스캐너로 스캐닝하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 구성하는 하나의 에지를 검출하는 경계 검출 프로그램을 제공한다. 본 프로그램은 화상을 다하는 모든 탐색행에 대하여, 화상의 끝으로부터 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하는 단계와 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 모든 탐색행에 대하여 화상의 중앙 부근으로부터 화상의 끝으로 탐색함으로써, 에지편을 검출하는 단계와 모든 탐색행에 대한 에지편으로부터 직선 에지를 결정하는 에지 결정 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명에 의하면, 전술한 방법을 이용하여 원고를 스캐너로 스캐닝하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 추출하는 기능을 갖는 장치를 얻을 수 있다.

이하, 본 발명의 실시 형태와 첨부 도면에 의하여 본 발명을 상세히 설명한다. 또, 복수의 도면에 동일한 요소를 나타내는 경우에는 동일한 참조 부호를 붙인다.

〔제1의 실시 형태〕

도 2는 본 발명의 일실시 형태에 의하여, 스캐닝한 화상으로부터 원고 부분을 추출하여 사용하는 화상 처리 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도 2에 있어서, 화상 처리 장치(1)는, 본체(12)와 본체의 상면에 있었던 원고를 덮기 위한 원고 커 버(10)로 이루어진다. 본체(12)는 본체(12)의 상면에 놓여진 원고를 판독하는 스캐너의 기계 부분인 스캐너 기구부(14), 화상 인쇄 장치의 기계 부분인 화상 인쇄 기구부(16)와 스캐너 기구부(14, 16)의 협조로 원하는 기능을 다하는 전자 장치부(20)로부터 구성된다. 전자 장치부(20)는 주지와 같이 도시하지 않는 CPU(중앙 정보 처리 장치), ROM(read only memory), RAM(random access memory)등으로 이루어지는 제어부(22), 여러 가지의 프로그램 및 데이터를 저장하는 2차 기억 장치(26) 및 스캐너 기구부(14)와 화상 인쇄 기구부(16)의 인터페이스를 제공하는 입출력 인터페이스(24)로 구성된다. 2차 기억 장치(26)는 오퍼레이팅 시스템(OS)(32), 스캐너 기능부와 협조하여 화상을 스캐닝하는 스캐너 드라이버(34), 스캐너로 스캐닝한 화상으로부터 에지를 검출하는 경계 추출 프로그램(36) 및 화상 처리 장치(1)의 기능을 실현하기 위한 여러 가지의 프로그램(38)을 저장하고 있다. 도 2의 화상처리 장치(1)는 스캐너로부터 스캐닝한 화상에 포함되는 원고 부분을 추출하여 처리하는 장치라면, 무엇이어도 좋고, 예컨대, 복사기, 팩시밀리, OCR 장치, 자동 전표 처리 장치 등이 있다.

원고를 화상 처리 장치(1) 본체의 소정의 위치에 두고 불러들인 후, 경계 추출 프로그램(36)을 호출하여 실행하고, 판독한 화상으로부터 원고 영역을 추출한다. 즉, 원고의 좌우 상하의 에지를 검출한다. 좌우 상하의 에지는 각각 동일한 절차로 검출할 수 있기 때문에, 우선 하나의 에지, 예컨대, 좌측 에지의 검출에 관하여 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 경계 추출 프로그램(36)의 제어 아래 에서 제어부(22)가 스캐닝하는 화상으로부터 원고의 1 에지를 검출하는 동작을 도시하는 흐름도이다. 도 1의 대부분은 이미 설명한 본 출원인에 의한 특허 출원 제2000-370596호 공보(특허 문헌 1)에 개시하고 있지만, 도 1에 있어서 본 발명의 원리에 관계하는 동작 단계는 굵은 선으로 도시했다. 따라서, 공개를 마친 내용은 상세한 설명을 생략한다.

도 3은 경계 추출 프로그램(36)에서 용지(또는 원고)의 경계를 추출하려고 하는 화상의 일부를 도시한 도면이다. 도 3에 있어서, 수직 방향의 파선이 원고의 좌측 에지이고, 좌측 에지의 우측 부분이 원고이며, 좌측 에지의 좌측 세로로 긴 영역이 원고 커버이다. 원고에는 가로의 괘선과 세로의 괘선이 포함되어 있다. 이하, 이러한 화상에 있어서, 원고의 에지를 검출하는 동작을 설명한다.

경계 추출 프로그램(36)이 호출되면, 우선 단계 100에 있어서, 원고의 인자 영역을 검출하고, 이 인자 영역을 단계 104 이하의 처리에 있어서 처리 대상으로부터 제외한다. 구체적으로는, 예컨대, 도 4에 도시한 바와 같은 인자 영역 제외 처리에 의하여, RGB 계조치에서 200 이하의 화소 영역을 특정 및 기억하고, 단계 104 이하의 탐색 대상에서 제외한다. 도 5에, 원래의 화상으로부터 인자 영역을 제외한 모습을 도시한다. 인자 영역 제외 처리는 도 4의 흐름도에 따라 행하여도 좋지만, 이것에 한하지 않고, 다른 적절한 방법으로 행하여도 좋다. 도 4의 상세한 설명은 후술한다.

본 발명에 의하면, 단계 102에 있어서, 단계 100에서 검출한 인자 영역을 주지의 방법에 의해 탐색하고 세로 및 가로의 괘선을 추출한다. 후에, 여기서 검출한 괘선을 이용하여 임시 에지의 결정을 행한다 (후술의 단계 110).

다음에, 단계 104에 있어서, 탐색 영역에 설정한 각 블록에 대하여, 2 DFFT( 2차원 고속 푸리에 변환)에 의해 스펙트럼을 구하고, 구한 스펙트럼의 고주파 성분, 저주파 성분 및 직류 성분 각각의 평균치를 구하여, 스펙트럼의 반치폭을 주파수 분포로 하고, 구한 고주파 성분 평균치, 저주파 성분 평균치, 직류 성분평균치 및 주파수 분포를 특징량으로 함으로써, 특징 강조를 행한다. 이 특징 강조는 예컨대, 도 6의 특징 강조 처리에 의해 행하여도 좋지만, 이것에 한하지 않고, 다른 적절한 방법으로 행하여도 좋다. 도 6의 상세한 설명은 후술한다. 도 7은, 도 6의 특징 강조 처리에 의해 샘플 화상에 대하여 행한 2DFFT(2 차원 고속 푸리에 변환)의 결과를 도시하는 데이터 표이다.

다음에, 단계 S106에 있어서, 단계 104에서 구한 특징량을 이용하여 에지를 구하고, 이것을 임시 에지로 한다. 이 임시 에지 결정 단계 S106은 에지 후보 결정 단계 106, 복수 에지 후보 추출 단계 108 및 임시 에지 선택 단계 110으로 이루어진다.

구체적으로는, 단계 106에 있어서, 단계 104에서 구한 특징량을 이용하여 에지 후보 결정 처리를 행한다. 우선, 단계 210에 있어서, 탐색 방향을 끝에서부터 인자 영역의 시작까지로 하고, 개시 블록을 설정한다. 단계 220에 있어서, 도 9에 도시한 바와 같이 모든 행에 대하여, 블록마다 특징량을 이용하여 탐색 방향으로 탐색하여 에지편을 구한다. 또, 탐색 처리에 의해 검출되는 탐색 블록의 길이에 해당하는 에지 상당 부분을 에지편이라 칭한다. 그리고, 판단 단계 250에 있어서, 에 지편이 발견되지 않았던 탐색행이 존재하는지 여부를 판단한다. 에지편이 검출되지 않은 행이 있을 경우, 단계 260에 있어서, 탐색 방향을 인자 영역으로부터 끝(이 예에서는, 좌측 에지의 검출을 예로 들고 있기 때문에, 좌단)에 설정하고, 개시 블록을 설정한 후, 단계 220으로 되돌아가고, 모든 탐색행에 대하여 인자 영역의 좌단으로부터 좌측으로 향하여 탐사를 행하여 에지편을 검출한다. 또, 이 경우, 중앙으로부터 좌측으로 향하여 탐색하여도 좋지만, 인자 영역을 제외하고 탐색하는 쪽이 효율적이다. 또, 단계 106에 대해서는 일 실시예를 후술한다.

본 발명에 의하면, 단계 108에 있어서, 단계 106에서 구한 에지 후보의 에지편으로부터 복수의 에지 후보를 추출한다. 이 상세한 처리예를 도 10에 도시한다. 도 10에 있어서, 우선, 단계 460에 있어서, 단계 106에서 구한 에지편의 열 전체에 대하여 직선 근사를 행하여 첫 번째 에지 후보로 한다. 단계 462에 있어서, 각 블록 사이의 x축 차분 Δx를 구한다. 여기서, 「각 블록 사이의 x축 차분 Δx」란, 인접하는 에지편의 탐색 방향의 위치 차이이다. 현재의 예에서는, 탐색 방향이 수평이기 때문에 인접하는 에지편의 수평축(즉, x축) 방향의 위치(즉, x 좌표)의 차이다. 단계 464에 있어서, x축 차분 Δx의 절대치의 평균을 구한다. 단계 466에 있어서, x축 차분 Ax의 절대치가 평균을 넘는 블록을 제외한 블록군(임시로,「중앙을 따른 블록군」이라고 칭함), 즉, 단계 106에서 구한 에지편 열의 비교적 중앙을 따른 에지편의 집합을 구한다. 여기서, 단계 468에 있어서, 임계치를 0이라고 한다.

다음에, 단계 470에 있어서, x축 차분 Δx가 플러스의 임계치내에 있는 블록군(즉, 우측 근처의 에지편의 집합)의 중앙을 따라 블록군에 더한 블록군(임시로, 「중앙 우측 근처 블록군」이라고 칭함)을 구한다. 단계 472에 있어서, x축 차분 Δx가 마이너스의 임계치 내에 있는 블록군(즉, 왼쪽 근처의 에지편의 집합) 중앙을 따라 블록군을 더한 블록군(임시로,「중앙 우측 근처 블록군」이라고 칭함)을 구한다.

그리고, 판단 단계 474에 있어서, 임계치가 x축 차분 Δx가 최대의 블록에 도달했는지 여부를 판단한다. 도달하고 있지 않으면, 현재의 임계치에 소정의 임계치 증분 α를 더하여, 단계 470으로 되돌아가고, 단계 470∼476을 반복한다. 판단 단계 474에 있어서, x축 차분 Δx가 최대의 블록에 도달했을 경우, 단계 478에 있어서, 이상 구한 각 블록군의 직선 근사를 행하여, 에지 후보로 한다. 이와 같이 하여 복수의 에지 후보를 구할 수 있다. 임계치 증분 α를 적당한 크기로 설정함으로써, 구하는 에지 후보의 수를 조절할 수 있다.

이와 같이 하여, 복수의 에지 후보를 추출한 후, 단계 110에 있어서, 단계108에서 구한 에지 후보 중에서, 단계 102에서 구한 괘선과 가장 평행한 것을 임시 에지로 한다. 즉, 현재 검출중인 에지의 방향과 같은 방향의 괘선(이 예에서는 좌측 에지의 검출이므로 세로 방향의 괘선)과 가장 평행한 에지 후보를 임시 에지로 한다. 현재 검출 중인 에지가 상하 수평인 에지일 경우, 가로 방향의 괘선과 가장 평행한 에지 후보를 임시 에지로 한다. 도 11은 단계 110에 있어서, 복수의 에지 후보로부터 괘선에 가장 평행한 것을 선택하는 방법을 예시하는 도면이다. 도 11(a)에 있어서, 우선, 괘선의 일단을 통하는 횡축이 각 에지 후보와 교차하는 점의 x 좌표와 상기 일단의 x 좌표의 차이를 ΔT로 하고, 괘선의 타단을 통하는 횡축이 전술한 에지 후보와 교차하는 점의 x 좌표와 상기 타단의 x 좌표의 차이를 ΔB로 한다. 다음에, 도 11(b)의 흐름도를 참조하여 동작을 설명한다. 단계 482에 있어서, 괘선 상단과 각 에지 후보의 수평 방향의 차이 ΔT 및 괘선 하단과 각 에지 후보의 수평 방향의 차이 ΔB를 구한다. 단계 484에 있어서, ΔT와 ΔB의 차이가 최소의 에지 후보를 선택하고, 임시 에지로 한다. 도 11(a)의 예에서는 에지 후보 2 쪽이 ΔT와 ΔB의 차이가 작기 때문에 선택된다.

또, 단계 110에서 선택한 에지를 최종적인 에지로 하고, 에지 검출 처리를 종료하여도 좋지만, 이 실시 형태에서는 에지 검출 정밀도를 높이기 위해서, 여기서 구한 에지를 임시 에지로 하고, 다음 단계에 있어서, 이 임시 에지의 근방에서 또, 고 정밀도의(처리 블록을 보다 작게 했음) 에지 검출을 행하여, 정확한 에지 위치를 집광한다.

즉, 단계 112에 있어서, 단계 110에서 구한 임시 에지를 기초로 최종적인 에지를 결정한다. 단계 112의 상세한 것은 도 12에 도시한다. 단계 120에 있어서, 도 13에 도시한 바와 같이 단계 110에서 구한 임시 에지의 좌우 각각 16 화소의 폭에 걸쳐 세로 32 화소 x 가로 1 화소의 블록에서 특징을 추출하고, 그 특징에 기초한 피크 위치를 에지편으로 한다. 단계 122에 있어서, 구한 에지편에 직선 근사를 행하여 직선을 얻는다. 또, 단계 124의 로버스트 보정에 있어서, 단계 122에서 구한 직선을 기준으로 단계 120에서 구한 에지편의 집합으로부터 에지라고 판단하는 것에는 어울리지 않은 에지(단계 122에서 구한 직선으로부터 너무 떨어져 있는 에지)를 제외한 에지의 집합에 직선 근사를 행하여, 최종적인 에지를 구한다. 단계 120 의 상세한 것은 후술한다.

이와 같이, 도 1의 실시 형태에서는, 단계 106에서 세로 32 화소 x 가로 4 화소의 큰 블록으로 탐색함으로써 에지 후보를 결정하고, 또 단계(112)에 있어서, 임시 결정된 에지의 근방을 세로 32 화소 x 가로 1 화소의 작은 블록으로 탐색함으로써 정밀도를 높여 에지를 구하고 있다. 그러나, 본 발명은, 이와 같이 반드시 블록 사이즈를 바꿔 2단계로 에지를 검출하는 방법에만 적응할 수 있는 것이 아니고, 후반의 작은 블록마다의 탐색에 의한 에지 검출은 생략할 수 있다. 예컨대, 단계 112를 생략하고, 단계 110 뒤에 도 1의 에지 검출 처리를 종료하여도 좋다.

이상을 요약하면, 본 발명의 원리는 (1) 스캐닝한 화상의 끝에서 각 탐색행을 탐색하고, 재질의 차이를 이용하여 에지편을 발견할 수 없는 행이 있을 경우, 중앙 부근(바람직하게는, 인자 영역의 끝)에서 반대로 끝을 향해 탐색하여 에지편을 검출하는 것 및 (2) 구한 에지편의 열로부터 복수의 직선 에지 후보를 결정하고, 이들의 에지 후보를 미리 추출해 둔 괘선과 가장 평행한 후보를 에지로서 선택하는 것이다. 이상의 실시 형태에서는 단계 104, S106에 있어서 큰 블록에 의해(비교적 낮은 정밀도로) 임시 에지를 구하고, 단계 112에 있어서, 임시 에지의 근방에서 작은 블록으로(정밀도를 높여서) 최종적인 에지를 구했다. 그러나, 본 발명은 이와 같이 2 단계에 에지를 구하는 방법에 한하지 않고, 스캐닝한 화상의 끝에서 각 탐색행을 탐색하여 에지를 구하는 에지 검출 방법이라면, 어떠한 에지 검출 방법에도 적용할 수 있다. 따라서, 단계 100, 104, 220, 112은 각각의 목적을 이룰 수 있는 한 같은 어떠한 방법으로 실현하는 것이어도 좋다. 전술된 바와 같이 단계 112는 생략 가능하다.

여기서, 단계 100, 104, 106 및 112의 실시예를 상세히 설명하지만, 이들의 단계는 그 목적을 이룰 수 있다면, 이하의 실시예에 한하지 않고, 어떠한 형태로 실현하여도 좋다.

<인자 영역 제외>

도 4의 동작 흐름에 있어서, 우선, 도 3의 프레임이 달린 원고 화상 A의, 화상 평면상에 있어서 최초의 판독 대상으로 하는 개시 라인의 위치를 도 3에 도시하는 화상 A의 상단 위치에 설정한다(S300). 그리고, 설정한 라인의 도 3의 좌단에 위치하는 화소를 판독 대상으로서 설정한다(S302). 여기서, 상기 설정한 화소의 RGB 계조치를 판독하고, 본 예에 있어서 미리 정한 인자 영역으로서 제외하는 기준이 되는 RGB 계조치 200을 넘지 않는 것이 있는지 여부를 판정한다(S304). 이 판정의 기준이 되는 RGB 계조치는 원고에 따라 적절하게 설정하여도 좋다. 단계 S304에 있어서, 판독한 화소의 RGB 계조치가 200을 넘고 있는 경우는, 그 화소는 인자 영역이 아니라고 판정하고, 동일 라인상의 우측 옆에 위치하는 화소를 다음 판독 대상으로서 설정한다(S306). 또한, 단계 S304에 있어서, 판독한 화소의 RGB 계조치가 200 이하이었던 경우는, 이 영역에 인자 영역이 있는 것으로 임시 설정하고, 계속되는 단계 S308의 노이즈 판정 처리로 이행한다. 단계 S308에 있어서는 단계 S304에 있어서 인자 영역이 있는 것으로 임시 설정된 화소에 대하여, 화상 평면상에 있어서의 위치가 연속하고, 인자 영역으로서 임시 설정되어 있는 화소가 존재하는지 여부의 판정을 행한다. 이 단계 S308에 있어서 연속하는 화소가 존재하지 않는다고 판정되면, 단계 S306의 처리로 이행하여, 현재 처리 대상으로 되어 있는 화소의 동일 라인상의 우측 옆에 위치하는 화소를 판독 대상으로서 설정하고, 상기 동일한 단계에서 처리를 실행한다.

이것은, 2 화소가 계속해서 인자 영역으로서 임시 설정되어 있지 않은 것은 인자 영역과 관계없는 먼지 등에 의한 노이즈일 가능성이 높기 때문에, 이 판정의 기준으로 하는 연속 화소 수의 설정은 적절하게 설정할 수 있다. 단계 S308에 있어서 연속하는 화소가 존재한다고 판정되면, 상기 화소를 도 3의 화상 A의 좌단으로부터 최초로 검출된 인자 영역 200으로서 설정한다(S310). 계속해서, 단계 S312에 있어서, 본 라인에서 처리되어 있지 않은 화소가 남아있는지 여부를 판정한다. 이 단계 S312에 있어서 본 라인에서 처리하는 화소가 남아있는지 여부를 판정한다. 이 단계 312에 있어서 본 라인에서 처리하는 화소가 남아있다고 판정되면, 단계 S306의 처리로 이행하여, 나머지 화소에 관해서도 마찬가지로, 전술한 단계에서 처리를 실행한다. 단계 S312에 있어서 본 라인에서 처리하는 화소가 없다고 판정되면, 본 라인이 도 3의 화상 A의 하단까지 이동한 최종 라인인지 여부를 판정한다(S314). 이 단계 S314에 있어서 본 라인이 최종 라인이 아니라고 판정되면, 화상 평면상에 있어서의 본 라인의 바로 아래의 위치에 라인을 설정하고(S316), 이 설정된 라인의 좌단으로부터, 단계 S302 이후에 나타내는 처리를 반복 실행한다. 그리고, 도 3의 화상 A에 있어서 모든 주사가 종료하는 상기 최종 라인까지의 주사가 종료하면, 단계 S314에 있어서 본 라인이 최종 라인이라고 판정되어 본 처리를 종료한다.

<특징 강조>

이 특징 강조 단계 104 및 에지편 검출 단계 220에 있어서는, 화상 A의 탐색영역(인자 영역 제외부)을 큰 화소 블록, 예컨대, 세로 32 화소 ×가로 4 화소의 블록으로 분할하여, 이들의 블록 단위로 처리를 행하는 것으로 한다.

도 6의 동작 흐름에 있어서, 우선, 화상 A의 상부 좌단의 블록을 개시 블록으로서 설정한다(S500). 그리고, 현재의 블록이 도 5의 인자 영역을 포함하고 있는지 여부를, 도 1의 인자 영역 제외 단계 100에 의해 특정된 화소의 도 4의 인자 영역을 도시하는 정보에 기초하여 판정한다(S502). 이 단계 S502에 있어서 현재의 블록에 도 4의 인자 영역이 포함되어 있다고 판정되면, 화상 A에 있어서 현재의 블록의 다음 블록을 처리 대상의 영역으로서 재설정한다(S504). 단계 S 502에 있어서 현재의 블록에 도 4의 인자 영역이 포함되지 않는다고 판정되면, 현재의 블록에 대하여, 블록 단위로, 공지의 2 차원 고속 퓨리에 변환 처리(이하, 2 DFFT로 약기함)를 실행하고, 현재의 블록 스펙트럼을 구한다(S506). 여기서, 현재의 블록에 있어서 구한 스펙트럼의 고주파 성분(본 예에 있어서는, 1/2π≤ω<3/4π로 하거나 또, ω는 주파수를 나타내는 변수임)의 평균치를 구한다(S508).

계속해서, 현재의 블록에 있어서 구한 스펙트럼의, 저주파 성분(본 예에 있어서는, 0<ω<1/2π로 한다)의 평균치를 구한다(S510). 또, 계속하여 현재의 블록에 있어서 구한 스펙트럼의 직류 성분(본 예에 있어서는, ω= 0으로 함)의 평균치를 구한다(S512). 도 7은, 이와 같이 탐색한 세로 32 화소 ×가로 212 화소의 직사각형 영역 내에 있어서, 블록마다 구한 상기 각종 성분의 평균치 실측 데이터의 예이다. 또, 이 실측 데이터에 있어서는 RGB 별로 산출 결과를 나타내는 것으로 하고, RGB 별 각 값의 변동을 이해하기 쉬운 것으로 했다. 동구의 X 좌표는, 도 3의 화상 A의 X축 방향에 대응하고, 도 3의 직사각형 영역의 좌단을 X 좌표의 원점으로서 우측 방향으로 화소 수를 카운트했을 때의 화소 수의 값이 표시되어 있다. 그리고, 도 7에는, 도 3의 직사각형 영역의 좌단으로부터의 화소 수의 위치인 X 좌표로 지정된 위치에 대응시켜, RGB 별 직류 성분(직류 성분 R, 직류 성분 G 및 직류 성분 B)으로 하여 계조치, RGB 별 저주파 성분(저주파 성분 R, 저주파 성분 G 및 저주파성분 B)으로서 스펙트럼 값 및 RGB 별 고주파 성분(고주파 성분 R, 고주파 성분 G, 및 고주파 성분 B)으로 하여 스펙트럼 값이 표시되어 있다. 전술한 단계에서는 3 종류의 성분의 평균치를 구했지만, 또 여기에서는 현재의 블록의 스펙트럼으로부터 반치폭을 구하여, 구한 반치폭을 현재 블록의 주파수 분포로서 설정한다 (S514). 또, 반치폭이란, 횡축을 주기, 종축을 스펙트럼의 강도로 했을 때 얻어지는 주파수 분포도에 있어서, 피크 값의 절반의 강도를 나타내는, 피크 주기 근방의 2개의 주기 사이의 간격이다. 그리고, 단계 508로부터 단계 S512에서 구한 각종 성분마다 평균치 및 단계 S514에서 설정한 주파수 분포를 현재의 블록 특징량으로서 설정한다(S516). 여기에서, 도 6에 도시되는 프레임이 달린 원고 화상 A의 모든 블록에 대하여 전술한 처리를 실행했는지 여부를 판정한다(S518). 이 단계 S518에 있어서 현재 블록의 다음 주사 대상이 되는 블록이 있다고 판정되면, 단계 S504로 이행하고, 도 6의 화상 A에 있어서의 다음 주사 대상이 되는 블록을 처리 대상의 영역으로서 재설정하여, 전술한 단계에서 처리를 실행한다. 그리고, 단계 S518에 있어서, 화상 A의 모든 블록에 대하여 전술한 처리가 실행되어, 현재 블록의 다음 주사 대상이 되는 블록이 없다고 판정되면, 본 처리를 종료한다. 또, 본 동작 플로우에 있어서는, 4개의 특징량을 구했지만, 이것에만 한정되지 않고, 또 다른 특징량을 가하여도 좋다. 이와 같이, 도 1의 특징 강조 단계 104에 있어서는, 인자 영역 제외 단계 100에 의해 처리가 실시된 프레임이 달린 원고 화상 A로부터, 소정의 크기의 블록을 단위로 하는 각종 특징량을 추출할 수 있다.

<에지 후보 결정>

도 8은 도 1의 에지 후보 결정 단계 106에 있어서 에지 후보의 에지편을 구하는 처리의 일 실시예를 도시하는 흐름도이다. 본 동작 흐름은 도 1의 특징 강조 단계 104에서 추출한 각종 특징량에 기초하여 실행된다.

본 동작 흐름에 있어서, 우선, 도 3의 화상 A의 영역을 분할한 세로 23 화소 x 가로 4 화소의 블록을 단위로, 화상의 처리 대상 범위를 판정하고, 상기하는 처리 범위를 설정한다(S1100). 또, 본 예에 있어서의 처리 범위의 판정은, 도 4(b)에 인자 영역을 검게 칠하여 도시한 화상 A의 좌단으로부터 인자 영역까지를 처리대상 범위이라고 판정한다. 이와 같이 하여 처리 범위가 확정되면, 화상 A의 상단의 라인을, 블록을 판독하는 개시 라인으로서 설정한다(S1102). 여기서, 뒤에 자세히 설명하는, 상기 각종 특징량의 가중치 결정 처리를 실행한다(S1104). 그리고, 단계 210에 있어서, 탐색 방향을 끝에서 인자 영역까지로 하고, 화상 A의 좌측 위의 블록을 개시 블록으로서 설정한다. 계속해서, 현재의 블록에 대하여 인접하여 연속해 있는 블록(본 예에 있어서는, 상기하는 블록에 대하여 좌측에 인접하여 연속해 있는, 최대 2개까지 블록으로 함)에 대하여, 단계 104에서 구한 특징량마다 평균을 구한다(S1108). 그리고, 이와 같이 구한 특징량마다 평균을 계속해서 도 8의 처리(단계 S1110)에 사용한다. 도 8의 단계 S1110에 있어서는 처리 대상으로 되어 있는 블록의 각종 특징량과 단계 S1108에서 구한 특징량마다 평균과 특징량마다 변화량을 구한다.

이와 같이 하여 구한 각종 특징량의 변화량을 단계 S1104의 가중치 결정 처리에 의해 구한 각종 특징량의 가중치 또는 미리 통계적으로 구해 두었던 가중치(바람직하게는, 고주파 성분을 1, 저주파 성분을 2, 직류 성분을 1, 주파수 분포를 1로 함)로 합하여, 그 값을 현재의 블록에 있어서의 특징 변화량으로서 설정한다(S1112). 여기서, 단계 S1112에서 블록마다 설정된 특징 변화량의 피크를 구하기 위한 처리를 행한다(S1114). 여기에 나타내는 피크를 구하기 위한 처리(피크 검출 처리)는 뒤에 자세히 설명하는 것으로 한다. 그리고, 상기 피크 검출 처리에 기초한 현재의 블록의 특징 변화량의 피크 판정을 행한다(S1116). 이 단계 S1116에 있어서 피크 없음이라고 판정되면, 계속해서, 다음에 주사하는 블록(도 12에 있어서는 블록 1206)에 대하여, 그 블록이 인자 영역인지 여부를 판정한다(S1118). 그리고, 이 단계 S1118에 있어서, 다음에 주사하는 블록은 인자 영역이 아니라고 판정되면, 계속해서, 그 블록은 중앙 블록으로부터 1 블록만을 주사 방향측 블록인지 여부를 판정한다 (S1120). 이 단계 S1120에 있어서 그 블록은 중앙 블록으로부터 1 블록만큼 주사 방향측 블록이라고 판정되면, 처리 대상으로 되어 있는 블록이 최종 라인에 위치하는 것인지 여부를 판정한다(S1122). 또한, 단계 S1116의 처리로 돌아가, 단계 S1116으로부터 도시한 각 단계가 상기와 반대의 판정을 받은 경우는 이하와 같이 처리를 실행한다. 단계 S1116에 있어서 피크 있음이라고 판정되면, 처리 대상으로 되어있는 이 블록을 에지에 해당하는 블록이라고 판정하고, 이 블록을 본 예에서는 원고 화상의 좌단 에지로서 임시 결정한다(S1124). 그리고, 전술한 단계 S1122의 처리로 이행한다. 단계 S1118에 있어서, 처리 대상의 블록이 인자 영역이라고 판정되면 단계 S1122의 처리로 이행한다.

단계 S1120에 있어서, 그 블록은 중앙 블록으로부터 1 블록만큼 주사 방향측 블록이 아니라고 판정되면, 단계 S1126의 처리로 이행하여 다음에 주사하는 블록을 처리 대상의 블록으로서 설정하고, 단계 S1108로부터, 전술한 단계 순서로 처리를 반복 실행한다. 단계 S1122에 있어서, 처리 대상으로 되어 있는 블록이 최종 라인에 위치하는 것이 아니라고 판정하면, 단계 S1126의 처리로 이행하여, 전술한 단계 순서로 처리를 실행한다. 또한, 단계 S1122에 있어서, 처리 대상으로 되어 있는 블록이 최종 라인에 위치하는 것이라고 판정되면, 계속해서 단계 250의 처리로 이행한다. 단계 250에서는, 에지편을 발견할 수 없던 행이 있는지 여부를 판단한다. 발견할 수 없던 행이 있을 경우, 단계 260에 있어서, 탐색 방향을 인자 영역으로부터 화상 A의 끝까지로, 개시 블록을 설정하고, 단계 S1108로 되돌아간다. 판단 단계 250에 있어서, 에지편이 발견되지 않는 행이 없을 경우, 이 에지 후보 결정 처리를 종료한다.

<단계 120(고 정밀도 에지 검출)>

본 동작 단계에 있어서는, 우선, 도 9의 화상 A의 상단 라인에 에지의 위치로서 임시 설정된 화소열(세로 32 화소×가로 1 화소)의 주사 방향에 대하여 전후로 위치하는 각각 16 화소의 범위를 처리 대상으로 해서 설정한다(S1700). 그리고, 본 처리에 있어서의 블록의 단위를 세로 32 화소, 가로 1 화소의 범위로 한 화소열로 하고, 이 화소열 단위에서 상기 범위의 1 차원 고속 푸리에 변환을 행하지 않고, 각 화소열의 스펙트럼을 구한다(S1702). 도 13은 위치 라인에 대한 상기 처리 대상의 범위를 나타내고 있다. 도 13은 도 9의 근사 직선인 화소열을 포함한, 일 라인의 처리 대상 범위를 나타내고 있다. 동 도의 직사각형 영역 1800이, 파선으로 도시하는 라인 1802의 처리 대상 범위가 되고, 특별히 도시되어 있지 않지만, 다른 라인도 마찬가지로 처리 대상 범위가 설정된다. 직사각형 영역 1800을 확대한 부분에는, 에지의 위치로서 가결정된 임시 에지와 상기 처리 대상의 범위의 위치 관계를 나타내고 있다. 이 도면으로부터, 도면 중의 중앙에 선으로 표시된 임시 에지의 화살표로 도시하는 주사 방향에 대하여 전후 16 화소로 배열된 각 화소열(세로 32 화소×가로 1 화소)을 상기 처리 대상의 범위로 하고 있는 것을 알았다. 그런데, 단계 S1702에서 스펙트럼을 구하면, 계속해서, 스펙트럼의 각 성분(고주파 성분, 저주파 성분 및 직류 성분) 및 주파수 분포의 평균치를 상기 화소열 단위로 구한다(S1704). 그리고, 도 8의 단계 S1104에서 구했거나 또는 미리 통계적으로 구한 가중치로, 화소열마다 성분 및 주파수 분포를 합하여, 얻어진 값을 그 화소열의 특징치로 한다(S1706). 여기서, 이 특징치에 대하여 화소열마다 공지의 웨이블릿 변환을 행한다(S1708).

다음에, 웨이블릿 변환에 의해서 얻어진 값을 이용하여, 라인 단위로 공지의 피크 검출 처리를 행하여 에지편을 검출한다(S1710). 그리고, 처리 대상으로 하고 있는 라인이 임시 에지로서 지정된 최종의 라인인지 여부를 판정한다(S1712). 최종 라인이 아니면, 다음에 주사하는 라인을 설정하고(S1714), 단계 S1702로부터 전술한 단계를 반복한다. 단계 S1712에 있어서 최종 라인으로 판정되면, 단계 120의 처리를 종료한다.

< 4변으로 이루어지는 경계의 검출>

이상과 같이, 원고의 1변의 에지를 고 정밀도로 구할 수 있다. 이상의 설명을 기초로, 원고의 모든 변을 구함으로써, 스캔 화상으로부터 원고를 추출하는 경우를 설명한다. 도 14는 도 1에 도시하는 본 발명의 에지 검출 원리에 의해 원고를 추출하는 동작을 도시하는 흐름도이다. 여기서, 원고의 좌우 상하의 에지를 각각 SL, Sr, Su 및 Sd로 한다. 이들 4개의 에지 중 현재의 처리 대상 에지를 Sx(x= L, r, u 또는 d)로 나타낸다. 도 14의 주된 처리 단계는 이미 설명해 두었으므로 처리의 흐름을 중심으로 설명한다.

도 14에 있어서, 단계 100 및 102의 처리 결과는 이후의 탐색 처리에 방향과 관계없이 이용할 수 있기 때문에, 최초에 한번 실행하면 좋다. 단계 103에 있어서, 현재의 검출 대상 에지 Sx의 x에 좌측 에지를 나타내는 L을 설정한다.

다음에, 단계 104에 있어서, 블록마다 특징량을 구하여 특징 강조를 행한다. 이 처리에서는 세로 길이의 블록을 이용하기 때문에, 좌우의 에지와 상하의 에지에는 각각 다른 단계 104를 실행할 필요가 있다. 후속의 단계 106∼112는 각 에지에 대하여 실행할 필요가 있다.

따라서, 단계 112의 종료 후, 단계 130에 있어서, x=r인지 아닌지 판단한다. x가 r이 아니면, 단계 132에 있어서 x를 우측 에지를 나타내는 r로 설정하여, 단계 106으로 되돌아가 우측 에지를 검출한다.

판단 단계 130에 있어서, x=r이면 우측 에지의 검출이 끝난 것으로 되기 때문에, 판단 단계 134에 있어서, x가 상부 에지를 나타내는 u인지 여부를 판단한다. x가 u가 아니면, 아직 상부 에지의 검출은 끝나지 않았으므로, 단계 136에 있어서, x를 u로 설정하고, 단계 136으로 되돌아가고, 상하 방향의 탐색용 블록마다 특징량을 검출하고 나서, 상부 에지의 검출을 행한다.

판단 단계 134에 있어서, x=u이면, 상부 에지의 검출은 끝난 것으로 되기 때문에, 판단 단계 138에 있어서, x가 하부 에지를 나타내는 d인지 여부를 판단한다. x가 d가 아니면, 하부 에지의 검출은 끝나지 않았으므로, 단계 140에 있어서, x를 d로 설정하여, 단계 106으로 되돌아가, 하부 에지의 검출을 행한다. 판단 단계 138에 있어서, x=d이면, 하부 에지의 검출도 끝나게 되므로, 원고 추출 처리를 종료한다.

도 15는 도 14에 있어서, 원고의 4개의 에지를 검출할 때의 2 가지의 탐색방법을 도시한 도면이다. 하나는 탐색하는 방향은 고정하고, 원고를 순차 회전시켜 4개의 에지를 검출하는 방법이다(도면 중의 좌측). 두 번째는 화상의 방향은 고정해 두고, 탐색 방향을 순차 회전하는 방법이다. 어떤 경우도, 본 발명에 의하면, 단계 106(도 1 및 12) 및 단계 220에 도시한 바와 같이, 모든 탐색행에 대하여 외측으로부터 인자 영역 방향으로 탐색하여 에지편을 발견할 수 없는 행이 존재할 경우, 인자 영역으로부터 끝으로 향하여 탐색을 행한다. 이와 같이 함으로써 에지검출의 정 밀도를 높일 수 있다.

<여러 가지의 변형>

도 16은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 경계 추출 프로그램을 컴퓨터에 로딩하여 실행하는 실시예를 도시하는 대략 블록도이다. 도 16의 시스템은 원고를 스캐닝하는 스캐너(40)와 본 발명의 에지 추출 프로그램(36)을 저장하여 실행할 수 있는 컴퓨터(42)를 갖춘다. 스캐너(40)로 스캐닝한 화상에 포함되는 원고의 부분을 컴퓨터(42)에 저장된 경계 추출 프로그램(36)에서 추출하고, 이용한다.

도 17는, 본 발명의 일 실시 형태에 의한 경계 추출 프로그램을 컴퓨터에 로딩하여 실행하는 제2 실시예를 도시하는 대략 블록도이다. 도 17의 시스템은 컴퓨터(42)와 통신할 수 있도록 접속된 파일링 컴퓨터(44)를 추가로 구비한 점을 제외하면, 도 17의 시스템과 동일하다. 도 17의 컴퓨터(42)는 스캐너(40)로부터 스캐닝한 화상으로부터 프로그램(36)에서 원고 추출을 행한 후, 자신은 사용하지 않고, 다른 장치, 예컨대, 파일링 컴퓨터(44)에 보내어도 좋다. 또, 컴퓨터(42)는 이 경우, 보내기 전에, 화상으로부터 배경 부분을 잘라내어 원고의 크기를 조절하거나, 에지 검출 과정에서 얻은 정보를 기초로 원고 화상을 회전시켜 경사행 보정을 행하여도 좋다.

도 18은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 경계 추출 프로그램을 이용한 화상취급 시스템의 동작예를 도시하는 흐름도이다. 우선, 스캐너(40)로부터 판독한 화상 데이터를 받아들인다(S2400). 그리고, 경계 추출 프로그램(36)에 의해 원고의 에지 검출 처리를 그 화상 데이터에 실시하고(S2402), 원고의 에지 정보를 취득한 다(S2404). 사방이 에지로 둘러싸인 화상 영역(원고 화상)만을 추출한다(S2408). 그리고, 이와 같이 추출한 원고 화상을 기록한다(S2410).

도 19는 본 발명의 일 실시 형태에 의한 경계 추출 프로그램을 이용한 제2 화상 취급 시스템의 동작예를 도시하는 흐름도이다. 우선, 스캐너(40)로부터 판독한 화상 데이터를 컴퓨터(42)로 받아들인다(S2500). 그리고, 상기 경계 추출 프로그램(36)에 의해 에지 검출 처리를 행하고(S2502), 원고의 에지 정보를 취득한다(S2504). 여기서, 화상 데이터의 편집으로서, 취득된 에지의 화상 평면상의 축(X축 또는 Y축)에 대한, 예컨대, 최소의 기울기를 검출하고(S2506), 그 기울기가 없어지도록 화상 데이터를 회전하여 경사행 보정한다(S2508). 그리고, 이와 같이 보정된 화상 원고를 화상 데이터 축적부(2300)에 기록한다(S2510).

또, 상기 18과 도 19의 동작 흐름을 조합시키는 것도 가능하며, 예컨대, 도 19의 단계 S2506 및 단계 S2508의 처리를 도 17의 단계 S2404 및 단계 S2408의 처리 사이에 행하게 하도록 할 수 있다. 이와 같이 경사행 보정을 실시함으로써, 후 처리를 하기 쉽게 하는 것이 가능해진다. 또한, 배경 화상 데이터를 자름으로써, 여분의 데이터를 제거하는 일이 가능해지고, 데이터량도 작아지기 때문에 데이터의 보관도 적은 용량으로 되어, 데이터의 이용에 있어서 처리 스피드를 빠르게 할 수 있다.

도 20은 본 발명의 일 실시 형태에 의한 경계 추출 프로그램을 이용하여 스캔 화상으로부터 원고를 추출하고, 문자 인식을 행하는 시스템의 동작예를 도시하는 흐름도이다. 우선, 스캐너(40)로부터 판독한 화상 데이터를 스캔한다(S2700). 그리고, 경계 추출 프로그램(36)에 의해 에지 검출 처리를 그 화상 데이터에 실시하고(S2702), 원고의 에지 정보를 취득한다(S2704). 또, 화상 데이터에 대하여, 사방이 에지로 둘러싸인 화상 영역 이외의 화상 영역을 판정하고(S2706), 사방이 에지로 둘러싸인 화상 영역(원고 화상) 이외의 화상 영역의 계조 농도를 흑색이 되도록 변경한다(S2708). 그리고 마지막으로, 원고 화상의 시점(예컨대, 화상 평면상에 있어서의 원고 화상의 상단 좌단의 위치)을 특정하여, 예컨대, 미리 기억부 등에 기억된 상기 시점으로부터의 인자 위치를 대상으로, 화상을 잘라 내어 그 화상을 분석하고, 그 화상에 포함되는 문자를 패턴 인식 처리에 기초하여 추출하는 등의 문자 인식 처리를 실시한다(S2710).

또, 본 처리에 있어서, 도 19의 동작 흐름과 조합하는 것도 가능하고, 예컨대, 도 19의 단계 S2506 및 단계 S2508의 처리를 도 20의 단계 S2704 및 단계 S2706의 처리 사이에 행하게 하도록 할 수 있다. 이와 같이, 배경 화상을 흑색으로 착색함으로써, 종래의 흑색 배경의 스캐너로부터 스캔한 흑색 배경 화상을 원고 화상의 가장자리 주변에 가진 종래 화상과 같은 사양의 화상 데이터를 작성할 수 있기 때문에, 종래의 흑색 배경을 가진 화상 데이터를 편집하는 장치(예컨대, OCR 처리 장치 등)에 대하여, 본 발명의 화상 처리 장치를 통해 얻어진 화상 데이터를 이용하게 할 수 있다.

이상은, 본 발명의 설명을 위하여 실시예를 든 것에 불과하다. 따라서, 본 발명의 기술 사상 또는 원리에 따라 전술한 실시예에 여러 가지의 변경, 수정 또는 추가를 행하는 것은 당업자에게는 용이하다.

예컨대, 이상 설명해온 각 처리(당연히 에지 검출 처리를 포함함)는 프로그램의 형태로 배포할 수도 있다. 그 경우, 플로피 디스크(등록 상표), CD-ROM, DVD 등의 기록 매체에 상기 프로그램을 기록시켜 배포하거나 또는 공중망 등으로 이용되는 전송 매체를 통해, 그 프로그램의 일부, 또는 전부를 전송하도록 하거나 할 수 있다.

(부기 1)

원고를 스캐너로 스캔하여 얻은 화상에 있어서 재질의 차이를 이용하여 원고의 경계를 구성하는 하나의 에지를 검출하는 방법으로서,

상기 화상을 형성하는 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 끝으로부터 상기 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하는 단계와,

상기 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 상기 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 중앙 부근으로부터 상기 화상의 끝까지 탐색함으로써, 에지편을 검출하는 단계와,

모든 탐색행에 대한 상기 에지편으로부터 직선 에지를 결정하는 에지 결정 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 경계 검출 방법.

(부기 2)

상기 에지 결정 단계가,

모든 탐색행에 대한 상기 에지편으로부터 복수의 에지 후보를 구하는 후보 결정 단계와,

상기 복수의 에지 후보로부터 최적의 후보를 선택하는 선택 단계로 이루어지 는 것을 특징으로 하는 부기 1에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 3)

상기 화상에 있어서 상기 원고로부터 괘선을 추출하는 단계를 추가로 포함하고,

상기 선택 단계가 상기 괘선의 비교에 기초하여 상기 최적의 후보를 선택하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 부기 2에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 4)

상기 후보 결정 단계가 모든 탐색행에 대한 상기 에지편의 모든 부분에 직선 근사를 행하는 에지 후보로 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 2 또는 3에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 5)

상기 후보 결정 단계가 모든 탐색행에 대한 상기 에지편의 중앙을 따라 에지편에 직선 근사를 행하여 에지 후보를 찾는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 2 내지 4 중 어느 하나에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 6)

상기 후보 결정 단계가 모든 탐색행에 대한 상기 에지편의 중앙을 따라 우측 근처 에지편에 직선 근사를 행하여 에지 후보를 찾는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 2 내지 5 중 어느 하나에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 7)

상기 후보 결정 단계가 모든 탐색행에 대한 상기 에지편의 중앙을 따라 좌측 근처 에지편에 직선 근사를 행하여 에지 후보를 찾는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 2 내지 6 중 어느 하나에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 8)

상기 후보 결정 단계가,

인접 에지 사이의 탐사 방향의 차분 절대치의 평균을 구하는 단계와,

상기 차분 절대치가 상기 평균으로부터 플러스의 임계치 내에 있는 에지편을 상기 중앙을 따라 에지편에 더하여 얻은 집합에 직선 근사를 행하여, 에지 후보로 하는 플러스 측 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 5에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 9)

상기 후보 결정 단계가,

인접 에지 사이의 탐사 방향의 차분 절대치의 평균을 구하는 단계와,

상기 차분 절대치가 상기 평균으로부터 마이너스의 임계치 내에 있는 에지편을 상기 중앙을 따라 에지편에 더하여 얻은 집합에 직선 근사를 행하여, 에지 후보로 하는 마이너스 측 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 5에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 10)

상기 후보 결정 단계가,

상기 차분 절대치가 상기 평균으로부터 마이너스의 임계치 내에 있는 에지편을 상기 중앙을 따라 에지편에 더하여 얻은 집합에 직선 근사를 행하여, 에지 후보 로 하는 마이너스 측 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 8 기재의 경계 검출 방법.

(부기 11)

상기 임계치를 소정의 변화분 만큼 변화시키는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 8 내지 10 중 어느 하나에 기재한 경계 검출 방법.

(부기 12)

상기 변화시키는 단계가,

상기 임계치의 초기값을 0으로 하는 단계와,

상기 평균으로부터 플러스의 임계치내 또는 상기 평균으로부터 마이너스의 임계치 내에 상기 차분 절대치가 최대의 에지편이 포함되도록 된 경우, 상기 임계치를 변화시키는 것을 중지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 부기 11 기재의 경계 검출 방법.

(부기 13)

원고를 스캐너로 스캔하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 구성하는 하나의 에지를 검출하는 경계 검출 프로그램으로서,

상기 화상을 다하는 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 끝으로부터 상기 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하는 단계와,

상기 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 상기 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 중앙 부근으로부터 상기 화상의 상기 단으로 탐색함으로써, 에지편을 검출하는 단계와,

모든 탐색행에 대한 상기 에지편으로부터 직선 에지를 결정하는 에지 결정 단계를 컴퓨터에서 실행시키는 것을 특징으로 하는 경계 검출 프로그램.

(부기 14)

원고를 스캐너로 스캔하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 구성하는 하나의 에지를 검출하는 경계 검출 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 로서, 상기 프로그램이 실행됨으로써,

상기 화상을 다하는 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 끝으로부터 상기 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하는 기능과,

상기 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 상기 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 중앙 부근으로부터 상기 화상의 상기 단으로 탐색함으로써, 에지편을 검출하는 기능과,

모든 탐색행에 대한 상기 에지편으로부터 직선 에지를 결정하는 기능이 상기컴퓨터에 갖춰지는 것을 특징으로 하는 경계 검출 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체.

(부기 15)

부기 1 내지 12 중 어느 하나에 기재한 방법을 이용하여, 원고를 스캐너로 스캔하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 추출하는 기능을 갖는 장치.

(부기 16)

부기 1 내지 12 중 어느 하나에 기재한 방법을 이용하여, 원고를 스캐너로 스캔하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 추출하는 복사기.

본 발명에 의하면, 에지편이 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 모든 탐색행에 대하여, 화상의 중앙 부근으로부터 화상의 끝으로 탐색하기 때문에, 검출의 정밀도가 증가한다.

본 발명에 의하면, 모든 탐색행에 대한 에지편으로부터 복수의 에지 후보를 구하고, 복수의 에지 후보로부터 최적의 후보를 선택하기 때문에, 더욱, 정밀도가 향상된다.

Claims (5)

1. 원고를 스캐너로 스캐닝하여 얻은 화상에 있어서 재질의 차이를 이용하여 원고의 경계를 구성하는 하나의 에지를 검출하는 방법으로서,

   상기 화상을 형성하는 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 끝에서 상기 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하는 단계와,

   상기 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 상기 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 중앙 부근으로부터 상기 화상의 끝까지 탐색함으로써, 에지편을 검출하는 단계와,

   모든 탐색행에 대한 상기 에지편으로부터 직선 에지를 결정하는 에지 결정 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 경계 검출 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 에지 결정 단계가,

   모든 탐색행에 대한 상기 에지편으로부터 복수의 에지 후보를 구하는 후보 결정 단계와,

   상기 복수의 에지 후보로부터 최적의 후보를 선택하는 선택 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 경계 검출 방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 화상에 있어서 상기 원고로부터 괘선을 추출하는 단계를 더 포함하며,

   상기 선택 단계가, 상기 괘선과의 비교에 기초하여 상기 최적의 후보를 선택하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 경계 검출 방법.
4. 원고를 스캐너로 스캐닝하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 구성하는 하나의 에지를 검출하는 경계 검출 프로그램을 포함하는 컴퓨터로 판독가능한 기록 매체로서,

   상기 화상을 형성하는 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 끝에서 상기 에지와 직각인 방향으로 탐색하여 에지편을 검출하는 단계와,

   상기 에지편을 검출할 수 없는 행이 존재할 경우, 상기 모든 탐색행에 대하여, 상기 화상의 중앙 부근으로부터 상기 화상의 끝까지 탐색함으로써, 에지편을 검출하는 단계와,

   모든 탐색행에 대한 상기 에지편으로부터 직선 에지를 결정하는 에지 결정 단계를 컴퓨터에서 실행시키는 것을 특징으로 하는 경계 검출 프로그램을 포함하는 컴퓨터로 판독가능한 기록 매체.
5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 방법을 이용하여 원고를 스캐너로 스캐닝하여 얻은 화상으로부터 원고의 경계를 추출하는 기능을 갖는 장치.

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