KR100638888B1 - Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물 - Google Patents

Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR100638888B1
KR100638888B1 KR1020050082202A KR20050082202A KR100638888B1 KR 100638888 B1 KR100638888 B1 KR 100638888B1 KR 1020050082202 A KR1020050082202 A KR 1020050082202A KR 20050082202 A KR20050082202 A KR 20050082202A KR 100638888 B1 KR100638888 B1 KR 100638888B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
dielectric constant
ltcc
composition
low temperature
glass frit
Prior art date
Application number
KR1020050082202A
Other languages
English (en)
Inventor
박일환
김종래
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020050082202A priority Critical patent/KR100638888B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100638888B1 publication Critical patent/KR100638888B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/002Details
    • H01G4/018Dielectrics
    • H01G4/06Solid dielectrics
    • H01G4/08Inorganic dielectrics
    • H01G4/12Ceramic dielectrics
    • H01G4/1209Ceramic dielectrics characterised by the ceramic dielectric material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/16Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B3/00Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
    • H01B3/02Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
    • H01B3/12Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances ceramics

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

글라스 프릿트의 함량을 낮추면서도 저온에서 소성이 가능하고 또한 고주파용으로 사용할 수 있도록 품질계수(Q)가 우수한 저온동시소성 자기조성물이 제공된다. 이 자기조성물은, 세라믹과 글라스 프릿트로 조성되는 저온동시소성 자기조성물에 있어서, 상기 세라믹은 x SrWO4 - (1-x) MgSiO3로 표시되고, x는 0.7≤x≤1.0를 충족하고, 상기 세라믹은 60~80중량%이고, 상기 글라스 프릿트는 20-40중량%로 조성된다.
본 발명에 따라 얻어지는 저온동시소성 자기조성물은 유전율이 4.83~7.12이고, Q.fo(GHz)가 8104~14244이며, 공진주파수의 온도계수가 -68~-30 ppm/℃로서, 고주파용 LTCC의 기판 재료에 적합하게 사용이 가능하다.
LTCC, 글라스 프릿트, 저유전율, 품질계수

Description

Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물{low temperature co-fired ceramics having high quality factor and low dielectric constant}
한국 공개특허공보 2003-0052461호
본 발명은 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 글라스 프릿트의 함량을 낮추면서도 저온에서 소성이 가능하고 또한 고주파용으로 사용할 수 있도록 품질계수가 우수한 자기조성물에 관한 것이다.
기판재료로는 저온동시소성 세라믹(Low Temperature Co-fired Ceramics, 간단히 LTCC라고도 표기함)이 사용되고 있다. LTCC는 저온에서 전극재료와 동시에 소성되기 때문에 1000℃이하의 저온 소결이 가능하여야 한다. 이를 위해 글라스 프릿트가 세라믹분말과 함께 사용된다. 글라스 프릿트는 낮은 연화온도로서 세라믹분말이 1000℃이하의 저온에서 소결되도록 한다. 글라스 프릿트로서는 보로실리케이트가 많이 이용되고 있다. 보론 실리케이트 글리스 프릿트는 SiO2와 B2O3가 주성분 이고, 필요에 따라 알칼리금속과 알칼리토류금속의 1종이상을 첨가하고 있다.
LTCC는 유전율이 10이하로 낮으면서 높은 품질계수(전기적손실의 역수)가 요구된다. 이러한 요구에 부흥하는 세라믹분말이 알루미나를 주성분으로 하는 세라믹분말이다.
그러나, 알루미나 자체의 높은 소결온도(1550℃ 이상)로 인해 과량의 글라스프릿트(40~80중량%)가 첨가된다. 글라스 프릿트의 함량이 높아지게 되면 품질계수가 낮아져 고주파용으로 사용하는데 문제점을 가지게 된다.
이러한 문제를 해결하기 위해, 한국 공개특허공보 2003-0052461호에서는 BaWO4-Mg2SiO4계 세라믹분말을 사용하는 LTCC조성물이 제안되어 있다. 이 LTCC조성물은 글라스 프릿트의 함량을 20~60%로 낮추고 있다. 그러나, 고주파에서의 품질계수가 4666~12191로서 개선이 필요한 실정이다.
상기한 문제를 해결하기 위한 다각적인 연구를 통해 완성된 본 발명은 글라스 프릿트의 함량을 낮추면서도 저온소성이 가능하고 고주파용으로 사용할 수 있도록 높은 품질계수를 갖는 저온동시소성 자기조성물을 제공하는데, 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 저온동시소성 자기조성물은, 세라믹과 글라스 프릿트로 조성되는 저온동시소성 자기조성물에 있어서,
상기 세라믹은 x SrWO4 - (1-x) MgSiO3로 표시되고, x는 0.7≤x≤1.0를 충족하고, 상기 세라믹은 60~80중량%이고, 상기 글라스 프릿트는 20-40중량%로 조성되는 것이다.
본 발명에 적용되는 글라스 프릿트는 보로실리케이트계이며, 예를 들면, SiO2-B2O3-K2O계 또는 Li2O-Na2O-K2O-CaO-BaO-ZnO-Al2O3-B2O3-SiO2계에서 선택되는 1종이 바람직하다.
본 발명에서, 상기 x는 0.95≤x≤1.0가 가장 바람직하며, 이 경우에 주파수 11~14GHz에서 측정한 품질계수(Q.fo)가 12200~14244의 우수한 특성을 갖는다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명자들은 LTCC조성물에서 글라스 프릿트의 함량을 대폭 낮추면서도 저온소성이 가능하고 고주파에서의 품질계수를 높이기 위한 방안을 찾던 중에서, LTCC의 세라믹분말로서 SrWO4-MgSiO3계를 설계하여 완성된 것이다.
SrWO4-MgSiO3계 세라믹분말은 Sr이 이온반경이 작아 LTCC의 디펙트가 적어지고 이에 따라 소결밀도가 높아져 품질계수가 높아진다. 이를 위한 세라믹분말의 조 성은, xSrWO4 - (1-x) MgSiO3로 표시될 때, x는 0.7≤x≤1.0를 충족하는 것이다.
SrWO4는 LTCC의 품질계수를 높이기 위한 것이며, MgSiO3는 유전율을 낮추는 효과가 있다. MgSiO3의 첨가에 의해 LTCC의 유전율을 제품용도에 맞추어 설계할 수 있다. 본 발명의 실시예를 보면, xSrWO4 - (1-x) MgSiO3에서 x의 값이 작아질수록 품질계수가 낮아지는 추이를 보이고 있다. X의 값이 0.7정도까지 낮추는 성분설계에서 충분히 원하는 고주파 유전특성을 확보할 수 있다. 본 발명에서, 상기 x는 0.95≤x≤1.0가 가장 바람직하며, 이 경우에 주파수 11~14GHz에서 측정한 품질계수(Q.fo)가 12200~14244의 우수한 특성을 갖는다.
본 발명의 LTCC에서 세라믹은 60~80중량%이고, 글라스 프릿트는 20-40중량%로 조성되는 것이 바람직하다. 글라스 프릿트의 함량이 낮아질수록 품질계수은 높아지고 유전율은 떨어진다.
본 발명에는 LTCC에 적용되는 글라스 프릿트는 모두 적용 가능하며, 그 대표적인 예가 보로실리케이트계이다. 보로실리케이트계 글라스는 SiO2와 B2O3가 주성분이고, 필요에 따라 알칼리금속과 알칼리토류금속의 1종이상을 첨가하고 있다. 시중에 시판되고 있는 보로실리케이트 글라스는 SiO2-B2O3-K2O계 또는 Li2O-Na2O-K2O-CaO- BaO-ZnO-Al2O3-B2O3-SiO2계가 있다.
다음으로, 본 발명의 LTCC의 제조방법에 대해 구체적으로 설명하는데, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다.
출발물질로서 예를 들어 SrCO3, WO3, MgO, SiO2 및 글라스 프릿트를 사용한다.
먼저, SrCO3와 WO3를 일정 조성비로 혼합하고 MgO와 SiO2를 일정 조성비로 혼합하여 제조한 SrWO4와 MgSiO3 분말을 각각 대기중에서 예를 들어 700℃와 1100℃에서 3시간씩 하소하여 합성한다. 글라스 프릿트는 시판되는 제품을 사용하여 합성한 분말과 혼합한다.
혼합한 분말은 잘 분쇄한 후, 예를 들어 직경 14 mm의 원판형 시편으로 가압 성형하여 대기 중에서 예를 들어 800~900℃의 온도에서 2 시간 동안 소결시켜 제조할 수 있다. 이때, 소결 후 시편의 수축율은 12~20% 정도이다.
본 발명의 LTCC는 세라믹분말의 조성비와 글라스 프릿트의 배합비의 조정을 통해 유전율의 조정이 가능하다.
이하, 본 발명을 실시예를 통하여 보다 구체적으로 설명한다.
[실시예]
SrWO4는 순도 99.9%의 SrCO3와 WO3를 일정 조성비로 혼합하고, 혼합분말은 대기 중에서 700℃의 온도에서 3시간 정도 하소한 후, 분쇄하여 제조하였다. MgSiO3는 순도 99.9%의 MgO와 SiO2를 일정 조성비로 혼합하고, 혼합분말은 대기 중에서 1100℃의 온도에서 3시간 정도 하소한 후, 분쇄하여 제조하였다.
글라스 프릿트는 SiO2-B2O3-K2O계의 보로실리케이트로서 Asahi glass (ASF-103H)의 제품을 사용하였다.
SrWO4, MgSiO3 및 상기 글라스 프릿트를 표 1의 조성비로 혼합하였다. 표 1에는 세라믹분말의 함량만 중량%로 표시하였으며, 글라스 프릿트의 함량은 100중량%에서 세라믹분말의 함량을 뺀 값이다.
혼합한 분말을 잘 분쇄한 후 직경 14mm의 원판형 시편으로 가압 성형하여 대기 중에서 800~900℃의 온도에서 2 시간 동안 소결시켰다. 소결 후 시편은 12~20% 정도 수축되었다.
소결 시편의 양면을 연마지(#2000 까지)로 잘 연마한 후, 유전체 공진기법으 로 유전율, Q.fo 값 및 공진주파수의 온도계수를 측정하였다. 이 때, 측정주파수는 11 ~14 GHz이고, 측정온도 범위는 -25~85℃였다. 각 시편의 조성과 소결 온도에 따른 마이크로파 유전특성을 표 1에 나타내었다.
[표 1-1]
x SrWO4 - (1-x) MgSiO3 전기적 특성 소결온도 (℃)
x(몰) 세라믹분말의 배합비 (중량%) εr Q.fo τf(ppm/℃)
1 80% 7.07 14016 -40 800
1 80% 6.99 13704 -42 850
1 80% 6.36 10605 -40 900
1 70% 6.67 13711 -36 800
1 70% 6.65 12108 -35 850
1 70% 6.18 11792 -35 900
1 60% 6.14 10077 -31 800
1 60% 5.91 10012 -32 850
1 60% 5.82 9782 -31 900
0.99 80% 7.06 14112 -43 800
0.99 80% 7.09 14244 -41 850
0.99 80% 7.06 13887 -41 900
0.99 70% 6.81 12267 -37 800
0.99 70% 6.54 11881 -36 850
0.99 70% 6.01 10004 -37 900
0.99 60% 6.25 9216 -33 800
0.99 60% 6.02 8720 -31 850
0.99 60% 5.86 8195 -32 900
0.95 80% 6.58 12048 -46 800
0.95 80% 6.74 12304 -47 850
0.95 80% 7.12 12552 -45 900
0.95 70% 6.15 10577 -42 800
0.95 70% 6.26 11127 -43 850
0.95 70% 6.07 10916 -43 900
0.95 60% 6.01 8819 -39 800
0.95 60% 6.06 9021 -39 850
0.95 60% 5.84 8523 -38 900
[표 1-2]
x SrWO4 - (1-x) MgSiO3 전기적 특성 소결온도 (℃)
x(몰) 세라믹분말의 배합비 (중량%) εr Q.fo τf(ppm/℃)
0.9 80% 5.96 10768 -57 850
0.9 80% 6.66 10471 -59 900
0.9 70% 5.37 8218 -46 800
0.9 70% 5.99 10252 -45 850
0.9 70% 6.28 10137 -48 900
0.9 60% 5.82 9104 -43 800
0.9 60% 5.88 9286 -41 850
0.9 60% 5.41 8673 -43 900
0.8 80% 5.82 8116 -65 800
0.8 80% 5.85 9861 -63 850
0.8 80% 6.01 10337 -63 900
0.8 70% 5.45 8373 -56 800
0.8 70% 5.84 9166 -55 850
0.8 70% 5.95 9792 -56 900
0.8 60% 5.11 8963 -49 800
0.8 60% 5.23 9267 -48 850
0.8 60% 5.16 9018 -48 900
0.7 80% 5.03 8537 -68 800
0.7 80% 5.08 8769 -65 850
0.7 80% 5.12 9144 -67 900
0.7 70% 5.57 8531 -62 800
0.7 70% 5.66 8597 -61 850
0.7 70% 5.74 9036 -62 900
0.7 60% 5.05 8104 -54 800
0.7 60% 5.25 8677 -53 850
0.7 60% 5.14 8240 -50 900
표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따라 얻어지는 LTCC는 유전율이 4.83 ~ 7.12이고, Q.fo(GHz)가 8104 ~14244이며, 공진주파수의 온도계수가 -68~-30 ppm/℃로서, 고주파용 LTCC가 요구되는 기판 재료에 적합하게 사용이 가능하다.
SrWO4-MgSiO3계의 세라믹분말에서 SrWO4의 함량이 높아지면 소결온도가 낮은 조건에서 전기적특성이 좋으며, MgSiO3의 함량이 많아지면 소결온도가 높은 조건에서 전기적특성이 좋다.
본 발명에서 상기 실시형태는 하나의 예시로서, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 특허청구범위에 기재된 기술적 사상과 실질적으로 동일한 구성을 갖고 동일한 작용효과를 이루는 것은 어떠한 것이어도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다. 예를 들어 본 발명의 실시예에서는 글라스 프릿트로서 시판되고 있는 보로실리케이트를 사용하고 있지만 이외에도 LTCC분야에서 알려져 있거나 개발되어 제안되는 글라스 프릿트의 적용이 가능하다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 과량의 글라스 프릿트를 첨가하지 않아도 저온에서 소결 가능하며, 품질계수(Q)가 우수한 고주파용 저온동시소성 자기조성물을 제공하는 유용한 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 세라믹과 글라스 프릿트로 조성되는 저온동시소성 자기조성물에 있어서,
    상기 세라믹은 x SrWO4 - (1-x) MgSiO3로 표시되고, x는 0.7≤x≤1.0를 충족하고,
    상기 세라믹은 60~80중량%이고, 상기 글라스 프릿트는 20-40중량%로 조성되는 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 글라스 프릿트는 보로실리케이트계 글라스임을 특징으로 하는 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 보로실리케이트 글라스는 SiO2-B2O3-K2O계 또는 Li2O-Na2O-K2O-CaO-BaO-ZnO-Al2O3-B2O3-SiO2계에서 선택되는 1종임을 특징으로 하는 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 x는 0.95≤x≤1.0임을 특징으로 하는 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물.
  5. 제 1항에 있어서, 주파수 11~14GHz에서 측정한 품질계수(Q.fo)가 12200~14244임을 특징으로 하는 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물.
KR1020050082202A 2005-09-05 2005-09-05 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물 KR100638888B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050082202A KR100638888B1 (ko) 2005-09-05 2005-09-05 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050082202A KR100638888B1 (ko) 2005-09-05 2005-09-05 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR100638888B1 true KR100638888B1 (ko) 2006-10-27

Family

ID=37621001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050082202A KR100638888B1 (ko) 2005-09-05 2005-09-05 Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100638888B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9368804B2 (en) 2013-02-21 2016-06-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Scheelite-structured composite metal oxide with oxygen ionic conductivity
CN106927792A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海晶材新材料科技有限公司 低介电常数低损耗近零温度系数的ltcc陶瓷材料及制备方法
CN108996902A (zh) * 2018-09-19 2018-12-14 深圳市晶特智造科技有限公司 一种低温共烧陶瓷材料及其制备方法
CN114634353A (zh) * 2020-12-16 2022-06-17 山东国瓷功能材料股份有限公司 一种低介低损耗近零温漂低温共烧陶瓷材料及其制备方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
10045466
2005058774

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9368804B2 (en) 2013-02-21 2016-06-14 Samsung Electronics Co., Ltd. Scheelite-structured composite metal oxide with oxygen ionic conductivity
CN106927792A (zh) * 2015-12-30 2017-07-07 上海晶材新材料科技有限公司 低介电常数低损耗近零温度系数的ltcc陶瓷材料及制备方法
CN106927792B (zh) * 2015-12-30 2020-01-21 上海晶材新材料科技有限公司 低介电常数低损耗近零温度系数的ltcc陶瓷材料及制备方法
CN108996902A (zh) * 2018-09-19 2018-12-14 深圳市晶特智造科技有限公司 一种低温共烧陶瓷材料及其制备方法
CN108996902B (zh) * 2018-09-19 2021-10-26 深圳市晶特智造科技有限公司 一种低温共烧陶瓷材料及其制备方法
CN114634353A (zh) * 2020-12-16 2022-06-17 山东国瓷功能材料股份有限公司 一种低介低损耗近零温漂低温共烧陶瓷材料及其制备方法
CN114634353B (zh) * 2020-12-16 2023-04-18 山东国瓷功能材料股份有限公司 一种低介低损耗近零温漂低温共烧陶瓷材料及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2701611C1 (ru) Композиции диэлектрика с низкой к для применений при высоких частотах
KR100426219B1 (ko) 유전체 세라믹 조성물 및 이를 이용한 적층부품의 제조방법
JP5554940B2 (ja) 低温焼成用低誘電率誘電体セラミック組成物
US20200123059A1 (en) Boron aluminum silicate mineral material, low temperature co-fired ceramic composite material, low temperature co-fired ceramic, composite substrate and preparation methods thereof
CN112919894A (zh) 一种频率稳定型低介微波介质陶瓷材料及其制备方法
KR100638888B1 (ko) Q특성이 우수한 저유전율을 갖는 저온동시소성 자기조성물
CN108218406A (zh) 低介电常数低损耗的低温共烧陶瓷材料及其制备方法
US6846767B2 (en) Dielectric ceramic composition
KR100704318B1 (ko) 저온소성 저손실 세라믹 유전체 조성물
US7928030B2 (en) Microwave dielectric ceramics and method for manufacturing the same
Jung et al. Glass-ceramic for low temperature co-fired dielectric ceramic materials based on La2O3–B2O3–TiO2 glass with BNT ceramics
Chen et al. Microwave dielectric properties of glass–ceramic composites for low temperature co-firable ceramics
US6844278B2 (en) Dense lead-free glass ceramic for electronic devices
KR100557853B1 (ko) 인산염계 저유전율 세라믹 조성물
KR101124580B1 (ko) Lcd 폐유리를 이용한 세라믹 글라스 조성물
KR20200081774A (ko) 고주파 소자용 유전체 세라믹스 조성물, 그에 의한 고주파 소자용 세라믹 기판 및 그의 제조방법
CN102898027A (zh) 电子元器件封装材料用陶瓷粉及其生产方法
KR101849470B1 (ko) 저온 소결용 마이크로파 유전체 세라믹스 및 그 제조방법
KR101084710B1 (ko) 전자부품용 유전체 세라믹 조성물
KR100479688B1 (ko) 유전체 세라믹 조성물 및 이를 이용한 저온소성 유전체 세라믹의 제조방법
KR102127578B1 (ko) 초저온 동시소성 세라믹스/글라스 복합체 및 그 제조방법
KR20040040696A (ko) 저온소결용 유전체 세라믹 조성물
CN107056277A (zh) 一种低温烧结中介电常数微波介质材料及其制备方法
KR100444359B1 (ko) Ltcc용 저유전율 세라믹 조성물
JP5422329B2 (ja) 誘電体磁器組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20111010

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121002

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee