KR100635838B1 - 배면투사형 스크린 및 그 제조방법 - Google Patents

배면투사형 스크린 및 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

무아레 패턴의 발생을 저감시킨 배면투사형 스크린 및 그 제조방법을 제공한다. 본 발명에 관한 배면투사형 스크린은 프레넬 렌즈 (21a) 와 렌티큘러 렌즈 (22a) 를 구비하고, 화소를 갖는 라이트벌브와 함께 사용되는 배면투사형 스크린 (2) 으로서, 프레넬 렌즈의 렌즈피치와 렌티큘러 렌즈의 렌즈피치에 의해 발생하는 무아레피치를 산출하고, 그 무아레피치와 라이트벌브의 화소피치로부터 추가로 무아레피치를 산출하여 최종적인 무아레피치를 구함으로써 제조하였다.
무아레 패턴, 라이트벌브, 프레넬 렌즈, 렌즈피치, 렌티큘러 렌즈, 배면투사형 스크린

Description

배면투사형 스크린 및 그 제조방법{REAR PROJECTION TYPE SCREEN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}
도 1 은 RPTV 의 모식도.
도 2 는 배면투사형 스크린의 개략도.
도 3 은 배면투사형 스크린에 사용되는 프레넬 렌즈시트의 모식도.
도 4 는 배면투사형 스크린에 사용되는 렌티큘러 렌즈시트의 모식도.
도 5 는 피치비와 무아레 파장의 관계를 나타내는 특성도.
도 6 은 피치비와 무아레 파장의 관계를 나타내는 특성도.
도 7 은 배면투사형 스크린의 개략도.
※도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※
1 : 액정프로젝터 2 : 배면투사형 스크린
21 : 프레넬 렌즈시트 21a : 프레넬 렌즈
22 : 렌티큘러 렌즈시트 22a : 렌티큘러 렌즈
본 발명은 배면으로부터 화상을 투영하는 배면투사형 스크린에 관한 것으로 서, 특히 프레넬 렌즈와 렌티큘러 렌즈를 구비한 배면투사형 스크린에 관한 것이다.
먼저 배면투사형 스크린을 사용한 배면투사형 텔레비젼 (이하, RPTV) 에 관하여 개설한다. 도 1 은 종래의 RPTV 의 모식도를 나타내고 있다. 액정타입의 RPTV 는 도 1 에 나타나는 바와 같이 적어도 액정프로젝터 (1), 배면투사형 스크린 (2) 을 구비하고 있다. 이 배면투사형 스크린 (2) 은 일반적으로 프레넬 렌즈시트 (21) 와 렌티큘러 렌즈시트 (22) 를 구비하고 있다. 이 프레넬 렌즈시트 (21) 는 액정프로젝터 (1) 로부터의 영상광을 일정한 각도의 범위내로 되도록 수속하는 기능을 갖는다. 이 예에서는 프레넬 렌즈시트 (21) 의, 영상광이 출사되는 면에 프레넬 렌즈 (21a) 를 설치하고 있다. 또, 렌티큘러 렌즈시트 (22) 는 프레넬 렌즈시트 (21) 를 투과한 영상광을 적당한 각도의 범위로 넓히는 기능을 갖는다. 이 예에서는 렌티큘러 렌즈시트 (22) 의, 영상광이 입사되는 면에 렌티큘러 렌즈 (22a) 를 설치하고 있다.
프레넬 렌즈시트 (21) 는 예를 들어 폴리메틸메타아크릴레이트 (PMMA), PMMA 와 에틸아크릴레이트, 스틸렌 또는 메틸아크릴레이트의 공중합체 등의 아크릴수지, 염화비닐수지, 폴리카보네이트, 폴리스틸렌, 아크릴에 고무성분을 중합 또는 분산시킨 내충격 그레이드의 아크릴수지의 소재로 그 기재가 구성된다. 프레넬 렌즈 (21a) 의 렌즈패턴은 예를 들어 우레탄계의 자외선 경화형 아크릴레이트수지로 구성된다. 렌티큘러 렌즈시트 (22) 는 예를 들어 PMMA, PMMA 와 에틸아크릴레이트 또는 메틸아크릴레이트의 공중합체 등의 아크릴수지, 염화비닐수지, 폴리카보 네이트, 폴리스틸렌, 아크릴에 고무성분을 중합 또는 분산시킨 내충격 그레이드의 아크릴수지로 구성된다.
도 1 에 있어서, PF 로 나타낸 길이는 프레넬 렌즈 (21a) 의 렌즈피치를 나타내고, PL 로 나타낸 길이는 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 렌즈피치를 나타내고 있다. 또, PS 는 액정프로젝터 (1) 로부터 스크린 (2) 에 투사된 화소의 피치이며, 여기에서는 렌티큘러 렌즈시트 (22) 의 출사면에 있어서의 화소의 피치로 하고 있다.
도 2 에 배면투사형 스크린의 개략도를 나타낸다. 이 배면투사형 스크린 (2) 은 상술한 바와 같이 프레넬 렌즈시트 (21) 및 렌티큘러 렌즈시트 (22) 에 의해 구성되고, 각각의 프레넬 렌즈 (21a), 렌티큘러 렌즈 (22a) 가 서로 대향하도록 배치되어 있다. 또한, 도면 중 렌티큘러 렌즈시트 (22) 의 출사면은 평면으로 되어 있지만, 렌티큘러 렌즈 (22a) 로부터의 광을 집광하지 않는 비집광부에 외광흡수층을 형성하는 경우도 있다.
도 3 은 배면투사형 스크린에 사용되는 프레넬 렌즈시트 (21) 의 모식도이다. 도면에 나타나는 바와 같이 프레넬 렌즈시트 (21) 에는 광의 투과영역과 불투과영역이 존재한다. 또, 도 4 는 배면투사형 스크린에 사용되는 렌티큘러 렌즈시트 (22) 의 모식도를 나타낸다. 도면에 나타나는 바와 같이 광의 투과영역과 불투과영역이 존재한다. 이들 광의 투과영역은 명부 (明部) 가 되고, 광의 불투과영역은 암부 (暗部) 가 된다. 양 렌즈시트에 이 같은 광의 투과영역과 불투과영역이 존재함에 따라 무아레라 불리는 특유한 패턴이 발생하는 것이 알 려져 있다. 한편 LCD 등의 화소에도 주기적인 불투과영역이 존재한다.
종래, 프레넬 렌즈 (21a) 와 렌티큘러 렌즈 (22a) 사이에서 발생하는 무아레는 각각의 렌즈피치 (PL, PF) 에 관하여 PL/PF 의 비를 적절하게 함으로써 저감시킬 수 있는 것이 알려졌다 (일본 특개소59-95525 호, 일본 특개소60-263932 호, 일본 특개평3-149540 호). 또, LCD 등의 화소를 갖는 화상인 경우에는 화소와 렌티큘러 렌즈 (22a) 사이에서 발생하는 무아레를 저감시키기 위하여 마찬가지로 화소의 피치와 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 피치비 (PS/PL) 를 적절하게 하는 것이 실시되었다 (일본 특개평3-168630 호, 일본 특개소62-236282 호, 일본 특개평2-97991 호). 또한, 일본 특개평2-97991 호에서는 스크린의 주기방향의 피치와 화소피치의 피치비를 적절하게 하는 취지가 개시되어 있지만, 스크린의 주기방향의 피치란 렌티큘러 렌즈의 피치를 가리키고 있고, 본 발명의 사상은 개시되어 있지 않다.
그런데, 화소를 갖는 라이트벌브 (light bulb)로부터 투사된 화상을 렌티큘러 렌즈와 프레넬 렌즈를 통하여 관찰한 경우, 종래 알려진 렌티큘러 렌즈피치와 프레넬 렌즈피치의 최적화 및 렌티큘러 렌즈피치와 화소피치의 최적화를 실시한 경우라도 무아레 패턴이 발생한다는 문제점이 있는 것을 알았다.
따라서, 본 발명의 목적은 무아레 패턴의 발생을 저감시킨 배면투사형 스크린 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 관한 배면투사형 스크린은 프레넬 렌즈 (예를 들어, 본 실시 형태에 있어서의 프레넬 렌즈 (21a)) 와 렌티큘러 렌즈 (예를 들어, 본 실시 형태에 있어서의 렌티큘러 렌즈 (22a)) 를 구비하고, 화소를 갖는 라이트벌브 (예를 들어, 본 실시 형태에 있어서의 액정프로젝터 (1) 의 액정패널) 와 함께 사용되는 배면투사형 스크린 (예를 들어, 본 실시 형태에 있어서의 배면투사형 스크린 (2)) 으로서, 프레넬 렌즈의 렌즈피치를 PF (mm) 로 하고, 렌티큘러 렌즈의 렌즈피치를 PL (mm) 로 하고, 라이트벌브의 화소피치를 PS (mm) 로 하였을 때, 다음 수학식 1과 수학식 2에 나타내는 부차적인 무아레피치 (PMM) 가 3 mm 이하가 되는 렌즈피치를 갖는 것이다.
Figure 112001022252480-pat00001
Figure 112001022252480-pat00019
(단, i, j 는 자연수)
이에 의해, 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 화소의 3 자 요소에 의해 발생하는 무아레의 발생을 저감시킬 수 있다.
상술한 본 발명에 관한 배면투사형 스크린에 있어서, i 및 j 를 5 이하의 자 연수로 해도 된다. 이에 의해, 무아레 강도가 높은 차수의 공간주파수에 관한 무아레의 발생을 억제할 수 있다.
또, 본 발명에 관한 배면투사형 스크린은 액정패널과 함께 사용되는 것으로 해도 된다.
한편, 본 발명에 관한 배면투사형 스크린의 제조방법은 프레넬 렌즈와 렌티큘러 렌즈를 구비하고, 화소를 갖는 라이트벌브와 함께 사용되는 배면투사형 스크린의 제조방법으로서, 상기 프레넬 렌즈의 렌즈피치와, 상기 렌티큘러 렌즈의 렌즈피치에 근거하여 당해 프레넬 렌즈와 당해 렌티큘러 렌즈에 의해 발생하는 무아레의 무아레피치를 산출하는 제 1 단계와, 제 1 단계에 의해 산출된 무아레피치와 상기 라이트벌브의 화소피치에 근거하여 추가로 무아레피치를 산출하는 제 2 단계와, 상기 제 2 단계에 의해 산출된 무아레피치의 값이 소정값 이하가 되도록 각 렌즈피치를 설정하는 제 3 단계와, 상기 제 3 단계에 의해 설정된 렌즈피치의 값에 근거하여 상기 프레넬 렌즈 및 상기 렌티큘러 렌즈를 제조하는 제 4 단계를 구비한 것이다.
이에 의해, 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 화소의 3 자 요소에 의해 발생하는 무아레의 발생을 저감시킨 배면투사형 스크린을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 배면투사형 스크린의 제조방법은, 프레넬 렌즈와 렌티큘러 렌즈를 구비하고, 화소를 갖는 라이트벌브와 함께 사용되는 배면투사형 스크린의 제조방법으로서, 프레넬 렌즈의 렌즈피치를 PF 로 하고, 렌티큘러 렌즈의 렌즈 피치를 PL 로 하고, 라이트벌브의 화소피치를 PS 로 하였을 때, 다음 수학식 3과 수학식 4에 의해 산출된 부차적인 무아레피치 (PMM) 의 값이 소정값 이하가 되도록 각 렌즈피치를 설정하고, 설정된 렌즈피치의 값에 근거하여 프레넬 렌즈 및 렌티큘러 렌즈를 제조하는 것이다.
Figure 112001022252480-pat00003
Figure 112001022252480-pat00020
(단, i, j 는 자연수)
이에 의해, 프레넬 렌즈, 렌티큘러 렌즈, 화소의 3 자 요소에 의해 발생하는 무아레의 발생을 저감시킨 배면투사형 스크린을 제조할 수 있다.
상술한 본 발명에 관한 배면투사형 스크린의 제조방법에 있어서, 부차적인 무아레피치 (PMM) 의 값이 3 mm 이하가 되도록 각 렌즈피치를 설정하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 보다 효과적으로 무아레의 발생을 저감시킨 배면투사형 스크린을 제조할 수 있다.
상술한 본 발명에 관한 배면투사형 스크린의 제조방법에 있어서, i 및 j 를 5 이하의 자연수로 해도 된다. 이에 의해 무아레 강도가 높은 차수의 공간주파 수에 관한 무아레의 발생을 억제한 배면투사형 스크린을 제조할 수 있다.
(발명의 실시 형태)
종래, 무아레에 관하여 알려진 사실은 상술한 바와 같이 렌티큘러 렌즈 (22a) 와 프레넬 렌즈 (21a) 또는 렌티큘러 렌즈 (22a) 와 화소의 각각 2 자 요소사이에서의 무아레의 발생에 관해서이고, 렌티큘러 렌즈 (22a) 와 프레넬 렌즈 (21a) 와 화소의 3 자 요소 사이에서의 무아레의 발생에 관해서는 그 원리 및 해결방법은 알려져 있지 않았다. 본 발명에서 알 수 있는 것은 2 자 요소 사이에서 발생하는 무아레가 추가로 다른 광불투과영역을 갖는 것과의 사이에서 무아레를 발생시킨다는 것으로서, 그 새롭게 발생하는 무아레도 최적화할 수 있다는 것이다.
렌티큘러 렌즈 (22a) 와 프레넬 렌즈 (21a) 사이에서 발생하는 무아레의 피치 (PM (mm)) 는 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 피치 (PL (mm)) 및 프레넬 렌즈 (21a) 의 피치 (PF (mm)) 에 의해 다음 수학식 5 와 같이 나타낼 수 있다.
Figure 112001022252480-pat00021
단, i, j 는 5 이하의 자연수이다.
또, 화소와 렌티큘러 렌즈 (22a) 와 프레넬 렌즈 (21a) 의 3 자 요소 사이에서 발생하는 부차적인 무아레의 피치 (PMM (mm)) 는 화소피치를 PS (mm) 로 하면 다음 수학식 6 과 같이 나타낼 수 있다.
Figure 112001022252480-pat00006
이 무아레피치 (PMM) 가 3 (mm) 이하이면 된다는 것을 알았다.
또한, 이 발명의 실시 형태에 관하여 상세하게 설명한다. 예를 들어, 프레넬 렌즈 (21a) 와 렌티큘러 렌즈 (22a) 사이에서 발생하는 무아레 (PM) 는 상술한 바와 같이 수학식 5 로 표시된다. 여기에서, i = 1 인 경우 프레넬 렌즈 (21a) 의 렌즈피치의 공간주파수의 기본파를 나타내고, 무아레피치 (PM) 는 PL = jPF 가 되었을 때, 최대가 된다. 즉, 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 렌즈피치가 프레넬 렌즈 (21a) 의 렌즈피치의 정수배가 되면, 눈에 띄기 쉬운 무아레가 발생한다.
이어서, i = 2 인 경우를 생각한다. i = 2 는 프레넬 렌즈 (21a) 의 렌즈피치의 공간주파수의 2 배파를 나타내고, 무아레피치 (PM) 는 PL = 0.5 ×jPF 로 되었을 때, 최대가 된다. 즉, 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 렌즈피치가 프레넬 렌즈 (21a) 의 렌즈피치의 1/2 배의 정수배가 되면, 눈에 띄기 쉬운 무아레가 발생한다. 마찬가지로 n = 3 인 경우는 3 배의 고조파이고, n = 4 의 경우는 4 배의 고조파가 된다. 이 때, 각각 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 렌즈피치가 프레넬 렌즈 (21a) 의 렌즈피치의 1/3 배, 1/4 배의 정수배가 되면, 눈에 띄기 쉬운 무아레가 발생한다. 또한, 5 배 고조파도 마찬가지이다.
여기에서, 상술한 수학식 5 를 렌티큘러 렌즈의 피치 (PL) 로 규격화하기 위 하여 다음에 나타내는 수학식 7 로 변형한다.
Figure 112001022252480-pat00007
이 수학식 7 에 있어서, i = 1 로 한 경우의 PF/PL 과 PM/PL 의 관계를 도 5 에 나타낸다. 이 도면에서는, 특히 j = 1, 2, 3, 4, 5 인 경우에 관하여 그 관계를 나타내고 있다.
일반적으로 배면투사형 스크린으로서 사용하는 경우에는 눈에 띄기 쉬운 무아레가 발생하는 상기한 바와 같은 조합은 피하고, 서로가 정수배가 되지 않는 조합을 선택하고 있다. 그런데, 이 같은 경우에 있어서도 무아레는 전혀 나타나지 않는 것은 아니며, 수학식 5 에서 나타내는 피치의 무아레는 발생하고 있다. 통상은 이 무아레의 피치가 작거나 또는 스크린의 광확산작용에 의해 눈에 띄기 어렵게 되어 있을 뿐이다.
이 같은 상태에서 또한 제 3 광불투과영역을 갖는 것이 있는 경우에는 눈에 띄기 어려웠던 무아레가 제 3 광불투과영역에 의해 샘플링되게 되어 화상으로서 문제가 되는 무아레가 발생하게 된다. 특히, 문제가 되는 경우는 화소피치가 1 (mm) 정도인 경우이다. 예를 들어, 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 피치가 0.3 (mm), 프레넬 렌즈 (21a) 의 피치가 0.111 (mm) 인 경우, 수학식 5 로부터 i = 3, i = 1 일 때 양자에서 발생하는 무아레는 1 차 고조파에서 1.009 (mm) 이다. 이 무아레는 1 (mm) 정도의 것으로 문제가 되지 않지만, 이 무아레와 화소 사이에서 새롭 게 발생하는 부차적인 무아레는 수학식 6 으로부터 100 (mm) 이상의 매우 눈에 띄는 무아레가 된다.
여기에서, 수학식 6 에 있어서의 무아레피치와 화소피치의 비 (PM/PS) 와, 부차적인 무아레피치와 화소피치의 비 (PMM/PS) 의 관계를 도 6 에 나타낸다.
한편, 상기의 예에서는 i, j 모두 5 이하의 자연수의 경우였지만, 이들의 수치가 커진 경우에는 렌즈피치 (또는 화소피치) 의 고조파에 의해 무아레가 발생하게 되고 그 무아레 강도는 매우 작아지게 된다. 통상의 스크린의 확산특성을 갖는 경우이면, i, j 로서는 6 이상의 경우는 무시할 수 있는 무아레 강도이다.
이 같이 렌티큘러 렌즈 (22a) 와 프레넬 렌즈 (21a) 사이에서 발생하는 무아레의 피치가 화소피치에 가까와지지 않도록 렌티큘러 렌즈피치와 프레넬 렌즈피치의 조합을 선정하면 3 자 요소에 의한 무아레를 억제하는 것이 가능해진다.
이 같이 하여 렌즈피치를 설정하고, 설정된 렌즈피치의 값에 근거하여 각 렌즈를 제조하여 배면투사형 스크린을 제조한다.
3 자 요소에서 발생하는 무아레의 다른 예로서는 수직 렌티큘러 렌즈 (22a) 가 설치되어 있는 경우가 있다. 이 예를 도 7 에 나타낸다. 도 7 에 나타나는 바와 같이 수직 렌티큘러 렌즈 (22a) 는 시트의 광입사면측에 설치되고, 프레넬 렌즈 (21a) 는 시트의 광출사면측에 설치되어 있다. 또, 프레넬 렌즈 (21a) 측에는 평면판에 확산제가 혼입된 확산판 (23) 이 설치되어 있다. 이 경우에 있어서도, 수직 렌티큘러 렌즈 / 프레넬 렌즈 / 화소의 3 자 요소에 의해 무아레가 발생하는 경우가 있다. 이 때, 무아레는 스크린 수직방향으로 발생한다. 이 같은 경우에도 본 발명을 적용하는 것은 가능하고, 상기 3 자 요소의 조합을 수학식 와 수학식 6 에 따라 설정하면 된다. 또한, 수직 렌티큘러 렌즈 (22a) 를 사용한 경우의 화소피치는 광을 확산하는 방향, 즉 스크린의 종방향이다.
또한, 상술한 예에서는 프로젝터의 예로서 액정프로젝터 (1) 를 설명하였지만, 이에 한정되지 않고 DMD (Digital Micromirror Device) 프로젝터 등 화소 또는 화소에 상당하는 구성을 갖는 프로젝터와 함께 사용되는 배면투사형 스크린이면 적용가능하다.
또, 상술한 예에서는 배면투사형 스크린을 프레넬 렌즈시트 (21) 와 렌티큘러 렌즈시트 (22) 의 2 장 구성 등을 사용하였지만, 이에 한정되지 않는다. 1 장 구성인 경우, 입사면에 프레넬 렌즈 (21a) 를, 출사면에 렌티큘러 렌즈 (22a) 를 설치한다. 또, 2 장 구성의 경우라도 프레넬 렌즈 (21a) 와 렌티큘러 렌즈 (22a) 의 조합을 여러 가지의 것으로 해도 된다. 예를 들어, 1 장째의 입사면에 프레넬 렌즈 (21a) 를, 출사면을 평면 또는 수직 렌티큘러 렌즈 (22a) 를 설치하고, 2 장째의 입사면을 평면으로 하고, 출사면에 수평 렌티큘러 렌즈 (22a) 를 설치해도 된다. 또, 1 장째의 입사면에 수직 렌티큘러 렌즈 (22a) 를, 출사면에 프레넬 렌즈 (21a) 를 설치하고, 2 장째의 입사면에 수평 렌티큘러 렌즈 (22a) 를, 출사면을 평면으로 하는 경우도 있다.
또한, 상술한 수학식 5 및 식 6 에 의해 각 렌즈의 렌즈피치를 설정하는 경우에 있어서는 특별히 계산의 순서는 상관없다.
또한, 상술한 예에 있어서는, 또한 프레넬 렌즈피치를 화소피치의 1/3.3 배 이하로 하면 더욱 무아레 발생을 억제할 수 있다.
실시예
본 발명에 의하면, 상술한 바와 같이 3 자 요소에서 무아레를 발생시킬 가능성이 있는 경우에 있어서도 실용상 문제가 되지 않는 무아레로 할 수 있다. 이하에 구체예를 들어 설명한다.
실시예 1
이 예에서는 렌티큘러 렌즈피치를 0.178 (mm), 프레넬 렌즈피치를 0.100 (mm), 화소피치를 1.11 (mm) 로 한 경우의 무아레를 확인하였다. 이 조건에 있어서, 렌티큘러 렌즈 (22a) 와 프레넬 렌즈 (21a) 의 무아레 (PM) 는 수학식 5 로부터 0.809 (mm) 가 구해진다. 단, i = 1, j = 2 인 경우일 때이다. 또, 수학식 5, 6 에 의해 구하는 3 자 요소에 의한 무아레 (PMM) 는 2.99 (mm) 였다. 화상에 의해 확인한 결과, 스크린 횡방향에 문제가 되는 무아레는 없었다.
실시예 2
이 예에서는 렌티큘러 렌즈피치를 0.178 (mm), 프레넬 렌즈피치를 0.1124 (mm), 화소피치를 1.11 (mm) 로 한 경우의 무아레를 확인하였다. 이 조건에 있어서, 렌티큘러 렌즈 (22a) 와 프레넬 렌즈 (21a) 의 무아레 (PM) 는 수학식 5 로부터 1.064 (mm) 가 구해진다. 단, i = 2, j = 3 인 경우일 때이다. 또, 수학식 5, 6 에 의해 구하는 3 자 요소에 의한 무아레 (PMM) 는 25 (mm) 였다. 화 상에 의해 확인한 결과, 스크린 횡방향에 강한 무아레를 확인할 수 있었다.
본 발명에 의해, 무아레 패턴의 발생을 저감시킨 배면투사형 스크린 및 그 제조방법을 제공할 수 있다.

Claims (7)

  1. 프레넬 렌즈와 렌티큘러 렌즈를 구비하고, 화소를 갖는 라이트벌브와 함께 사용되는 배면투사형 스크린으로서,
    상기 프레넬 렌즈의 렌즈피치를 PF (mm) 로 하고, 상기 렌티큘러 렌즈의 렌즈피치를 PL (mm) 로 하고, 상기 라이트벌브의 화소피치를 PS (mm) 로 하였을 때, 다음 수학식 8과 수학식 9에 나타내는 부차적인 무아레피치 (PMM) 가 3 mm 이하가 되는 렌즈피치를 갖는 것을 특징으로 하는 배면투사형 스크린.
    Figure 112001022252480-pat00008
    Figure 112001022252480-pat00022
    (단, i, j 는 자연수)
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 i 및 j 는 5 이하의 자연수인 것을 특징으로 하는 배면투사형 스크린.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 배면투사형 스크린은 액정패널과 함께 사용되는 것을 특징으로 하는 배면투사형 스크린.
  4. 프레넬 렌즈와 렌티큘러 렌즈를 구비하고, 화소를 갖는 라이트벌브와 함께 사용되는 배면투사형 스크린의 제조방법으로서,
    상기 프레넬 렌즈의 렌즈피치와, 상기 렌티큘러 렌즈의 렌즈피치에 근거하여 당해 프레넬 렌즈와 당해 렌티큘러 렌즈에 의해 발생하는 무아레의 무아레피치를 산출하는 제 1 단계와,
    제 1 단계에 의해 산출된 무아레피치와 상기 라이트벌브의 화소피치에 근거하여 추가로 무아레피치를 산출하는 제 2 단계와,
    상기 제 2 단계에 의해 산출된 무아레피치의 값이 소정값 이하가 되도록 각 렌즈피치를 설정하는 제 3 단계와,
    상기 제 3 단계에 의해 설정된 렌즈피치의 값에 근거하여 상기 프레넬 렌즈 및 상기 렌티큘러 렌즈를 제조하는 제 4 단계를 구비한 것을 특징으로 하는 배면투사형 스크린의 제조방법.
  5. 프레넬 렌즈와 렌티큘러 렌즈를 구비하고, 화소를 갖는 라이트벌브와 함께 사용되는 배면투사형 스크린의 제조방법으로서,
    상기 프레넬 렌즈의 렌즈피치를 PF 로 하고, 상기 렌티큘러 렌즈의 렌즈피치 를 PL 로 하고, 상기 라이트벌브의 화소피치를 PS 로 하였을 때, 다음 수학식 10과 수학식 11에 의해 산출된 부차적인 무아레피치 (PMM) 의 값이 소정값 이하가 되도록 각 렌즈피치를 설정하고, 설정된 렌즈피치의 값에 근거하여 상기 프레넬 렌즈 및 상기 렌티큘러 렌즈를 제조하는 것을 특징으로 하는 배면투사형 스크린의 제조방법.
    Figure 112001022252480-pat00010
    Figure 112001022252480-pat00023
    (단, i, j 는 자연수)
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 부차적인 무아레피치 (PMM) 의 값이 3 mm 이하가 되도록 각 렌즈피치를 설정한 것을 특징으로 하는 배면투사형 스크린의 제조방법.
  7. 제 5 항에 있어서, 상기 i 및 j 는 5 이하의 자연수인 것을 특징으로 하는 배면투사형 스크린의 제조방법.
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