KR100601169B1 - 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 - Google Patents

Abstract

절연 기판 위에 게이트선과 데이터선이 게이트 절연막을 매개로 교차하고 있고, 데이터선 상부에는 데이터 보조선이 보호 절연막을 매개로 하여 형성되어 있다. 이 데이터 보조선은 화소 전극과 동일한 물질인 ITO로 형성되어 있으며, 보호 절연막에 뚫린 접촉구를 통하여 데이터선과 접촉되어 있다. 또한, 데이터 보조선 상부에는 포토 레지스트 패턴이 덮여 있다. 이때, 포토 레지스트 패턴은 데이터 보조선의 가장자리까지 완전히 덮이도록 하고, 그 두께는 3,000Å 이상, 바람직하게는 3,000Å∼5,000Å이다. 따라서, 상부 대향 기판의 투명 전극이 데이터 보조선과 전기적으로 연결되는 것을 방지할 수 있다.

데이터선, 단선, 단락, 데이터 보조선, ITO, 포토레지스트, 사진 식각, 마스크

Description

액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법{a thin film transistor substrate for a liquid crystal display and a manufacturing method thereof}

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 배선도이고,

도 2 및 도 3는 도 1의 II-II' 및 III-III' 선에 대한 단면도이고,

도 4은 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 배선도이고,

도 5은 도 4의 V-V' 선에 대한 단면도이고,

도 6a 내지 도 11b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판을 제조하는 방법을 공정 순서에 따라 도시한 평면도 및 단면도이다.

본 발명은 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.

일반적으로 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 기판은 주사 신호가 전달되는 다수의 게이트선, 화상 신호가 전달되며 게이트선과 교차하는 다수의 데이터선, 게이트선과 데이터선이 교차하는 부분에 의해 정의되는 화소 영역과 그 내에 형성되어 있는 박막 트랜지스터를 포함한다. 이러한 구조는 얇은 막을 한층씩 쌓아 형성하는데 여러 겹의 막이 겹치는 부분에서는 부분적으로 막이 끊길 수도 있다.

종래에는 게이트선과 데이터선이 교차하는 부분에만 데이터선을 이중화하거나, 데이터선 패턴을 따라 그 상부 또는 하부에 별도의 금속을 증착하고 패터닝하여 보조선을 더 형성하여 데이터선을 이중화함으로써 데이터선 불량을 감소시켰다.

첫 번째 방법의 경우, 게이트선과 데이터선이 교차하는 부분 이외에서 데이터선이 단선되는 경우 별도의 수리선을 써서 수리하여 주어야 한다. 또한, 이 수리 과정에서 레이저 접합 공정이 필요하게 되어 고정세의 표시 장치에 적용하는 것이 어렵다.

두 번째 방법의 경우, 보조선을 형성하기 위해서 별도의 금속을 증착하고 패터닝하여야 하며, 보조선과 데이터선을 연결하기 위한 절연막 식각 공정이 또한 추가되어야 하는 번거로움이 있다.

한편, 보조선이 데이터선 상부에 위치하고 보조선 상부에 별도의 절연막이 형성되어 있지 않은 경우, 데이터선과 보조선이 겹쳐지는 부분에서 보조선이 상부 대향 기판의 투명 전극과 전기적으로 단락이 발생할 가능성이 있다.

본 발명에서는 데이터선 단선 불량을 줄일 수 있는 보조선 구조를 공정을 추 가하지 않고 실현하는 것을 과제로 한다.

본 발명에서는 박막 트랜지스터 기판과 상부 대향 기판이 전기적으로 단락되는 것을 방지하는 것이다.

이러한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치에서는 데이터선 상부에 형성되어 있는 보조 배선이 상부 대향 기판의 공통 전극과 단락되지 않도록 보조 배선 상부에 포토 레지스트막이 잔류하도록 한다.

본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치에서는 절연 기판 위에 가로 방향으로 게이트선이 형성되어 있고, 그 위에 게이트 절연막이 덮여 있으며, 게이트 절연막 위에는 세로 방향으로 데이터선이 형성되어 있다. 데이터선은 보호 절연막에 의해 덮여 있고, 보호 절연막 위에는 데이터선과 전기적으로 연결되어 있는 제1 보조 배선이 형성되어 있으며, 제1 보조 배선 위에는 포토 레지스트 패턴이 형성되어 있다.

여기에서, 제1 보조 배선은 세로 방향으로 데이터선 상부에 형성되어 있으며, ITO로 형성되어 있을 수 있다.

또한, 제1 보조 배선은 데이터선과 게이트선의 교차부에 형성되어 있을 수 있는데, 이 경우 게이트선과 동일한 층에 게이트선을 중심으로 분리되어 있는 세로 방향의 제2 보조 배선을 더 포함하는 것이 바람직하다. 이 제1 보조 배선은 게이트선의 양쪽에 위치하는 제2 보조 배선과 전기적으로 연결되는 것이 바람직한데, 게이트 절연막 및 보호 절연막에 뚫려 있는 접촉구를 통해 데이터선 및 제2 보조 배선과 직접 연결될 수도 있다.

포토 레지스트 패턴은 제1 보조 배선의 가장자리를 덮도록 하여 제1 보조 배선의 측면을 통해 상부 대향 기판의 공통 전극과 제1 보조 배선이 단락되는 것을 막는다.

포토 레지스트 패턴의 두께는 3,000Å∼5,000Å 정도가 바람직하다.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에서는 절연 기판 위에 게이트선을 형성하고, 게이트선 위에 게이트 절연막을 증착한 다음, 게이트 절연막 위에 데이터선을 형성한다. 데이터선 위에 보호막을 증착하고, 그 위에 투명 도전막을 증착한 다음, 제1 두께의 포토 레지스트막을 도포한다. 이 포토 레지스트막을 사진 식각하여 제1 데이터 보조 배선을 형성하기 위한 제1 포토 레지스트 패턴 및 화소 전극을 형성하기 위한 제2 포토 레지스트 패턴을 각각 제1 두께 및 제1 두께보다 얇은 제2 두께로 동시에 형성하고, 제1 및 제2 포토 레지스트 패턴을 마스크로 하여 투명 도전막을 식각하여 제1 데이터 보조 배선 및 화소 전극을 형성한다. 다음, 제1 및 제2 포토 레지스트 패턴을 애싱하여, 화소 전극 상부의 제2 포토 레지스트 패턴은 모두 제거하고 제1 데이터 보조 배선 상부의 제1 포토 레지스트 패턴은 제1 두께보다 얇은 제3 두께를 남긴다.

제3 두께로 남은 제1 포토 레지스트 패턴을 리플로우시켜 제1 데이터 보조선의 가장자리를 덮도록 할 수도 있다. 이때, 제3 두께는 3,000Å∼5,000Å인 것이 바람직하다.

포토 레지스트막은 유기 절연 포토 레지스트막으로 형성할 수도 있다.

제1 데이터 보조 배선은 데이터선을 따라 그 상부에 놓이도록 형성하거나, 데이터선과 게이트선의 교차부에 형성할 수 있다. 그 교차부에 제1 데이터 보조 배선이 형성되는 경우, 게이트선을 중심으로 양쪽으로 분리된 제2 데이터 보조 배선을 게이트선과 동시에 형성하는 것이 바람직하다.

보호막 및 게이트 절연막을 식각하여 데이터선을 드러내는 제1 접촉구, 제2 데이터 보조 배선의 양쪽 끝단을 각각 드러내는 제2 및 제3 접촉구를 형성하여, 제1 데이터 보조 배선이 제1 내지 제3 접촉구를 통해 데이터선 및 제2 데이터 보조 배선의 양쪽 끝단과 각각 연결되도록 하는 것이 좋다. 또한, 제2 데이터 보조 배선의 양쪽 끝단은 데이터선으로부터 일정 각도 비껴 나오도록 패터닝할 수 있다.

이처럼, 데이터 보조선 상부에 데이터 보조선을 덮는 포토 레지스트 패턴을 둠으로써, 상부 기판과 하부 기판의 전기적 단락을 방지할 수 있다. 이 포토 레지스트 패턴을 화소 전극을 패터닝하기 위한 사진 식각 단계에서 동시에 이루어지기 때문에 공정이 추가되지 않는다.

그러면, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세하게 설명한다.

먼저, 도 1 내지 도 3을 참고로 하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판에 대하여 설명한다.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 배선도이고, 도 2 및 도 3은 도 1의 II-II' 및 III-III' 선에 대한 단면도로 서, 보조선이 게이트 배선용 금속으로 데이터선 하부에 형성되어 있고, 이 보조선은 게이트선을 중심으로 분리되어 있으며, 데이터선과 게이트선 교차부에는 게이트선 양쪽의 보조선을 데이터선과 전기적으로 연결하는 ITO 연결 패턴이 형성되어 있는 구조를 보여준다. 이때, ITO 연결 패턴은 포토 레지스트(photo-resist)막으로 덮여 있다.

도 1 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 절연 기판(10) 위에 가로 방향으로 다수의 게이트선(110)이 형성되어 있고, 인접한 두 게이트선(110)의 사이에는 세로 방향으로 데이터 보조선(120)이 형성되어 있다. 즉, 데이터 보조선(120)은 게이트선(110)과 접촉하지 않도록 게이트선(110)을 중심으로 분리되어 있다. 또한, 데이터 보조선(120)의 양 끝 부분은 세로 방향으로부터 일정 각도로 비껴 나와 있다.

게이트선(110)과 데이터 보조선(120) 상부에는 게이트 절연막(20)이 덮여 있으며, 게이트 절연막(20) 위에는 비정질 실리콘으로 이루어진 반도체층(210)이 게이트선(110) 상부에 형성되어 있다. 또한, 게이트 절연막(20) 위에는 데이터선(310)이 세로 방향으로 보조선(120) 상부에 형성되어 있고, 데이터선(310)으로부터 연장된 소스 전극(320)이 반도체층(210) 위로 연장되어 게이트선(110)의 가장자리와 중첩되며, 게이트선(110)을 중심으로 소스 전극(320)의 맞은 편에는 드레인 전극(330)이 게이트 절연막(20) 및 반도체층(200) 위에 형성되어 있다. 한편, 데이터선(310), 소스 및 드레인 전극(320, 330)과 반도체층(200) 사이에는 도핑된 비정질 실리콘으로 이루어진 저항성 접촉층(211)이 형성되어 있다.

그 위에는 보호 절연막(30)이 형성되어 있고, 보호 절연막(30) 위에는 게이트선(110)과 데이터선(310)으로 둘러싸인 화소 내에 투명한 화소 전극(410)이 형성되어 있다. 이 화소 전극(410)은 ITO (indium-tin-oxide)로 이루어져 있으며, 보호 절연막(30)에 뚫린 접촉구(C1)를 통해 드레인 전극(330)과 연결되어 있다. 또한, 보호 절연막(30) 위에는 화소 전극(410)과 동일한 물질로 도전 연결 패턴(420)이 게이트선(110)과 데이터선(310)의 교차부를 가로 질러 형성되어 있다. 이 도전 연결 패턴(420)은 하나의 게이트선(110)을 중심으로 양쪽에 위치하는 데이터 보조선(120)과 동시에 중첩하고 있고, 게이트 절연막(20) 및 보호 절연막(30)에 뚫린 접촉구(C3, C4)를 통해 보조선(120)의 끝 부분과 각각 연결되어 있으며, 보호 절연막(30)에 뚫린 접촉구(C2)를 통해서 데이터선(310)과 연결되어 있다.

도전 연결 패턴(420) 위에는 포토 레지스트 패턴(510)이 도전 연결 패턴(420)을 덮는 형태로 형성되어 있다. 이 포토 레지스트 패턴(510)은 차광막의 역할을 할 수 있는 유기 절연 포토 레지스트막 또는 검은색 안료가 섞인 포토 레지스트막으로 형성될 수도 있다.

이상에서와 같이, 여러 층의 막이 쌓이기 때문에 막이 끊길 우려가 있는 게이트선(110)과 데이터선(310)의 교차점 부근에 앞 서 설명한 형태의 도전 연결 패턴(420)이 형성되어 있으므로 교차점에서 데이터선(310)이 끊기더라도 데이터 보조선(120)과 연결되어 있는 도전 연결 패턴(420)을 따라 신호가 전달될 수 있다. 따라서, 데이터선이 단선됨으로써 생기는 결함을 제거할 수 있다.

또한, 화소 전극(410)과 도전 연결 패턴(420) 상부에 별도의 절연막을 두지 않는 제1 실시예에 따른 구조에서, 도전 연결 패턴(420)은 포토 레지스트 패턴(510)으로 덮여 있으므로, 대향 기판이 대응된 이후에 대향 기판의 투명 전극(도시하지 않음)이 도전 연결 패턴(420)과 전기적으로 연결되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 데이터선(310)에 상부 대향 기판의 공통 전압이 인가되어 생기는 결함을 제거할 수 있다.

제1 실시예에서와 같은 포토 레지스트 패턴을 이용한 구조는, 데이터 보조선 및 이를 연결하는 도전 연결 패턴을 이용하지 않고, 데이터선을 따라 그 상부에 형성된 단일 ITO 보조선을 이용하는 경우에도 적용될 수 있다.

다음은 도 4 및 도 5를 참고로 하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판에 대하여 설명한다.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판의 배선도이고, 도 5는 도 4의 V-V'선에 대한 단면도이다.

제1 실시예에서와 유사하게 절연 기판(10) 위에 게이트선(110), 게이트 절연막(20), 반도체층(201), 저항성 접촉층(211), 보호 절연막(30), 데이터선(310), 소스 및 드레인 전극(320, 330), 화소 전극(410) 등이 형성되어 있다.

제2 실시예에서는, 도 4 및 도 5에 도시한 바와 같이, 데이터 보조선(430)이 데이터선(310) 상부에 데이터선(310)을 따라 세로 방향으로 형성되어 있다. 이 데이터 보조선(430)은 화소 전극(410)과 동일한 물질인 ITO로 형성되어 있으며, 보호 절연막(30)에 뚫린 접촉구(C5)를 통하여 데이터선(310)과 접촉되어 있다. 또한, 데이터 보조선(430) 상부에는 포토 레지스트 패턴(520)이 덮여 있다. 이때, 포토 레지스트 패턴(520)은 데이터 보조선(430)의 가장자리까지 완전히 덮이도록 하고, 그 두께는 3,000Å 이상, 바람직하게는 3,000Å∼5,000Å으로 한다.

이와 같이, 데이터선(310) 상부에 위치하는 ITO 데이터 보조선(430)이 포토 레지스트 패턴(520)으로 덮여 있으므로, 상부 대향 기판의 투명 전극(도시하지 않음)이 데이터 보조선(520)과 전기적으로 연결되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 데이터선(310)에 상부 대향 기판의 공통 전압이 인가되어 생기는 결함을 제거할 수 있다.

그러면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판을 제조하는 방법에 대하여 다음에서 설명한다.

도 6a 내지 도 11b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판을 제조하는 방법을 공정 순서에 따라 도시한 평면도 및 단면도로서, 노광량을 조절하기 위한 슬릿이 부분적으로 형성된 마스크를 이용하여 포토 레지스트막을 노광하여 데이터 보조선이 형성될 부분에는 포토 레지스트막이 노광되지 않도록 하고 화소 전극이 형성될 부분에는 일정한 정도의 노광이 되도록 한 후 패터닝하여, 화소 전극과 데이터 보조선 형성을 위한 포토 레지스트막 패턴을 형성한 다음, 잔류하는 포토 레지스트막 패턴을 애싱하여 데이터 보조선 상부에만 포토 레지스트막 패턴을 남기는 것을 특징으로 한다.

먼저, 도 6a 및 도 6b에서와 같이, 절연 기판(10) 위에 게이트 배선용 금속막을 증착하고 패터닝하여, 게이트선(110)을 형성한다.

그 위에, 게이트 절연막(20), 비정질 실리콘막과 같은 반도체막(210) 및 도핑된 비정질 실리콘막과 같은 저항성 접촉층(211)을 연속적으로 적층한다. 다음, 도 7a 및 도 7b에 도시한 바와 같이, 저항성 접촉층(211)과 반도체막(210)을 동시에 식각하여 게이트선(110) 상부의 게이트 절연막(20) 위에 반도체 패턴을 형성한다.

다음, 도 8a 및 도 8b에 도시한 바와 같이, 데이터 배선용 금속막을 증착하고 패터닝하여, 게이트선(110)과 교차하는 데이터선(310), 데이터선(310)으로부터 연장되어 반도체 패턴의 가장자리와 중첩되는 소스 전극(320), 소스 전극(320)의 반대쪽에서 반도체 패턴의 가장자리와 중첩되는 드레인 전극(330)을 형성한다. 다음, 소스 및 드레인 전극(320, 330) 바깥으로 드러난 저항성 접촉층(211)의 도핑된 비정질 실리콘막을 제거한다.

도 9a 및 도 9b에 도시한 바와 같이, 보호 절연막(30)을 증착하고 식각하여, 드레인 전극(330)을 드러내는 접촉구(C1)를 형성하고, 데이터선(310)을 드러내는 다수의 접촉구(C5)를 형성한다.

다음, 도 10a 내지 도 10c에 도시한 바와 같이, ITO막과 같은 투명 도전막(400)을 증착하고, 그 위에 양의 감광성을 가지는 포토 레지스트막(500)을 1.5∼3μm 정도의 두께로 코팅한다. 이어, 빛의 투과량을 조절하기 위한 슬릿을 가지는 차광막(51)이 형성되어 있는 노광 마스크(40)를 포토 레지스트막(500) 상부에 대응시켜 노광을 실시한다. 이때, 차광막(51)의 슬릿은 노광기의 분해능보다 작은 미세 패턴으로 형성되어 있다.

좀 더 상세히 설명하면, 도 10b에 도시한 바와 같이, 게이트선(110)과 데이터선(310)으로 둘러싸인 화소 영역, 즉 화소 전극이 형성될 부분(B)에는 차광막(51)의 미세 슬릿 패턴이 마주하고, 데이터 보조선이 형성될 부분(C)에는 슬릿 패턴을 가지지 않는 차광막(51)이 마주하도록 노광 마스크(40)를 대응시켜 포토 레지스트막(500)을 노광하면, 화소 전극이 형성될 부분(B)의 포토 레지스트막(500)은 일정한 정도로 노광되고, 데이터 보조선이 형성될 부분(C)의 포토 레지스트막(500)은 노광되지 않으며, 차광 패턴이 형성되어 있지 않은 이 외의 부분(A)에서는 포토 레지스트막(500)이 완전히 노광된다.

포토 레지스트막(500)으로는 음의 감광성을 가지는 포토 레지스트 물질로 형성하는 것이 가능하다. 이 경우에는, 데이터 보조선이 형성될 부분(C)에는 차광막(51)을 대응시키지 않고, 화소 전극이 형성될 부분(B)에는 마찬가지로 차광막(51)의 미세 슬릿 패턴을 대응시키며, 이외의 부분(A)에는 차광막(51)이 상부에 대응되도록 한다.

또한, 포토 레지스트막(500)으로는 유기 절연 포토 레지스트막 또는 블랙 안료가 섞인 포토 레지스트막을 사용할 수 있다. 유기 절연막을 사용하는 경우에는 그 막질이 견고하여 후속 러빙 공정시에 포토 레지스트막이 박리되는 것을 막을 수 있다.

다음, 도 10c에 도시한 바와 같이, 노광된 포토 레지스트막(500)을 현상하여 데이터 보조선을 형성하기 위한 제1 포토 레지스트 패턴(511)과 화소 전극을 형성하기 위한 제2 포토 레지스트 패턴(512)을 형성한다. 이외의 부분의 포토 레지스트막(500)은 제거된다. 이때, 제2 포토 레지스트 패턴(512)은 원래 두께의 반 이하로 잔류한다.

이어, 도 11a 및 도 11b에 도시한 바와 같이, 제1 및 제2 포토 레지스트 패턴(511, 512)을 마스크로 하여 투명 도전막(400)을 식각하여, 게이트선(110)과 데이터선(310)으로 둘러싸인 화소 영역 내에 화소 전극(410)을 형성하고, 데이터선(310)을 따라 그 상부에 데이터 보조선(430)을 형성한다.

다음, 제1 및 제2 포토 레지스트 패턴(511, 512)을 제거하기 위해 애싱(ashing)을 실시한다. 이때, 화소 전극(410) 상부에 잔류하던 제2 포토 레지스트 패턴(512)은 완전히 제거되며, 데이터 보조선(430) 상부에서는 제1 포토 레지스트 패턴(511)이 일정 두께가 잔류한다. 이는, 제1 포토 레지스트 패턴(511)이 제2 포토 레지스트 패턴(512)보다 두꺼운 두께를 가지도록 노광되었기 때문이다.

애싱 이후에 잔류하는 제3 포토 레지스트 패턴(513)의 두께는 상부 대향 기판(도시하지 않음)의 공통 전극(도시하지 않음)과 데이터 보조선(430)이 충분히 절연되도록 3,000Å∼5,000Å로 형성하는 것이 좋다.

마지막으로, 제3 포토 레지스트 패턴(513)을 리플로우(reflow)시키면, 도 4 및 도 5에 도시한 바와 같이 데이터 보조선(430)을 포토 레지스트 패턴(520)이 완전히 덮고 있는 구조가 완성된다.

이와 같이, 데이터선 상부를 따라 중첩하는 ITO 데이터 보조선(430)이 포토 레지스트 패턴으로 덮여 있으므로, 상부 대향 기판의 투명 전극이 데이터 보조선과 전기적으로 연결되는 것을 방지할 수 있어서 데이터선에 공통 전압이 인가되어 생기는 결함을 제거할 수 있다. 뿐만 아니라, 데이터 보조선(430)을 덮는 포토 레지스트 패턴(520)은 화소 전극(430)을 형성하기 위한 제1 포토 레지스트 패턴(511)을 형성하는 단계에서 동시에 형성된 제2 포토 레지스트 패턴(512)을 잔류시키고 리플로우시켜 형성하기 때문에, 별도의 사진 식각 공정을 추가할 필요가 없다.

이상에서는 본 발명의 제2 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에 대하여 설명하였으나, 이러한 방법은 제1 실시예의 구조를 형성하는 데에도 거의 동일하게 적용될 수 있다. 단, 도 1 내지 도 3에 나타난 바와 같이, 게이트선(110)을 형성하는 단계에서 데이터 보조선(120)을 동시에 형성하고, 화소 전극(410)을 형성하는 단계에서 데이터 보조선을 연결하는 투명한 연결 패턴(420)을 게이트선(110)과 데이터선(310)의 교차부에 형성한다는 점이 다르다. 연결 패턴(420)과 데이터 보조선(120)은 패드(도시하지 않음) 또는 드레인 전극(330) 상부의 게이트 절연막(20) 및 보호 절연막(30)에 접촉구(C1)를 뚫는 단계에서 동시에 형성된 접촉구(C2, C3, C4)를 통해 연결된다.

이상에서와 같이, 본 발명의 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에서는 게이트 배선을 형성하는 단계 및/또는 화소 전극을 형성하는 단계에서 데이터 보조 배선을 형성함으로써, 데이터 보조 배선을 형성을 위한 금속 증착 및 식각 공정을 별도로 추가하지 않고도 데이터 단선 불량을 방지하는 보조 배선 구조를 구현할 수 있다. 또한, 화소 전극을 패터닝하기 위한 사진 식각 단계에서 데이터 보조선 상부에 데이터 보조선을 덮는 포토 레지스트 패턴을 형성함으로써, 별도의 사진 식각 공정을 추가하지 않고 박막 트랜지스터 기판과 상부 대향 기판의 전기적 단락을 방지하는 구조를 구현할 수 있다. 따라서, 수율이 향상되고 제조 원가가 절감된다.

Claims (20)

1. 절연 기판,

   상기 기판 위에 제1 방향으로 형성되어 있는 게이트선,

   상기 게이트선을 덮고 있는 게이트 절연막,

   상기 게이트 절연막 위에 제2 방향으로 형성되어 있으며 상기 게이트선과 교차하고 있는 데이터선,

   상기 데이터선을 덮고 있는 보호 절연막,

   상기 보호 절연막 위에 형성되어 있으며 상기 데이터선과 전기적으로 연결되어 있는 제1 보조 배선, 및

   상기 제1 보조 배선 위에 형성되어 있는 포토 레지스트 패턴

   을 포함하는 액정 표시 장치.
2. 제1항에서,

   상기 제1 보조 배선은 상기 제2 방향으로 형성되어 있으며 상기 데이터선 상부에 형성되어 있는 액정 표시 장치.
3. 제2항에서,

   상기 제1 보조 배선은 ITO로 형성되어 있는 액정 표시 장치.
4. 제1항에서,

   상기 제1 보조 배선은 상기 데이터선과 상기 게이트선의 교차부에 형성되어 있는 액정 표시 장치.
5. 제4항에서,

   상기 게이트선과 동일한 층에 상기 제2 방향으로 형성되어 있으며 상기 게이트선을 중심으로 분리되어 있는 제2 보조 배선을 더 포함하며,

   상기 제1 보조 배선은 상기 게이트선의 양쪽에 위치하는 상기 제2 보조 배선과 전기적으로 연결되어 있는 액정 표시 장치.
6. 제5항에서,

   상기 제2 보조 배선의 양쪽 끝단은 상기 제2 방향으로부터 일정 각도 비껴 나와 있는 액정 표시 장치.
7. 제6항에서,

   상기 게이트 절연막 및 상기 보호 절연막에는 상기 데이터선을 드러내는 제1 접촉구, 상기 제2 보조 배선의 양쪽 끝단을 각각 드러내는 제2 및 제3 접촉구가 형성되어 있으며, 상기 제1 보조 배선은 상기 데이터선 및 상기 제2 보조 배선과 상기 제1 내지 제3 접촉구를 통해서 각각 접촉하고 있는 액정 표시 장치.
8. 제4항에서,

   상기 제1 보조 배선은 ITO로 형성되어 있는 액정 표시 장치.
9. 제1항에서,

   상기 포토 레지스트 패턴이 상기 제1 보조 배선의 가장자리를 덮고 있는 액정 표시 장치.
10. 제1항에서,

    상기 포토 레지스트 패턴의 두께는 3,000Å∼15,000Å로 형성되어 있는 액정 표시 장치.
11. 절연 기판 위에 게이트선을 형성하는 단계,

    상기 게이트선 위에 게이트 절연막을 증착하는 단계,

    상기 게이트 절연막 위에 데이터선을 형성하는 단계,

    상기 데이터선 위에 보호막을 증착하는 단계,

    상기 보호막 위에 투명 도전막을 증착하는 단계,

    상기 투명 도전막 위에 제1 두께의 포토 레지스트막을 도포하는 단계,

    상기 포토 레지스트막을 사진 식각하여 제1 데이터 보조 배선을 형성하기 위한 제1 포토 레지스트 패턴 및 화소 전극을 형성하기 위한 제2 포토 레지스트 패턴을 각각 제1 두께 및 상기 제1 두께보다 얇은 제2 두께로 동시에 형성하는 단계,

    상기 제1 및 제2 포토 레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 투명 도전막을 식각하여 제1 데이터 보조 배선 및 화소 전극을 형성하는 단계, 및

    상기 제1 및 제2 포토 레지스트 패턴을 애싱하여, 상기 화소 전극 상부의 상기 제2 포토 레지스트 패턴은 모두 제거하고 상기 제1 데이터 보조 배선 상부의 상기 제1 포토 레지스트 패턴은 상기 제1 두께보다 얇은 제3 두께를 남기는 단계

    를 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
12. 제11항에서,

    상기 제3 두께로 남은 상기 제1 포토 레지스트 패턴을 리플로우시켜 상기 제1 데이터 보조선의 가장자리를 덮도록 하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
13. 제11항에서,

    상기 포토 레지스트막은 유기 절연 포토 레지스트막으로 형성하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
14. 제11항에서,

    상기 제3 두께는 3,000Å∼15,000Å인 액정 표시 장치의 제조 방법.
15. 제11항에서,

    상기 제1 데이터 보조 배선 및 상기 화소 전극은 ITO로 형성하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
16. 제11항에서,

    상기 제1 데이터 보조 배선은 상기 데이터선을 따라 그 상부에 놓이도록 형성하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
17. 제11항에서,

    상기 제1 데이터 보조 배선은 상기 데이터선과 상기 게이트선의 교차부에 형성하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
18. 제17항에서,

    상기 데이터선 하부에 놓이며 상기 게이트선을 중심으로 양쪽으로 분리된 제2 데이터 보조 배선을 상기 게이트선과 동시에 형성하는 단계를 더 포함하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
19. 제18항에서,

    상기 보호막 및 상기 게이트 절연막을 식각하여 상기 데이터선을 드러내는 제1 접촉구, 상기 제2 데이터 보조 배선의 양쪽 끝단을 각각 드러내는 제2 및 제3 접촉구를 형성하는 단계를 더 포함하며, 상기 제1 데이터 보조 배선은 상기 제1 내지 제3 접촉구를 통해 상기 데이터선 및 상기 제2 데이터 보조 배선의 양쪽 끝단과 각각 연결시키는 액정 표시 장치의 제조 방법.
20. 제19항에서,

    상기 제2 데이터 보조 배선의 양쪽 끝단은 상기 데이터선으로부터 일정 각도 비껴 나오도록 패터닝하는 액정 표시 장치의 제조 방법.

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