KR100600149B1

KR100600149B1 - 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치

Info

Publication number: KR100600149B1
Application number: KR1020050036001A
Authority: KR
Inventors: 치엔-시엔 리
Original assignee: 치엔-시엔 리
Priority date: 2005-03-15
Filing date: 2005-04-29
Publication date: 2006-07-13
Also published as: TW200631709A; JP2006255876A; US20060207974A1; SG126008A1; TWI247642B

Abstract

신속하고 정밀하게 전극의 위치를 제어함으로써, 작업속도를 높이고, 가공품질을 확보할 수 있는 전극 직동식(直動式) 위치 제어 장치를 제공한다.

방전 가공 설비의 Z축 방향의 주축(5)과 전극 홀더(52) 사이에 직동식 위치 제어 장치(7)를 마련한다. 그리고, 주축(5)의 위치가 움직이지 않는 상태에서, 직접 전극 홀더(52) 및 전극(53)의 승강을 행함과 동시에, 전극(53)의 승강 거리(위치)를 결정한다. 또한 직동식 위치 제어 장치(7)는, 상부 고정대(71), 중앙 가이드(72), 복수의 가동기둥(73), 서보(74), 서보 지지대(75), 압동판(76), 복수의 스페이서(77), 하부 고정대(78), 방진(防塵) 고정링(783), O형링(784), 복수의 스프링(786) 및 복수의 결합 나사(791, 792, 793, 794)를 구비한다.

Description

방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치{Direct-acting electrode position controller for electrical discharge machine}

도 1은, 종래기술의 방전 가공 설비를 도시한 모식도이다.

도 2는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 방전 가공 설비의 전극 직동식(直動式) 위치 제어 장치를 도시한 모식도이다.

도 3은, 도 2의 직동식 위치 제어 장치를 도시한 분해 사시도이다.

도 4는, 도 3의 직동식 위치 제어 장치를 조립한 상태를 도시한 사시도이다.

도 5는, 도 4의 직동식 위치 제어 장치를 도시한 단면도이다.

도 6은, 도 4의 전극 직동식 위치 제어 장치가 하강하여 가공 위치에 있는 상태를 도시한 또 하나의 단면도이다.

도 7은, 도 6의 전극 직동식 위치 제어 장치가 상승하여 가공 찌꺼기 배출 위치에 있는 상태를 도시한 단면도이다.

[주요 참조부호에 대한 간단한 설명]

1..베이스 2..Y축 테이블 21..Y축 서보 모터

3..X축 테이블 31..X축 서보 모터 4..가공조

41..가공액 42..가공액 탱크 5..주축

51..Z축 서보 모터 52..전극 홀더 53..전극

6..전기 제어 박스 61..중앙 컴퓨터 제어 시스템

62..전송 인터페이스

63..서보 모터 행정의 이동 및 위치를 제어하는 제어 장치

64..방전 파워 칩 65..제어 장치

7..직동식 위치 제어 장치

71..상부 고정대 711..접합판

712..공간 713..제 1 결합 나사홀 72..중앙 가이드

721..가이드홀 722..서보 설치홀 723..제 1 결합 나사홀

724..제 5 결합 나사홀 73..가동기둥 731..두부(頭部)

732..기둥몸체 733..제 4 결합 나사홀

734..제 7 결합 나사홀 74..서보 741..압동 로드

75..서보 지지대 751..제 6 결합 나사홀 76..압동판

761..제 3 결합 나사홀 77..스페이서 771..제 8 결합 나사홀

78..하부 고정대 781..절연편 782..고정홈

783..방진(防塵) 고정링 784..O형링 785..스프링 홈

786..스프링 787..수용조 788,,제 9 결합 나사홀

791..제 1 결합 나사 792..제 2 결합 나사 793..제 3 결합 나사

794..제 4 결합 나사 10..피가공물

본 발명은, 위치 제어 장치, 특히 방전 가공 시 및 가공 찌꺼기 배출 시에 신속하고 정밀하게 전극의 승강위치를 제어하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치에 관한 것이다.

방전 가공의 원리에는, 전기 에너지를 열 에너지로 변환하여, 피가공물을 급속히 열용해시키는 일종의 열성 가공 방법이 사용되고 있다. 더욱 상세히 말하면, 방전 가공 시에는 가공액 내의 전극과 피가공물 사이에 형성된 미세한 간격에 아크(arc) 방전을 발생시켜, 피가공물에 대하여 열 작용을 발생시킴으로써, 방전 작용에 의한 방전흔(痕)을 피가공물에 형성한다. 그리고, 이 공정을 반복함으로써 피가공물은 가공된다. 그리고 방전과 동시에 가공액이 방전 압력 및 열 작용을 받아 기화 폭발 현상이 일어나면, 피가공물의 용해된 부분은 액체의 기화현상에 동반하여 가공액 내로 용입되어 가공 찌꺼기가 형성된다. 그리고, 이 가공 찌꺼기는 가공액과 함께 외부로 배출된다.

도 1은 종래기술의 방전 가공 설비를 도시한 모식도이다. 이 방전 가공 설비는, 베이스(1), Y축 테이블(2), X축 테이블(3), 가공조(4) 및 주축(5)을 구비한다.

Y축 테이블(2)은 베이스(1)의 상면에 마련되고, Y축 서보 모터(21)에 의해 구동된다. X축 테이블(3)은 Y축 테이블(2)의 상면에 마련되고, X축 서보 모터(31)에 의해 구동된다. 가공조(4)는 X축 테이블(3)의 상면에 마련되고 가공조(4)의 내부에는 피가공물(10)이 고정·설치되어 가공액(41)이 저류된다. 그리고 이 가공액은 가공액 탱크(42)에 의해 가공조(4) 내로 수시 보충된다. 주축(5)은 가공조(4)의 수직상방에 마련되며 Z축 서보 모터(51)에 의해 구동되어 수직방향으로 승강된다. 또한, 주축(5)의 저부에는 전극 홀더(52)에 의해 전극(53)이 협설되어, 가공조(4)내의 피가공물(10)에 대해 방전가공을 행한다. 전술한 방전 가공 설비는, 상술한 각 부재의 동작을 제어하는 전기 제어 박스(6)를 더 구비한다.

예를 들어, 전기 제어 박스(6)에는 중앙 컴퓨터 제어 시스템(61)이 포함되고, 중앙 컴퓨터 제어 시스템은 전송 인터페이스(62)를 통하여 서보 모터 행정의 이동 및 위치를 제어하는 제어 장치(63) 및 방전 파워 칩(64)에 접속된다. 서보 모터 행정의 및 위치를 제어하는 제어 장치(63)는 각 서보 모터의 동작을 제어할 수 있으며 각 축 테이블 및 주축의 이동과 위치를 더 제어할 수도 있다. 방전 파워 칩(64)은 전극 홀더(52) 및 피가공물(10)에 접속되어 있으므로 방전 가공 작업을 행할 수 있다.

방전 가공을 행할 때, 전극(53)은 Z축 서보 모터(51)에 의해 하강 제어되어 하방으로 내려가고, 피가공물(10)과의 사이에 매우 미세한 간격을 유지하며 방전가공을 행한다. 그리고, 가공 찌꺼기를 배출할 때, 전극(53)은 Z축 서보 모터(51)에 의해 상승 제어되어 상방으로 올라가 가공액(41)으로 가공 찌꺼기를 배출할 때의 편리성을 높인다.

상술한 종래기술의 방전 가공 설비는 전극(53)을 상승 또는 하강시킬 때에, Z축 서보 모터(51)의 구동 동력이 주축(5)을 통하여 전극(53)에 전달된다. 그러나, 방전 가공 설비의 전극의 가공 위치와 가공 찌꺼기 배출 위치의 고도차이는 매우 미세한 것이다. 이 때문에, 상술한 종래기술의 방전 가공 설비에 있어서, Z축 서보 모터(51)가 주축(5)을 통하여 전극(53)을 연동시킨 경우, Z축 서보 모터(51)를 구동할 때의 관성 작용에 의해 전극(53)의 하강 행정 및 상승 행정이 과대해 지는 경우가 자주 있었다. 따라서, 가공 설비 및 가공 찌꺼기 배출 작업 속도가 저하될 뿐만 아니라, 전극(53)이 지나치게 하강됨에 따라 피딩 위치에 오차가 생겨, 가공 정밀도에 영향을 미치는 경우가 자주 발생하였다. 게다가 Z축 서보 모터(51)의 구동 동력이 긴 축상의 주축(5)을 경유하여 전달되면, 전극(53)에 진동을 발생시키거나 미세한 간격에 있어서의 반응을 부정확하게 하여, 가공 품질에 영향을 미치곤 하였다.

본 발명의 목적은, 방전 가공이나 가공 찌꺼기 배출을 행할 때에 신속하고 정밀하게 전극의 위치를 제어함으로써, 작업속도를 높임과 동시에 가공품질을 확보할 수 있는 전극 직동식 위치 제어 장치를 제공하는 데 있다.

상술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치를 제공한다. 본 발명의 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치는, 주로 방전 가공 설비의 Z축 방향의 주축과 그 전극 홀더 사이에 마련된다. 그리고, 주축 위치가 움직이지 않는 상태에서 이 전극 홀더 및 전극을 직접 승강시킴과 동시에 이 전극의 승강 거리(위치)를 결정함으로써, 신속하고 정밀하게 피가공물에 대해 방전 가공 및 가공 찌꺼기 배출 작업을 행할 수 있다.

본 발명의 전극 직동식 위치 제어 장치는, 상부 고정대, 중앙 가이드, 복수 의 가동기둥, 서보, 서보 지지대, 압동판, 복수의 가동기둥 스페이서 및 하부 고정대를 구비한다. 그리고, 상부 고정대는 방전 가공 설비의 주축과 결합·고정된다. 중앙 가이드는 상부 고정대의 저부에 고정·설치되고, 복수의 가이드홀 및 서보 설치홀이 마련된다. 복수의 가동기둥은, 두부 및 기둥몸체를 각각 구비하고, 각 기둥몸체는 각 가이드홀에 슬라이딩 가능하도록 마련되며, 각 두부는 중앙 가이드의 상면의 상방에 마련된다. 서보는 서보 설치홀에 마련되고 제어 장치에 의해 제어되며 상하로 승강되는 압동 로드가 마련된다. 서보 지지대는 중앙 가이드의 저면에 고정·설치되어 서보를 지지하기 위해 사용된다. 압동판은 상부 고정대의 저부에 형성된 공간 내에 마련되고, 서보의 압동 로드의 상단에 닿도록 마련된다. 또한 상기 압동판은 압동 로드의 움직임에 동반하여 상하로 승강되고, 압동판과 각 가동기둥의 상부가 결합·고정된다. 복수의 가동기둥 스페이서는 중앙 가이드의 저면의 하방으로 각 가동기둥의 저면에 마련되며, 각 스페이서의 상면과 각 상기 두부의 저면사이의 거리를 중앙 가이드의 높이보다 크게 함으로써, 각 가동기둥이 슬라이딩가능한 거리는 중앙 가이드의 높이 보다 약간 크며, 이 사이에는 틈이 형성되어 이들 두부 및 스페이서를 각 가동기둥의 상하방향으로 승강 슬라이딩하는 위치결정부재로 한다. 하부 고정대는 전극 홀더와 결합·고정되며, 이 하부 고정대는 각 스페이서를 통하여 각 가동기둥의 저부에 결합·고정된다. 이에 의해, 방전 가공 및 가공 찌꺼기 배출 작업을 행할 때, 주축이 움직이지 않는 상태에서, 제어에 의해 서보의 압동 로드를 상하로 승강시킴과 동시에, 압동판, 가동기둥, 스페이서, 하부 고정대 및 전극을 순차적으로 연동시키고, 소정 간격에서 고속으로 상하로 승강시 킬 수 있다. 따라서, 작업효율이 향상됨과 동시에, 주축이 전극에 대하여 진동을 미치는 것을 방지하여, 피가공물에 대한 가공 정밀도를 유지할 수 있다.

본 발명의 구조, 특징 및 그 효과를 도면에 나타낸 실시형태에 근거하여 상세히 설명한다.

도 2는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치를 도시한 모식도이다. 도 3은, 도 2의 직동식 위치 제어 장치를 도시한 분해 사시도이다. 도 4는, 도 3의 직동식 위치 제어 장치를 조립한 후의 상태를 도시한 사시도이다. 도 5는, 도 4의 직동식 위치 제어 장치를 도시한 단면도이다. 도 6은, 도 4의 전극 직동식 위치 제어 장치가 하강하여 가공위치에 있는 상태를 도시한 또 하나의 단면도이다. 도 7은, 도 6의 전극 직동식 위치 제어 장치가 상승하여 가공 찌꺼기 배출 위치에 있는 상태를 도시한 단면도이다.

이들 도면에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시형태에 따른 직동식 위치 제어 장치(7)는 방전 가공 설비 위에 마련된다. 그리고, 이 방전 가공 설비에는, 베이스(1), Y축 테이블(2), X축 테이블(3), 가공조(4), 주축(5), Y축 서보 모터(21), X축 서보 모터(31), 가공액(41), 가공액 탱크(42), Z축 서보 모터(51), 전극 홀더(52), 전극(53), 전기 제어 박스(6), 중앙 컴퓨터 제어 시스템(61), 전송 인터 페이스(62), 서보 모터 행정의 이동 및 위치를 제어하는 제어 장치(63) 및 방전 파워 칩(64)을 구비한다. 이들 부재의 구조 및 그 결합 관계는 상술한 내용과 유사하므로 여기에서는 반복하여 기술하지 않는다.

본 발명은, 주로 상술한 주축(5)과 전극 홀더(52) 사이에 직동식 위치 제어 장치(7)를 마련하고, 주축 위치가 움직이지 않는 상태에서 전극을 미세승강시킴과 동시에 전극의 승강 거리(위치)를 제한함으로써, 방전 가공 작업과 가공 찌꺼기 배출 작업을 번갈아 행할 때에 신속하고 정밀한 작업을 행할 수 있다.

더욱 상세하게 설명하면, 상술한 직동식 위치 제어 장치는, 상부 고정대(71), 중앙 가이드(72), 복수의 가동기둥(73), 서보(74), 서보 지지대(75), 압동판(76), 복수의 가동기둥 스페이서(77) 및 하부 고정대(78)를 구비한다.

상기 상부 고정대(71)는 주축(5)의 하단에 결합·고정할 수 있으며, 본 실시형태의 상부 고정대(71)는 접합판(711)을 통하여 주축(5)의 하단에 결합·고정된다. 이 상부 고정대(71)의 저부에는, 움푹 들어간 공간(712)이 형성되어 압동판(76)이 수용된다.

상기 중앙 가이드(72)는 상부 고정대(71)의 저부에 고정·설치되며, 중앙 가이드에는 복수의 가이드홀(721)이 수직으로 마련되고, 중앙 가이드의 중앙부에는 서보 설치홀(722)이 마련된다.

상기 복수의 가동기둥(73)는 원주의 가동기둥 등으로 가동기둥(73)는 두부(731) 및 기둥몸체(732)를 각각 구비한다. 각 기둥몸체(732)는 중앙 가이드(72)의 각 가이드홀(721)에 슬라이딩 가능하도록 마련되며, 각 두부(731)가 중앙 가이드(72)의 상면의 상방에 마련되어 가동기둥(73)이 슬라이딩할 때의 상한을 규정한다.

상기 서보(74)는 중앙 가이드(72)의 서보 설치홀(722)에 마련된다. 서보(74)에는 압동 로드(741)가 마련되며, 이 압동 로드는 제어 장치(65)에 의해 상하로 승강된다. 그리고, 이 제어 장치(65)는 전기 제어 박스(6)에 마련되며, 전송 인터페 이스(62)를 통하여 중앙 컴퓨터 제어 시스템(61)에 접속된다.

상기 서보 지지대(75)는 중앙 가이드(72)의 저면에 고정되며, 서보(74)의 저부를 지지하기 위해 사용된다.

상기 압동판(76)은 상부 고정대(71)의 공간(712) 내에 마련되며, 서보(74)의 압동 로드(741)의 상단에 닿도록 마련되어 있으므로, 압동 로드의 움직임에 동반하여 상하로 승강하는 것이 가능하다. 이 압동판은 각 가동기둥(73)의 상부에 결합·고정된다.

상기 복수의 가동기둥 스페이서(77)는 중앙 가이드(72)의 저면의 하방 및 각 가동기둥(73)의 저면에 설치되어 가동기둥이 슬라이딩할 때의 하한을 규정한다. 각 스페이서(77)의 상면과 각 가동기둥(73)의 두부(731)의 저면 사이의 거리는 중앙 가이드(72)의 높이보다 약간 크고, 각 가동기둥(73)이 슬라이딩 가능한 높이가 중앙 가이드의 높이보다 약간 크기 때문에, 그 사이에 틈이 형성되어, 각 스페이서의 상면과 중앙 가이드의 저면 사이나 각 두부의 저면과 중앙 가이드의 상면 사이에는 틈(d)이 형성된다. 이 틈(d)은 1㎚~2000㎚ 등과 같이 극히 미세한 것이나, 하강 위치(방전 가공 시) 및 상승 위치(가공 찌꺼기 배출 시)의 행정 변화에 충분한 거리이다. 이들 가동기둥(73)이 상하로 승강할 때, 이들의 두부(731) 및 스페이서(77)는 각 가동기둥(73)이 상하로 승강 슬라이딩할 때의 위치결정부재가 된다.

상기 하부 고정대(78)는 절연편(781)을 통하여 전극 홀더(52)에 결합·고정되고, 하부 고정대(78)는 각 스페이서(77)를 통하여 각 가동기둥(73)의 저부에 결합·고정된다. 하부 고정대(78)의 외주부분에 가까운 상면에는 방진 고정링(783)과 O형링(784)이 순차적으로 마련되는 고정홈(782)이 있으며, 중앙 가이드(72)의 저면에 밀착된다. 하부 고정대(78)의 상면에는 복수의 위치결정 스프링(786)을 수용하는 복수의 스프링 홈(785)이 마련되며, 이들 스프링은 중앙 가이드(72)의 저면에 닿도록 마련되어, 양자간의 안정된 접촉과 결합을 유지하고 있다. 그 외, 하부 고정대(78)의 상면에는 서보 지지대(75)를 수용하는 서보 지지대(75)에 대응한 형상의 수용조(787)가 마련된다.

상술한 관련부재를 결합하는 방법은 실시 가능한 방법이면 어떤 결합 수단으로 행하여도 된다. 예를 들어, 상부 고정대(71)와 중앙 가이드(72)를 결합할 때에는 상부 고정대(71) 및 중앙 가이드(72)의 대응하는 위치에, 복수의 제 1 결합 나사홀(713) 및 복수의 제 2 결합 나사홀(723)을 각각 마련하고, 복수의 제 1 결합 나사(791)를 제 1 및 제 2의 결합 나사홀에 관통하여 설치함으로써, 상부 고정대(71)와 중앙 가이드(72)를 결합·고정하여도 된다.

압동판(76)과 가동기둥(73)를 결합할 때에는 압동판(76) 및 가동기둥(73)의 대응하는 위치에, 복수의 제 3 결합 나사홀(761) 및 복수의 제 4 결합 나사홀(733)이 각각 마련되며, 복수의 제 2 결합 나사(792)를 제 3 및 제 4 결합 나사홀에 관통하여 설치함으로써, 압동판(76)과 가동기둥(73)를 결합·고정하여도 된다.

중앙 가이드(72)와 서보 지지대(75)를 결합할 때에는 중앙 가이드(72) 및 서보 지지대(75)의 대응하는 위치에 복수의 제 5 결합 나사홀(724) 및 복수의 제 6 결합 나사홀(751)이 각각 마련되고, 복수의 제 3 나사(793)를 제 5 및 제 6의 결합 나사홀에 관통하여 설치함으로써, 중앙 가이드(72)와 서보 지지대(75)를 결합·고 정하여도 된다.

가동기둥(73), 스페이서(77) 및 하부 고정대(78)를 결합할 때에는 가동기둥(73), 스페이서(77) 및 하부 고정대(78)의 대응하는 위치에 복수의 제 7 결합 나사홀(734), 복수의 제 8 결합 나사홀(771) 및 복수의 제 9 결합 나사홀(788)이 각각 마련되고, 복수의 제 4 결합 나사(794)를 제 7, 제 8 및 제 9의 결합 나사홀에 관통하여 설치함으로써, 가동기둥(73)와 스페이서(77) 및 하부 고정대(78)를 서로 결합·고정하여도 된다.

본 실시형태의 직동식 위치 제어 장치는 방전 가공 및 가공 찌꺼기 배출 작업을 행할 때에, 주축(5)이 움직이지 않는 상태에서 제어 장치(65)의 제어에 의해 서보(74)의 압동 로드(741)를 상하로 승강시킴과 동시에, 압동판(76), 가동기둥(732), 스페이서(77), 하부 고정대(78) 및 전극(53)을 순차적으로 연동시킴으로써, 소정의 간격거리(d) 내에 있어서 고속미동에 의해 하강(도 6을 참조) 또는 상승(도 7을 참조)을 행할 수 있다. 또한, 하강 위치에 있을 때에는 전극(53)의 하강 위치에 대해서 오차 보상을 행함과 동시에, 전극에 대해서 방전 가공 작업을 행할 수 있다. 또한, 상승 위치에 있을 때에는 가공 찌꺼기 배출의 편리성을 높일 수 있다. 또한, 전극(53)이 상하로 승강하는 행정은, 종래 기술에서 발생하던 주축의 진동에 의한 간섭을 전혀 받지 않는다. 이상에서 알 수 있는 바와 같이, 본 실시형태는 작업 효율을 향상시키고, 피가공물의 정밀도를 유지할 수 있다.

그 외, 본 실시형태의 방전 가공 설비는, 형조(形彫) 방전 가공, 세혈(細穴) 방전 가공, 와이어 컷 방전 가공, 연마 방전 가공 및 전해 연마 방전 가공 등의 방 전 가공 설비에 적용할 수 있다.

본 발명에서는 바람직한 실시형태를 상술한 바와 같이 개시하였으나, 이것들은 결코 본 발명을 한정하는 것은 아니며, 당해 기술을 숙지한 자라면 누구라도, 본 발명의 취지와 영역을 벗어나지 않는 범위 내에서 각종 변형이나 수정을 가할 수 있다. 따라서 본 발명의 보호 범위는 특허청구의 범위에서 지정한 내용을 기준으로 한다.

본 발명의 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치는, 방전 가공 및 가공 찌꺼기 배출 작업을 행할 때에, 주축이 움직이지 않는 상태에서, 제어 장치의 제어에 의해 서보의 압동 로드를 상하로 승강시켜, 압동판, 가동기둥, 가동기둥 스페이서, 하부 고정대 및 전극을 순차적으로 연동시켜 소정 간격 내에서 신속하게 미세 하강 및 상승을 행한다. 그리고, 하강 위치에 있을 때에 전극의 하강 위치에 대하여 오차보상을 실시하여 전극의 방전 가공 작업을 행하고, 상승 위치에 있을 때에는 가공 찌꺼기 배출을 행하여 편리성을 높일 수 있다. 따라서, 전극이 상하로 승강하는 행정이 종래 기술에서 발생하고 있던 것과 같은 주축의 진동에 의한 간섭을 전혀 받지 않아, 작업 효율이 향상되어 피가공물의 정밀도를 유지할 수 있다.

Claims

베이스, Y축 테이블, X축 테이블, 가공조 및 주축을 구비하고,

상기 Y축 테이블은, 상기 베이스의 상면에 마련되며 Y축 서보 모터에 의해 구동되고,

상기 X축 테이블은, 상기 Y축 테이블의 상면에 마련되며 X축 서보 모터에 의해 구동되고,

상기 가공조는 상기 X축 테이블의 상면에 마련되고, 상기 가공조 내부에 피가공물이 고정·설치되어 그 안에 가공액이 저류되고,

상기 주축은, 상기 가공조의 수직 상방으로 마련되고, Z축 서보 모터에 의해 구동되어 수직방향으로 승강되며, 상기 주축의 저부에는 전극 홀더에 의해 전극이 협설(挾設)되어, 상기 가공조 내의 상기 피가공물에 대해 방전 가공을 행하는 방전 가공 설비의 전극 직동식(直動式) 위치 제어 장치로서,

상기 주축과 상기 전극 홀더 사이에 직동식 위치 제어 장치를 마련함으로써, 상기 주축 위치가 움직이지 않는 상태에서, 상기 전극을 승강시킴과 동시에 상기 전극의 승강 거리(위치)를 제한하는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 1항에 있어서,

상기 직동식 위치 제어 장치는, 상부 고정대, 중앙 가이드, 복수의 가동기 둥, 서보, 서보 지지대, 압동판, 복수의 가동기둥 스페이서 및 하부 고정대를 구비하고,

상기 상부 고정대는 상기 주축에 결합·고정되며 상기 상부 고정대의 저부에는 수납 공간이 형성되고,

상기 중앙 가이드는 상기 상부 고정대의 저부에 고정·설치되고, 상기 중앙 가이드에는 복수의 가이드홀이 수직으로 마련되며, 상기 중앙 가이드의 중앙 부분에는 서보 설치홀이 마련되고,

상기 가동기둥은, 두부 및 기둥몸체를 구비하고, 각 상기 기둥몸체는 각 상기 가이드홀에 슬라이딩 가능하도록 마련되며, 각 상기 두부는 상기 중앙 가이드의 상면의 상방에 마련되고,

상기 서보는 상기 서보 설치홀에 마련되고, 상기 서보는 압동 로드를 구비하며, 상기 압동 로드는 상기 제어 장치에 의해 제어되어 상하로 승강되고,

상기 서보 지지대는 상기 중앙 가이드의 저면에 고정되어, 상기 서보를 지지하기 위하여 이용되고,

상기 압동판은 상기 상부 고정대의 공간 내에 마련되고, 상기 서보의 상기 압동 로드의 상단에 닿도록 마련되어 상기 압동 로드의 움직임에 동반하여 상하로 승강되며, 상기 압동판은 각 상기 가동기둥의 상부에 결합·고정되고,

상기 가동기둥 스페이서는 상기 중앙 가이드의 저면의 하방에서 각 상기 가동기둥의 저면에 마련되고, 각 상기 스페이서의 상면과 각 상기 두부의 저면 사이의 거리를 상기 중앙 가이드의 높이보다 크게함으로써, 각 상기 스페이서의 상면과 상기 중앙 가이드의 저면사이나 각 상기 두부의 저면과 상기 중앙 가이드의 상면사이에 틈을 형성하고,

상기 하부 고정대는 상기 전극 홀더에 결합·고정되고, 상기 하부 고정대는 각 상기 스페이서를 통하여 각 상기 가동기둥의 저부에 결합·고정되는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 2항에 있어서,

상기 하부 고정대의 상면에는 복수의 스프링 홈이 마련되고, 여기에 복수의 위치결정 스프링을 수용하며, 상기 스프링은 상기 중앙 가이드의 저면에 닿도록 마련되는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 2항에 있어서,

상기 하부 고정대의 상면에는, 상기 서보 지지대에 대응한 형상의 수용조가 마련되고, 여기에 상기 서보 지지대를 수용하는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 1항에 있어서,

상기 방전 가공 설비에는 형조(形彫) 방전 가공의 방전 가공 설비가 포함되는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 1항에 있어서,

상기 방전 가공 설비에는 세혈(細穴) 방전 가공의 방전 가공 설비가 포함되는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 1항에 있어서,

상기 방전 가공 설비에는 와이어 컷 방전 가공의 방전 가공 설비가 포함되는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 1항에 있어서,

상기 방전 가공 설비에는 연마 방전 가공의 방전 가공 설비가 포함되는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.
제 1항에 있어서,

상기 방전 가공 설비에는 전해 연마 방전 가공의 방전 가공 설비가 포함되는 것을 특징으로 하는 방전 가공 설비의 전극 직동식 위치 제어 장치.