KR100589337B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이를 적용한플라즈마 디스플레이 패널 - Google Patents

Abstract

본 발명은 쇼트바와 쇼트 전극을 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널을 에이징할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이를 적용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.

이를 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판 중 어느 하나의 기판 가장자리 부분으로 어드레스전극들이 인출되고, 상기 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간 중 그 일부 구간에 적어도 하나의 쇼트 전극이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널을 준비하는 단계; 상기 일부 구간을 제외한 나머지 구간에 위치하는 상기 어드레스전극들의 단부에 쇼트바를 밀착시키는 단계; 상기 쇼트 전극 및 쇼트바를 통해 상기 어드레스전극들 전체에 소정의 전압을 인가하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 에이징하는 단계; 및 상기 쇼트 전극을 단절시키는 단계를 포함한다.

플라즈마, 디스플레이, 패널, 에이징, 쇼트바, 쇼트 전극

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이를 적용한 플라즈마 디스플레이 패널{THE METHOD OF MANUFACTURING OF PLASMA DISPLAY PANEL AND PLASMA DISPLAY PANEL THEREOF}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 평면 구성도이다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널을 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 평면 구성도이다.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널을 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.

도 7은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 분해 사시도이다.

본 발명은 쇼트바와 쇼트 전극을 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널을 에이징할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이를 적용한 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다.

플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)은 플라즈마 방전에 의한 하부기판 또는 방전에 의해 여기된 형광체에 의해 화상을 형성하는 장치로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 방전공간에 설치된 두 전극에 소정의 전압을 인가하여 이들 사이에서 플라즈마 방전이 일어나도록 하고, 이 플라즈마 방전시 발생되는 자외선에 의해 소정의 패턴으로 형성된 형광체층을 여기시켜 화상을 형성한다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이는 크게 교류형(AC type), 직류형(DC type) 및 혼합형(Hybrid type)으로 나누어진다.

도 7은 일반적인 교류형 플라즈마 디스플레이 패널의 분해 사시도이다.

도7을 참고하면, 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 하부기판(104), 하부기판(104)위에 형성된 어드레스 전극인 제1 전극(102), 이 제1 전극(102)이 형성된 하부기판(104) 위에 형성된 유전체층(106), 이 유전체층(106) 상부에 형성되어 방전거리를 유지시키고 셀간의 크로스 토크(cross talk)를 방지하는 다수의 격벽(105)과 격벽(105) 표면에 형성된 형광체층(101)을 포함한다.

방전유지전극인 제2 전극(107)은 하부기판(104)에 형성된 제1 전극(102)과 소정 간격으로 이격되어 직교하도록 상부기판(109) 하부에 형성된다. 그리고 유전 체층(108) 및 보호막(103)이 제2 전극(107)을 순차로 덮고 있다.

전술한 구성의 플라즈마 디스플레이 패널에서, 상부기판(109)과 하부기판(104)은 프릿(frit) 같은 밀봉재에 의해 가장자리가 일체로 접합되며, 어느 하나의 기판에 형성된 배기구를 통해 배기와 방전 가스의 주입이 이루어진다.

한편, 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널의 배기 및 가스의 주입이 완료되면, 그 패널에 소정의 전압을 인가하여 에이징 방전을 시키게 된다.

종래에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징은 패널의 가장자리 부분으로 인출되는 어드레스전극들을 모두 쇼트시킨 상태에서 전압을 인가함으로써 행해지는데, 상기한 전극들의 쇼트는 그 전극들의 끝부분에 쇼트 전극을 형성함으로써 이루어진다. 또한 위와 같이 쇼트 전극을 형성하지 않고, 어드레스전극들의 끝부분에 통상적인 메쉬 구조의 쇼트바를 밀착시켜 전압을 인가함으로써 플라즈마 디스플레이 패널의 에이징을 행할 수도 있다. 그런데, 전자의 경우, 에이징 공정이 완료된 후에는 쇼트된 상기한 전극들을 쇼트되기 전 상태 즉, 각 전극들이 서로 단절된 상태로 만들어주어야 하는데, 이를 위해 종래에는 쇼트 전극을 에칭하여 제거함으로써 각 전극들이 서로 단절되도록 한다. 이와 같은 에칭 공정에서는 잘 알려진 바와 같이 그 공정이 비교적 복잡하여 공정 시간이 많이 소요되고, 에칭 공정 중에 발생하는 이물질에 의해 전극들이 오염되어 방전 불량을 야기시키게 되는 문제점이 있다.

한편, 후자의 경우, 특히 비교적 사이즈가 큰 패널 예컨대, 50" 이상의 패널을 에이징하는 경우, 전극들 단부의 전체 구간에 상응하는 길이를 가진 쇼트바를 이용하게 된다. 그런데, 상기한 쇼트바를 이용하여 비교적 사이즈가 작은 패널 예컨대 42"의 패널을 에이징 하는 경우, 그 쇼트바는 전극들의 단부에 밀착될 때 패널의 기판 가장자리 부분에 대응하는 부분이 눌려지게 된다. 그로 인하여, 위와 같은 쇼트바를 이용하여 사이즈가 큰 패널을 에이징 할 경우, 상기한 눌려진 부분과 이에 상응하는 전극들 간의 접촉 불량을 일으키게 되는 문제점이 있다.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 여러 사이즈의 패널에 대해 호환성을 가진 쇼트바 및 전극들의 일부 구간에 형성되는 쇼트 전극을 통해 플라즈마 디스플레이 패널을 에이징할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이를 적용한 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는데 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판 중 어느 하나의 기판 가장자리 부분으로 어드레스전극들이 인출되고, 상기 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간 중 그 일부 구간에 적어도 하나의 쇼트 전극이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널을 준비하는 단계; 상기 일부 구간을 제외한 나머지 구간에 위치하는 상기 어드레스전극들의 단부에 쇼트바를 밀착시키는 단계; 상기 쇼트 전극 및 쇼트바를 통해 상기 어드레스전극들 전체에 소정의 전압을 인가하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 에이징하는 단계; 및 상기 쇼트 전극을 단절시키는 단계를 포함한다.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 상기 쇼트바는 상기 나머지 구간에 상응하는 길이를 가지며, 원통형의 메쉬 타입으로 이루어지는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 있어서, 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 준비하는 단계는: 상기 어드레스전극, 유전체 및 격벽이 순차로 형성된 제1 기판을 준비하는 단계; 상기 제1 기판의 주변을 따라 프릿을 도포하고, 전극 및 유전체가 형성된 또 다른 하나의 제2 기판을 준비하여 이들 기판을 합체 및 소성하는 단계; 및 상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 내부를 진공 배기하고, 그 내부에 가스를 주입한 후 밀봉하는 단계를 포함하며, 상기 제1 기판을 준비하는 단계에서, 상기 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간 중 그 일부 구간에 적어도 하나의 쇼트 전극을 형성할 수 있다. 또한 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판; 상기 제1 기판 상에 형성되는 어드레스전극들; 공통전극들과 주사전극들을 포함하여 상기 제2 기판 상에 형성되는 방전유지전극들; 상기 제1 기판과 제2 기판 상의 공간에 배치되어 다수의 방전셀을 구획하는 격벽; 및 상기 방전셀들에 형성되는 형광체층을 포함하고, 상기 제1 기판의 가장자리 부분으로 인출되는 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간 중 그 일부 구간에 적어도 하나의 쇼트 전극이 마련되되, 그 쇼트 전극이 어드레스전극들과 단절되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제 조 방법은, 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판 중 어느 하나의 기판 가장자리 부분으로 어드레스전극들이 인출되는 플라즈마 디스플레이 패널을 준비하는 단계; 상기 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간에 상응하는 길이를 가진 쇼트바를 밀착시키는 단계; 및 상기 쇼트바를 통해 상기 어드레스전극들 전체에 소정의 전압을 인가하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 에이징하는 단계를 포함한다.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 자세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 평면 구성도이다. 도 1 및 도 2를 참고하면, 본 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 제1 기판(11)의 가장자리 부분으로 어드레스전극(13)들이 인출되고 상기 어드레스전극(13)들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간(D) 중 그 일부 구간(A,B)에 적어도 하나의 쇼트 전극(15)이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널(10)을 준비하는 단계(S11~S15)(S21~S28)(S31~S32)와, 상기 쇼트 전극(15)을 제외한 나머지 구간(C)의 어드레스전극(13)들의 단부에 쇼트바(20)를 밀착시키는 단계(S33)와, 상기 쇼트 전극(15)과 쇼트바(20)를 통해 어드레스전극(13)들 전체에 소정의 전압을 인가하여 플라즈마 디스플레이 패널(10)을 에이징하는 단계(S34)와, 상기 쇼트 전극(15)을 제거하는 단계(35)를 포함한다. 본 실시예는 비교적 큰 사이즈의 플라즈 마 디스플레이 패널 예컨대, 50" 이상의 패널을 제조하는데 적용될 수 있다.

상기한 플라즈마 디스플레이 패널(10)을 준비하는 단계로서, 제2 기판(12)(편의 상 "상부기판" 이라고 한다)의 제조공정(S11~S15)과, 제1 기판(11)(편의 상 "하부기판" 이라고 한다)의 제조공정(S21~S28)과, 상,하부 기판의 합체/소성 공정(S31)과, 배기/가스주입/밀봉공정(S33)으로 나누어진다.

상부기판의 제조공정에서는 상부기판의 제조를 위해 3mm 정도 두께의 유리기판을 준비(S11)하며, 다음으로 전극 등의 형성을 위하여 유리기판을 세정(S12)한다. 통상적인 플라즈마 디스플레이 패널의 경우, 550~600℃의 고온에서 상부기판에 형성하는 부품의 소성 및 형성이 이루어지므로, 이 온도에서 크랙이 발생하지 않고 견딜 수 있는 특성을 가진 유리기판을 사용하는 것이 중요하다.

유리기판을 세정한 후, 유리기판 상에 스퍼터링 코팅된 ITO(indium tin oxide)막에 포토리소그래피 공정을 실행하여 방전유지전극을 형성한다(단계 S13). 이 공정에서는, 먼저 유리기판 세정 후 감광성 필름(dry film resist, DFR)을 피복한다. 감광성 필름은 자외선에 노출되면 경화되는 특성을 가지고 있다. 감광성 필름을 피복한 후 노광한 다음, 노광되지 않은 부분의 감광성 필름을 제거한다. 다음으로 에칭을 실시하여 ITO막 중에서 전극이 아닌 부위를 제거한다. 감강성 필름을 제거하고 형성된 투명전극의 양호 여부를 확인하기 위하여, 그 표면을 검사한다. 표면 검사시에는 박리의 양호 여부도 검사하는데 특히, 패턴 검사에서는 빛의 음영을 읽어 미리 기억된 패턴과 비교하여 불량 여부를 판단한다. 이러한 방법을 통하여 방전유지전극을 형성한다.

상기와 같은 포토리소그래피 공정은 대면적을 가진 유리기판에 사용하는 데 적합하지 않을 수 있으므로, 오프셋 공법을 이용하여 전극을 도포하는 것이 바람직하다.

다음으로는 단계(S14)에서 방전유지전극 위에 유전체를 형성한다. 유전체는 방전시에 콘덴서로 작용하고, 전류를 제한하는 역할과 메모리 기능을 주로 담당하며, 유리 페이스트를 주재료로 사용하고 있다. 투명 유전체를 형성하는 공정에서는, 저융점 유리 분말을 주성분으로 하는 페이스트를 유리기판 전체에 20~40㎛의 두께로 스크린 인쇄한 후 소성한다.

유전체를 형성한 다음, 단계(S15)에서 유전체 위에 MgO 보호막을 형성한다. 유전체가 형성된 상부기판을 MgO 증착실에 로드한 뒤, 증착실을 진공으로 만든 다음 전자총을 작동시켜 자기장 및 전기장을 형성하며, 전자총에서 배출되는 이온을 하부의 MgO 증착 재료에 충돌시켜 증착 재료를 상부에 위치한 상부기판에 증착시킨다.

상기한 공정을 거쳐서 플라즈마 디스플레이 패널의 상부기판을 제조하였다. 이하에서는 플라즈마 디스플레이 패널의 하부기판의 제조 공정에 대하여 상세하게 설명한다.

먼저 단계(S21)에서 하부 기판의 제조를 위한 유리 기판을 준비한 후, 세정한다(단계 S22). 단계(S23)에서, 세정한 하부 기판에 어드레스전극(13)들을 형성한다. 어드레스전극(13)들은 Ag 패턴을 인쇄하여 건조한 후 소성하는 과정을 거쳐서 형성한다. Ag 패턴 인쇄에 있어서는 스퀴즈를 이용하여 Ag 전극 패턴을 인쇄 및 건 조하며, 550~600℃에서 소성하여 페이스트 내의 유기수지를 제거함으로써 어드레스전극(13)들을 형성한다. 다음으로 패턴을 완성한 후, 패턴 검사를 통하여 오픈 및 쇼트 등의 결함이 있는지 검사한다

어드레스전극(13)들을 형성한 후에는 그 어드레스전극(13)들의 적어도 한 쪽 단부에, 그 단부의 전체 구간(D) 중 일부 구간(A,B)의 전극들 단부를 쇼트시키는 적어도 하나의 쇼트 전극(15)을 형성한다(단계 S24). 여기서 쇼트 전극(15)은 도전성을 가진 소재로 이루어지며, 전극 패턴의 고정밀도를 요구하지 않으므로 스크린 인쇄법으로 가능하다. 또한 쇼트 전극(15)은 디스펜서(dispenser)를 이용하여 쇼트 전극(15)의 원소재를 어드레스전극(13)들의 윗면에 도포함으로써 형성할 수도 있다.

상기한 쇼트 전극(15)은 도면에 도시된 바와 같이, "D"로 표시한 어드레스전극(13)들 단부의 전체 구간 중 "C"로 표시한 나머지 구간을 중심에 두고 그 양측에 "A","B"로 표시한 각각의 일부 구간에 형성된다. 대안으로서, 본 실시예에 따른 쇼트 전극(15)은 어드레스전극(13)들의 최외측에 위치하는 어느 하나의 전극으로부터 상기한 "A","B" 구간이 서로 합쳐진 만큼의 길이에 상응하는 구간의 전극들의 단부에 형성될 수도 있다. 여기서, 쇼트 전극(15)을 제외한 어드레스전극(13)들의 전체 구간(D) 중 나머지의 구간(C)에는 다음에 설명하는 쇼트바(20)가 밀착된다.

그런 다음, 어드레스전극(13)들 위에 유전체를 형성한다(단계 S25). 유전체 형성은 상기한 상부기판에서의 유전체 형성 공정과 동일하므로 자세한 유전체 형성 공정에 대한 설명은 생략한다. 단계(S26)에서는 격벽을 형성한 후 소성시킨다. 격 벽 형성 공정에 있어서는 코터 다이헤드를 이용하여 격벽 재료를 페이스트화한 후, 유리 기판에 전면 인쇄하여 건조시킨다. 다음으로, 전면에 형성된 막위에 감광성 필름을 압착시켜 라미네이팅한 후, 노광을 통하여 감광성 필름상의 격벽 패턴 이외의 비노광 부위를 제거한다. 그 후, 고온으로 뿜어내는 연마제로 표면을 샌드 블라스팅하여 격벽 형상을 형성하고, 남은 감광성 필름을 제거, 소성한 후 결함 존재 여부를 검사한다.

이와 같은 단계를 거쳐 형성한 하부기판에 배기홀을 유리기판과 격벽 형성면의 상부측에 형성한다(단계 S27). 플라즈마 디스플레이 패널에서 배기홀을 형성하는 경우, 레이저, 드릴 및 워터제트(water-jet) 등을 사용할 수 있다.

배기홀을 형성한 다음, 단계(S28)에서는 형광체를 도포하여 소성한다. 형광체 도포 과정에서는 먼저 스퀴즈를 이용하여 녹색 형광체를 인쇄한 다음에 소성 건조시켜 형광체 내의 유기 용제 및 유기 수지를 제거하고, 스퀴즈를 이용하여 적색 형광체 및 청색 형광체를 순차적으로 패턴 인쇄한 다음, 소성 건조시켜 마찬가지로 형광체 내의 유기 용제 및 유기 수지를 제거한다. 인쇄가 완료된 후에는 패턴 검사를 통하여 인쇄된 형광체가 불량한지 여부를 검사한다. 다음으로 단계(S29)에서는 유리를 주재료로 하는 프릿을 완성된 하부기판의 둘레에 도포한다.

이상과 같은 공정을 거쳐서, 단계(S31)에서 상부기판과 하부기판을 합체하고 소성한다. 상부기판과 하부기판을 합체하는 경우, 미리 유리기판에 형성한 얼라인 마크를 이용하여 상부기판과 하부기판을 정렬시킨다. 단계(S32)에서는 플라즈마 디스플레이 패널의 배기홀을 통하여 플라즈마 디스플레이 패널 내부의 가스를 배기 한 다음, 불활성의 Xe 또는 Ne 가스 등을 주입하고 그 배기홀을 밀봉한다.

그 후, 단계(S33)에서는 플라즈마 디스플레이 패널(10)의 제1 기판(11)인 하부기판의 가장자리 부분으로 인출된 어드레스전극(13)들의 한쪽 끝단에, 전술한 바 있는 쇼트 전극(15)을 제외한 나머지 구간(C)에 쇼트바(20)를 밀착시킨다.

그런 다음, 쇼트바(20)와 쇼트 전극(15)을 통해 상기한 어드레스전극(13)들 전체에 소정의 전압을 인가함으로써 플라즈마 디스플레이 패널(10)을 에이징 한다(단계 S34). 이와 같이, 쇼트바(20) 및 쇼트 전극(15)을 통해 어드레스전극(13)들 전체에 소정의 전압을 인가하게 되면, 어드레스전극(11)들에 동일한 전위가 인가되어 플라즈마 디스플레이 패널(10)은 에이징 방전이 이루어지게 된다. 여기서 전술한 쇼트바(20)는 가는 도전성 와이어가 메쉬 타입으로 역어진 통상적인 쇼트바의 구조를 가진다. 그리고 쇼트바(20)는 플라즈마 디스플레이 패널(10)의 사이즈가 일례로 50" 이상인 경우, 상기한 나머지 구간(C)의 길이와 동일하거나 그 이상의 길이를 가지게 된다. 따라서, 쇼트바(20)에 대응하는 구간의 어드레스전극(13)들은 쇼트바(20)를 통해 소정 전압이 인가되고, 쇼트바(20)를 제외한 나머지 구간에 대응하는 어드레스전극(13)들은 쇼트 전극(15)을 통해 소정의 전압이 인가된다.

이와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널(10)의 에이징이 완료된 후에는 통상적인 에칭 공정 또는 레이저 빔을 이용하여 쇼트 전극(15)을 제거한다(단계 S35). 바람직하게, 본 발명에서는 위와 같은 쇼트 전극(15)을 별도의 제거수단, 이를테면 레이저 장치를 이용하여 레이저 빔을 쇼트 전극(15) 부근의 어드레스전극(13)에 조사하여 상기한 쇼트 전극(15)을 어드레스전극(13)들로부터 단절시킨다.

본 실시예는 위와 같이 어드레스전극의 인출이 일측으로만 이루어지며 이를 통해 구동신호가 인가되는 방식으로 제어되는 싱글 구동 방식의 플라즈마 디스플레이 패널에 적용될 수 있으며, 어드레스전극의 인출이 양쪽으로 이루어지며 이들 양쪽으로 구동신호가 인가되는 방식으로 제어되는 듀얼 구동 방식의 플라즈마 디스플레이 패널에 적용될 수도 있다.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널을 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.

도 2 및 도 3을 참고하면, 본 실시예에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널(10)은, 서로 대향 배치되는 제1 기판(11) 및 제2 기판(12)과, 제1 기판(11) 상에 형성되는 어드레스전극(13)들을 포함한다. 여기서 상기 제1 기판(11) 및 제2 기판(12)에 형성되는 나머지의 구성 요소들은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구성 요소와 동일하므로 자세한 설명은 생략한다.

본 실시예에 따르면, 제1 기판(11)의 가장자리 부분으로 인출되는 어드레스전극(13)들의 한 쪽 단부에는 그 단부의 전체 구간(D) 중 "C"로 표시한 구간을 중심에 두고 그 양측에 "A","B"로 표시한 각각의 일부 구간에 쇼트 전극(15)이 형성된다. 대안으로서, 상기한 쇼트 전극(15)은 어드레스전극(13)들의 최외측에 위치하는 어느 하나의 전극으로부터 상기한 "A","B" 구간이 서로 합쳐진 만큼의 길이에 상응하는 구간의 전극들의 단부에 형성될 수도 있다.

그리고 상기 쇼트 전극(15)은 "A","B" 구간에 상응하는 어드레스전극(13)들로부터 단절된 상태를 유지한다. 이를 위해 쇼트 전극(15)과 어드레스전극들(13) 사이에는 이들을 서로 단절시키는 단절부(17)가 형성된다.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이고, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 개략적인 평면 구성도이고, 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법에 의해 제조된 플라즈마 디스플레이 패널을 개략적으로 도시한 평면 구성도이다.

도 4 내지 도 6을 참고하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법은, 플라즈마 디스플레이 패널(30)을 준비하는 단계(S11~S15)(S21~S28)(S31~S32)와, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(30)의 제1 기판(31) 가장자리 부분으로 인출된 어드레스전극(33)들의 적어도 한 쪽 단부에 쇼트바(20)를 밀착시키는 단계(S33)와, 상기 쇼트바(20)를 통해 어드레스전극(33)들 전체에 소정의 전압을 인가하여 플라즈마 디스플레이 패널(30)을 에이징하는 단계(S34)를 포함한다. 본 실시예는 비교적 작은 사이즈의 플라즈마 디스플레이 패널(30) 예컨대, 42"의 패널을 제조하는데 적용될 수 있다.

상기한 플라즈마 디스플레이 패널(30)을 준비하는 단계로서, 제2 기판(32)인 상부기판의 제조공정(S11~S15)과, 제1 기판(31)인 하부기판의 제조공정(S21~S28)과, 상,하부 기판의 합체/소성 공정(S31)과, 배기/가스주입/밀봉공정(S33)으로 나누어진다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널(30)을 준비하는 단계는 전기 실시예의 공정과 동일하나, 어드레스전극(33)들의 한 쪽 단부에 쇼트 전극을 형성하지 않은 점이 다르다.

그리고 어드레스전극(33)들의 적어도 한 쪽 단부에 쇼트바(20)를 밀착시키는 단계(S33)에서, 상기한 쇼트바(20)는 전기 실시예와 같은 쇼트부와 동일한 구조를 가지며, 어드레스전극(33)들 단부의 전체 구간에 밀착될 수 있는 길이를 가진다.

따라서 쇼트바(20)를 어드레스전극(33)들의 한 쪽 단부에 밀착시킨 상태에서 그 쇼트바(20)를 통해 상기한 어드레스전극(33)들 전체에 소정의 전압을 인가함으로써 플라즈마 디스플레이 패널(30)을 에이징 하게 된다(단계 S34).

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 및 이를 적용한 플라즈마 디스플레이 패널에 따르면, 비교적 작은 사이즈의 패널 제조시 전극들 단부의 전체 구간에 상응하는 길이를 가진 쇼트바를 통해 에이징이 이루어지므로, 쇼트 전극의 형성 및 제거 공정이 배제됨에 따라 전체적인 패널의 생산성이 향상된다.

또한 비교적 큰 사이즈의 패널의 제조시 종래와 같이 전극들 단부의 전체 구간에 쇼트 전극을 형성하지 않고 일부 구간에만 쇼트 전극을 형성하고, 그 나머지 구간에 위와 같은 구조의 쇼트바를 밀착시킴으로서 에이징이 이루어지므로, 쇼트 전극을 제거하는데 걸리는 시간이 그 만큼 단축되고, 쇼트 전극의 제거로 인해 발생할 수 있는 불량률을 저감시킬 수 있다.

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 설명하였지만, 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.

Claims (5)

1. 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판 중 어느 하나의 기판 가장자리 부분으로 어드레스전극들이 인출되고, 상기 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간 중 그 일부 구간에 적어도 하나의 쇼트 전극이 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널을 준비하는 단계;

   상기 일부 구간을 제외한 나머지 구간에 위치하는 상기 어드레스전극들의 단부에 쇼트바를 밀착시키는 단계;

   상기 쇼트 전극 및 쇼트바를 통해 상기 어드레스전극들 전체에 소정의 전압을 인가하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널을 에이징하는 단계; 및

   상기 쇼트 전극을 단절시키는 단계

   를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
2. 제1항에 있어서,

   상기 쇼트바는 상기 나머지 구간에 상응하는 길이를 가지며, 원통형의 메쉬 타입으로 이루어지는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
3. 제1항에 있어서,

   상기 플라즈마 디스플레이 패널을 준비하는 단계는:

   상기 어드레스전극, 유전체 및 격벽이 순차로 형성된 제1 기판을 준비하는 단계;

   상기 제1 기판의 주변을 따라 프릿을 도포하고, 전극 및 유전체가 형성된 또 다른 하나의 제2 기판을 준비하여 이들 기판을 합체 및 소성하는 단계; 및

   상기 제1 기판과 제2 기판 사이의 내부를 진공 배기하고, 그 내부에 가스를 주입한 후 밀봉하는 단계

   를 포함하며,

   상기 제1 기판을 준비하는 단계에서, 상기 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간 중 그 일부 구간에 적어도 하나의 쇼트 전극을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법.
4. 서로 대향 배치되는 제1 기판 및 제2 기판;

   상기 제1 기판 상에 형성되는 어드레스전극들;

   공통전극들과 주사전극들을 포함하여 상기 제2 기판 상에 형성되는 방전유지전극들;

   상기 제1 기판과 제2 기판 상의 공간에 배치되어 다수의 방전셀을 구획하는 격벽; 및

   상기 방전셀들에 형성되는 형광체층

   을 포함하고,

   상기 제1 기판의 가장자리 부분으로 인출되는 어드레스전극들의 적어도 한 쪽 단부의 전체 구간 중 그 일부 구간에 적어도 하나의 쇼트 전극이 마련되되, 그 쇼트 전극이 어드레스전극들과 단절되도록 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.
5. 삭제

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