KR100586184B1 - 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치 - Google Patents

나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100586184B1
KR100586184B1 KR1020040049337A KR20040049337A KR100586184B1 KR 100586184 B1 KR100586184 B1 KR 100586184B1 KR 1020040049337 A KR1020040049337 A KR 1020040049337A KR 20040049337 A KR20040049337 A KR 20040049337A KR 100586184 B1 KR100586184 B1 KR 100586184B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrostatic
production system
nanoparticles
dispersing
dispersion
Prior art date
Application number
KR1020040049337A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060000471A (ko
Inventor
김용진
한방우
하병길
황순철
Original Assignee
한국기계연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국기계연구원 filed Critical 한국기계연구원
Priority to KR1020040049337A priority Critical patent/KR100586184B1/ko
Publication of KR20060000471A publication Critical patent/KR20060000471A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100586184B1 publication Critical patent/KR100586184B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • B82B3/0004Apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of nanostructural devices or systems or methods for manufacturing the same
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • B82B3/0061Methods for manipulating nanostructures
    • B82B3/0071Sorting nanostructures
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Separation Of Solids By Using Liquids Or Pneumatic Power (AREA)

Abstract

본 발명은 나노입자생산 시스템에 있어서, 나노입자생산 시스템에 있어서, 재료가 투입되어 교반되는 교반기와; 상기 교반기에서 교반된 재료를 분쇄기로 전달하는 펌프와; 상기 펌프를 통해 전달된 재료를 분쇄 및 분산시키는 분쇄/분산기와; 상기 분쇄/분산기로부터 배출된 재료를 분급시키는 분급기와; 상기 분급기로부터 분급되지 않는 재료를 다시 순환시키는 순환회로와; 상기 교반기, 펌프, 분쇄/분산기, 분급기 또는 순환회로 중 선택되는 어느 구성의 연결부 또는 내부에 설치되어 재료에 정전기력을 부가하도록 양전하 또는 음전하를 띤 기체 또는 액체를 주입하며, 정전기력을 부가하기 위하여 양극, 음극, 또는 교류중에서 어느 한가지를 선택하여 인가하고, 방전극과 접지극 사이에 유전체를 두고 교류전원을 사용하여 하전하는 정전분산장치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치에 관한 것이다.
이는 나노입자의 응집에 의한 생산성 저하를 방지하여 높은 생산성의 나노입자 생산 시스템을 개발하고자 하는 것이며, 입자가 분쇄/분산된 후 재응집된 상태로 존재할 수 있는 나노입자들에 정전기력을 부가함으로서, 정전기력에 의한 반발력으로 분산(정전 분산)되도록 하여 입자의 과도한 분쇄를 방지하여 균일한 나노입자의 크기를 얻을 수 있고, 비이드나 베인의 회전 등에 의한 분산에 필요한 에너지를 감소시키며, 동시에 하전입자의 정전기력을 이용하여 생산하고자 하는 입자에 대하여 미세나노입자까지도 분급효율을 좋게 하여 생산되는 나노입자의 질과 양적인 면 모두 생산성을 향상시키고자 하는 것이다.
나노입자 생산 시스템, 정전 분산, 응집 억제, 정전나노입자 분급

Description

나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치 {ELECTROSTATIC DISPERSION /CLASSIFYING APPARATUS OF NANO POWDER PRODUCTION SYSTEM}
도 1은 종래의 미디어 밀 시스템을 설명하는 개략도.
도 2는 본 발명에 적용되는 정전 분산 개념도.
도 3은 본 발명에 의한 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치를 나타낸 개략도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 교반기 20 : 펌프
30 : 분쇄/분산기 40 : 분급기
50 : 순환회로 60 : 정전분산장치
본 발명은 초미세 나노 입자를 생산하기 위한 습식/건식 입자 분쇄, 분산 및 분급하는 미세입자 생산 시스템에 관한 것으로, 이를 상세히 설명하면, 나노입자의 응집에 의한 생산성 저하를 방지하여 높은 생산성의 나노입자 생산 시스템을 개 발하고자 하는 것이며, 입자가 나노 크기로 분쇄된 후 응집된 상태로 존재할 수 있는 나노 입자들에 정전기력을 부가함으로서, 정전기력에 의한 반발력으로 분산(정전 분산)되도록 하여 입자의 과도한 분쇄를 방지하여 균일한 나노입자의 크기를 얻을 수 있고, 비이드나 베인의 회전 등에 의한 분산에 필요한 에너지를 감소시키며, 동시에 하전입자의 정전기력을 이용하여 생산하고자 하는 나노입자에 대하여 미세입자까지도 분급효율을 좋게 하여 생산되는 나노입자의 질과 양적인 면 모두 생산성을 향상시키고자 하는 장치 및 이를 이용한 제어방법에 관한 것이다.
종래기술에 있어서, 나노 파우더 입자의 제조 방법은 입자가 만들어지는 상(相)에 따라 고체상, 액상, 기상의 3가지 방법으로 분류할 수 있는데 이 중 가장 일반적인 제조 기술이 Top-down 방식의 액상 방법이다. 또한 일반적으로 기상법, 액상법에 의해 나노입자가 합성되었다고 하더라도 응집체로서 생성되기 때문에 단일입자로 생성시키기 위해서는 분쇄, 분산의 조작이 필요하다. 이러한 분쇄, 분산 장치 가운데 대표적인 것이 비이드를 이용한 습식 미디어(media) 밀(mill) 장치이다.
최근의 유럽 및 일본 등에서는 원료를 거시적인 벌크상태에서 습식의 분쇄 및 분산하는 미디어 밀 장치가 개발되어 공업적인 규모에서 상용화 적용되고 있다. 이러한 미디어 밀 장치는 분쇄, 분산, 분급 및 분급되지 않은 조대입자의 재순환 과정을 거친다.
응집된 나노입자는 분급과정에서 큰 입자의 특성을 가짐으로써 분쇄과정으로 재순환하게 되고 응집된 입자는 과도한 분쇄과정을 겪음으로써 더욱 미세한 입자로 분쇄될 수 있다. 이와 같이 응집된 입자는 과도한 분쇄 및 분급효율 저하로 인하여 입자의 입도분포가 넓어져 그 가치가 하락되고, 분급효율의 저하로 인한 재순환 과정을 거치면서 비용의 향상 및 생산성의 하락을 가져온다. 여기서 응집된 나노입자의 분산을 좋게 함으로써 제품의 질과 생산성을 향상시킬 수 있다.
응집된 나노입자를 분산하는 방법으로는 회전하는 회전체와 비이드를 이용하여 하는 방법이 종래기술에서 상용화 되어 있으나 이는 직접적인 물리적 충돌에 의한 것이므로 분쇄 및 분산조에서 전반적인 응집방지에 곤란하고 분산된 입자들이 분급과정으로 이송될 때 다시 응집될 수 있는 단점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 습식 미디어밀 나노입자생산 시스템에서 입자의 분산도를 좋게 하기 위하여 동일한 극성의 전하가 가지는 상호 반발력을 이용하여 액체내의 응집된 입자를 분산도를 개선시켜 입도 분포가 균일하게하고 동시에 입자의 하전력을 이용하여 미세입자까지도 분급이 용이하게 하여 파우더의 생산성을 향상시키는 것이다.
도 2는 본 발명에 적용되는 정전 분산 개념도로서, 이를 자세히 설명하면, 응집된 나노입자에 정전기력을 부가함으로써 응집을 미세한 영역까지 방지할 수 있고, 분쇄, 분산 및 분급 과정의 전반적인 영역에서 응집을 방지하고 분산을 개선시키면서 동시에 분급시 입자의 대전력을 이용하는 정전분급 윈리를 적용하여 미세입자의 분급성능을 좋게하여 실용적이면서 높은 생산성을 갖는 나노입자 생산 시스템을 제조하기 위한 것이다.
도 3은 본 발명에 의한 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치를 나타낸 개략도로서, 이를 상세히 설명하면, 나노입자생산 시스템에 있어서, 재료가 투입되어 교반되는 교반기와; 상기 교반기에서 교반된 재료를 분쇄기로 전달하는 펌프와; 상기 펌프를 통해 전달된 재료를 분쇄 및 분산시키는 분쇄/분산기와; 상기 분쇄/분산기로부터 배출된 재료를 분급시키는 분급기와; 상기 분급기로부터 분급되지 않는 재료를 다시 순환시키는 순환회로와; 상기 교반기, 펌프, 분쇄/분산기, 분급기 또는 순환회로 중 선택되는 어느 구성의 연결부 또는 내부에 설치되어 재료에 정전기력을 부가하도록 양전하 또는 음전하를 띤 기체 또는 액체를 주입하며, 정전기력을 부가하기 위하여 양극, 음극, 또는 교류중에서 어느 한가지를 선택하여 인가하고, 방전극과 접지극 사이에 유전체를 두고 교류전원을 사용하여 하전하는 정전분산장치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치에 관한 것이다.
상기 정전분산장치(60)는 양전하 또는 음전하를 띤 기체 또는 액체를 주입하는 이온 주입장치를 포함하며, 다른 실시예로서, 방전극과 접지극 사이에 유전체를 두고 교류전원을 사용하여 하전하는 장벽하전장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 정전분산장치(60)는 정전기력을 부가하기 위하여 양극, 음극, 또는 교류중에서 어느 한가지를 선택하는 것을 특징으로 한다.
본 발명은 기존의 기상 및 액상 나노입자 생산시스템에서 정전기력을 부가하는 장치를 추가로 설치하여, 정전기력을 부가하기 위하여 양극과 음극 및 교류 모두를 사용할 수 있으며, 이는 입자와 기상 및 액상의 특성에 따른다.
정전분산장치의 설치는 입자생산장치의 입구, 본체 및 순환 유로 등 어디에도 설치 할 수 있는 것이다.
나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치에 의한 제어방법를 설명하면 다음과 같다.
나노입자를 생산하는 단계에 있어서,
재료를 투입하여 교반하는 단계와;
상기 교반된 재료를 분쇄 및 분산하는 단계와;
상기 분쇄 및 분산 재료를 분산하는 단계와;
상기 분산된 재료가 생산되는 단계와;
상기 분산되지 않은 재료를 다시 교반하는 단계로 재순환시키는 재 순환단계와;
상기 단계의 어느 단계 다음에 재료에 정전기력을 부가하기 위한 정전분산단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노입자생산 시스템의 정전분산 및 분산단계의 제어방법에 관한 것이다.
본 발명은 나노입자생산 시스템에서 입자의 분산효율을 증가하기 위하여 동일한 극성의 전하가 가지는 상호 반발력을 이용하여 응집된 입자를 분산시켜 입자의 분산도를 좋게 하여 입도분포가 좋게 하고 생산성을 향상시키는 것이다. 동시에 나노입자 분급장치에서 하전나노입자의 정전기력을 이용하여 미세입자의 영역에서도 입자분급성능을 향상시키는 것이다.

Claims (5)

  1. 나노입자생산 시스템에 있어서,
    재료가 투입되어 교반되는 교반기(10)와;
    상기 교반기에서 교반된 재료를 분쇄기로 전달하는 펌프(20)와;
    상기 펌프를 통해 전달된 재료를 분쇄 및 분산시키는 분쇄/분산기(30)와;
    상기 분쇄/분산기(30)로부터 배출된 재료를 분급시키는 분급기(40)와;
    상기 분급기(40)로부터 분급되지 않는 재료를 다시 순환시키는 순환회로(50)와;
    상기 교반기(10), 펌프(20), 분쇄/분산기(30), 분급기(40) 또는 순환회로(50) 중 선택되는 어느 구성의 연결부 또는 내부에 설치되어 재료에 정전기력을 부가하도록 양전하 또는 음전하를 띤 기체 또는 액체를 주입하며, 정전기력을 부가하기 위하여 양극, 음극, 또는 교류중에서 어느 한가지를 선택하여 인가하고, 방전극과 접지극 사이에 유전체를 두고 교류전원을 사용하여 하전하는 정전분산장치(60);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
KR1020040049337A 2004-06-29 2004-06-29 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치 KR100586184B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040049337A KR100586184B1 (ko) 2004-06-29 2004-06-29 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040049337A KR100586184B1 (ko) 2004-06-29 2004-06-29 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060000471A KR20060000471A (ko) 2006-01-06
KR100586184B1 true KR100586184B1 (ko) 2006-06-07

Family

ID=37103759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040049337A KR100586184B1 (ko) 2004-06-29 2004-06-29 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100586184B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102258402B1 (ko) 2019-12-23 2021-05-31 하나에이엠티 주식회사 분말 분급 장치

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100958614B1 (ko) * 2007-11-13 2010-05-19 한국전기연구원 액중 전기폭발에 의해 제조된 자성체 나노분말을 분급 및회수하는 방법 및 시스템

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102258402B1 (ko) 2019-12-23 2021-05-31 하나에이엠티 주식회사 분말 분급 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060000471A (ko) 2006-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2600551C (en) Method of separating foreign particles
JP2016511690A (ja) 分級機および分級機の運転方法
CN105967194B (zh) 一种高滑度滑石粉的制备方法
WO2020043131A1 (zh) 锂电池用的球形石墨和制备方法
CN111266162A (zh) 一种纳米硅粉的制备方法
JP4205888B2 (ja) 粉体処理装置および粉体処理方法
KR100586184B1 (ko) 나노입자생산 시스템의 정전 분산 및 분급장치
JP3447502B2 (ja) 粉砕方法及びその設備
CN105482501A (zh) 一种纳米级碳酸钙的湿法气流粉碎分散方法
JPH105560A (ja) 顔料を分散せしめるためのサンドミル
JP2003275685A (ja) 気流式粉砕・分級機
JP4156510B2 (ja) 鉱物粒子を微粉砕する方法および装置
KR100842300B1 (ko) 미디어 밀 장치의 파우더 분급 및 분리장치
JPH10338518A (ja) 炭酸カルシウムの製造方法
CN103923350B (zh) 一种白云石粉间层插位硅钙复合材料制备方法
JP2006247615A (ja) 微粉末の分散化・微粉細化方法及び装置
JP2006255530A (ja) 異物粒子の分離方法
JP3773063B2 (ja) 静電荷像現像用トナーの製造方法
Cayirli et al. The effect of stirred mill orientation on calcite grinding
JPH09253517A (ja) 粉末粒子の粉砕方法と粒子修飾方法
Taner et al. Effect of operational parameters on the particle size distribution of marble wastes in stirred media mill
JPH06343890A (ja) 湿式粉砕方法
KR20040001382A (ko) 초미립 규석 분말의 제조방법
KR100590848B1 (ko) 회전형 스크린을 이용한 미세입자 분리방법 및 그 장치
CN115069356B (zh) 一种多重破碎的超微粉碎机

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130327

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140310

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160308

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170308

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180416

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190311

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200309

Year of fee payment: 15