KR100562017B1 - 기판 반송 장치 - Google Patents

기판 반송 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100562017B1
KR100562017B1 KR1020040008388A KR20040008388A KR100562017B1 KR 100562017 B1 KR100562017 B1 KR 100562017B1 KR 1020040008388 A KR1020040008388 A KR 1020040008388A KR 20040008388 A KR20040008388 A KR 20040008388A KR 100562017 B1 KR100562017 B1 KR 100562017B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
guide
horizontal guide
arm
substrate
vertical
Prior art date
Application number
KR1020040008388A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050080314A (ko
Inventor
오창석
강희영
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020040008388A priority Critical patent/KR100562017B1/ko
Publication of KR20050080314A publication Critical patent/KR20050080314A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100562017B1 publication Critical patent/KR100562017B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67718—Changing orientation of the substrate, e.g. from a horizontal position to a vertical position

Abstract

본 발명은 기판 반송 장치에 관한 것으로, 기판을 지지하고, 진퇴 동작과 회전 동작이 가능하며, 지지된 기판의 위를 덮으며 에어를 분출하는 개구를 갖는 커버를 포함하는 아암; 상기 아암을 수평 방향으로 이동시키는 이송 벨트를 내장하는 하부 수평 가이드와, 상기 하부 수평 가이드와 평행한 상부 수평 가이드를 포함하여 상기 아암의 수평 방향의 이동을 안내하는 수평 가이드; 서로 이격된 복수개의 수직한 프레임과 상기 상부 수평 가이드를 따라 이동되는 보조 가이드를 포함하여 상기 아암의 수직 방향의 이동을 안내하는 수직 가이드; 및 상기 하부 수평 가이드 측면에 결합된 하부 배기관과 상기 상부 수평 가이드 측면에 결합된 상부 배기관을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 작은 점유 공간 내에서 기판 표면에로의 파티클 부착 현상없이 피처리 기판을 효율적으로 반송할 수 있다.

Description

기판 반송 장치{APPARATUS FOR TRANSPORTING SUBSTRATES}
도 1은 본 발명의 기판 반송 장치의 전면부를 도시한 사시도.
도 2는 본 발명의 기판 반송 장치의 후면부를 도시한 사시도.
도 3 및 도 4는 본 발명의 기판 반송 장치의 일부를 도시한 사시도.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >
100; 몸체 프레임 110a; 하부 수평 가이드
110b; 상부 수평 가이드 112, 114, 116, 122; 보조 프레임
118; 이송 벨트 119; 랙
120; 수직 가이드 124; 보조 가이드
125; 공기 순환 통로 130; 아암
132; 커버 134; 개구
140a; 하부 배기관 140b; 상부 배기관
본 발명은 기판 반송 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 작은 점유 공간을 차지하면서 파티클의 부착없이 피처리 기판을 반송할 수 있는 기판 반송 장치에 관한 것이다.
반도체 디바이스나 액정 표시 장치(LCD)의 제조 공정에서는, 기판 반송 장치를 이용하여 각 처리부에 기판을 차례로 반송하고, 각 처리부에 있어서 하나의 기판 또는 다수의 기판을 소정의 공정 처리한다. 예를 들어, 반도체 디바이스의 포토리소그래피 공정에서는, 웨이퍼를 도포 장치에 반송하여 웨이퍼의 표면에 포토레지스트막을 형성하고, 웨이퍼를 노광 장치에 반송하여 포토레지스트막을 노광하고, 웨이퍼를 현상 장치에 반송하여 노광된 포토레지스트막을 현상한다
이러한 기판 반송 장치의 일례로 일본국 공개특허공보 평 6-85042호에는 웨이퍼를 진공 흡착하여 반송하는 장치가 개시되어 있다. 이 종래 장치의 진공척은 웨이퍼 이면의 중앙 부분을 진공 흡착하는 것이지만, 진공척으로부터 웨이퍼 이면의 중앙 부분에 파티클이 부착할 우려가 있다. 한편, 기판 처리 시스템에 있어서 피처리 기판에 대한 작업 효율의 향상을 꾀하기 위해 기판에 대한 특정의 처리를 하는 각종의 처리 유니트를 집약하고 있는 것이 현재의 추세이다. 따라서, 기판 처리 시스템의 일부를 이루고 있는 기판 반송 장치에 있어서도 이 장치가 점유하고 있는 면적이나 공간을 줄여야 하는 설계상의 요구가 필요하다.
이에 본 발명은 상기한 요구와 필요에 부응하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 파티클 발생을 줄일 수 있고 점유 공간이 줄어든 기판 반송 장치를 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 반송 장치는 피처리 기판 반송 아암과, 하부 구동 부재와, 수평 방향 부재와, 수직 방향 부재를 하나의 몸체에 장착하고, 배기 내지는 파티클을 외부로 유도하는 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 구현하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 기판 반송 장치는, 기판을 지지하고 진퇴 동작과 회전 동작이 가능한 아암과, 상기 아암의 수평 방향 이동을 안내하는 수평 가이드와, 상기 아암의 수직 방향 이동을 안내하는 수직 가이드를 포함하며, 상기 아암은 상기 수평 가이드 및 상기 수직 가이드와는 이동 가능하게 결합된 것을 특징으로 한다.
상기 수평 가이드는 상부 수평 가이드와 하부 수평 가이드를 포함하고, 상기 수직 가이드는 서로 이격된 복수개의 수직 프레임과 상기 수평 가이드를 따라 이동되는 보조 가이드를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 수직 가이드의 내부는 배기 통로 역할을 하는 것을 특징으로 한다.
상기 상부 수평 가이드와 상기 하부 수평 가이드 중에서 적어도 어느 하나는 배기관과 결합된 것을 특징으로 한다.
상기 하부 수평 가이드는 상기 아암을 수평 이동시키는, 그리고 랙과 결합된 제한된 길이를 갖는 이송 벨트를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 보조 가이드는 공기 순환 통로를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 아암은 기판 위를 덮으며, 에어가 분출되는 개구를 갖는 커버를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 특징을 구현하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 반송 장치 는, 기판을 지지하고, 진퇴 동작과 회전 동작이 가능하며, 지지된 기판의 위를 덮으며 에어를 분출하는 개구를 갖는 커버를 포함하는 아암; 상기 아암을 수평 방향으로 이동시키는 이송 벨트를 내장하는 하부 수평 가이드와, 상기 하부 수평 가이드와 평행한 상부 수평 가이드를 포함하여 상기 아암의 수평 방향의 이동을 안내하는 수평 가이드; 서로 이격된 복수개의 수직한 프레임과 상기 상부 수평 가이드를 따라 이동되는 보조 가이드를 포함하여 상기 아암의 수직 방향의 이동을 안내하는 수직 가이드; 및 상기 하부 수평 가이드 측면에 결합된 하부 배기관과 상기 상부 수평 가이드 측면에 결합된 상부 배기관을 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 수직 가이드의 내부는 배기 통로 역할을 하며, 상기 보조 가이드는 공기 순환 통로를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 작은 점유 공간 내에서 기판 표면에로의 파티클 부착 현상없이 피처리 기판을 효율적으로 반송할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 기판 반송 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
종래 기술과 비교한 본 발명의 이점은 첨부된 도면을 참조한 상세한 설명과 특허청구범위를 통하여 명백하게 될 것이다. 특히, 본 발명은 특허청구범위에서 잘 지적되고 명백하게 청구된다. 그러나, 본 발명은 첨부된 도면과 관련해서 다음의 상세한 설명을 참조함으로써 가장 잘 이해될 수 있다. 도면에 있어서 동일한 참조부호는 다양한 도면을 통해서 동일한 구성요소를 나타낸다.
도 1은 본 발명의 기판 반송 장치의 전면부를 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 기판 반송 장치의 후면부를 도시한 사시도이고, 도 3 및 도 4는 본 발명의 기판 반송 장치의 일부를 도시한 사시도이다.
도 1을 참조하여, 본 발명에 따른 기판 반송 장치는 기판을 지지하여 진퇴(X 방향) 동작과 회전 동작(θ방향)이 가능한 아암(130)과, 아암(130)을 안내하여 Y 방향으로 이동시킬 수 있는 수평 가이드(110a,110b)와, 아암(130)을 안내하여 Z 방향으로 이동시킬 수 있는 수직 가이드(120)가 하나의 몸체 프레임(100)에 장착되어 있다.
아암(130)은 몸체 프레임(100) 내부에 배치되어 기판을 장착하여 그 기판을 소정의 처리 유니트간에 반송시키는 것으로, 내장된 회전 구동부에 의해 구동축을 중심으로 θ방향으로 회전될 수 있다. 그리고, 아암(130)은 X 방향으로 신축 가능하다. 또한, 후술하는 바와 같이, 아암(130)은 수평 가이드(110a,110b)에 의해 안내되어 Y 방향으로 이동 가능하고, 이와 더불어 수직 가이드(120)에 의해 안내되어 Z 방향으로 이동 가능하다. 따라서, 본 발명의 아암(130)은 그 이동 궤적이 임의대로 설정될 수 있어서 기판 수수의 용이성이 확보된다. 그리고, 아암(130)은 복수개 설치되어 복수개의 기판을 동시에 처리할 수 있다.
아암(130)에는 기판 위를 덮는 커버(132)를 더 포함하여 구성될 수 있어서, 아암(130)이 Z 방향으로의 승강 동작시 발생하는 상대적인 기류로부터 기판을 보호할 수 있다. 따라서, 아암(130)의 승강 동작시 기류에 의해 기판이 떠오르거나 기류에 실려오는 파티를이 기판 표면에 부착되는 것을 막을 수 있다. 또한, 커버(132)에 에어가 분출되는 수개의 개구(134)가 형성되어 커버(132) 아래로 에어 커튼이 형성될 수 있다. 에어 커튼이 형성되면 특히 아암(130)이 사선 방향(예; Z 방향과 X 방향의 합)으로 이동하는 경우 측면 기류로부터 기판을 보호할 수 있다.
몸체 프레임(100)은 수개의 프레임이 서로 결합된 것으로, 아암(130)을 Y 방향으로 안내하는 상부 수평 가이드(110a)와 하부 수평 가이드(110b), 상하부 수평 가이드(110a,110b) 사이에 수직 방향으로 세워진 수직 보조 프레임(116), 하부 수평 가이드(110b)와는 평행하게 연장되어 몸체 프레임(100) 형태를 만드는 수평 보조 프레임(112), 상하부 수평 가이드(110a,110b)와 수평 보조 프레임(112)의 끝단을 서로 결합되도록 하여 몸체 프레임(100)의 측부 형태를 만드는 결합 보조 프레임(114)으로 구성된다. 이와 같이, 몸체 프레임(100)은 다수개의 보조 프레임(116,112,114)에 의해 결합되어 있으므로 그 강성이 강화되고, 이에 따라 장시간 사용시에도 그 형태를 온전히 유지할 수 있는 등 내구성이 강화된다.
수평 가이드(110a,110b)는 상술한 바와 같이 아암(130)을 Y 방향으로 이동시키기 위한 주행 가이드로서, 수직 가이드(120)의 양 선단부와 결합된다. 수평 가이드(110a,110b) 중에서 특히 하부 수평 가이드(110b)의 내면에는 이송 벨트(118)를 포함하는 수평 방향 구동부가 내장된다. 따라서, 이송 벨트(118)의 구동에 의해 아암(130)은 수평 가이드(110a,110b)를 따라 수평 이동된다. 이송 벨트(118)는 랙(119)과 결합된 제한된 길이를 갖는 개방형 벨트일 수 있다. 랙(119)과 결합된 개방형 이송 벨트(118)인 경우 장시간 사용시 벨트의 신장이 최소화되어 아암(130)의 이동 정밀도가 향상된다.
수직 가이드(120)는 아암(130)을 Z 방향으로 이동시키기 위한 일종의 주행 가이드로서, 상하부 수평 가이드(110b,110a)와 결합된다. 따라서, 아암(130)은 수평 가이드(110b,110a)에 의해 안내되어 Y 방향으로 이동되는 동시에 수직 가이드(120)에 의해 안내되어 Z 방햐으로도 이동될 수 있다. 즉, 아암(130)은 Y 방향과 Z 방향의 합에 상당하는 사선 방향으로 이동될 수 있는 것이다. 한편, 수직 가이드(120)는 서로 이격된 복수개, 예를 들어, 두개의 수직한 프레임으로 구성되는 바, 두개의 프레임 사이의 이격된 공간으로 아암(130)은 자유로이 드나들 수 있다. 그리고, 수직 가이드(120)는 서로 이격된 두개의 프레임을 가로로 이어주는 수평 보조 프레임(122)과 상부 수평 가이드(110b)를 따라 Y 방향으로 이동될 수 있도록 하는 보조 가이드(124)를 포함하여 구성된다.
도 2를 참조하여, 상부 수평 가이드(110b)와 하부 수평 가이드(110a) 중에서 어느 하나의 바깥쪽 측면, 또는 양 수평 가이드(110b,110a)의 바깥쪽 측면 각각에는 상부 배기관(140b)과 하부 배기관(140a)이 더 설비되어 있을 수 있다. 상하부 배기관(140b,140a)을 통해 소정의 처리 공정 동안 몸체 프레임(100) 내부에서 발생되는 원치않는 가스 내지는 파티클 등을 외부로 배기시킬 수 있다.
도 3을 참조하여, 수직 가이드(150)는 그 내부 자체가 가스나 파티클의 배기 통로로 이용될 수 있다. 예를 들어, 소정의 공정 처리 동안 몸체 프레임(100) 내부에서 발생된 원치않는 가스나 파티클이 수직 가이드(150) 내부로 빨려들어가고, 빨려들어간 가스나 파티클이 화살표 방향과 같이 아래로 이동되어 외부로 배출될 수 있다.
도 4를 참조하여, 수직 가이드(120)가 수평 가이드(110b)에 의해 안내되어 우측(300)으로 주행 이동되는 경우 상부 수평 가이드(110b) 내부는 압력차가 발생한다. 즉, 보조 가이드(124) 우측에 해당하는 상부 수평 가이드(110b) 내부의 압력은 보조 가이드(124) 좌측에 해당하는 상부 수평 가이드(110b) 내부의 압력에 비해 순간적으로 커진다. 이는 특히 보조 가이드(124)가 고속으로 이동하는 경우에 그 정도가 심해지는데, 보조 가이드(124)가 우측으로 이동될 때 상부 수평 가이드(110b)의 우측 내부를 압축하는 결과를 일으키기 때문이다. 이에 따라, 보조 가이드(124)가 공기 순환 통로 역할을 하게 되면 우측의 큰 압력의 공기는 보조 가이드(124)를 향해 배출되어(310) 좌측으로 향하고(320), 이는 상대적으로 작은 압력을 가진 좌측 공간을 채우게 된다(330). 이와 같이, 보조 가이드(124)가 공기 순환 통로 역할을 하면 저압 배기에 기여하게 된다. 이를 위해 보조 가이드(124)에는 공기를 순환시키는 통로(125)가 더 형성되어 있을 수 있다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것에 불과하며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 그리고, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예들은 본 발명을 실시하는데 있어 최선의 상태를 설명하기 위한 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 반송 장치에 의하면, 작은 점유 공간 내에서 기판 표면에로의 파티클 부착 현상없이 피처리 기판을 효율적으로 반송할 수 있다.

Claims (10)

  1. 기판을 지지하고 진퇴 동작과 회전 동작이 가능한 아암과;
    상기 아암의 수직 방향 이동을 안내하는 수직 가이드와;
    상기 수직 가이드의 수평 방향 이동을 안내하는 수평 가이드;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 수평 가이드는 상부 수평 가이드와 하부 수평 가이드를 포함하고,
    상기 수직 가이드는 서로 이격된 복수개의 수직 프레임과 상기 수평 가이드를 따라 이동되는 보조 가이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 수직 가이드의 내부는 배기 통로 역할을 하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 상부 수평 가이드와 상기 하부 수평 가이드 중에서 적어도 어느 하나는 배기관과 결합된 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  5. 제2항 또는 제4항에 있어서,
    상기 하부 수평 가이드는 상기 아암을 수평 이동시키는, 그리고 랙과 결합된 제한된 길이를 갖는 이송 벨트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 보조 가이드는 공기 순환 통로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 아암은 기판 위를 덮으며, 에어가 분출되는 개구를 갖는 커버를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  8. 기판을 지지하고, 진퇴 동작과 회전 동작이 가능하며, 지지된 기판의 위를 덮으며 에어를 분출하는 개구를 갖는 커버를 포함하는 아암;
    상기 아암을 수평 방향으로 이동시키는 이송 벨트를 내장하는 하부 수평 가이드와, 상기 하부 수평 가이드와 평행한 상부 수평 가이드를 포함하여 상기 아암의 수평 방향의 이동을 안내하는 수평 가이드;
    서로 이격된 복수개의 수직한 프레임과 상기 상부 수평 가이드를 따라 이동되는 보조 가이드를 포함하여 상기 아암의 수직 방향의 이동을 안내하는 수직 가이 드; 및
    상기 하부 수평 가이드 측면에 결합된 하부 배기관과 상기 상부 수평 가이드 측면에 결합된 상부 배기관;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 수직 가이드의 내부는 배기 통로 역할을 하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 보조 가이드는 공기 순환 통로를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반송 장치.
KR1020040008388A 2004-02-09 2004-02-09 기판 반송 장치 KR100562017B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040008388A KR100562017B1 (ko) 2004-02-09 2004-02-09 기판 반송 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040008388A KR100562017B1 (ko) 2004-02-09 2004-02-09 기판 반송 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050080314A KR20050080314A (ko) 2005-08-12
KR100562017B1 true KR100562017B1 (ko) 2006-03-16

Family

ID=37267131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040008388A KR100562017B1 (ko) 2004-02-09 2004-02-09 기판 반송 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100562017B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100776890B1 (ko) 2005-02-17 2007-11-19 동경 엘렉트론 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101895403B1 (ko) 2011-11-22 2018-09-06 세메스 주식회사 반송로봇 및 이를 가지는 기판처리장치

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100776890B1 (ko) 2005-02-17 2007-11-19 동경 엘렉트론 주식회사 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050080314A (ko) 2005-08-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100687008B1 (ko) 파티클을 효과적으로 흡입 배출할 수 있는 기판 반송 장치
JP4541232B2 (ja) 処理システム及び処理方法
JP6543534B2 (ja) 基板処理装置
KR100795657B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20080059070A (ko) 감압건조장치
US6146083A (en) Substrate transferring apparatus and substrate processing apparatus using the same
KR20200089609A (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
KR19990014300A (ko) 기판반송장치 및 그것을 이용한 기판처리장치
JP5726686B2 (ja) 液処理装置、及び液処理装置の制御方法
JP3954686B2 (ja) 基板の搬送装置及び基板の搬送方法
US10727087B2 (en) Substrate transporting device, substrate treating apparatus, and substrate transporting method
KR100562017B1 (ko) 기판 반송 장치
KR100542630B1 (ko) 반도체 제조 설비
JP2006351864A (ja) 処理システム及び処理方法
CN102442542A (zh) 衬底交接装置以及衬底交接方法
JP4503384B2 (ja) 基板処理装置
JP2000174095A (ja) 基板処理装置
KR102303594B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
JP2006190828A (ja) 基板処理装置
KR20110122007A (ko) 다축으로 스트로크가 조절되는 아암이 구성된 기판 반송장치
KR100542631B1 (ko) 반도체 제조 설비
US11651979B2 (en) Transfer unit and apparatus for treating substrate
US20220390859A1 (en) Substrate treating apparatus
JP2000114349A (ja) 基板搬送装置および基板処理装置
TWI494978B (zh) 用於單列式處理基板的處理模組

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
O035 Opposition [patent]: request for opposition
O132 Decision on opposition [patent]
O074 Maintenance of registration after opposition [patent]: final registration of opposition
G171 Publication of correction by opposition
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130305

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140311

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150311

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160309

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180312

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190307

Year of fee payment: 14

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200303

Year of fee payment: 15