KR100498893B1 - 노광장치및환경제어방법 - Google Patents

Abstract

마스크 패턴을 조명해서 그 상을 감광성 기판상에 전사하는 노광 장치는 본체를 수용하는 본체 챔버와, 본체 챔버내의 분위기를 일정 조건으로 조정하기 위한 공조부와, 공조부에서 응축된 액체를 배출하기 위한 액체 배출부와, 응축된 액체를 배출하기 전에 일시적으로 포집하기 위한 포집부와, 포집부에 청정 액체를 공급하기 위한 액체 공급 장치를 구비한다. 포집부는 액체 배출관의 도중에 설치된 U 자형 관을 가지며, U 자형관내에 공조부내와 장치 외부의 압력차에 따른 양의 액체가 항상 존재하고 있으므로서 장치 외부에서 내부로의 불순물의 침입이 방지된다. 공조부와 액체 배출부와 사이에 설치되며 또한 공조부에서 응축된 액체중의 불순물을 제거하기 위한 내수성 필터를 구비하므로서 불순물을 방지할 수도 있다.

Description

노광 장치 및 환경 제어 방법

(발명의 분야)

본 발명은 반도체 회로 등을 포토리소그래피에 의해 제조하기 위한 노광장치에 관한 것이며, 또한 상세하게는 화학증폭형 레지스트가 도포된 감광성 기판을 노광하는데 적합한 노광장치에 관한 것이다.

(그 분야의 종래 기술)

반도체 회로나 액정기판 등을 제조하기 위한 포토리소그래피 공정에서 스텝퍼라고 불리는 투영노광장치가 사용되고 있다. 이와 같은 노광 장치는 매우 고정밀도로 온도조절을 할 필요가 있어서 그 온도조절을 위해서 공조부가 설치되어 있다. 공조부는 예컨대, 설정 온도에 대해서 ± 0.1℃의 범위라고 하는 매우 엄격한 온도 조절을 행할 필요에서 공조계는 순환계로서 구성되어 있다. 공기를 순환하기 위한 송풍기가 필요하지만 진동 등의 문제를 회피하기 위해서 송풍기를 포함하는 공조부는 노광 본체부가 수납된 본체 챔버를 포함하는 본체부에서 독립시킬 필요가 있다. 도 8에는 본체부(2)에서 공조부(1)가 독립한 상태의 종래의 노광장치의 하나의 예를 노광장치의 위쪽에서 본 개략도로 도시한다. 이하, 도 8에 따라서 이런 종류의 장치에 있어서의 공조계에 대해서 설명한다.

반도체 제조 장치에 있어선 청정도를 유지할 필요에서 레티클 R, 투영렌즈 PL 등으로 이루어지는 노광 본체부가 수납된 본체 챔버(3) 내부의 압력은 해당 본체 챔버(3)의 외부보다 항상 양의 압력으로 할 필요가 있다. 이 본체 챔버(3)내외의 압력차에 의해 본체 챔버(3)내의 공기가 외부로 누설되며, 그 누설분을 외부에서 공급할 필요가 생긴다. 이 때문에, OA(Outside Air inlet) 구멍이라고 불리는 외기 흡입구(6)가 설치되며, 통상 이 OA 구멍(6)을 거쳐서 외기를 취하여 자연 흡기가 이루어지도록 되어 있다.

한편, 본체 챔버(3)에서의 반환 공기는 외부에서의 공급 공기와 같이 되어서 공조부(1)에 들어간다. 공조부(1)에 들어갈 공기는 먼저 쿨러(7)에 의해서 냉각되고 외기를 취함에 의해서 외부에서 가져오게된 여분의 수분이 도시되지 않은 방열핀에 결로되어 제거된다. 이후, 히터(8)로 소망하는 온도까지 승온시키고 송풍팬(9)에서 본체부(2)로 보내들여진다. 송풍팬(9)의 하류엔 온도 센서(11)가 설치되어 있으며 이 온도 센서(11)의 검출 값이 도시생략의 제어 장치로 보내지고 있다. 그리고, 이 제어 장치에선 온도 센서(11)의 출력을 모니터하면서 목표 온도와의 차가 영이 되게 쿨러(7), 히터(8)를 제어한다. 이와 같이 해서, 소위 피드백 제어에 의해서 온도 조정이 이뤄지게 되어 있다.

또한, 본체 챔버(3)내의 공기의 청정도를 유지하기 위해서, 공조부(1)를 통한 공기는 본체 챔버(3)로 유도되기 전에 HEPA 박스(13)내의 HEPA 필터(High Efficiency Particle Air- Filter)(10)에 의해 청정화되게 되어 있다. 또한, 쿨러(7)에 의한 냉각부에서 결로(응축)된 수분은 쿨러(7)의 아래쪽 부분에 배치되어 있는 배출용 받침 접시인 드레인 팬(4)에 모아지며, 배수관(5)을 거쳐서 장치 밖으로 배출하도록 되어 있다.

그런데, 최근에 이르러 클린룸 분위기중의 미량 가스가 축소투영형 노광장치 등의 반도체 제조 장치에 대해서 악영향을 끼친다는 것을 알게 되었다. 이것을 구체적으로 설명하면 액시머레이저를 그 광원으로 사용한 엑시머레이저 노광 장치나 X 선 노광장치나 전자빔 노광 장치에서는 각 광원의 휘도가 부족하며, 레지스트의 고감도로 대응하려는 관점에서, 레지스트중의 감광제로서 산발생제를 포함하고, 노광으로 생성된 산에 의해 후속 열처리(PEB)에 있어서 촉매 반응이 유기되며, 현상액에 대해서 불용화(네가티브형) 또는 가용화(포지티브형)가 촉진되는 고감도의 화학증폭형 레지스트(Chemically amplified resist)가 쓰이는데, 예컨대, 포지티브형 레지스트의 경우, 분위기중의 ppb 레벨이 미량인 염기성 가스가 해당 포지티브형 화학증폭형 레지스트의 표면에 발생한 산촉매를 중화해서 표면 난용화층을 형성하여, 노광하여 현상한 후, 직사각형이 되어야 하는 레지스트 단면이 T헝이라고 불리는 T자형과 비슷한 차양을 형성하여 버리는 현상이 생긴다. 그대로는 고감도 레지스트인 화학 증폭형 레지스트를 사용할 수 없기 때문에, 오버코트 등을 해야만 하므로 스루풋이 저하되게 된다.

또한, 노광광의 단파장화, 고조도화에 따라 조명계 부재의 표면에 분위기 중의 미량 가스가 흐림 물질로서 석출된다고 하는 문제도 발생하고 있다. 이것은 분위기 중의 미량 가스와 노광광의 사이에 광화학적 상호작용이 생기는 것에 의한다. 반응물질로서는 공기 중의 암모니아 가스나 유황산화물, 유기규소 화합물 등이 대상으로서 들고 있다. 조명계 부재의 흐림 발생의 결과로서, 조도 저하가 현저해지고, 스루풋이 저감되어 버린다.

이들 클린룸 분위기 중의 미량의 불순물 가스를 제거하는 수단으로서 일본 특개평6-77114호는 화학물질 제거용 화학 필터를 개시하고 있다.

문제가 되는 미량가스는 원래 클린룸 중에 존재하고 있기 때문에, 어떠한 수단에 의해서 장치 내에 들어가기 전에 제거하여 버리면 좋지만, 상술한 공조부의 구성이 이것을 곤란하게 하고 있다. 즉, 온도 조절상, 드레인의 배관은 필요 불가결하고, 이 드레인 배관에 의해서 장치의 공조부가 외부에 개방되어 있다. 이것에 덧붙여, 장치의 구성상 히터나 쿨러는 송풍 팬의 직전에 두어지는 경우가 많고, 송풍 팬의 특성상 드레인 팬에서는 외기에 대하여 음압(-30 mmAq. 정도)으로 되어 있다. 이 때문에, 이하와 같은 여러 가지의 부적당함이 생긴다.

① 드레인 배관은 반도체 제조공장 내의 다른 디바이스 기기와 최종적으로 결합하고 있고, 드레인 팬에서는 외기에 대하여 음압으로 되어 있기 때문에, 드레인 팬에 물이 고여 있지 않을 때에는, 공장 내의 다른 제조장치에서 유래된 불순물 가스가 드레인 배관에 의해서 장치내로 유입해 올 가능성이 있다.

② 다른 제조장치에서 행해지는 알칼리 처리나 산성 처리 등의 화학적인 공정에 의해서 각 장치 분위기내에서 발생한 화학물질이 각 장치의 온조배수에 미량 녹아 들어가는데, 그들의 화학물질이 드레인 배관을 통해서 노광장치내에 ppb 레벨로 유입해 올 가능성은 상당히 크다. 배관계가 특히 고농도의 화학물질을 포함하는 배수가 아닌 한, 특히 화학적인 장치 오염에 배려가 이루어져 있지 않는 경우가 많으며, 온조배수의 배관계는 장치 외의 클린룸 분위기와 연계되어 있는 경우도 있을 수 있다.

③ 드레인 팬에는 장치의 설치 조건에 의해선 항상 쿨러에서의 결로수가 괴어 있는 수가 있으며, 그 경우에는 공장 배관에서 직접 외기가 장치내에 혼입되는 일은 없으나 괴어 있는 결로수를 개재하여 외기 중에 포함되는 불순물질이 간접적으로 혼입되어 올 가능성이 있으며, 어쨌거나 문제가 된다.

④ 공장 배관의 영향이 작은 경우에도 드레인 팬에 결로수가 괴어 있는 경우, 음압의 영향으로 장시간 흘러나오는 일이 없기 때문에 순환하고 있는 공기중의 미량 가스가 용해되어 농축된 후, 미생물 등이 번식하거나 해서 노광 장치에 악영향을 가져오는 가스의 2 차 공급원이 될 가능성이 있다.

본 발명의 목적은 종래 기술이 갖는 문제를 해결하고 노광장치의 배수부 및 공조부를 통해서 외부의 불순물이 장치내부로 역류하는 것을 방지하고, 그에 의해서, 화학 증폭형 레지스트의 표면 난용화층의 발생이나, 광학재료가 흐려져서 조도하 등의 피해의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 노광장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 제 1 특징에 따른 노광 장치는 마스크 패턴을 조명하여 그 상을 감광성 기판상에 전사하는 노광 본체와,

상기 노광 본체를 수용하고 내부의 분위기를 소정의 상태로 유지하는 본체 챔버와,

상기 본체 챔버내의 분위기를 소정의 상태로 조정하기 위한 공조부와,

상기 챔버내의 분위기가 상기 소정의 상태로 조정될 때에, 상기 공조부로부터 발생된 응결물을 배출하기 위한 액체 배출부와,

상기 응결물을 배출하기 전에, 상기 응결물을 일시적으로 포집하기 위한 포집부와,

상기 포집부에 청정 액체를 연속적 또는 단속적으로 공급하기 위한 공급 장치를 포함하는 노광 장치이다.

본 발명의 노광장치에 의하면 공조부에 의해 공조가 행해지면, 냉각부에서의 결로수가 포집부(집수부)에 일시적으로 집적되는데, 이들과 동시에 포집부내에는 급수 장치에 의해서 청정한 물이 연속적 또는 단속적으로 공급된다. 이 때문에 포집부에는 충분한 양의 물이 항상 괴어있고 더구나 이 포집부의 물은 외부로 계속 흐른다. 이 때문에 결로수 등의 배수에 포함되어 있는 용해된 불순물이 희석되게 되며, 불순물의 농축을 방지할 수 있고 또한, 포집부내에서의 불순물의 농축도 방지된다. 또한, 본 발명에 의하면 포집부에 상류에서 청정수가 항상 유입하므로, 포집부내의 물에 포함되는 물질은 계속 배출되므로 포집부 이후에서의 배관계에서 가져와지는 불순물의 간접적인 혼입, 즉 재방출을 방지하는 것이 가능하게 된다. 본 명세서에서, 청정한 액체 또는 물이란 암모니아 등의 불순물이나 미생물이 적어도 ppb 레벨 이하까지 제거된 액체 또는 물을 의미한다.

노광장치에 있어서 상기 액체 배출부가 배액관을 포함하며, 상기 포집부를 액체 배출관의 도중에 설치된 U 자형관으로 하는 것이 바람직하다. U 자형관내에 공조부내와 장치 외부의 압력차에 따른 양의 액체가 항상 존재하게 된다. 포집부를 U 자형관으로 구성하는 것에 의해서 상류에서 결로수와 더불어 청정수가 포집부내에 흘러들면 특별한 제어 장치를 쓰지 않고 내외 압력차로 정해지는 일정량의 물을 확실하게 포집부내에 담아둘 수 있는 동시에, 이 일정량을 초과하는 분의 물은 항상 외부로 계속 유출한다.

또한, 포집부는 상기 공조부와 상기 액체 배출부와의 사이에 설치된 드레인 팬으로 할 수도 있다. 드레인 팬은 공조부에서 응축된 물을 받을 수 있게 구성하고 또한 배수관의 공조부측의 단부에 접속할 수 있다. 이와 같은 드레인 팬은 노광 장치가 견고한 바닥위에 설치되어 있고, 상기와 같은 U 자형 배관부를 형성하는데 필요한 고저차를 확보할 수 없는 경우에 적합하다. 이 경우엔 드레인 배수용의 배관보다 항상 드레인 팬에 물의 수면이 높아지는 양의 물이 드레인 팬 내부에 고이도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 드레인 팬에서 하류측의 배관에서의 불순물을 포함하는 공기가 직접 장치내부로 역류하는 것을 방지할 수 있다. 이 경우, 드레인 팬으로의 연속적 또는 단속적으로 청정수를 흘리므로서 물로의 용해도가 높은 암모니아 등의 극성 분자가 수시로 드레인 팬내의 물에 녹아들며 또한, 노광장치 밖으로 배출되므로 준 화학 필터로서 드레인 팬이 기능하게 된다.

노광장치는 상기 포집부내의 유체량을 직접적 또는 간접적으로 검출하는 검출기와 상기 검출기의 검출결과에 의거해서 상기 포집부내에 거의 일정량의 액체가 항시 축적되게 상기 액체 공급 장치에 의해서 공급되는 액체의 양을 조절하는 유량조절기를 부가로 구비하는 것이 바람직하다. 직접적으로 액체량을 검출하는 검출기로선, 예컨대 집수부내의 물의 수면의 높이를 검출하는 레벨 센서를 들 수 있다. 또한, 간접적으로 검출하는 검출기로선 집수부에서 유출하는 물의 유량을 검출하는 유량 센서나 포집부에 유입하는 결로수를 포함하는 물의 총유량을 검출하는 유량센서를 들 수 있다. 이와 같이 검출기 및 유량 조절 장치를 설치하므로서 포집부내에 거의 일정량의 물이 항상 축적되게 급수 장치에 의해 공급되는 물의 양이 조절되므로, 예컨대 포집부를 드레인 팬으로 구성하는 경우에 드레인 배수용의 배관의 높이보다 항상 드레인 팬의 물의 높이가 높아지는 양으로 설정하고 게다가 드레인 팬의 물이 앙금이 생기지 않게 어느 일정값 이상의 유량을 확보할 수 있게 된다.

본 발명의 제 2 특징에 따른 노광장치는 마스크 패턴을 조명하여 그 상을 감광성 기판상에 전사하는 노광 본체와,

상기 노광 본체를 수용하고, 내부의 분위기를 소정의 상태로 유지하는 본체 챔버와,

상기 본체 챔버내의 분위기를 소정의 상태로 조정하기 위한 공조부와,

상기 공조부에서 응축된 액체를 배출하기 위한 액체 배출부와,

상기 공조부와 액체 배출부와의 사이에 설치되고, 또한 상기 공조부에서 응축된 액체 중의 불순물을 제거하기 위한 필터를 구비하는 노광 장치를 제공한다. 이 노광장치에 의하면, 필터가 공조부와 액체 배출부와의 사이에 배치되어 있기 때문에, 결로수(응축수)중의 불순물이 제거되는 동시에 외부에서 액체 배출부의 액체 배출로를 거쳐서 침입한 불순물 가스가 필터에 흡착되어서 본체내에 들어가는 것이 방지된다. 이것에 의해 액체 배출로의 입구 부분(통상, 드레인 팬이 설치된다)에 불순물이 고이는 것이 효과적으로 방지된다. 필터는 내수 화학 필터로 할 수 있고, 공조부와 장치의 외부를 연통하는 액체 배출로의 공조부측 단부에 공조부내와 액체 배출로내를 구획하는 상태로 배치할 수 있다. 또한, 화학 필터의 구성을 연구해서 압력 손실을 어느 정도 크게 설정하는 것이 바람직하고, 이와 같은 경우엔 그 자체가 트랩으로 되어서 배수관에서의 오염 공기의 역류가 방지된다.

상기 필터에 해당 필터에 흡착된 불순물의 농도를 검출하는 이온 센서를 부착하므로서 이온센서에 의해 필터에 흡착된 불순물의 온도를 검출하여 해당 필터의 수명을 판단할 수 있고, 이것으로 정확하게 교환시기를 판단할 수가 있다.

(실시예의 상세한 설명)

(제 1 실시예)

이하, 본 발명의 제 1 실시예를 도 1 내지 도 4에 의거하여 설명한다. 여기에서 상술한 종래예(도 8에 도시)와 동일 또는 동등한 구성 부분에 대해선 동일 부호를 사용하는 것으로 한다.

도 1에는 본 발명에 관한 노광장치의 개략 평면도가 도시되어 있다. 도 1에 도시되는 노광장치는 반도체 회로를 포토리소그래피 기술을 사용하여 제조할 때 쓰이는 투영노광장치이며 스텝퍼로서 총칭되어 있다. 이 종류의 장치는 통상 반도체 소자를 제조하는 공장내에 설치된다. 도 1에 도시한 노광장치는 공조부(1)와 본체부(2)의 2 개의 부분으로 구성된다. 본체부(2)는 본체 챔버(3)를 구비하고 있으며, 이 본체 챔버(3)내엔 광원, 조명부(어느 것이나 도시생략), 레티클 R, 투영광학계 PL, 스테이지, 웨이퍼(어느 것이나 도시생략)등을 갖는 노광 본체부가 수납되어 있다. 그리고, 엑시머레이저나 수은 램프 등의 도시생략의 광원에서 사출된 노광광이 각종 렌즈나 미러 등으로 되는 도시생략의 조명계로 필요한 파장, 크기, 및 조도 균일성으로 정형되어서 소정의 패턴이 형성된 레티클 R을 조명하고, 이 레티클 R에 형성된 패턴이 투영광학계 PL을 거쳐서 도시생략의 스테이지상에 적재 배치된 도시생략의 피노광 기판으로서의 웨이퍼에 전사되게 되어 있다. 이 웨이퍼로선 화학증폭형 레지스트가 도포된 것이 사용된다. 본체 챔버(3)의 내부는 환경 조건(청정도, 온도, 압력, 습도 등)이 거의 일정하게 유지되어 있다. 도 1에 도시한 노광장치의 본체부의 상세는 예컨대 특개평6-77114호나 주사형 노광장치의 일 예를 개시한 특개평4-277612호에 기재되어 있으며 이것을 원용해서 본문의 기재의 일부로 한다.

본체부(2)의 입구, 즉, 본체 챔버(3)의 상류측(도 1에 있어서의 우측)에는 HEPA 박스(13)가 설치되어 있다. 이 HEPA 박스(13)의 내부엔 본체 챔버(3)내로 유입하는 공기를 청정화하는 HEPA 필터(high Effeciency Particle Air Filter)(10)가 설치되어 있다. 또한, 이 실시예에선 이 HEPA 필터(10)의 상류측에 특개평6-77114호에 개시되어 있듯이 화학 증폭형 레지스트의 소위 T형 대책을 위한 화학 필터(16)가 설치되어 있다. 여기에서 화학 필터는 화학물질 제거용의 에어 필터의 총칭이며, 특히 그 불순물의 제거 기구나 구성재료는 묻지 않는다.

또한, HEPA 박스(13)내의 화학 필터(16)의 근처엔 후술하는 온도 조절을 위한 온도 센서(11)가 배치되어 있다. 본체 챔버(3)의 최하류측(도 1에서 좌측)엔 본체 챔버(3)내의 공기를 리턴 덕트(14)내로 되돌리기 위한 통로인 리턴부(12)가 형성되어 있다.

공조부(1)는 본체 챔버(3)내의 공조를 행하기 위한 부분이며 냉각부를 구성하는 쿨러(7), 가온부를 구성하는 히터(8) 및 송풍팬(9) 등을 구비하고 있다. 쿨러(7)의 아래쪽, 즉 도 1에 있어서의 지면 안측엔 도시생략의 방열 핀으로 응축(결로)할 수분의 배출용 받침 접시인 드레인 팬(4)이 배치되며, 이 드레인 팬(4)엔 액체 배출부(배수부)로서의 배수관(5)의 일단이 접속되어 있다.

본체 챔버(3)내는 청정도를 유지하기 위해서 항상 양압으로 유지되어 있으며 그 때문에 본체 챔버(3)의 전면 등이나 도시생략의 인라인 인터페이스부 등에서 공기가 외부로 누설되며, 이 누설분의 외기를 거둬들이기 위해서 장치의 측벽의 일부에 리턴 덕트(14)에 연통하는 OA부(6)가 설치되어 있다. 이 실시예에선 화학 증폭형 레지스트의 소위 T형 대책을 위한 등의 목적으로 OA부(6)를 거쳐서 장치 내부로 취입되는 공기중의 화학물질(불순물)을 제거해서 청정한 공기만을 장치내로 취입하기 위해 화학 필터(16)와 마찬가지의 화학 필터(17)가 이 OA부(6)에 설치되며, 이화학 필터(16)와 마찬가지의 화학 필터(17)로부터 일어난 티끌의 장치내로의 혼입을 고려해서 HEPA 필터(19)가 그 내부측에 설치되어 있다. 여기에서 HEPA 필터(19) 자체의 압력 손실이 큰 경우엔 필요 공급량을 확보하기 위해서 도시한 바와 같은 송풍팬(18)을 화학 필터(17)와 HEPA 필터(19)와의 사이에 설치하는 것이 바람직하다.

여기에서 상술한 바와 같이 해서 구성된 노광장치의 공조에 대해서 설명한다. 본체 챔버(3)내를 통과하고 리턴부(12)를 거쳐서 리턴 덕트(14)내로 복귀하는 공기는 외부로부터의 공기 공급구인 OA부(6)로부터 취입된 공기와 함께 되어서 공조부(1)에 들어간다. 공조부(1)에 들어간 공기는 우선 쿨러(7)에 의해서 냉각되고 외기 취입에 의해서 외부에서 가져와지는 여분의 수분은 도시생략의 방열 핀에 결로되어 제거된다. 그후, 히터(8)로 소망의 온도까지 승온되어 송풍팬(9)으로 본체부(2)에 보내진다.

본체부(2)에 들어간 공기는 화학 필터(16) 및 HEPA 필터(10)에 의해 청정화 되며, 미소립자를 포함하지 않는다는 의미에서 청정도가 높은 공기만이 본체 챔버(3)에 공급된다. 여기서 공조부(1)에서 본체부(2)로 공급되는 공기는 상술한 종래 예와 마찬가지로 도시생략의 제어장치에 의해 온도 센서(11)의 출력에 의거해서 쿨러(7), 히터(8)가 제어되어 소위 피드백 제어로 온도 조정이 이뤄지게 되어 있다.

또한, 이 실시예에선 도 2에 도시되듯이 드레인 팬(4)에 일단이 접속된 배수관(5)의 일부엔 해당 배수관(5)을 거쳐서 장치 외부로 걸출되는 온도 조절 배수에 대해서 드레인보다 후의 배관에서의 외기의 혼입을 방지하기 위해서 집수부를 구성하는 U 자형 배관부로서의 트랩(15)이 설치되어 있다. 여기에서 이 트랩(15)의 원리에 대해선 도 3에 의거해서 설명한다.

도 3에 도시되듯이 U 자형관의 단부점 A 점과 B 점간에는 압력차가 있으며, 점 A 쪽이 점 B 보다 △P[mmAg.] 만큼 압력이 높다고 한다. U 자형관내에 물이 없을 때는 그 압력 구배에 따라서 공기가 흘러간다. U 자형관에 물을 넣으면 압력차가 없을 때에는 물기등의 높이가 h 에서 양수면이 균형되는데, 압력차 △P[mmAg.]가 생기면 A 점과 B 점에서의 압력차에 따라서 각각의 수면이 높이 h 보다 각각 1/2△P 이동하고, 고저차 △P[mm]를 발생한다. 따라서, 압력차를 견디는 트랩엔 [도 3]에 도시되듯이 균형시의 수면이 높이 h가 △P/2 보다 높아지는 양의 물이 들어가 있을 필요가 있다. 실제로 트랩(15)을 통과하는 배수는 공장의 배관으로 흐를 필요가 있으므로 트랩(15)의 형상은 도 4에 도시되듯이 역 S자형으로 되어 있다.

그런데, 송풍팬(9)에 의해 공조부(1)의 내부는 공조부(1) 밖과 비교해서 음압으로 되어 있다. 외부와의 압력차를 △P[mmAg.]로 하면 도 2 및 도 4에 도시된 바와 같이 외부에 설치된 트랩(15)의 수면은 배수 배출면의 높이 h_o 보다 △P[mm] 높아진다. 그 때문에, 본 실시예에선 도 2에 도시되는 배수 배출면의 높이 h_o에서 배수관(5)의 하면까지의 높이 h는 △P[mm]보다 충분히 높게 취하고 있다.

도 2에 있어서 드레인 팬(4)의 위쪽엔 소위 로드형의 집수관(23)이 배치되어 있으며, 이 집수관(23)의 하단부엔 검출기로서의 유량 센서(20)가 배치되어 있다. 또한, 집수관(23)의 한쪽 측벽은 화학적으로 안정되는 청정 재질로 이루어지는 급수 장치로서 순수(純水) 공급 배관(21)의 일단이 관통하고 있으며, 이 순수 배수관(21)을 거쳐서 도시생략의 여과 장치를 경유하여 화학적으로 세척되는 순수(청정수)가 소량이지만 집수관(23)에 항상 공급되며, 해당 집수관(23)으로 쿨러(7)에서의 결로수와 같이 되어서 드레인 팬(4)에 공급되고 있다.

통상은 공조부(1)내의 쿨러(7)에 의해서 분위기중의 과잉 수분은 결로되어 드레인 팬(4)에 모아지며 드레인 팬(4)으로 모아진 물이 배수관(5)을 통해서 트랩(15)으로 인도되는데, 노광 장치의 설치 환경에 의해선 거의 결로수가 없는 경우가 있으며, 이와 같은 경우에 배수관(5)을 거쳐서 미량가스 등의 불순물을 포함하는 더럽혀진 공기가 역류한다는 것이 생각된다. 이와 같은 경우에 본 실시예와 같이 도시생략의 여과장치를 거쳐서 화학적으로 세척된 순수를 드레인 팬(4)에 항상 공급하면, 배수관(5)을 거쳐서 트랩(15)내에 충분한 량의 물을 모아담을 수 있고, 이것에 의해서 상기 더렵혀진 공기가 장치내에 유입하는 것을 방지할 수 있다.

또한, 상시 순수를 드레인 팬(4)내에 공급하게 한 것은 상기와 반대로 결로수가 많은 경우에도 쿨러(7)의 도시생략의 냉각 핀에서의 석출물이나 분위기중의 미량가스가 드레인 팬(4)내의 물에 녹아들어서 불순물의 농축이 진행한다는 것이 생각되는데, 이와 같은 경우에 상시 순수를 드레인 팬(4)내에 공급하므로서 배수에 포함되고 있는 용해된 불순물이 희석되고, 드레인 팬에 있어서의 불순물 농축을 방지하는 것이 가능하기 때문이다.

또한, 본 실시예에선 순수 공급 배관(21)의 출구엔 해당 순수 공급 배관(21)으로부터 집수관(23)내에 공급되는 순수의 유량을 검출하는 유량 센서(24)가 설치되어 있다. 또한, 이 순수 공급 배관(21)에는 전자밸브(22)가 설치되고 있으며, 이 전자 밸브(22)의 개폐도의 조정으로 순수 공급 배관(21)에서의 순수의 공급량을 조정할 수 있게 되어 있다.

즉, 트랩(15)내에는 항상 일정량 이상의 물이 없으면, 그 기능을 다하지 않으며, 또한 트랩으로의 유입량이 적으면 같은 물이 장시간 정체로 앙금이 담기게 되는데, 이와 같은 일이 없도록 본 실시예에선 제어 장치(25)에 의해서 유량 센서(24)와 유량 센서(20)의 출력이 모니터되고, 드레인 팬(4)내로, 나아가서 트랩(15)내로 흘러드는 물의 양이 일정량 이상이 되게 전자 밸브(22)의 개폐도가 조정되게 되어 있다. 이상의 설명으로 분명하듯이 본 실시예에선 제어 장치(25)와 전자밸브(22)에 의해서 유량 조절 장치가 구성되어 있다.

이상 설명한 바와 같이, 제 1 실시예에 의하면 드레인 팬(4)등의 트랩(15)보다 상류의 부위로부터 순수(청정수)를 상시 흘리므로서, 트랩(15)내엔 항상 일정량의 물을 모아담고, 게다가 트랩(15)내의 물에 포함되는 물질은 계속 배출되기 때문에 트랩(15) 이후로부터의 배관계에서 가져와지는 불순물의 간접적인 혼입, 즉 재방출을 방지하는 것이 가능하게 된다.

또한, 노광장치의 내부 순환계에 화학물질 제거 필터를 설치한 경우, 그 수명을 상당히 연장할 수 있다. 또한, 상기 제 1 실시예와 같이 집수관(23)을 설치하는 스페이스가 없을 때에는, 유량 센서(20)를 배수관(5)의 접속구에 부착하고 집수관(23)을 생략해도 좋다.

또, 상기 실시예에선 순수의 공급량 및 드레인 팬(4)으로의 물의 공급량을 유량 센서(20, 24)로 검출하면서, 항상 순수를 계속 공급하는 경우를 예시했는데, 본 발명이 이것에 한정되는 것은 아니며 제어계를 간단히 하기 위해서 집수관(23)이나 유량 센서(20, 24)를 두지 않고, 타이머 등을 사용하여 순수 공급 배관(21)에서 예컨대 1시간에 1회 1리터 정도의 순수를 단속적으로 공급해도 좋고, 또는 물의 공급을 작업자가 임의로 행할 수 있는 구성으로 해도 좋다.

또한, 순수 공급을 노광 장치 내부에서가 아니고 배관(5)과 같은 노광 장치 외부에서 행해도 좋으나 중요한 것은 드레인 뒤의 배관으로부터의 외기의 혼입을 방지하기 위해서 드레인 배관 뒤에 트랩을 설치하는 것이다. 따라서, 공조계가 복수 존재하고 드레인 배관이 복수로 나뉘어 있는 경우엔, 트랩은 각 배관마다 설치하고 트랩으로부터 뒤에 각 배관이 집합하도록 구성할 필요가 있다.

(제 2 실시예)

다음에, 본 발명의 제 2 실시예를 도 5에 의거해서 설명한다. 여기에서, 상술한 종래예 및 제 1 실시예와 동일 또는 동등한 구성 부분에 대해선 도 1과 동일한 부호를 사용하는 동시에 그 설명을 간략화하고 또한 생략한다. 도 5에는 제 2 실시예의 주요부가 도시되어 있다. 제 2 실시예에서는 도 5에 도시한 바와 같이 상술한 제 1 실시예에 있어서의 집수관(23), 유량 센서(20, 24)가 생략되며, 순수 공급 배관(21)에서 드레인 팬(4)에 직접 순수가 공급되고, 드레인 팬(4)으로부터 배수관(5)으로 유출되는 물의 유량을 배수관(5)의 접속구에 설치된 유량 센서(25)에 의해서 검출하고 있는 점에 특징을 갖는다. 기타의 부분의 구성은 제 1 실시예와 동일하다.

제 2 실시예에선 도 5에 도시한 바와 같이 배수관(5)의 높이보다 드레인 팬(4)의 수면의 높이가 높아질 정도, 드레인(4)에 항상 물이 모이도록 청정한 물이 공급되고 있으며, 드레인 팬(4)내의 물이 앙금이 앉는 일이 없게 드레인 배수량이 유량 센서(25)에 의해서 체크되며, 어느 일정량 이상의 물이 항상 드레인 팬(4)내에 존재하게 되어 있다. 즉, 이와 같이 구성하므로서 드레인 팬(4) 자체가 제 1 실시예의 트랩(15)과 동등한 집수부의 기능을 다한다.

또한, 드레인 팬(4)으로 연속적 또는 단속적으로 물을 흘리므로서 물로의 용해도가 높은 암모니아 등의 극성분자가 수시 드레인 팬(4)내의 물에 녹아들고 또한 장치 밖으로 배출되므로 준 화학 필터로서 드레인 팬이 기능하게 된다.

이상, 설명한 바와 같이 제 2 실시예에 의하면, 드레인 팬(4) 자체가 제 1 실시예의 트랩(15)과 동등한 기능을 다하므로, 상술한 제 1 실시예와 마찬가지로 공장 배관에서의 불순물의 노광장치내로의 출입, 및 드레인(4)에서의 불순물의 농축을 방지할 수 있고, 결과로서 노광장치내부의 화학적 분위기를 항상 청정하게 유지할 수 있다. 제 2 실시예의 노광장치는 노광장치가 단단한 마루 위에 설치되어 있으며, 트랩 형성에 필요한 고저차가 확보될 수 없는 경우에 특히 유효하다.

또한, 상기 제 2 실시예에서는 드레인 배수량을 검지하는 유량 센서(25)에 의해서 검출기를 구성하는 경우를 예시했는데, 이것을 대신해서 드레인 팬(4)내의 물의 수면의 높이를 검출하는 레벨 센서에 의해 검출기를 구성해도 좋다. 요지는 집수부로서의 드레인 팬(4)내에 일정량의 물이 존재하고, 드레인 팬(4)이 제 1 실시예의 트랩(15)과 동등한 기능을 다하고 있는 것을 검지 할 수 있으면 된다.

(제 3 실시예)

종래의 노광장치에 있어서는 통상은 공조부(1)내의 쿨러(7)에 의해서 분위기 중의 과잉 수분은 결로되어 드레인 팬(4)에 모아지는데, 노광장치의 설치 환경에 의해서는 거의 결로수가 없는 경우가 있다. 이와 같은 경우에 배수관(5)을 거쳐서 미량 가스 등의 불순물을 포함하는 더렵혀진 공기가 역류하는 것이 생각된다. 이것과 반대로 결로수가 많은 경우에도 쿨러(7)의 도시생략의 냉각핀에서의 석출물이나 분위기중의 미량가스가 드레인 팬(4)내의 물에 녹아들고, 불순물의 농축이 진행할 것이 생각된다. 본 실시예에선 제 1 실시예 및 제 2 실시예와 상이한 구조를 공조부에 채용하므로서 상기의 부적합을 해소한다.

도 6에는 도 1의 공조부(1)의 AA방향의 단면 구조를 개념적으로 도시한다. 이 실시예에 따르는 노광장치의 노광 본체부 및 공조부의 기본적 구성은 도 1에 도시한 대로이며, 공조부의 제 1 실시예 및 제 2 실시예와 상이한 점만 여기에서 설명한다. 본 실시예에선 도 6에 도시한 바와 같이 쿨러(7)의 도시생략의 방열핀에서 결로한 물의 받침 접시인 드레인 팬(4)의 위에 공조부(1) 내부와 드레인 팬(4) 및 이것에 접속된 배수관(5)으로 이루어지는 액체 배출로내를 구획하는 상태로 내수성 화학 필터(15)가 설치되어 있다. 여기에서, 이 화학 필터(15)와 드레인 팬(4)과의 사이에는 만일 배수관(5)에서 장치측으로 외기가 역류했다고 해도 화학 필터(15)를 통과하는 일이 없고 그 외기가 장치내에 진입하는 일이 없도록, 환언하면 그 외기는 모두 화학 필터(15)를 통과하도록 충분히 밀봉되어 있다.

화학 필터(15)는 드레인 팬(4) 이후에서 역류해오는 불순물 가스를 흡착하고 본체내에 들어가는 것을 방지하며, 또한 쿨러(7)의 방열핀에서 떨어지는 결로수에 포함되는 불순물을 제거하고, 드레인 팬(4)내에 불순물이 고이게 되어 농축하는 것을 방지하는 목적을 위해서 설치되어 있다. 이 목적을 달성하기 위해서 본 실시예의 화학 필터(15)로선 기체액체겸용의 필터이고 물에 젖으므로서 그 기능을 잃지않는 화학물질 흡착 필터, 예컨대 암모니아 등의 극성 물질(불순물의 일종)을 흡착 제거하는 이온 교환수지 등으로 이루어지는 내수성 화학 필터가 사용된다. 또한, 이 내수성 화학 필터로서 활성탄 등의 다른 흡착체를 사용한 화학 필터가 사용가능하다.

그런데, 공조부(1) 내부는 송풍팬(9)에 의해 음압으로 되어 있으므로, 본 실시예에선 배수관(5) 이후의 외기가 내외 압력차에 의해 역류하는 것을 방지하도록 화학 필터(15) 자체의 압력 손실 △PF을 어느 정도 크게 설정하고 배관에 있어서의 트랩과 같은 역할을 다하게 하고 있다. 화학 필터(15)가 직포형상의 이온 교환 수지로 이루는 섬유로 구성되는 경우엔 직포의 중첩매수와 플리츠의 접힘 회수를 보다 많게 하므로서, 화학 필터(15)의 흡착용량은 증대하며, 압력손실 △PF도 크게되어 트랩 효과도 커진다. 또한, 압력 손실이 큰 경우, 기상물질의 이동은 곤란해지나 쿨러(7)에서의 결로수는 침투에 의해서 드레인 팬(4)으로 이동하므로 문제는 없다. 또한, 극성물질, 예컨대 암모니아, 아민류 등의 제거에 대해선 이온 교환 수지로 이루는 화학 필터는 수분이 클수록 그 반응은 나아지므로 불순물 제거의 관점으로서도 본 실시예는 유리하다.

이상, 설명한 바와 같이, 본 실시예에 의하면 노광장치의 드레인 팬(4) 상부에 내수성 화학 필터(15)를 설치하므로서 공장 배관에서의 불순물의 노광장치내로의 혼입, 및 드레인 팬(4)에서의 불순물의 농축을 방지할 수 있고, 결과로서 노광장치 내부의 화학적 분위기를 항상 청정으로 유지할 수 있다. 따라서, 노광장치의 내부 순환계에 화학물질 제거 필터를 설치한 경우, 그 수명을 상당히 연장할 수 있다.

(제 4 실시예)

도 7에 제 3 실시예에 도시한 화학 필터(15) 및 드레인 팬(4)의 구조의 변형예를 도시한다. 이 변형예는 화학 필터의 교환시기를 알기 위해서 도 7에 도시된 바와 같이 화학 필터(15)를 2개로 하고 그 사이에 반도체 이온 센서(20)를 설치한 점에 특징을 갖는 것이다.

이 반도체 이온 센서(20)로선 예컨대 MOSFET의 게이트 금속 전극에 대신해서 NH₄ ⁺ 농도를 검출하는 이온 전극(이온 선택성의 막)을 부착하는 것이 사용된다. 화학 필터(15)는 상하 양면에서 각각 불순물에 침해되므로 양자의 중앙엔 배치된 반도체 이온센서(20)의 위치에서 이온 농도가 ppm 정도로 된 경우에 해당 반도체 이온 센서(20)가 이것을 검지하고 교환 시기를 도시생략의 경고 장치(램프, 부저 등)를 거쳐서 작업자에 알리게 되어 있다. 판단 농도의 정도가 높은 것은 오염이 진행되고 불순물의 흡착이 진행되면 화학 필터 내부의 불순물의 농도가 고농도로 되는 것, 및 반도체 이온센서의 성능(감도)상, ppm 정도 이상이 아니면 정확하게 검출할 수 없다는 현실적인 사정도 고려한 것이다. 이것에 의하면 내수성 화학필터(15)의 교환시기를 정확하게 판단하는 것이 가능하게 된다.

본 발명에선 제 1 실시예 및 제 2 실시예에서 집수부(포집부) 및 급수부를 사용하여 불순물을 제거하는 노광장치를 나타내며, 제 3 실시예 및 제 4 실시예에서 화학 필터를 사용하여 불순물을 제거하는 노광장치를 나타내었는데, 집수부(포집부) 및 급수부 및 화학 필터를 조합해서 사용할 수 있다. 이것에 의해 장치 외부에서 내부로의 불순물의 침입을 가일층 유효하게 방지할 수 있다.

이상, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명했는데 본 발명은 그것에 한정되지 않으며 특허청구의 범위에 포함되는 범위내에서 당업자가 생각하는 것들의 변형 및 개량도 본 발명에 포함된다. 상기 실시예에선 순수를 드레인 팬에 공급했는데, 그것에 한하지 않으며 물과 혼합하고 또한 반도체 제조에 있어서 불순물로 되지 않는 성분으로 구성된 액체를 사용할 수 있다. 또한, 내수성 화학 필터로서 사용되는 필터는 노광장치가 사용되는 환경이나, 사용되는 포토레지스트의 종류에 따라서(제거해야 할 불순물에 따라서) 여러 가지 재료로 구성할 수 있다.

본 발명의 노광장치에 있어서의 노광 본체부는 스텝퍼라고 불리는 투영노광장치뿐만 아니라 액정기판을 제조하기 위한 일괄 주사형이나 스텝 앤드 스캔형 등의 주사형 노광 장치, 얼라이너형 노광장치, 미러 프로젝션형 노광장치를 포함하는 노광 장치에 적용할 수 있다.

이상, 설명한 바와 같이 본 발명에선 집수부 및 그곳으로의 급수 장치를 설치했으므로 노광장치 외부로부터의 불순물의 간접적인 혼합, 집수부내에서의 불순물의 농축을 방지할 수 있다. 또, 화학 필터에 의해 결로수중의 불순물이 제거되는 동시에 외부로부터 액체 배출로를 거쳐서 진입한 불순물가스가 흡착되어 본체내에 들어가는 것이 방지되고 이것에 의해 액체 배출로의 입구부분에 불순물이 고이는 것이 효과적으로 방지된다. 따라서, 노광 장치내부의 화학적 분위기를 항상 청정하게 유지할 수 있고, 화학 증폭형 레지스트의 표면난용화층의 발생이나 화학재료가 흐려지는 것에 의한 조도 저하 등의 피해의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 관한 노광장치를 도시하는 개략 평면도.

도 2는 도 1의 장치의 드레인 팬 근처의 구성을 도시하는 설명도.

도 3은 도 2의 트랩의 원리를 설명하기 위한 도면.

도 4는 도 2의 트랩 취출을 도시하는 도면.

도 5는 제 2 실시예의 노광 장치의 주요부의 구성을 도시하는 설명도.

도 6은 제 3 실시예의 노광 장치의 공조부내의 구성을 도시한 도면.

도 7은 제 4 실시예의 노광장치의 공조부내의 화학 필터의 구조를 도시하는 도면.

도 8은 종래예에 관한 노광장치의 공조부 및 본체부의 구조를 도시하는 개략 평면도.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1 : 공조부 2 : 본체부

3 : 본체 챔버 4 : 드레인 팬

5 : 액체 배수관

Claims (41)

1. 마스크 패턴을 조명하여 그 상을 감광성 기판상에 전사하는 노광 본체와,

   상기 노광 본체를 수용하고 내부의 분위기를 소정의 상태로 유지하는 본체 챔버와,

   상기 본체 챔버내의 분위기를 소정의 상태로 조정하기 위한 공조부와,

   상기 챔버내의 분위기가 상기 소정의 상태로 조정될 때에, 상기 공조부로부터 발생된 응결물을 배출하기 위한 액체 배출부와,

   상기 응결물을 배출하기 전에, 상기 응결물을 일시적으로 포집하기 위한 포집부와,

   상기 포집부에 청정 액체를 연속적 또는 단속적으로 공급하기 위한 공급 장치를 포함하는 노광 장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 액체 배출부는 액체 배출관을 포함하며, 상기 포집부가 액체 배출관의 도중에 설치된 U자형관인 노광 장치.
3. 제 2 항에 있어서, 상기 U자헝관내에 공조부 내부와 장치 외부의 압력차에 따른 양의 액체가 항상 존재하는 노광 장치.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 포집부내의 액체량을 직접적 또는 간접적으로 검출하는 검출기와, 상기 검출기의 검출 결과에 따라서 상기 포집부내에 실질적으로 일정량의 액체가 항상 축적되도록 상기 공급 장치에 의해 공급되는 액체의 양을 조절하는 유량 조절기를 구비하는 노광 장치.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 포집부는 상기 공조부와 상기 액체 배출부와의 사이에 설치된 드레인 팬인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 공조부는 액체를 응축하는 냉각기를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
7. 제 1 항에 있어서, 상기 청정한 액체는 순수(純水)인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
8. 제 1 항에 있어서, 상기 감광성 기판은 화학 증폭형의 레지스트가 도포된 반도체 기판인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
9. 제 1 항에 있어서, 상기 포집부가 액체 배출부를 통해서 노광장치 외부에서 내부로 불순물이 침입하는 것을 방지하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
10. 마스크 패턴을 조명하여 그 상을 감광성 기판상에 전사하는 노광 본체와,

    상기 노광 본체를 수용하고, 내부의 분위기를 소정의 상태로 유지하는 본체 챔버와,

    상기 본체 챔버내의 분위기를 상기 소정의 상태로 조정하기 위한 공조부와,

    상기 공조부에서 응축된 액체를 배출하기 위한 액체 배출부와,

    상기 공조부와 액체 배출부 사이에 설치되며, 또한 상기 공조부에서 응축된 액체 중의 불순물을 제거하기 위한 필터를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
11. 제 10 항에 있어서, 상기 필터가 내수성의 화학 필터이며, 상기 내수성의 화학 필터는 상기 공조부에서 응축된 액체 중의 불순물을 제거함과 동시에, 액체 배출부로부터 역류하는 불순물을 흡착하는 필터인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
12. 제 11 항에 있어서, 상기 내수성 화학 필터는 이온 교환 수지를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
13. 제 11 항에 있어서, 상기 내수성 화학 필터에, 해당 필터에 흡착된 불순물의 농도를 검출하는 이온 센서가 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
14. 제 1 항에 있어서, 일괄 노광형의 투영 노광 장치 또는 주사형 투영 노광 장치인 것을 특징으로 하는 노광 장치.
15. 챔버와,

    상기 챔버내에 배치되고 감광 기판상에 마스크의 패턴을 형성하는 노광 본체와,

    상기 챔버내의 분위기를 조정하는 공조기와,

    상기 챔버내부의 분위기를 조정할 때에, 상기 공조기로부터 배출되는 액체를 상기 챔버의 외부로 배수하는 액체 배출로를 갖는 액체 배출부와,

    상기 액체 배출로에 설치되고, 상기 액체 배출로를 경유하여 챔버의 외부로부터 챔버의 내부로 공기가 도입되는 것을 방지하는 방지 수단을 포함하는 노광 장치.
16. 제 15 항에 있어서, 상기 공조기로부터 배출되는 액체를 일시적으로 포집하는 포집부를 구비하고,

    상기 액체 배출로는 상기 포집부에 포집된 액체를 배수하는 노광 장치.
17. 제 16 항에 있어서, 상기 포집부에 연속적 또는 단속적으로 청정한 액체를 공급하는 공급 장치를 구비하는 노광 장치.
18. 제 15 항에 있어서, 상기 방지 수단은 상기 액체 배출로를 개폐하는 개폐 기구를 구비하는 노광 장치.
19. 제 18 항에 있어서, 상기 공조기로부터 배출되는 액체를 일시적으로 포집하는 포집부를 부가로 구비하고,

    상기 개폐 기구는 상기 포집부에 상기 공조기로부터 배출되는 액체가 축적될 때에 액체 배출로를 폐쇄시키고, 상기 포집부에 축적된 액체가 일정량을 초과할 때에 액체 배출로를 개방시키는 노광 장치.
20. 제 17 항에 있어서, 상기 청정한 액체는 미량의 살균성의 성분과, 화학적 불순물 또는 미생물이 실질적으로 제거된 물인 노광 장치.
21. 제 18 항에 있어서, 상기 개폐 기구는 솔레노이드 밸브인 노광 장치.
22. 제 15 항에 있어서, 상기 방지 수단은 U자형관과, 상기 U자형관에 청정한 액체를 공급하는 장치를 포함하는 노광 장치.
23. 감광성 기판상에 마스크의 패턴의 상을 전사하는 노광 유니트를 챔버내에 수용하는 단계와,

    상기 챔버내의 분위기가 소정의 상태로 되도록 공조기에서 조정하는 단계와,

    상기 챔버내의 분위기가 소정의 상태로 조정될 때에, 상기 공조기에서 발생되는 생성물을 액체 배출로를 경유하여 상기 챔버의 외부로 배수하는 단계와,

    상기 챔버의 외부로부터 상기 챔버내로 상기 액체 배출로를 경유하여 침입하는 오염물질을 방지하는 단계를 포함하는 환경 제어 방법.
24. 제 23 항에 있어서, 상기 생성물을 배수하기 전에, 상기 생성물을 포집부에서 일시적으로 포집하고,

    상기 포집부에 연속적 또는 단속적으로 청정한 액체를 공급하는 것에 의해서, 상기 오염물질의 침입을 방지하는 환경 제어 방법.
25. 제 24 항에 있어서, 상기 포집부는 상기 액체 배출로의 도중에 설치된 U자형관을 갖는 환경 제어 방법.
26. 제 25 항에 있어서, 상기 U자형관에는 상기 챔버의 외부와 상기 챔버의 내부와의 압력차에 기초하여, 상기 생성물을 포함하는 액체의 양이 일정하게 유지되는 환경 제어 방법.
27. 제 24 항에 있어서, 직접적 또는 간접적으로 상기 포집부내의 상기 생성물을 포함하는 액체의 양을 검출하고,

    검출 결과에 기초하여, 상기 포집부에 실질적으로 일정한 상기 생성물을 포함하는 액체의 양이 축적되도록 상기 청정한 액체를 공급하는 환경 제어 방법.
28. 제 24 항에 있어서, 상기 포집부는 드레인 팬인 환경 제어 방법.
29. 제 24 항에 있어서, 상기 청정한 액체는 화학적인 불순물 또는 미생물이 실질적으로 제거된 물인 환경 제어 방법.
30. 제 23 항에 있어서, 상기 액체 배출로를 경유하여 침입하는 상기 오염물질의 방지는 상기 생성물중의 불순물을 제거하는 필터에서 행해지는 환경 제어방법.
31. 제 30 항에 있어서, 상기 필터는 내수성 화학 필터이고, 상기 챔버의 외부로부터 침입하는 오염물을 흡착하는 환경 제어 방법.
32. 제 31 항에 있어서, 상기 내수성 화학 필터에 의해서 흡착된 불순물의 농도를 검출하는 환경 제어 방법.
33. 제 32 항에 있어서, 상기 내수성 화학 필터는 이온 교환 수지를 갖는 환경 제어 방법.
34. 제 23 항에 있어서, 상기 노광 장치는 일괄형 투영 노광 장치 또는 주사 투영 노광 장치인 환경 제어 방법.
35. 제 23 항에 있어서, 상기 액체 배출로를 개폐하는 개폐 기구를 제어하는 것에 의해서, 상기 오염물질의 침입을 방지하는 환경 제어 방법.
36. 제 35 항에 있어서, 상기 생성물을 상기 액체 배출로를 경유하여 배수하기 전에, 상기 생성물을 포집부에서 일시 포집하고,

    상기 포집부내에서 상기 생성물을 포함하는 액체의 양을 검출하며,

    상기 검출결과에 기초하여, 상기 개폐 기구를 제어하는 환경 제어 방법.
37. 제 36 항에 있어서, 상기 포집부에서 소정의 상한의 상기 액체의 양을 포집할 때에, 상기 개폐 기구를 개방하고,

    상기 포집부내의 상기 액체가 소정의 양 보다 작아질 때까지 배수되었을 때에, 상기 개폐 기구를 폐쇄하는 환경 제어 방법.
38. 제 36 항에 있어서, 상기 포집부내의 상기 액체는 배수 펌프에 의해서 강제 배수되는 환경 제어 방법.
39. 제 38 항에 있어서, 상기 포집부에 연속적 또는 단속적으로 청정한 액체를 공급하는 환경 제어 방법.
40. 제 39 항에 있어서, 상기 청정한 액체는 미량의 살균성의 성분과, 화학적인 불순물 또는 미생물이 실질적으로 제거된 물인 환경 제어 방법.
41. 제 23 항에 있어서, 상기 오염 물질은 상기 챔버의 외부의 공기인 환경 제어 방법.