KR100497816B1 - 건조 장치 및 이것을 구비하는 워크 처리 장치 - Google Patents

Abstract

단일 건조로(51)에 핫플레이트(52)를 상하 복수단으로 수납한다. 건조로(51)의 앞면에 복수단의 핫플레이트(52)에 면하는, 항상 개방되는 워크의 출입구(51a)를 마련한다. 또한, 건조로(51)의 뒷면에 챔버 케이스(53)를 설치하여, 이 챔버 케이스(53) 내에 복수단의 핫플레이트(52) 사이의 각 틈에 면하는 복수의 통기 구멍(54a)을 형성한 분류판(54)을 통하여 건조로의 내부 공간에 연통하는, 배기 수단에 의해 강제 배기되는 배기실(55)을 획성한다. 이 건조 장치에 의해 복수의 워크를 동시에 효율적으로 건조시킬 수 있다.

Description

건조 장치 및 이것을 구비하는 워크 처리 장치{DRYING APPARATUS AND WORK PROCESSING APPARATUS HAVING THE SAME}

본 발명은 주로 액체방울 토출 헤드를 갖는 묘화 장치에 의해 판 형상의 워크에 도포된 액체방울을 건조시키기 위해 사용되는 건조 장치 및 이것을 구비하는 워크 처리 장치에 관한 것이다.

종래, 잉크젯 헤드로 대표되는 액체방울 토출 헤드를 구비하는 묘화 장치를 사용하여, 컬러 필터나 유기 EL 장치를 제조하는 시도가 실행되었다. 이 경우, 액체방울 토출 헤드에 필터 재료나 발광 기능 재료를 함유하는 기능액을 도입하고, 판 형상 워크로서의 컬러 필터의 기판이나 유기 EL 장치의 기판에 대하여 액체방울 토출 헤드를 상대적으로 주사하며, 기판 위의 다수의 화소 영역에 필터 소자나 유기 EL 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하고, 그 후 기능 액체방울을 건조 고화(固化)시켜, 필터 소자나 유기 EL 기능층을 형성한다.

또한, 생산성을 향상시키기 위해, R(적색)·G(녹색)·B(청색)의 3색에 맞추어 3개의 묘화 장치를 사용하고, 기판을 이들 묘화 장치에 차례로 반송하여, R·G·B의 각색에 대응하는 기능 액체방울을 차례로 도포하는 것도 생각되었다. 이 경우, 기능 액체방울을 고화시키는 최종적인 건조는 후(後)공정에서 행한다고 하여도, 각 묘화 장치에 의해 기판에 도포된 기능 액체방울이 후단(後段)의 묘화 장치로의 반송 도중에서 유동(流動)하지 않도록, 각 묘화 장치에 건조 장치를 병설(倂設)하여, 기판에 도포된 기능 액체방울을 건조 장치에 의해 유동성을 잃을 정도로 건조시키고 나서 기판을 후단의 묘화 장치에 반송하는 것이 필요하게 된다.

또한, 묘화 장치에 병설하는 건조 장치는 아니지만, 종래, 케이싱 내에 핫플레이트를 배치하고, 워크를 핫플레이트에 착좌시켜 건조시키는 장치가 알려져 있다(예를 들어, 일본국 특개평9-127330호 공보(단락 0134, 도 18 참조). 또한, 이것에서는 핫플레이트를 내장하는 복수의 케이싱을 쌓아 올려, 복수의 워크를 동시에 건조시킬 수 있게 하고 있다.

상기와 같이 묘화 장치에 건조 장치를 병설할 경우, 묘화 장치에서의 작업 시간에 비하여 건조에 필요로 하는 시간이 몇배 정도 길어지기 때문에, 건조 장치에서 몇개 이상의 워크(기판)를 동시에 건조시킬 수 있게 하는 것이 필요하게 된다.

여기서, 상기 종래 예와 같이 핫플레이트를 내장하는 복수의 케이싱을 쌓아 올려 건조 장치를 구성한 것에서는, 장치가 대형화되기 때문에, 단일 건조로에 핫플레이트를 상하 복수단으로 수납하는 것이 요망된다. 그러나, 이 경우에는 워크에 도포한 기능 액체방울로부터 증발하는 용제(溶劑)가 건조로 내에 체류되기 쉬워져, 기능 액체방울을 효율적으로 건조시킬 수 없게 된다.

본 발명은 이상의 점을 감안하여, 복수의 워크를 동시에 효율적으로 건조시킬 수 있게 한 소형이며 간소한 구조의 건조 장치 및 이것을 구비하는 워크 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 건조 장치는, 판 형상의 워크를 착좌(着座)시키는 핫플레이트를 상하 복수단으로 수납하여 이루어지는 건조로를 구비하고, 상기 건조로의 앞면에 상기 복수단의 핫플레이트에 면하는, 항상 개방되는 워크의 출입구를 개설(開設)하는 동시에, 상기 건조로의 뒷면에 챔버 케이스를 설치하여, 이 챔버 케이스 내에, 상기 복수단의 핫플레이트 사이의 각 틈에 면하는 복수의 통기 구멍을 형성한 분류판을 통하여 상기 건조로의 내부 공간에 연통(連通)하는, 배기 수단에 의해 강제 배기되는 배기실을 구획 형성(劃成)하는 것을 특징으로 한다.

상기 구성에 의하면, 분류판의 각 통기 구멍에 배기실을 통하여 배기 수단의 흡인력이 작용하고, 건조로 앞면의 출입구로부터 복수단의 핫플레이트 사이의 각 틈을 통과하여 통기 구멍을 향하는 환기류가 생성된다. 그 때문에, 건조 중에 증발한 용제 등은 환기류를 타고 건조로 내부로부터 신속하게 배출되어, 건조가 효율적으로 실행된다.

또한, 배기실의 일 개소로부터 배기한 것에서는, 배기 개소로부터 떨어진 위치에 존재하는 핫플레이트 사이의 틈에 환기류가 흐르기 어려워지기 때문에, 배기실에 배기 수단에 접속되는 상하 복수의 배기구를 마련하여, 모든 핫플레이트 사이의 틈에 균등하게 환기류가 흐르도록 하는 것이 바람직하다.

그런데, 워크의 크기에 맞추어 핫플레이트를 교환하는 경우가 있으나, 건조로의 앞면 측에는 워크의 이동 적재 장치가 배치되어, 앞면의 출입구를 통하여 핫플레이트를 교환하는 것은 곤란하다. 이 경우, 챔버 케이스를 건조로의 뒷면에 개폐 가능하게 부착시키고, 챔버 케이스를 개방함으로써 개방되는 건조로 뒷면의 개구를 통하여 각 핫플레이트를 교환 가능하게 하면, 핫플레이트의 교환 작업이 용이해진다. 또한, 건조로의 측벽 내면에 각 핫플레이트의 측부 에지가 전후 방향으로 슬라이딩 가능하게 결합되는 레일 부재를 상하 복수단으로 고정 설치하여 두면, 교환 시의 핫플레이트의 출납(出納)이나 핫플레이트의 위치 결정이 용이해져, 교환 작업성이 향상된다.

또한, 핫플레이트에 대한 워크의 착탈(着脫) 작업성을 향상시키기 위해서는, 복수단의 핫플레이트로부터 워크를 선택적으로 인상(引上)시켜 지지할 수 있는 인상 기구를 설치하여, 핫플레이트와 워크 사이에 워크를 이동 적재하기 위한 틈을 형성할 수 있게 하는 것이 요망된다. 여기서, 상기 일본국 특개평9-127330호 공보에 기재된 것에서는, 핫플레이트를 관통하여 워크의 하면(下面)에 맞닿는 인상 핀을 핫플레이트의 하측에 승강 가능하게 설치한 승강 플레이트에 세워 설치(立設)하고, 승강 플레이트의 상승에 의해 핫플레이트 위의 워크를 인상 핀을 통하여 인상시키도록 하고 있다.

본 발명에서도 이러한 인상 기구를 채용하는 것을 생각할 수 있으나, 이 경우에는, 각 핫플레이트의 하측에 승강 플레이트의 승강 스페이스를 확보하는 것이 필요하게 되어, 건조로의 높이 치수가 커지게 된다. 이러한 결점을 해소하기 위해서는, 건조로의 측벽 외면에 배치한, 승강 운동하는 상하 방향으로 긴 승강 부재와, 건조로의 측벽 내측에 상하 복수단으로 배치한, 각 핫플레이트의 워크 착좌면으로부터 돌출되는 워크의 측부 에지의 하면에 결합 가능한 결합 부재와, 이들 결합 부재를, 워크의 상기 측부 에지의 상하 방향의 투영면 내에 들어가는 작동 위치와 이 투영면 외측의 퇴피(退避) 위치에 개별적으로 진퇴시키도록 승강 부재에 연결하는 진퇴 기구로 인상 기구를 구성하는 것이 좋다.

이것에 의하면, 어느쪽 핫플레이트에 대하여 워크를 착탈할 때, 대응하는 결합 부재만을 작동 위치에 진출시킨 상태에서 승강 부재를 상승시킴으로써, 해당하는 핫플레이트 위의 워크를 결합 부재에 의해 선택적으로 인상시킬 수 있다. 그리고, 이것에서는 각 핫플레이트의 하측에 인상 기구용 승강 스페이스를 확보할 필요가 없어, 건조로의 높이 치수를 크게 하지 않아도 된다.

또한, 액체방울 토출 헤드를 사용하여 판 형상의 워크에 액체방울을 도포하는 묘화 장치와, 워크에 도포된 액체방울을 건조시키는 건조 장치를 구비하는 처리 유닛의 복수개를 이들 각 처리 유닛 사이에 워크 반송 장치를 개재시켜 연속 설치(連設)하고, 각 처리 유닛에서 처리된 워크를 각 워크 반송 장치를 통하여 후단의 처리 유닛에 차례로 반송하게 한 워크 처리 장치에 있어서, 건조 장치로서 상기 본 발명의 건조 장치를 사용함으로써, 생산성을 향상시킬 수 있다.

이 경우, 묘화 장치의 액체방울 토출 헤드에 필터 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 워크로서의 컬러 필터의 기판 위의 다수의 화소 영역에 필터 소자로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하거나, 또는 묘화 장치의 액체방울 토출 헤드에 발광 기능 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 워크로서의 유기 EL 장치의 기판 위의 다수의 화소 영역에 유기 EL층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포함으로써, 컬러 필터나 유기 EL 장치를 효율적으로 제조할 수 있다.

마찬가지로, 묘화 장치의 액체방울 토출 헤드에 금속 배선 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 워크로서의 플라즈마 디스플레이 장치의 기판 위의 다수의 화소 영역에 소자 전극 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하거나, 또는 묘화 장치의 액체방울 토출 헤드에 형광 기능 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 워크로서의 플라즈마 디스플레이 장치의 기판 위의 다수의 화소 영역에 형광 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하거나, 또는 묘화 장치의 액체방울 토출 헤드에 도전성 기능 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 워크로서의 전자 방출 장치의 기판 위의 다수의 화소 영역에 도전성 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포함으로써, 플라즈마 디스플레이 장치(PDP 장치)나 전자 방출 장치(FED 장치, SED 장치)를 효율적으로 제조할 수 있다.

또한, 워크 반송 장치에 워크를 일시적으로 스톡(stock)하는 버퍼 수단을 배치하여 두면, 후단의 처리 유닛의 묘화 장치로의 워크 투입이 액체방울 토출 헤드의 클리닝 작업 등에서 정지되어도, 전단(前段)의 처리 유닛의 건조 장치로부터 워크를 제거하여, 워크 반송 장치의 버퍼 수단에 의해 스톡하여 둘 수 있다. 여기서, 컬러 필터나 유기 EL 장치 등의 기판에는, 혼색(混色) 및 탈색을 방지하기 위해, 화소 영역에 친액성(親液性), 화소 영역의 주변 영역에 발액성(撥液性)을 부여하는 전(前)처리가 실행되고 있으나, 건조 장치에서 워크의 가열 온도가 낮으면, 화소 영역의 주변 영역에 용제가 남아, 후단의 처리 유닛의 묘화 장치에서 혼색 및 탈색을 발생시키는 요인으로 되고, 또한, 건조 시간의 편차에 의해 기능 액체방울이 건조되어 수축하는 과정에서 막 두께가 불균일해진다.

그러나, 상기 구성에 의하면, 후단의 처리 유닛의 묘화 장치로의 워크 투입이 정지되고 있는 동안에도, 전단의 처리 유닛의 건조 장치로부터 워크를 제거할 수 있기 때문에, 건조 장치에서의 워크의 건조 시간이 소정의 일정 시간에 도달한 시점에서, 건조 장치로부터 워크를 제거하고, 워크의 건조 시간을 일정하게 관리하여, 막 두께가 불균일해지는 것을 방지할 수 있다.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 대해서 설명한다. 도 1은 유기 EL 장치의 제조 라인의 일부를 구성하는 발광 기능층 제조 라인(워크 처리 장치)이다. 이 발광 기능층 제조 라인은 전공정에서 회로 소자, 뱅크 및 화소 전극이 형성된 기판(유리 기판)을 도입하고, 이 기판에 유기 EL에서의 R·G·B색의 발광층 및 정공 주입층(유기 EL 기능층)을 이른바 잉크젯 방식에 의해 제조하는 것이다. 또한, 유기 EL에서는 산소 및 수분을 싫어하기 때문에, 이 발광 기능층 제조 라인에서의 기판 처리는 모두 불활성 가스(질소 가스)의 분위기 중에서 실행된다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 이 발광 기능층 제조 라인(1)에서는 도시의 왼쪽이 반입 측, 오른쪽이 반출 측으로 되어 있어, 기판(워크)(A)은 라인 내의 각 처리 장치를 경유하여 반입 측으로부터 반출 측으로 일 방향으로 보내진다. 발광 기능층 제조 라인(1)의 주요한 처리 장치는, 반입 측에 위치하고 B색의 발광층을 형성하는 B색 묘화 장치(2a)와, 중간에 위치하고 R색의 발광층을 형성하는 R색 묘화 장치(2b)와, 반출 측에 위치하고 G색의 발광층을 형성하는 G색 묘화 장치(2c)로 구성되어 있다. 또한, 도시에서는 정공 주입층을 형성하는 묘화 장치는 생략되어 있다.

또한, B색 묘화 장치(2a)에 대응하고, B색 이동 적재 장치(3a)를 사이에 두어 B색 건조 장치(4a)를 설치하여, 이들 장치(2a, 3a, 4a)에 의해 B색 처리 유닛(1a)을 구성하며, 또한, R색 묘화 장치(2b)에 대응하고, R색 이동 적재 장치(3b)를 사이에 두어 R색 건조 장치(4b)를 설치하여, 이들 장치(2b, 3b, 4b)에 의해 R색 처리 유닛(1b)을 구성하며, 또한, G색 묘화 장치(2c)에 대응하고, G색 이동 적재 장치(3c)를 사이에 두어 G색 건조 장치(4c)를 설치하여, 이들 장치(2c, 3c, 4c)에 의해 G색 처리 유닛(1c)을 구성하고 있다. 한편, B색 처리 유닛(1a)과 R색 처리 유닛(1b) 사이에는 B색 처리 유닛(1a)에서 처리한 기판(A)을 R색 처리 유닛(1b)에 반송하는 제 1 반송 장치(5a)가 배열 설치되고, 마찬가지로 R색 처리 유닛(1b)과 G색 처리 유닛(1c) 사이에는 R색 처리 유닛(1b)에서 처리한 기판(A)을 G색 처리 유닛(1c)에 반송하는 제 2 반송 장치(5b)가 배열 설치되어 있다.

또한, 반입 측에는, 스톡한 처리 전의 기판(A)을 내보내는 반입측 매거진 로더(6)와, 반입측 매거진 로더(6)로부터 기판(A)을 수취하여, 이것을 B색 이동 적재 장치(3a)에 면하게 하는 반입측 이동 적재 장치(7)가 배열 설치되어 있다. 마찬가지로, 반출 측에는, 처리 후의 기판(A)을 스톡하는 반출측 매거진 로더(8)와, 기판(A)을 G색 이동 적재 장치(3c)로부터 수취하여, 이것을 반출측 매거진 로더(8)에 보내는 반출측 이동 적재 장치(9)가 배열 설치되어 있다.

그런데, 본 실시예에서는, 묘화 장치(2)에 대하여 종방향으로 도입되는 기판(A)과 횡방향으로 도입되는 기판(A)이 있다(도 6 참조). 그래서, 반입측 이동 적재 장치(7)에는, 기판을 수평 자세의 상태에서 90° 회전시켜 B색 이동 적재 장치(3a)에 면하게 하는 회전 기구가 구성되어 있다(도시 생략). 마찬가지로, 반출측 이동 적재 장치(9)에도, 반출측 매거진 로더(8)에 보내기 전에 기판(A)을 수평 자세의 상태에서 90° 회전시키는 회전 기구가 구성되어 있다(도시 생략).

한편, 기판(A)의 처리를 불활성 가스의 분위기 중에서 행하기 때문에, R·G·B 각색의 묘화 장치(2a, 2b, 2c)는 각각 클린룸(clean-room) 형식의 메인 챔버(11, 11, 11)에 수용되어 있다. 마찬가지로, 기판(A)의 반송을 불활성 가스의 분위기 중에서 행하기 때문에, 각 이동 적재 장치(3a, 3b, 3c, 7, 9)나 제 1 및 제 2 반송 장치(5a, 5b) 등에는 각각 커버 케이스 형식의 서브 챔버(12)가 설치되어 있다. 또한, 각 건조 장치(4a, 4b, 4c)는, 각 이동 적재 장치(3a, 3b, 3c)에 대향하는 앞면 부분을 서브 챔버(12)에 삽입하여 내부가 불활성 가스의 분위기 중에 놓이도록 하고 있다. 그리고, 이들 복수의 메인 챔버(11)와 복수의 서브 챔버(12)는 경계 부분에 셔터(도시 생략)를 가져 터널 형상으로 연결되어 있다.

도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 각색의 묘화 장치(2)는 발광 기능액을 잉크젯 방식으로 토출하는 것이며, 기대(機臺)(21) 위에 설치한 X축 테이블(22)과, X축 테이블(22)에 직교하는 Y축 테이블(23)과, Y축 테이블(23)에 매달아 설치한 메인 캐리지(24)를 구비하고 있다. 메인 캐리지(24)의 하부에는, 서브 캐리지(25)를 통하여 복수의 액체방울 토출 헤드(26)가 하향으로 배열 설치되어 있다(도 3 참조). 또한, 기판(A)은 X축 테이블(22) 위에 세트되어 있다.

도 3에 나타낸 바와 같이, 이 묘화 장치(2)는 액체방울 토출 헤드(26)의 구동(발광 기능액의 선택적 토출)에 동기하여 기판(A)이 이동하는 구성이며, 액체방울 토출 헤드(26)의 이른바 주(主)주사는 X축 테이블(22)의 X축 방향으로의 왕복(往復)의 양 동작에 의해 실행된다. 또한, 이것에 대응하여, 이른바 부(副)주사는 Y축 테이블(23)에 의해 액체방울 토출 헤드(26)의 Y축 방향으로의 왕동(往動) 동작에 의해 실행된다. 즉, 발광 기능액을 도입한 액체방울 토출 헤드(26)를 기판(A)에 대하여 X축 및 Y축 방향으로 상대적으로 주사하고, 발광 기능 재료를 함유하는 기능액을 선택적으로 토출하여, 기판(A) 위의 다수의 화소 영역에 발광 기능층을 각각 형성하게 되어 있다.

이 경우, 상세한 것은 후술하나, 발광 기능층 중의 정공 주입층을 형성하는 기능액으로서는, 정공 주입층 형성 재료를 극성 용매로 용해시킨 조성물을 사용할 수 있다. 또한, 발광층을 형성하는 기능액으로서는, 발광층 형성 재료에 비극성 용매로 용해시킨 조성물을 사용할 수 있다.

그리고, 도 4의 (a)∼(c)에 나타낸 바와 같이, 발광층을 형성하는 R·G·B 각색의 화소 영역의 배치는 스트라이프 배치, 모자이크 배치 및 델타 배치가 이용된다. 또한, 기판(A)에는, 각 화소 영역이 발광 기능액에 대한 친액성을 갖고, 각 화소 영역의 주변 영역이 발액성을 갖도록 전처리가 실행되어 있다.

도 5의 (a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, R·G·B의 각 이동 적재 장치(3)는 선회(旋回) 및 굴신(屈伸) 가능한 한쌍의 로봇 암(31, 31)을 갖는 이동 적재 로봇으로 구성되어 있으며, 각 로봇 암(31)의 선단(先端)에 설치한 박판(薄板) 포크 형상의 로봇 핸드(32)에 의해 기판(A)을 탑재하도록 하여 지지하고, 이동 적재 작업을 행한다. 또한, 한쌍의 로봇 암(31, 31)을 지지하는 스탠드부(33)에는 승강 장치(도시 생략)가 내장되어 있고, 기판(A)의 수취(상승) 및 수수(授受)(하강) 등을 위해, 한쌍의 로봇 암(31, 31)을 적절히 승강시킬 수 있게 되어 있다.

예를 들면, 중간의 R색 이동 적재 장치(3b)에서는, 한쪽 로봇 암(31)을 구동시켜, 제 1 반송 장치(5a)로부터 수취한 기판(A)을 수평 자세를 유지한 상태에서 선회시키고, 이것을 수평면 내에서 90° 회전시켜 R색 묘화 장치(2b)의 X축 테이블(22) 위에 보낸다. 또한, R색 묘화 장치(2b)에서 처리를 완료한 기판(A)은, 다른쪽 로봇 암(31)을 구동시켜, X축 테이블(22)로부터 기판(A)을 수취하여, 이것을 크게 선회하게 하여 수평면 내에서 180° 회전시키고, R색 건조 장치(4b)에 보낸다. 다만, 기판(A)이 횡방향의 기판(A)일 경우에는, 일단 제 2 반송 장치(5b)의 후술하는 90° 회전 장치(42)에 이동 적재한 후, 여기서 90° 회전시키고, 이것을 다시 수취하여 R색 건조 장치(4b)에 보낸다. 그리고, R색 건조 장치(4b)에서 처리를 완료한 기판(A)은, 다른쪽 로봇 암(31)을 구동시켜, R색 건조 장치(4b)로부터 기판(A)을 수취하여, 이것을 선회하게 하여 수평면 내에서 90° 회전시키고, 제 2 반송 장치(5b)에 보낸다(도 6 참조).

R·G·B의 각 건조 장치(4)는, 도 7 내지 도 9에 나타낸 바와 같이, 단일 건조로(51)에 핫플레이트(52)를 상하 복수단(도시한 예에서는 6단)으로 수납하여 이루어지는 것이며, 이들 각 핫플레이트(52)에 기판(A)을 착좌시켜, 복수개의 기판 건조를 동시에 행할 수 있도록 하고 있다. 또한, 이들 각 건조 장치(4)는, 각 묘화 장치(2)에 의해 기판(A)에 도포된 기능 액체방울이 기판(A)의 반송 중에 유동하여 혼색을 발생시키거나, 급격한 용제의 증발에 의해 막 두께가 불균일해지지 않도록, 기능 액체방울을 유동성을 잃을 정도로 임시 건조시키기 위해 설치되어 있고, 기능 액체방울을 고화시켜 발광층을 형성하는 최종적인 건조는 도시의 제조 라인의 후공정에서 행한다. 건조 장치(4)에서의 기판(A)의 가열 온도는 40±2℃ 내지 200±2℃인 것이 바람직하다.

건조로(51)의 앞면에는 상기 복수단의 핫플레이트(52)에 면하는 출입구(51a)가 마련되어 있다. 출입구(51a)는 항상 개방되어 있고, 이동 적재 장치(3)에 의해 출입구(51a)를 통하여 각 핫플레이트(52)에 대한 기판(A)의 반입과 반출을 행한다.

또한, 건조로(51)의 뒷면에는 챔버 케이스(53)가 힌지(53a)를 통하여 개폐 가능하게 부착되어 있다. 챔버 케이스(53)의 깊이 방향 중간에는, 복수단의 핫플레이트(52)의 각 단 사이의 틈에 면하는 복수의 통기 구멍(54a)을 형성한 분류판(54)이 설치되어 있고, 분류판(54)과 챔버 케이스(53)의 뒷면 사이에 건조로(51)의 내부 공간에 분류판(54)을 통하여 연통하는 배기실(55)이 획성되어 있다. 그리고, 챔버 케이스(53)의 뒷면에 배기실(55)에 연통하는 상하 복수(도시한 예에서는 3개)의 배기구(55a)를 마련하고, 이들 배기구(55a)를 건조로(51) 위에 설치한 배기 수단으로서의 배기 블로어(56)에 복수의 유입측 접속구(57a)를 갖는 합류 챔버(57)를 통하여 접속하고 있다. 또한, 배기구(55a)와 합류 챔버(57)와 배기 블로어(56)는 각각 배기 파이프를 통하여 접속되나, 도면에서는 배기 파이프를 생략하고 있다.

이 구성에 의하면, 분류판(54)의 각 통기 구멍(54a)에 배기실(55)을 통하여 배기 블로어(56)의 흡인력이 작용하고, 건조로(51) 앞면의 출입구(51a)로부터 서브 챔버(12) 내의 불활성 가스가 건조로 내에 유입되어, 복수단의 핫플레이트(52)의 각 단 사이의 틈을 통과하여 통기 구멍(54a)을 향하는 불활성 가스에 의한 환기류가 생성된다. 그 때문에, 건조 중에 증발한 기능 액체방울 중의 용제 등은 환기류를 타고 건조로(51) 내로부터 신속하게 배출되어, 건조가 효율적으로 실행된다. 또한, 상하 복수의 배기구(55a)를 마련하고 있기 때문에, 상하 어느쪽의 통기 구멍(54a)에도 균등하게 흡인력이 작용하여, 모든 핫플레이트(52) 사이의 틈에 균등하게 환기류가 흐르고, 모든 핫플레이트(52)에서 효율적으로 건조가 실행된다.

또한, 본 실시예에서는 핫플레이트(52)의 각 단 사이의 틈마다 비교적 큰 통기 구멍(54a)을 가로 1열로 4개 형성하는 동시에, 분류판(54)에 각 열의 통기 구멍(54a)의 개구 면적을 조정하는 슬라이드 방식의 조정판(54b)을 부가 설치하여, 환기량을 조정할 수 있도록 하고 있다. 또한, 분류판(54)에 작은 구경(口徑)의 다수의 통기 구멍을 분산하여 형성할 수도 있다.

각 핫플레이트(52)는, 도 10에 나타낸 바와 같이, 상면의 워크 착좌면(52a)에 대하여 기판(A)을 위치 결정하는 복수의 위치 결정 핀(52b)과, 플레이트 내의 히터에 전력을 공급하는 후연(後緣)의 커넥터(52c)를 구비하고, 또한, 측부 에지에는, 워크 착좌면(52a)에 대하여 하측으로의 단차(段差)를 남겨 측방(側方)으로 돌출되는 에지부(52d)가 형성되어 있다. 그리고, 에지부(52d)에 대하여 전후 방향으로 슬라이딩 가능하게 결합되는 홈 형태의 레일 부재(58)를 설치하여, 레일 부재(58)를 단열재(58a)와 고정 부재(58b)를 통하여 건조로(51)의 측벽 내면에 상하 복수단으로 고정 설치하고, 각 핫플레이트(52)를, 에지부(52d)의 후단(後端)에 설치한 고정 나사(52e)를 제거함으로써, 각 레일 부재(58), 즉, 건조로(51)에 대하여 착탈 가능하게 하고 있다. 여기서, 챔버 케이스(53)는 상기와 같이 개폐 가능하게 부착되어 있고, 챔버 케이스(53)를 개방함으로써 건조로(51)의 뒷면이 개방된다. 그 때문에, 기판(A)의 기종(機種) 변경 시에, 핫플레이트(52)를 기판(A)의 크기에 맞춘 것으로 건조로(51)의 뒷면 측으로부터 용이하게 교환할 수 있다.

또한, 건조로(51)에는, 각 핫플레이트(52)와 이동 적재 장치(3) 사이에서 기판(A)을 수수할 때에, 각 핫플레이트(52)와 기판(A) 사이에 로봇 핸드(32)를 삽입할 수 있는 틈을 확보하기 위해, 복수단의 핫플레이트(52)로부터 기판(A)을 선택적으로 인상시켜 지지할 수 있는 인상 기구(59)가 구성되어 있다. 인상 기구(59)는 건조로(51)의 측벽 외면에 배치한, 승강 운동하는 상하 방향으로 긴 승강 부재(60)와, 건조로(51)의 측벽 내측에 상하 복수단으로 배치한, 각 핫플레이트(52)의 워크 착좌면(52a)으로부터 돌출되는 기판(A)의 측부 에지의 하면에 결합 가능한 결합 부재(61)와, 이들 결합 부재(61)를, 기판(A)의 상기 측부 에지의 상하 방향의 투영면 내에 들어가는 작동 위치와 이 투영면 외측의 퇴피 위치에 개별적으로 진퇴시키도록 승강 부재(60)에 연결하는 진퇴 기구(62)로 구성되어 있다.

또한, 본 실시예에서는, 도 10에 나타낸 바와 같이, 핫플레이트(52)의 각 측부(側部)에 전후 3개소의 노치부(notch部)(52f)가 형성되어 있고, 워크 착좌면(52a)으로부터 이들 노치부(52f) 위에 돌출되는 기판(A)의 측부 에지에 결합되도록, 결합 부재(61)에 전후 3개소의 클로부(claw部)(61a)를 돌출 설치하고 있다.

진퇴 기구(62)는 승강 부재(60)에 상하 복수단으로 부착시킨 가이드(63a) 장착 실린더(63)와, 각 실린더(63)의 피스톤 로드(63b)에 연결되어 횡방향으로 진퇴하는 전후 방향으로 긴 가동 암(64)으로 구성되고, 가동 암(64)의 양단에, 각 결합 부재(61)의 전후 양단에 고정되는 연결편(61b)을 건조로(51)의 측벽에 형성한 투공(透孔)(51b)을 통하여 연결하고 있다. 이렇게 하여, 복수의 실린더(63)를 선택적으로 작동시킴으로써 대응하는 결합 부재(61)가 선택적으로 작동 위치에 진출한다.

승강 부재(60)의 하단(下端)에는, 건조로(51)의 하측에 배치한 편심 캠(65)에 맞닿는 캠 팔로워(follower)(66)가 피벗 장착(樞着)되어 있고, 편심 캠(65)을 건조로(51)의 하측에 배치한 실린더(67)에 의해 크랭크(68)과 톱니바퀴를 통하여 회전시킴으로써, 승강 부재(60)가 건조로(51)의 측벽 외면에 고정시킨 레일(69)을 따라 승강된다. 또한, 건조로(51)의 측벽에는 인상 기구(59)를 덮도록 하여 커버(51c)가 부착된다.

이상의 구성에 의하면, 어느쪽 핫플레이트(52)에 대하여 기판(A)을 착탈할 때, 대응하는 결합 부재(61)만을 작동 위치에 진출시킨 상태에서 승강 부재(60)를 상승시킴으로써, 해당하는 핫플레이트(52) 위의 기판(A)을 결합 부재(61)에 의해 선택적으로 인상시킬 수 있다. 그리고, 이것에서는 각 핫플레이트(52)의 하측에 인상 기구용 승강 스페이스를 확보할 필요가 없어, 건조로(51)의 높이 치수를 크게 하지 않아도 된다.

도 11 및 도 12에 명시한 바와 같이, 제 1 및 제 2 반송 장치(5a, 5b)로서 사용하는 워크 반송 장치(5)는, 캐비닛 형식의 공통 기대(41) 위에, 기판(A)을 수평면 내에서 90° 회전시키는 상류 측의 90° 회전 장치(42)와, 기판(A)을 수평면 내에서 180° 회전시키는 하류 측의 180° 회전 장치(43)를 배치하는 동시에, 양 회전 장치(42, 43) 사이에 기판(A)을 냉각시키는 냉각 수단(44)과, 기판(A)을 처리 대기를 위해 스톡하여 두는 버퍼 수단(45)을 배치하여, 구성되어 있다.

상술한 바와 같이, 90° 회전 장치(42)는, 기판(A)을 각 건조 장치(4)에 적절히 보내기 위해, R·G·B의 각 이동 적재 장치(3)와 협동하여, 횡방향의 기판을 90° 회전시켜 종방향으로 한다. 또한, 이동 적재 장치(3)를 통하여 건조 장치(4)로부터 수취한 기판(A)을 냉각 수단(44)에 보낸다. 버퍼 장치(45)는 냉각 수단(44)에서 냉각된 기판(A)을 스톡하고, 다음 묘화 장치(2)로의 기판 투입이 액체방울 토출 헤드(26)의 클리닝 등에서 정지되었을 때에, 기판(A)을 반송 장치(5) 위에서 대기시킨다. 180° 회전 장치(43)는 각 이동 적재 장치(3)의 이동 적재 형태에 의거한 기판(A)의 자세 변경을 원래로 되돌리도록, 이것을 180° 회전시키고, R·G·B의 각 묘화 장치(2)에 대하여 기판(A)을 완전히 동일한 자세로 보낼 수 있도록 하고 있다.

여기서, 도 1 및 도 6을 참조하여, 실시예의 발광 기능층 제조 라인(1)에서의 기판(A)의 반송 및 처리 순서에 대해서 간단하게 설명한다.

반입측 이동 적재 장치(7)가 반입측 매거진 로더(6)로부터 수취한 기판(A)을 B색 이동 적재 장치(3a)에 면하게 하면, B색 이동 적재 장치(3a)의 한쪽 로봇 암(31)이 이것을 수취하여, B색 묘화 장치(2a)에 보낸다. B색 묘화 장치(2a)에서는 수취한 기판(A)을 X축 및 Y축 방향으로 상대적으로 이동시키고, 이것에 B색의 발광 기능 액체방울을 선택적으로 토출한다. 토출 동작이 종료되어 홈 위치에 되돌아간 기판(A)에 B색 이동 적재 장치(3a)의 다른쪽 로봇 암(31)이 면하여 이것을 수취하여, B색 건조 장치(4a)에 보낸다.

기판 건조가 완료되면, 다른쪽 로봇 암(31)이 이것을 수취하여, 제 1 반송 장치(5a)의 90° 회전 장치(42)에 이동 적재하고, 기판(A)을 90° 회전 장치(42)로부터 냉각 수단(44)에 보낸다. 그리고, 냉각 수단(44)에서 냉각된 기판(A)을 버퍼 수단(45)에 보낸다. 다음으로, R색 묘화 장치(2b)에서의 기판(A)의 처리 상황을 대기하여, 버퍼 수단(45)으로부터 180° 회전 장치(43)에 기판(A)을 보내고, 이것을 180° 회전시켜, R색 이동 적재 장치(3b)에 면하게 한다.

이후, 상기와 완전히 동일하게, R색 이동 적재 장치(3b)에 의한 기판(A)의 이동 적재와, R색 묘화 장치(2b) 및 R색 건조 장치(4b)에 의한 기판(A)의 처리가 실행된다. 또한, R색 건조 장치(4b)로부터 제 2 반송 장치(5b)에 이동 적재된 기판(A)은, 제 2 반송 장치(5b)로부터 G색 이동 적재 장치(3c)를 통하여 G색 묘화 장치(2c) 및 G색 건조 장치(4c)에 적절히 보내져 처리된다. 이와 같이 하여, R·G·B의 발광 기능층이 형성되어 기판(A)은 마지막으로 G색 건조 장치(4c)로부터 G색 이동 적재 장치(3c)를 통하여 반출측 이동 적재 장치(9)에 이동 적재되고, 이것으로부터 반출측 매거진 로더(8)에 보내진다.

90° 회전 장치(42)와 180° 회전 장치(43)는 동일한 구성으로 되어 있으며, 각각 기판(A)을 수평면 내에서 회전시키는 회전부(71, 81)와, 기판(A)의 반출이나 반입을 행하는 반송부(72, 82)를 구비하고 있다. 회전부(71, 81)에는, 기판(A)을 센터링하는 센터링 기구를 구성한 워크 테이블(73, 83)이 회전 및 승강 가능하게 설치되어 있다. 이동 적재 장치(3)로부터 90° 회전 장치(42)에 기판(A)을 이동 적재할 경우에는, 워크 테이블(73)을 반송부(72)의 상측으로 상승시킨 상태에서 기판(A)을 워크 테이블(73)에 탑재한다.

그리고, 기판(A)을 90° 회전시킬 경우에는, 센터링 기구에 의해 기판(A)을 회전 중심으로 센터링하고 나서 워크 테이블(73)을 회전시킨다. 한편, 기판(A)을 90° 회전 장치(42)로부터 반출할 경우에는, 워크 테이블(73)을 하강시켜, 기판(A)을 반송부(72)에 설치한 복수의 이송 롤러(74)에 수수하고, 이어서 이송 롤러(74)의 회전 이송에 의해, 기판(A)을 냉각 수단(44)을 향하여 송출한다.

버퍼 수단(45)으로부터 180° 회전 장치(43)에 기판(A)을 송출할 경우는, 워크 테이블(83)을 하강시킨 상태에서 반송부(82)의 복수의 이송 롤러(84)에 의해 워크 테이블(83)의 직상부(直上部)까지 기판(A)을 반입하고, 다음으로, 워크 테이블(83)을 상승시켜, 워크 테이블(83)에 기판(A)을 수취시킨다. 그리고, 센터링 기구에 의해 기판(A)을 회전 중심으로 센터링하고 나서 워크 테이블(83)을 180° 회전시키고, 이 상태에서 기판(A)을 이동 적재 장치(3)에 수취시킨다.

냉각 수단(44)은 전단의 처리 유닛의 건조 장치(4)에서 가열된 기판(A)을 묘화 장치(2)의 설정 관리 온도(예를 들어, 20℃)로 냉각시키고, 후단의 처리 유닛의 묘화 장치(2)에 있어서, 기판(A)의 열팽창에 기인하는 위치 결정 정밀도나 액체방울의 도포 위치 정밀도의 악화를 발생시키는 것을 방지하기 위해 설치되어 있다. 본 실시예의 냉각 수단(44)은 냉매에 의해 강제 냉각되는 냉각 플레이트(91)로 구성되어 있으며, 냉각 플레이트(91)를 공통 기대(41)의 중간부에 공통 기대(41) 내에 세워 설치하는 지주(支柱)(도시 생략)에 의해 부상(浮上) 지지시키고, 90° 회전 장치(42)로부터 보내져 온 기판(A)을 냉각 플레이트(91)에 착좌시켜 냉각시키도록 하고 있다.

냉각 플레이트(91)의 상세는 도 13 내지 도 15에 나타낸 바와 같으며, 두꺼운 플레이트 본체(92)와, 플레이트 본체(92)의 상면에 고착(固着)시킨 얇은 상판(上板)(93)과, 플레이트 본체(92)의 하면에 고착시킨 대좌(臺座)(94)로 구성되어 있다. 플레이트 본체(92)에는, 냉매를 흐르게 하는 냉매 통로(95)가 평행하게 복수 형성되어 있고, 이들 냉매 통로(95)를 유입 측과 유출 측의 헤더 파이프(96a, 96b)를 통하여 냉매 순환 회로(96)에 접속하고 있다.

냉매로서는 냉각수를 사용할 수도 있으나, 본 실시예에서는 에어를 냉매로 하고, 냉매 순환 회로(96)에 순환 팬(96c)과 쿨러(96d)를 설치하고 있다. 또한, 플레이트 본체(92)의 양단부에는, 각 냉매 통로(95)를 헤더 파이프(96a, 96b)에 접속하는 원터치 조인트(95a)가 부착되어 있다. 또한, 본 실시예에서는 플레이트 본체(92)에 냉매 통로(95)를 펀칭 가공에 의해 형성하고 있으나, 냉매 통로로 되는 파이프를 플레이트 본체(92)에 주입(鑄入)하는 것도 가능하다.

상판(93)에는 다수의 흡착 구멍(97)이 마련되어 있다. 그리고, 플레이트 본체(92)의 상면에 이들 흡착 구멍(97)에 연통하는 메시(mesh) 형상의 홈(98)을 형성하고, 홈(98)에 대좌(94)에 부착시킨 조인트(98a)를 통하여 부압원(負壓源)(도시 생략)을 접속하고 있다. 이렇게 하여, 홈(98)을 에어의 흡인 통로로 하여, 흡착 구멍(97)으로부터의 에어 흡인이 실행되고, 상판(93)에 기판(A)이 흡착되어, 기판(A)이 효율적으로 냉각된다.

또한, 냉각 플레이트(91)는 기판(A)보다 약간 좁은 폭으로 형성되고, 또한, 후기하는 반송 부재(144)에 대한 릴리프(relief) 구멍(99)이 형성되어 있다.

버퍼 수단(45)은, 도 16 및 도 17에 나타낸 바와 같이, 기판(A)을 상하 복수단으로 지지 가능한 매거진 래크(rack)(101)와, 매거진 래크(101)를 승강시키는 승강 기구(102)로 구성되어 있다. 매거진 래크(101)는 상부 프레임(111)과, 하부 프레임(112)과, 상부 프레임(111)과 하부 프레임(112)을 연결하는 상하 방향으로 연장되는 각 3개의 프레임재(113a)로 이루어지는 양측의 측부 프레임(113, 113)에 의해 중공(中空)의 박스 형상으로 형성되어 있고, 각 측부 프레임(113)의 프레임재(113a)에 기판(A)의 측부 에지 하면에 결합되어 기판(A)을 지지하는 클로 형상의 워크 수용부(114)를 상하 복수단으로 부착시키고 있다. 또한, 매거진 래크(101)는 기판(A)의 크기에 맞춘 전용품으로 되어 있으며, 매거진 래크(101)의 교환 시에 운반할 수 있도록 상부 프레임(111)의 양측부에 핸들(115)이 부착되어 있다. 또한, 냉각 플레이트(91)도 기판(A)의 크기에 맞춘 전용품으로 되어 있으며, 매거진 래크(101)와 함께 교환한다.

매거진 래크(101)는 기판(A)의 반송 방향을 x축 방향, 이것에 직교하는 수평 방향을 y축 방향으로 하여, 냉각 플레이트(91)의 y축 방향 양 측방에 양 측부 프레임(113, 113)이 위치하고, 냉각 플레이트(91)의 하측에 하부 프레임(112)이 위치하는 상태에서 승강 기구(102)에 지지되어 있다. 바꿔 말하면, 매거진 래크(101)의 양 측부 프레임(113, 113) 사이의 래크 내의 공간에 수납되도록 냉각 플레이트(91)를 배치하고 있다. 그리고, 매거진 래크(101)의 상승에 의해, 냉각 플레이트(91)에 착좌하고 있는 기판(A)의 냉각 플레이트(91)로부터 돌출되는 측부 에지 하면에 워크 수용부(114)를 결합시켜, 기판(A)을 냉각 플레이트(91)의 상측으로 들어올리고, 이 상태에서 기판(A)을 스톡하도록 하고 있다.

이렇게 하여, 냉각 플레이트(91)의 상측 공간이 버퍼 수단(45)에 의한 기판(A)의 스톡 스페이스로서 효과적으로 활용된다. 따라서, 냉각 수단(44)과 버퍼 수단(45)을 동일한 장소에 중첩시켜 양호한 스페이스 효율로 배치할 수 있게 되고, 워크 반송 장치(5)의 소형화를 도모할 수 있다. 또한, 매거진 래크(101)에는, 상측의 워크 수용부(114)로부터 하측의 워크 수용부(114)를 향하여 기판(A)을 차례로 스톡한다.

승강 기구(102)는 공통 기대(41) 내에 y축 방향으로 이간(離間)하여 고정되는 한쌍의 지지 프레임(121, 121)과, 각 지지 프레임(121)에 한쌍의 가이드 바(122, 122)를 통하여 승강 가능하게 지지되는 승강 프레임(123)을 구비하고 있으며, 승강 프레임(123) 위의 스위블 플레이트(swivle-plate)(124)에 매거진 래크(101)의 하부 프레임(112)을 착좌시키고 있다. 또한, 지지 프레임(121)의 외측면에는, 공통 기대(41) 내에 고정시키기 위한 부착 브래킷(121a)이 고정 설치되어 있다.

승강 프레임(123)에는, 지지 프레임(121)에 축지지되는 볼 나사(125)에 나사 결합하는 너트(126)가 고정되어 있고, 볼 나사(125)의 회전에 의해 승강 프레임(123)이 승강된다. 한쪽 지지 프레임(121)에 축지지되는 볼 나사(125)는, 이 지지 프레임(121)의 하단(下端)에 부착시킨 기어드 모터(127)에 직결(直結)되고, 다른쪽 지지 프레임(121)에 축지지되는 볼 나사(125)는, 벨트(128)를 통하여 기어드 모터(127)에 연결되어 있으며, 양 지지 프레임(121, 121)에 지지되는 y축 방향 양측의 승강 프레임(123, 123)이 기어드 모터(127)에 의해 동기하여 승강되어, 매거진 래크(101)가 수평 자세를 유지하여 승강된다.

각 승강 프레임(123)에는 각각 실린더(129a)에 의해 y축 방향으로 진퇴되는 한쌍의 누름 클로(129, 129)와, 각각 실린더(130a)에 의해 암(arm)(130b)을 통하여 x축 방향으로 진퇴되는 한쌍의 위치 결정 핀(130, 130)이 설치되어 있다. 그리고, 양 위치 결정 핀(130, 130)에 의해 매거진 래크(101)의 하부 프레임(112)를 x축 방향 양측으로부터 사이에 끼움으로써, 매거진 래크(101)를 x축 방향으로 위치 결정하는 동시에, 양 승강 프레임(123, 123)의 누름 클로(129, 129)에 의해 매거진 래크(101)의 하부 프레임(112)을 y축 방향 양측으로부터 사이에 끼우면서 하측으로 꽉 누름으로써, 매거진 래크(101)를 y축 방향으로도 위치 결정한 상태에서 승강 프레임(123)에 고정시킬 수 있도록 하고 있다.

각 지지 프레임(121)의 x축 방향 일 단부에는 상하 방향으로 긴 슬릿(131)이 고정되어 있으며, 각 승강 프레임(123)에 슬릿(131)의 노치를 판독하는 광학 센서(132)를 부착시키고, 이 광학 센서(132)로부터의 신호에 의해 매거진 래크(101)의 상하 방향 위치를 인식할 수 있도록 하고 있다.

또한, 각 지지 프레임(121)의 상단부에는, 실린더(133)에 의해 y축 방향으로 진퇴되는 가동 프레임(134)이 설치되어 있다. 가동 프레임(134)에는, 매거진 래크(101)의 측부 프레임(113)의 프레임 공극(空隙)에 면하는 복수의 가이드 롤러(135)가 부착되어 있으며, 후기하는 반송 기구(103)에 의해 래크 내의 공간에서의 기판(A) 반송을 행할 때, 가동 프레임(134)의 y축 방향 내측으로의 이동에서 가이드 롤러(135)를 측부 프레임(113)의 골조 공극을 통하여 래크 내의 공간에 진입시키고, 기판(A)의 측부 에지를 가이드 롤러(135)에 의해 가이드하여, 반송 시의 기판(A)의 사행(斜行)을 방지할 수 있도록 하고 있다. 또한, 도 16 및 도 17의 왼쪽의 지지 프레임(121)에 도시되어 있는 바와 같이, 실린더(133)는 지지 프레임(121) 위의 커버(136)로 덮인다.

또한, 도 16 및 도 17에서는 생략하고 있으나, 양 지지 프레임(121, 121) 사이의 스페이스에는 래크 내의 공간에서의 기판(A) 반송을 행하는, 도 18 및 도 19에 나태낸 반송 기구(103)가 설치되어 있다. 반송 부재(103)는 실린더(도시 생략)에 의해 승강되는 승강대(昇降臺)(141)에 탑재한 컨베이어 프레임(142)을 구비하고 있다. 컨베이어 프레임(142)의 y축 방향 양측에는 x축 방향으로 이간시켜 한쌍의 기립(起立) 프레임(143, 143)이 세워 설치되어 있고, 이들 각 기립 프레임(143)의 상단부 내측면에 각각 반송 부재로서의 복수(도시한 예에서는 3개)의 이송 롤러(144)가 축착(軸着)되어 있다. 이들 이송 롤러(144)는, 컨베이어 프레임(142)의 하부에 탑재한 모터(145)에 의해 벨트식 동력 전달 기구(146)를 통하여 회전된다. 또한, 동력 전달 기구(146)는 기립 프레임(143, 143)의 외측의 커버(147)로 덮여 있다.

기립 프레임(143) 및 이송 롤러(144)는 냉각 플레이트(91)에 형성한 릴리프 구멍(99)에 면하고 있으며, 승강대(141)의 상승에 의해 이송 롤러(144)가 릴리프 구멍(99)를 통하여 냉각 플레이트(91)의 상면 위에 돌출되고, 냉각 플레이트(91) 상면보다 위측의 소정의 반송 높이 위치에서 래크 내의 공간에서의 기판(A) 반송을 행한다. 또한, 이 반송 높이 위치는, 90° 회전 장치(42)나 180° 회전 장치(43)의 반송부(72, 82)에 의한 반송 높이와 동일한 레벨로 설정된다.

본 실시예에서는 상기 반송 높이 위치를, 도 20의 (a)에 나타낸 바와 같이, 매거진 래크(101)의 복수단의 워크 수용부(114) 내의 다음으로 기판(A)을 지지시켜야 할 워크 수용부(114a)를 냉각 플레이트(91)의 상면보다 약간 하측에 위치시킨 상태에서, 이 워크 수용부(114a)와 그 상단의 워크 수용부(114b) 사이의 간격 내에 상기 반송 높이 위치에 존재하는 기판(A)이 수납되는 높이로 설정하고 있다.

그리고, 90° 회전 장치(42)의 반송부(72)로부터 송출되는 기판(A)을 이송 롤러(144)에 의해 래크 내의 공간에 반입한 후, 도 20의 (b)에 나타낸 바와 같이, 이송 롤러(144)를 냉각 플레이트(91)의 상면보다 하측으로 하강시켜, 냉각 플레이트(91)의 상면에 기판(A)을 착좌시키고, 기판(A)을 냉각시킨다. 다음으로, 시간 관리나 기판(A)의 직접적인 온도 검출 등에서 기판(A)이 소정 온도로 냉각되었다고 판정되었을 때, 매거진 래크(101)를 상승시킨다. 이것에 의하면, 도 20의 (c)에 나타낸 바와 같이, 워크 수용부(114a)에 기판(A)이 지지되고, 이 상태에서 냉각 플레이트(91)로부터 기판(A)이 들어올려진다.

이렇게 하여 매거진 래크(101)에 스톡된 기판(A)을 180° 회전 장치(43)에 송출할 때는, 이송 롤러(144)를 냉각 플레이트(91)의 상측으로 돌출시킨 상태에서 매거진 래크(101)를 도 20의 (a)에 나타낸 위치로 하강시키고, 기판(A)을 이송 롤러(144)에 탑재하여, 이송 롤러(144)로부터 180° 회전 장치(43)의 반송부(82)에 기판(A)을 반출한다.

이상과 같이 버퍼 수단(45)을 마련함으로써, 후단의 처리 유닛의 묘화 장치(2)로의 기판(A) 투입이 액체방울 토출 헤드(26)의 클리닝 작업 등에서 정지되어도, 전단의 처리 유닛의 건조 장치(4)로부터 워크를 제거하여, 버퍼 수단(45)에 스톡하여 둘 수 있다. 여기서, 건조 장치(4)에서 기판(A)의 가열 온도가 낮으면, 화소 영역의 주변 영역에 용제가 남아, 후단의 처리 유닛의 묘화 장치(2)에서 혼색 및 탈색을 발생시키는 요인으로 되고, 또한, 건조 시간의 편차에 의해 기능 액체방울이 건조되어 수축하는 과정에서 막 두께가 불균일해진다. 그래서, 본 실시예에서는, 후단의 처리 유닛의 묘화 장치(2)로의 기판(A) 투입이 정지되고 있는 동안에도, 전단의 처리 유닛의 건조 장치(4)에서의 기판(A)의 건조 시간이 소정의 일정 시간에 도달한 시점에서, 건조 장치(4)로부터 기판(A)을 제거하여, 버퍼 수단(45)에 기판(A)을 스톡하고 있다.

구체적으로는, 제어 수단(도시 생략)에 건조 장치(4)의 복수단의 핫플레이트(52)의 각각에 대응하는 타이머를 내장시키며, 도 22에 도시되어 있는 바와 같이, 어느쪽 핫플레이트(52)에 기판(A)이 투입되었을 때에(S1), 이 핫플레이트(52)에 대응하는 타이머의 계시(計時) 동작을 개시하고(S2), 기판 투입 시점으로부터 설정 시간이 경과되어 타임업했을 때(S3), 상기 핫플레이트(52)로부터의 기판(A) 제거를 이동 적재 장치(3)에 지령한다(S4). 이와 같이 함으로써, 기판(A)의 건조 시간을 일정하게 관리하여, 막 두께가 불균일해지는 것을 방지할 수 있다.

그런데, 상기 실시예에서는, 냉각 플레이트(91)에 이송 롤러(144)에 대한 간섭 방지를 위한 릴리프 구멍(99)을 형성하고 있기 때문에, 기판(A)의 냉각 효율이 다소 저하된다. 이 경우, 승강 프레임(123) 위에 설치하는 가동 프레임(134)에, 가이드 롤러(135) 대신에, 도 21의 (a)∼(c)에 나타낸 바와 같이 이송 롤러(144')를 축착하고, 이것에 의해 래크 내의 공간에서의 기판(A) 반송을 행하도록 할 수도 있다.

이 이송 롤러(144')는 가동 프레임(134)의 움직임에 의해 래크 내의 공간의 외측으로 퇴피(退避) 가능해지고, 래크 내의 공간에서의 기판(A)의 반송 높이 위치를, 도 21의 (a)에 나타낸 바와 같이, 다음으로 기판(A)을 지지시켜야 할 워크 수용부(114a)가 냉각 플레이트(91)의 상면보다 상측에 위치하는 상태에서, 이 워크 수용부(114a)와 그 상단의 워크 수용부(114b) 사이의 틈에 상기 반송 높이 위치에 존재하는 기판(A)이 수납되는 위치로 설정하여도, 이하의 작동에 의해 기판(A)을 냉각 플레이트(91)에 착좌시킬 수 있다.

우선, 래크 내의 공간에 상기 반송 높이 위치에서 기판(A)을 반입한 후, 도 21의 (b)에 나타낸 바와 같이, 다음으로 워크를 지지시켜야 할 워크 수용부(114a)가 상기 반송 높이 위치에 존재하는 기판(A)을 지지하도록 매거진 래크(101)를 상승시킨다. 그 후, 이송 롤러(144')를 래크 내의 공간의 외측으로 퇴피시킨 상태에서, 도 21의 (c)에 나타낸 바와 같이, 매거진 래크(101)를 하강시켜, 냉각 플레이트(91)에 기판(A)을 착좌시킨다. 기판(A)의 냉각 후는, 매거진 래크(101)를 다시 상승시켜, 상기 실시예의 것과 동일하게 워크 수용부(114a)에 기판(A)을 지지시킨 상태에서 냉각 플레이트(91)로부터 기판(A)을 들어올린다.

이와 같이, 래크 공간 내에서의 기판(A) 반송을 행하는 반송 부재로서 래크 내의 공간의 외측으로 퇴피 가능한 이송 롤러(144')를 사용하면, 냉각 플레이트(91)에 릴리프 구멍(99)을 형성하지 않아도 되고, 기판(A)의 냉각 효율을 향상시킬 수 있다.

또한, 승강 가능한 이송 롤러(144)를 사용하는 상기 실시예의 것에서도, 반송 높이 위치를 도 21의 (a)과 같이 설정하고, 기판 반입 후에 우선 매거진 래크(101)를 상승시켜, 워크 수용부(114a)에 기판(A)을 지지시키고, 그 후, 이송 롤러(144)를 하강시키는 동시에 매거진 래크(101)를 하강시켜, 기판(A)을 냉각 플레이트(91)에 착좌시킬 수 있다. 그러나, 상기 실시예와 같이, 기판 반입 후의 이송 롤러(144)의 하강만으로 기판(A)을 냉각 플레이트(91)에 착좌시키는 방식의 것이 능률적으로는 더 유리하다.

그런데, 본 실시예의 발광 기능층 제조 라인(1)을 사용하여 각종 전기 광학 장치(플랫 패널 디스플레이)를 제조할 수 있다. 그래서, 전기 광학 장치로서, 컬러 필터, 액정 표시 장치, 유기 EL 장치, 플라즈마 디스플레이(PDP 장치), 전자 방출 장치(FED 장치, SED 장치) 등을 예로 들어, 이들의 구조 및 그 제조 방법에 대해서 설명한다. 또한, 전자 방출 장치는 이른바 FED(Field Emission Display)나 SED(Surface-Conduction Electron-Emitter Display) 장치를 포함하는 개념이다.

우선, 액정 표시 장치나 유기 EL 장치 등에 구성되는 컬러 필터의 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 23은 컬러 필터의 제조 공정을 나타내는 플로차트이고, 도 24의 (a) 내지 (e)는 제조 공정 순서로 나타낸 본 실시예의 컬러 필터(500)(필터 기체(基體)(500A))의 모식 단면도이다.

우선, 블랙 매트릭스 형성 공정(S11)에서는, 도 24의 (a)에 나타낸 바와 같이, 기판(W)(501) 위에 블랙 매트릭스(502)를 형성한다. 블랙 매트릭스(502)는 금속 크롬, 금속 크롬과 산화 크롬의 적층체, 또는 수지 블랙 등에 의해 형성된다. 금속 박막으로 이루어지는 블랙 매트릭스(502)를 형성하기 위해서는, 스퍼터링법이나 증착법 등을 이용할 수 있다. 또한, 수지 박막으로 이루어지는 블랙 매트릭스(502)를 형성할 경우에는, 그라비아 인쇄법, 포토레지스트법, 열전사법 등을 이용할 수 있다.

이어서, 뱅크 형성 공정(S12)에서, 블랙 매트릭스(502) 위에 중첩되는 상태에서 뱅크(503)를 형성한다. 즉, 우선, 도 24의 (b)에 나타낸 바와 같이, 기판(501) 및 블랙 매트릭스(502)를 덮도록 네거티브형의 투명한 감광성 수지로 이루어지는 레지스트층(504)을 형성한다. 그리고, 그 상면을 매트릭스 패턴 형상으로 형성된 마스크 필름(505)으로 피복한 상태에서 노광 처리를 행한다.

또한, 도 24의 (c)에 나타낸 바와 같이, 레지스트층(504)의 미(未)노광 부분을 에칭 처리함으로써 레지스트층(504)을 패터닝하여, 뱅크(503)를 형성한다. 또한, 수지 블랙에 의해 블랙 매트릭스를 형성할 경우는, 블랙 매트릭스와 뱅크를 겸용하는 것이 가능해진다.

이 뱅크(503)와 그 아래의 블랙 매트릭스(502)는, 각 화소 영역(507a)을 구획하는 구획 벽부(507b)로 되고, 나중의 착색층 형성 공정에서 액체방울 토출 헤드(26)에 의해 착색층(성막부)(508R, 508G, 508B)을 형성할 때에 기능 액체방울의 착탄(着彈) 영역을 규정한다.

이상의 블랙 매트릭스 형성 공정 및 뱅크 형성 공정을 거침으로써, 상기 필터 기체(500A)를 얻을 수 있다.

또한, 본 실시예에서는, 뱅크(503)의 재료로서, 도막(塗膜) 표면이 소액(疏液)(소수(疏水))성으로 되는 수지 재료를 사용하고 있다. 그리고, 기판(유리 기판)(501)의 표면이 친액(친수)성이기 때문에, 후술하는 착색층 형성 공정에서 뱅크(503)(구획 벽부(507b))로 둘러싸인 각 화소 영역(507a) 내로의 액체방울의 착탄 위치 정밀도가 향상된다.

다음으로, 착색층 형성 공정(S13)에서는, 도 24의 (d)에 나타낸 바와 같이, 액체방울 토출 헤드(26)에 의해 기능 액체방울을 토출하여 구획 벽부(507b)로 둘러싸인 각 화소 영역(507a) 내에 착탄시킨다. 이 경우, 액체방울 토출 헤드(26)를 사용하여, R·G·B 3색의 기능액(필터 재료)을 도입하여, 기능 액체방울의 토출을 행한다.

그 후, 건조 처리(가열 등의 처리)를 거쳐 기능액을 정착(定着)시키고, 3색의 착색층(508R, 508G, 508B)을 형성한다. 착색층(508R, 508G, 508B)을 형성했으면, 보호막 형성 공정(S14)으로 이행하여, 도 24의 (e)에 나타낸 바와 같이, 기판(501), 구획 벽부(507b), 및 착색층(508R, 508G, 508B)의 상면을 덮도록 보호막(509)을 형성한다.

즉, 기판(501)의 착색층(508R, 508G, 508B)이 형성되어 있는 면 전체에 보호막용 도포액이 토출된 후, 건조 처리를 거쳐 보호막(509)이 형성된다.

그리고, 보호막(509)을 형성한 후, 기판(501)을 각각의 유효 화소 영역마다 절단함으로써, 컬러 필터(500)를 얻을 수 있다.

도 25는 상기 컬러 필터(500)를 사용한 액정 표시 장치의 일례로서의 패시브 매트릭스형 액정 장치(액정 장치)의 개략 구성을 나타내는 요부 단면도이다. 이 액정 장치(520)에 액정 구동용 IC, 백라이트, 지지체 등의 부대 요소를 장착함으로써, 최종 제품으로서의 투과형 액정 표시 장치를 얻을 수 있다. 또한, 컬러 필터(500)는 도 24의 (a)∼(e)에 나타낸 것과 동일하므로, 대응하는 부위에는 동일한 부호를 첨부하여, 그 설명을 생략한다.

이 액정 장치(520)는 컬러 필터(500), 유리 기판 등으로 이루어지는 대향 기판(521), 및 이들 사이에 삽입된 STN(Super Twisted Nematic) 액정 조성물로 이루어지는 액정층(522)에 의해 개략 구성되어 있으며, 컬러 필터(500)를 도면 중의 상측(관측자 측)에 배치하고 있다.

또한, 도시하고 있지 않지만, 대향 기판(521) 및 컬러 필터(500)의 외면(外面)(액정층(522) 측과는 반대측의 면)에는 편광판이 각각 배열 설치되고, 또한, 대향 기판(521) 측에 위치하는 편광판의 외측에는 백라이트가 배열 설치되어 있다.

컬러 필터(500)의 보호막(509) 위(액정층 측)에는, 도 25에서 좌우 방향으로 긴 스트립(strip) 형상의 제 1 전극(523)이 소정의 간격으로 복수 형성되어 있고, 이 제 1 전극(523)의 컬러 필터(500) 측과는 반대측의 면을 덮도록 제 1 배향막(524)이 형성되어 있다.

한편, 대향 기판(521)에서의 컬러 필터(500)와 대향하는 면에는, 컬러 필터(500)의 제 1 전극(523)과 직교하는 방향으로 긴 스트립 형상의 제 2 전극(526)이 소정의 간격으로 복수 형성되고, 이 제 2 전극(526)의 액정층(522) 측의 면을 덮도록 제 2 배향막(527)이 형성되어 있다. 이들 제 1 전극(523) 및 제 2 전극(526)은 ITO(Indium Tin 0xide) 등의 투명 도전 재료에 의해 형성되어 있다.

액정층(522) 내에 설치된 스페이서(528)는 액정층(522)의 두께(셀 갭)를 일정하게 유지하기 위한 부재이다. 또한, 밀봉재(529)는 액정층(522) 내의 액정 조성물이 외부로 누출되는 것을 방지하기 위한 부재이다. 또한, 제 1 전극(523)의 일 단부는 리드 배선(523a)으로서 밀봉재(529)의 외측까지 연장되어 있다.

그리고, 제 1 전극(523)과 제 2 전극(526)이 교차하는 부분이 화소이며, 이 화소로 되는 부분에 컬러 필터(500)의 착색층(508R, 508G, 508B)이 위치하도록 구성되어 있다.

통상의 제조 공정에서는, 컬러 필터(500)에 제 1 전극(523)의 패터닝 및 제 1 배향막(524)의 도포를 행하여 컬러 필터(500) 측의 부분을 제조하는 동시에, 이것과는 별도로 대향 기판(521)에 제 2 전극(526)의 패터닝 및 제 2 배향막(527)의 도포를 행하여 대향 기판(521) 측의 부분을 제조한다. 그 후, 대향 기판(521) 측의 부분에 스페이서(528) 및 밀봉재(529)를 만들어 넣고, 이 상태에서 컬러 필터(500) 측의 부분을 접합시킨다. 이어서, 밀봉재(529)의 주입구로부터 액정층(522)을 구성하는 액정을 주입하고, 주입구를 폐지(閉止)한다. 그 후, 양 편광판 및 백라이트를 적층한다.

실시예의 묘화 장치(2)는, 예를 들어, 상기의 셀 갭을 구성하는 스페이서 재료(기능액)를 도포하는 동시에, 대향 기판(521) 측의 부분에 컬러 필터(500) 측의 부분을 접합시키기 전에, 밀봉재(529)로 둘러싼 영역에 액정(기능액)을 균일하게 도포할 수 있다. 또한, 상기 밀봉재(529)의 인쇄를 액체방울 토출 헤드(26)에 의해 행할 수도 있다. 또한, 제 1 및 제 2 배향막(524, 527)의 도포를 액체방울 토출 헤드(26)에 의해 행할 수도 있다.

도 26은 본 실시예에서 제조한 컬러 필터(500)를 사용한 액정 장치의 제 2 예의 개략 구성을 나타내는 요부 단면도이다.

이 액정 장치(530)가 상기 액정 장치(520)와 크게 다른 점은, 컬러 필터(500)를 도면 중의 하측(관측자 측과는 반대측)에 배치한 점이다.

이 액정 장치(530)는, 컬러 필터(500)와 유리 기판 등으로 이루어지는 대향 기판(531) 사이에 STN 액정으로 이루어지는 액정층(532)이 삽입되어 개략 구성되어 있다. 또한, 도시하고 있지 않지만, 대향 기판(531) 및 컬러 필터(500)의 외면에는 편광판 등이 각각 배열 설치되어 있다.

컬러 필터(500)의 보호막(509) 위(액정층(532) 측)에는, 도면 중의 내측 방향으로 긴 스트립 형상의 제 1 전극(533)이 소정의 간격으로 복수 형성되어 있고, 이 제 1 전극(533)의 액정층(532) 측의 면을 덮도록 제 1 배향막(534)이 형성되어 있다.

대향 기판(531)의 컬러 필터(500)와 대향하는 면 위에는, 컬러 필터(500) 측의 제 1 전극(533)과 직교하는 방향으로 연장되는 복수의 스트립 형상의 제 2 전극(536)이 소정의 간격으로 형성되고, 이 제 2 전극(536)의 액정층(532) 측의 면을 덮도록 제 2 배향막(537)이 형성되어 있다.

액정층(532)에는, 이 액정층(532)의 두께를 일정하게 유지하기 위한 스페이서(538)와, 액정층(532) 내의 액정 조성물이 외부로 누출되는 것을 방지하기 위한 밀봉재(539)가 설치되어 있다.

그리고, 상기한 액정 장치(520)와 동일하게, 제 1 전극(533)과 제 2 전극(536)이 교차하는 부분이 화소이며, 이 화소로 되는 부위에 컬러 필터(500)의 착색층(508R, 508G, 508B)이 위치하도록 구성되어 있다.

도 27은 본 발명을 적용한 컬러 필터(500)를 사용하여 액정 장치를 구성한 제 3 예를 나타낸 것이며, 투과형의 TFT(Thin Film Transistor)형 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 분해 사시도이다.

이 액정 장치(550)는 컬러 필터(500)를 도면 중의 상측(관측자 측)에 배치한 것이다.

이 액정 장치(550)는 컬러 필터(500)와, 이것에 대향하도록 배치된 대향 기판(551)과, 이들 사이에 삽입된 액정층(도시 생략)과, 컬러 필터(500)의 상면 측(관측자 측)에 배치된 편광판(555)과, 대향 기판(551)의 하면 측에 배열 설치된 편광판(도시 생략)에 의해 개략 구성되어 있다.

컬러 필터(500)의 보호막(509)의 표면(대향 기판(551) 측의 면)에는 액정 구동용 전극(556)이 형성되어 있다. 이 전극(556)은 ITO 등의 투명 도전 재료로 이루어지고, 후술하는 화소 전극(560)이 형성되는 영역 전체를 덮는 전면(全面) 전극으로 되어 있다. 또한, 이 전극(556)의 화소 전극(560)과는 반대측의 면을 덮은 상태에서 배향막(557)이 설치되어 있다.

대향 기판(551)의 컬러 필터(500)와 대향하는 면에는 절연층(558)이 형성되어 있고, 이 절연층(558) 위에는 주사선(561) 및 신호선(562)이 서로 직교하는 상태로 형성되어 있다. 그리고, 이들 주사선(561)과 신호선(562)으로 둘러싸인 영역 내에는 화소 전극(560)이 형성되어 있다. 또한, 실제의 액정 장치에서는 화소 전극(560) 위에 배향막이 설치되나, 도시를 생략하고 있다.

또한, 화소 전극(560)의 노치부와 주사선(561)과 신호선(562)으로 둘러싸인 부분에는 소스 전극, 드레인 전극, 반도체, 및 게이트 전극을 구비하는 박막트랜지스터(563)가 일체로 구성되어 있다. 그리고, 주사선(561)과 신호선(562)에 대한 신호의 인가에 의해 박막트랜지스터(563)를 온/오프하여 화소 전극(560)으로의 통전(通電) 제어를 행할 수 있게 구성되어 있다.

또한, 상기 각 예의 액정 장치(520, 530, 550)는 투과형의 구성으로 했으나, 반사층 또는 반투과 반사층을 설치하여, 반사형 액정 장치 또는 반투과 반사형 액정 장치로 할 수도 있다.

다음으로, 도 28은 유기 EL 장치의 표시 영역(이하, 단순히 표시 장치(600)라고 함)의 요부 단면도이다.

이 표시 장치(600)는 기판(W)(601) 위에 회로 소자부(602), 발광 소자부(603) 및 음극(604)이 적층된 상태에서 개략 구성되어 있다.

이 표시 장치(600)에서는, 발광 소자부(603)로부터 기판(601) 측으로 발광한 광이 회로 소자부(602) 및 기판(601)을 투과하여 관측자 측에 출사되는 동시에, 발광 소자부(603)로부터 기판(601)의 반대측으로 발광한 광이 음극(604)에 의해 반사된 후, 회로 소자부(602) 및 기판(601)을 투과하여 관측자 측에 출사되도록 되어 있다.

회로 소자부(602)와 기판(601) 사이에는 실리콘 산화막으로 이루어지는 하지 보호막(606)이 형성되고, 이 하지 보호막(606) 위(발광 소자부(603) 측)에 다결정 실리콘으로 이루어지는 섬 형상의 반도체막(607)이 형성되어 있다. 이 반도체막(607)의 좌우 영역에는, 소스 영역(607a) 및 드레인 영역(607b)이 고농도 양이온 주입에 의해 각각 형성되어 있다. 그리고, 양이온이 주입되지 않는 중앙부가 채널 영역(607c)으로 되어 있다.

또한, 회로 소자부(602)에는 하지 보호막(606) 및 반도체막(607)을 덮는 투명한 게이트 절연막(608)이 형성되고, 이 게이트 절연막(608) 위의 반도체막(607)의 채널 영역(607c)에 대응하는 위치에는, 예를 들어, Al, Mo, Ta, Ti, W 등으로 구성되는 게이트 전극(609)이 형성되어 있다. 이 게이트 전극(609) 및 게이트 절연막(608) 위에는, 투명한 제 1 층간절연막(611a)과 제 2 층간절연막(611b)이 형성되어 있다. 또한, 제 1 및 제 2 층간절연막(611a, 611b)을 관통하여, 반도체막(607)의 소스 영역(607a) 및 드레인 영역(607b)에 각각 연통하는 콘택트 홀(612a, 612b)이 형성되어 있다.

그리고, 제 2 층간절연막(611b) 위에는, ITO 등으로 이루어지는 투명한 화소 전극(613)이 소정의 형상으로 패터닝되어 형성되고, 이 화소 전극(613)은 콘택트 홀(612a)을 통하여 소스 영역(607a)에 접속되어 있다.

또한, 제 1 층간절연막(611a) 위에는 전원선(614)이 배열 설치되어 있고, 이 전원선(614)은 콘택트 홀(612b)을 통하여 드레인 영역(607b)에 접속되어 있다.

이와 같이, 회로 소자부(602)에는, 각 화소 전극(613)에 접속된 구동용 박막트랜지스터(615)가 각각 형성되어 있다.

상기 발광 소자부(603)는 복수의 화소 전극(613) 위의 각각에 적층된 기능층(617)과, 각 화소 전극(613) 및 기능층(617) 사이에 구비되어 각 기능층(617)을 구획하는 뱅크부(618)에 의해 개략 구성되어 있다.

이들 화소 전극(613), 기능층(617), 및 기능층(617) 위에 배열 설치된 음극(604)에 의해 발광 소자가 구성되어 있다. 또한, 화소 전극(613)은 평면으로부터 보아 대략 사각형 형상으로 패터닝되어 형성되어 있고, 각 화소 전극(613)의 사이에 뱅크부(618)가 형성되어 있다.

뱅크부(618)는, 예를 들어, SiO, SiO₂, TiO₂ 등의 무기 재료에 의해 형성되는 무기물 뱅크층(618a)(제 1 뱅크층)과, 이 무기물 뱅크층(618a) 위에 적층되고, 아크릴 수지, 폴리이미드 수지 등의 내열성, 내용매성이 우수한 레지스트에 의해 형성되는 단면(斷面) 사다리꼴 형상의 유기물 뱅크층(618b)(제 2 뱅크층)에 의해 구성되어 있다. 이 뱅크부(618)의 일부는 화소 전극(613)의 가장자리부 위에 올라간 상태로 형성되어 있다.

그리고, 각 뱅크부(618)의 사이에는, 화소 전극(613)에 대하여 상측을 향하여 점차 확장 개방된 개구부(619)가 형성되어 있다.

상기 기능층(617)은, 개구부(619) 내에서 화소 전극(613) 위에 적층 상태로 형성된 정공 주입/수송층(617a)과, 이 정공 주입/수송층(617a) 위에 형성된 발광층(617b)에 의해 구성되어 있다. 또한, 이 발광층(617b)에 인접하여 그 이외의 기능을 갖는 다른 기능층을 더 형성할 수도 있다. 예를 들면, 전자 수송층을 형성할 수도 있다.

정공 주입/수송층(617a)은 화소 전극(613) 측으로부터 정공을 수송하여 발광층(617b)에 주입하는 기능을 갖는다. 이 정공 주입/수송층(617a)은 정공 주입/수송층 형성 재료를 함유하는 제 1 조성물(기능액)을 토출함으로써 형성된다. 정공 주입/수송층 형성 재료로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌디옥시티오펜 등의 폴리티오펜 유도체와 폴리스티렌설폰산 등의 혼합물을 사용한다.

발광층(617b)은 적색(R), 녹색(G), 또는 청색(B) 중 어느쪽으로 발광하는 것이며, 발광층 형성 재료(발광 재료)를 함유하는 제 2 조성물(기능액)을 토출함으로써 형성된다. 제 2 조성물의 용매(비극성 용매)로서는, 정공 주입/수송층(617a)에 대하여 용해되지 않는 것이 바람직하고, 예를 들어, 시클로헥실벤젠, 디하이드로벤조푸란, 트리메틸벤젠, 테트라메틸벤젠 등을 사용할 수 있다. 이러한 비극성 용매를 발광층(617b)의 제 2 조성물에 사용함으로써, 정공 주입/수송층(617a)을 재용해시키지 않고 발광층(617b)을 형성할 수 있다.

그리고, 발광층(617b)에서는, 정공 주입/수송층(617a)으로부터 주입된 정공과, 음극(604)으로부터 주입되는 전자가 발광층에서 재결합하여 발광하도록 구성되어 있다.

음극(604)은 발광 소자부(603)의 전면(全面)을 덮는 상태로 형성되어 있고, 화소 전극(613)과 쌍으로 되어 기능층(617)에 전류를 흐르게 하는 역할을 수행한다. 또한, 이 음극(604)의 상부에는 밀봉 부재(도시 생략)가 배치된다.

다음으로, 상기 표시 장치(600)의 제조 공정을 도 29 내지 도 37을 참조하여 설명한다.

이 표시 장치(600)는, 도 29에 나타낸 바와 같이, 뱅크부 형성 공정(S21), 표면 처리 공정(S22), 정공 주입/수송층 형성 공정(S23), 발광층 형성 공정(S24), 및 대향 전극 형성 공정(S25)을 거쳐 제조된다. 또한, 제조 공정은 예시하는 것에 한정되지 않으며, 필요에 따라 그 이외의 공정이 제외되는 경우, 또한, 추가되는 경우도 있다.

우선, 뱅크부 형성 공정(S21)에서는, 도 30에 나타낸 바와 같이, 제 2 층간절연막(611b) 위에 무기물 뱅크층(618a)을 형성한다. 이 무기물 뱅크층(618a)은 형성 위치에 무기물막을 형성한 후, 이 무기물막을 포토리소그래피 기술 등에 의해 패터닝함으로써 형성된다. 이 때, 무기물 뱅크층(618a)의 일부는 화소 전극(613)의 가장자리부와 겹치도록 형성된다.

무기물 뱅크층(618a)을 형성했으면, 도 31에 나타낸 바와 같이, 무기물 뱅크층(618a) 위에 유기물 뱅크층(618b)을 형성한다. 이 유기물 뱅크층(618b)도 무기물 뱅크층(618a)과 동일하게 포토리소그래피 기술 등에 의해 패터닝하여 형성된다.

이와 같이 하여 뱅크부(618)가 형성된다. 또한, 이것에 따라, 각 뱅크부(618) 사이에는 화소 전극(613)에 대하여 상측으로 개구된 개구부(619)가 형성된다. 이 개구부(619)는 화소 영역을 규정한다.

표면 처리 공정(S22)에서는 친액화 처리 및 발액화 처리가 실행된다. 친액화 처리를 실시하는 영역은 무기물 뱅크층(618a)의 제 1 적층부(618aa) 및 화소 전극(613)의 전극면(613a)이고, 이들 영역은, 예를 들어, 산소를 처리 가스로 하는 플라즈마 처리에 의해 친액성으로 표면 처리된다. 이 플라즈마 처리는 화소 전극(613)인 ITO의 세정 등도 겸하고 있다.

또한, 발액화 처리는 유기물 뱅크층(618b)의 벽면(618s) 및 유기물 뱅크층(618b)의 상면(618t)에 실시되고, 예를 들어, 사플루오르화메탄을 처리 가스로 하는 플라즈마 처리에 의해 표면이 플루오르화 처리(발액성으로 처리)된다.

이 표면 처리 공정을 행함으로써, 액체방울 토출 헤드(26)를 사용하여 기능층(617)을 형성할 때에, 기능 액체방울을 화소 영역에 보다 확실하게 착탄시킬 수 있고, 또한, 화소 영역에 착탄된 기능 액체방울이 개구부(619)로부터 넘쳐 나오는 것을 방지할 수 있게 된다.

그리고, 이상의 공정을 거침으로써, 표시 장치 기체(600A)를 얻을 수 있다. 이 표시 장치 기체(600A)는 도 2에 나타낸 묘화 장치(2)의 X축 테이블(22)에 탑재되고, 이하의 정공 주입/수송층 형성 공정(S23) 및 발광층 형성 공정(S24)이 실행된다.

도 32에 나타낸 바와 같이, 정공 주입/수송층 형성 공정(S23)에서는, 액체방울 토출 헤드(26)로부터 정공 주입/수송층 형성 재료를 함유하는 제 1 조성물을 화소 영역인 각 개구부(619) 내에 토출한다. 그 후, 도 33에 나타낸 바와 같이, 건조 처리 및 열처리를 행하여, 제 1 조성물에 함유되는 극성 용매를 증발시키고, 화소 전극(전극면(613a))(613) 위에 정공 주입/수송층(617a)을 형성한다.

다음으로, 발광층 형성 공정(S24)에 대해서 설명한다. 이 발광층 형성 공정에서는, 상술한 바와 같이, 정공 주입/수송층(617a)의 재용해를 방지하기 위해, 발광층 형성 시에 사용하는 제 2 조성물의 용매로서, 정공 주입/수송층(617a)에 대하여 용해되지 않는 비극성 용매를 사용한다.

그러나, 그 한편, 정공 주입/수송층(617a)은 비극성 용매에 대한 친화성이 낮기 때문에, 비극성 용매를 함유하는 제 2 조성물을 정공 주입/수송층(617a) 위에 토출하여도, 정공 주입/수송층(617a)과 발광층(617b)을 밀착시킬 수 없게 되거나, 또는 발광층(617b)을 균일하게 도포하지 못할 우려가 있다.

그래서, 비극성 용매 및 발광층 형성 재료에 대한 정공 주입/수송층(617a) 표면의 친화성을 높이기 위해, 발광층 형성 전에 표면 처리(표면 개질(改質) 처리)를 행하는 것이 바람직하다. 이 표면 처리는, 발광층 형성 시에 사용하는 제 2 조성물의 비극성 용매와 동일한 용매 또는 이것과 유사한 용매인 표면 개질재를 정공 주입/수송층(617a) 위에 도포하고, 이것을 건조시킴으로써 행한다.

이러한 처리를 행함으로써, 정공 주입/수송층(617a)의 표면이 비극성 용매와 친화되기 쉬워지고, 이 후의 공정에서, 발광층 형성 재료를 함유하는 제 2 조성물을 정공 주입/수송층(617a)에 균일하게 도포할 수 있다.

그리고, 다음으로, 도 34에 나타낸 바와 같이, 각색 중의 어느쪽(도 34의 예에서는 청색(B))에 대응하는 발광층 형성 재료를 함유하는 제 2 조성물을 기능 액체방울로서 화소 영역(개구부(619)) 내에 소정량 주입한다. 화소 영역 내에 주입된 제 2 조성물은 정공 주입/수송층(617a) 위로 확산되어 개구부(619) 내에 충족된다. 또한, 제 2 조성물이 화소 영역으로부터 벗어나 뱅크부(618)의 상면(618t) 위에 착탄된 경우에도, 이 상면(618t)은 상술한 바와 같이 발액 처리가 실시되어 있기 때문에, 제 2 조성물이 개구부(619) 내에 굴러 들어가기 쉽게 되어 있다.

그 후, 건조 공정 등을 행함으로써, 토출 후의 제 2 조성물을 건조 처리하여, 제 2 조성물에 함유되는 비극성 용매를 증발시키고, 도 35에 나타낸 바와 같이, 정공 주입/수송층(617a) 위에 발광층(617b)이 형성된다. 이 도면의 경우, 청색(B)에 대응하는 발광층(617b)이 형성되어 있다.

마찬가지로, 액체방울 토출 헤드(26)를 사용하여, 도 36에 나타낸 바와 같이, 상기한 청색(B)에 대응하는 발광층(617b)의 경우와 동일한 공정을 차례로 행하고, 다른 색(적색(R) 및 녹색(G))에 대응하는 발광층(617b)을 형성한다. 또한, 발광층(617b)의 형성 순서는 예시한 순서에 한정되지 않으며, 어떠한 순서로 형성하여도 상관없다. 예를 들면, 발광층 형성 재료에 따라 형성하는 순서를 정할 수도 있다.

이상과 같이 하여, 화소 전극(613) 위에 기능층(617), 즉, 정공 주입/수송층(617a) 및 발광층(617b)이 형성된다. 그리고, 대향 전극 형성 공정(S25)으로 이행한다.

대향 전극 형성 공정(S25)에서는, 도 37에 나타낸 바와 같이, 발광층(617b) 및 유기물 뱅크층(618b)의 전면에 음극(604)(대향 전극)을, 예를 들어, 증착법, 스퍼터링법, CVD법 등에 의해 형성한다. 이 음극(604)은 본 실시예에서는, 예를 들어, 칼슘층과 알루미늄층이 적층되어 구성되어 있다.

이 음극(604)의 상부에는 전극으로서의 Al막, Ag막이나, 그 산화 방지를 위한 SiO₂ 및 SiN 등의 보호층이 적절히 설치된다.

이와 같이 하여 음극(604)을 형성한 후, 이 음극(604)의 상부를 밀봉 부재에 의해 밀봉하는 밀봉 처리나 배선 처리 등의 기타 처리 등을 실시함으로써, 표시 장치(600)를 얻을 수 있다.

다음으로, 도 38은 플라즈마형 표시 장치(PDP 장치: 이하, 단순히 표시 장치(700)라고 함)의 요부 단면도이다. 또한, 도 38에서는 표시 장치(700)의 일부가 노치된 상태로 도시되어 있다.

이 표시 장치(700)는 서로 대향하여 배치된 제 1 기판(701), 제 2 기판(702), 및 이들 사이에 형성되는 방전 표시부(703)를 포함하여 개략 구성된다. 방전 표시부(703)는 복수의 방전실(705)에 의해 구성되어 있다. 이들 복수의 방전실(705) 중 적색 방전실(705R), 녹색 방전실(705G), 청색 방전실(705B)의 3개의 방전실(705)이 세트로 되어 1개의 화소를 구성하도록 배치되어 있다.

제 1 기판(701)의 상면에는 소정의 간격에 의해 스트라이프 형상으로 어드레스 전극(706)이 형성되고, 이 어드레스 전극(706)과 제 1 기판(701)의 상면을 덮도록 유전체층(707)이 형성되어 있다. 유전체층(707) 위에는, 각 어드레스 전극(706)의 사이에 위치하고, 또한, 각 어드레스 전극(706)에 따르도록 격벽(708)이 세워 설치되어 있다. 이 격벽(708)은 도시하는 바와 같이 어드레스 전극(706)의 폭방향 양측으로 연장되는 것과, 어드레스 전극(706)과 직교하는 방향으로 연장 설치된 도시하지 않은 것을 포함한다.

그리고, 이 격벽(708)에 의해 구획된 영역이 방전실(705)로 되어 있다. 방전실(705) 내에는 형광체(709)가 배치되어 있다. 형광체(709)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 어느쪽 색의 형광을 발광하는 것이며, 적색 방전실(705R)의 저부(底部)에는 적색 형광체(709R)가, 녹색 방전실(705G)의 저부에는 녹색 형광체(709G)가, 청색 방전실(705B)의 저부에는 청색 형광체(709B)가 각각 배치되어 있다.

제 2 기판(702)의 도면 중의 하측 면에는, 상기 어드레스 전극(706)과 직교하는 방향으로 복수의 표시 전극(711)이 소정의 간격에 의해 스트라이프 형상으로 형성되어 있다. 그리고, 이들을 덮도록 유전체층(712), 및 MgO 등으로 이루어지는 보호막(713)이 형성되어 있다.

제 1 기판(701)과 제 2 기판(702)은, 어드레스 전극(706)과 표시 전극(711)이 서로 직교하는 상태로 대향시켜 접합되어 있다. 또한, 상기 어드레스 전극(706)과 표시 전극(711)은 교류 전원(도시 생략)에 접속되어 있다.

그리고, 각 전극(706, 711)에 통전(通電)함으로써, 방전 표시부(703)에서 형광체(709)가 여기(勵起) 발광하고, 컬러 표시가 가능해진다.

본 실시예에서는 상기 어드레스 전극(706), 표시 전극(711), 및 형광체(709)를 도 2에 나타낸 묘화 장치(2)를 사용하여 형성할 수 있다. 이하, 제 1 기판(701)에서의 어드레스 전극(706)의 형성 공정을 예시한다.

이 경우, 제 1 기판(701)을 묘화 장치(2)의 X축 테이블(22)에 탑재시킨 상태에서 이하의 공정이 실행된다.

우선, 액체방울 토출 헤드(26)에 의해, 도전막 배선 형성용 재료를 함유하는 액체 재료(기능액)를 기능 액체방울로서 어드레스 전극 형성 영역에 착탄시킨다. 이 액체 재료는 도전막 배선 형성용 재료로서, 금속 등의 도전성 미립자를 분산매로 분산한 것이다. 이 도전성 미립자로서는, 금, 은, 구리, 팔라듐, 또는 니켈 등을 함유하는 금속 미립자나, 도전성 폴리머 등이 사용된다.

보충 대상으로 되는 모든 어드레스 전극 형성 영역에 대해서 액체 재료의 보충이 종료되면, 토출 후의 액체 재료를 건조 처리하여, 액체 재료에 함유되는 분산매를 증발시킴으로써 어드레스 전극(706)이 형성된다.

그런데, 상기에서는 어드레스 전극(706)의 형성을 예시했으나, 상기 표시 전극(711) 및 형광체(709)에 대해서도 상기 각 공정을 거침으로써 형성할 수 있다.

표시 전극(711) 형성의 경우, 어드레스 전극(706)의 경우와 동일하게, 도전막 배선 형성용 재료를 함유하는 액체 재료(기능액)를 기능 액체방울로서 표시 전극 형성 영역에 착탄시킨다.

또한, 형광체(709) 형성의 경우에는, 각색(R, G, B)에 대응하는 형광 재료를 함유한 액체 재료(기능액)를 액체방울 토출 헤드(26)로부터 액체방울로서 토출하고, 대응하는 색의 방전실(705) 내에 착탄시킨다.

다음으로, 도 39는 전자 방출 장치(FED 장치: 이하, 단순히 표시 장치(800)라고 함)의 요부 단면도이다. 또한, 도 39에서는 표시 장치(800)의 일부가 단면도로서 도시되어 있다.

이 표시 장치(800)는 서로 대향하여 배치된 제 1 기판(801), 제 2 기판(802), 및 이들 사이에 형성되는 전계 방출 표시부(803)를 포함하여 개략 구성된다. 전계 방출 표시부(803)는 매트릭스 형상으로 배치한 복수의 전자 방출부(805)에 의해 구성되어 있다.

제 1 기판(801)의 상면에는, 캐소드(cathode) 전극(806)을 구성하는 제 1 소자 전극(806a) 및 제 2 소자 전극(806b)이 서로 직교하도록 형성되어 있다. 또한, 제 1 소자 전극(806a) 및 제 2 소자 전극(806b)으로 구획된 부분에는, 갭(808)을 형성한 도전성막(807)이 형성되어 있다. 즉, 제 1 소자 전극(806a), 제 2 소자 전극(806b) 및 도전성막(807)에 의해 복수의 전자 방출부(805)가 구성되어 있다. 도전성막(807)은, 예를 들어, 산화팔라듐(PdO) 등으로 구성되고, 또한, 갭(808)은 도전성막(807)을 성막한 후, 포밍(forming) 등에 의해 형성된다.

제 2 기판(802)의 하면에는 캐소드 전극(806)에 대치(對峙)하는 애노드(anode) 전극(809)이 형성되어 있다. 애노드 전극(809)의 하면에는 격자 형상의 뱅크부(811)가 형성되고, 이 뱅크부(811)로 둘러싸인 하향의 각 개구부(812)에 전자 방출부(805)에 대응하도록 형광체(813)가 배치되어 있다. 형광체(813)는 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 어느쪽 색의 형광을 발광하는 것이며, 각 개구부(812)에는 적색 형광체(813R), 녹색 형광체(813G) 및 청색 형광체(813B)가 상기한 소정의 패턴으로 배치되어 있다.

그리고, 이와 같이 구성한 제 1 기판(801)과 제 2 기판(802)은 미소한 갭을 남겨 접합되어 있다. 이 표시 장치(800)에서는, 도전성막(갭(808))(807)을 통하여, 음극인 제 1 소자 전극(806a) 또는 제 2 소자 전극(806b)으로부터 튀어나오는 전자를 양극인 애노드 전극(809)에 형성한 형광체(813)에 닿게 하여 여기 발광하고, 컬러 표시가 가능해진다.

이 경우도, 다른 실시예와 동일하게, 제 1 소자 전극(806a), 제 2 소자 전극(806b), 도전성막(807) 및 애노드 전극(809)을 묘화 장치(2)를 사용하여 형성할 수 있는 동시에, 각색의 형광체(813R, 813G, 813B)를 묘화 장치(2)를 사용하여 형성할 수 있다.

제 1 소자 전극(806a), 제 2 소자 전극(806b) 및 도전성막(807)은 도 40의 (a)에 나타낸 평면 형상을 갖고 있으며, 이들을 성막할 경우에는, 도 40의 (b)에 나타낸 바와 같이, 미리 제 1 소자 전극(806a), 제 2 소자 전극(806b) 및 도전성막(807)을 제조하는 부분을 남겨, 뱅크부(BB)를 형성(포토리소그래피법)한다. 다음으로, 뱅크부(BB)에 의해 구성된 홈 부분에 제 1 소자 전극(806a) 및 제 2 소자 전극(806b)을 형성(묘화 장치(2)에 의한 잉크젯법)하고, 그 용제를 건조시켜 성막을 행한 후, 도전성막(807)을 형성(묘화 장치(2)에 의한 잉크젯법)한다. 그리고, 도전성막(807)을 성막한 후, 뱅크부(BB)를 제거하고(에싱(ashing) 박리 처리), 상기의 포밍 처리로 이행한다. 또한, 상기 유기 EL 장치의 경우와 동일하게, 제 1 기판(801) 및 제 2 기판(802)에 대한 친액화 처리나, 뱅크부(811, BB)에 대한 발액화 처리를 행하는 것이 바람직하다.

또한, 다른 전기 광학 장치로서는, 금속 배선 형성, 렌즈 형성, 레지스트 형성 및 광확산체 형성 등의 장치를 생각할 수 있다. 상기한 발광 기능층 제조 라인(1)을 각종 전기 광학 장치(디바이스)의 제조에 사용함으로써, 각종 전기 광학 장치를 효율적으로 제조할 수 있다.

이상의 설명으로부터 명확히 알 수 있듯이, 본 발명에 의하면, 건조로 내의 상하 복수단의 핫플레이트 사이의 틈에 환기류를 흐르게 하여, 건조 중에 증발하는 용제 등을 신속하게 건조로 내부로부터 배출할 수 있고, 소형의 간소한 구조이면서 복수의 워크를 동시에 효율적으로 건조시킬 수 있다.

도 1은 실시예에 따른 발광 기능층 제조 라인의 전체 구성을 나타낸 평면도.

도 2는 실시예에 따른 묘화 장치의 전체 사시도.

도 3은 실시예에 따른 묘화 장치의 동작을 설명하는 동작 설명도.

도 4의 (a)∼(c)는 실시예에 따른 묘화 장치에 의한 발광 기능액의 토출 패턴을 나타내는 기판의 확대 평면도.

도 5의 (a) 및 (b)는 실시예에 따른 이동 적재 장치(이동 적재 로봇)의 구조도.

도 6은 실시예에 따른 발광 기능층 제조 라인에서의 기판의 반송(搬送) 형태를 나타내는 모식도.

도 7은 실시예에 따른 건조 장치의 전체 사시도.

도 8은 실시예에 따른 건조 장치의 측면도.

도 9는 실시예에 따른 건조 장치의 천장부를 떼어낸 상태의 사시도.

도 10은 실시예에 따른 건조 장치에서 사용하는 핫플레이트의 사시도.

도 11은 실시예에 따른 워크(work) 반송 장치의 전체 사시도.

도 12는 실시예에 따른 워크 반송 장치의 전체 정면도.

도 13은 실시예에 따른 냉각 플레이트의 평면도.

도 14는 실시예에 따른 냉각 플레이트의 측면도.

도 15는 실시예에 따른 냉각 플레이트의 부분 확대 단면도.

도 16은 실시예에 따른 버퍼 수단의 전체 사시도.

도 17은 도 16의 XVII-XVII선 절단면도.

도 18은 실시예에 따른 버퍼 수단용 반송 기구의 전체 사시도.

도 19는 실시예에 따른 버퍼 수단용 반송 기구의 커버를 떼어낸 상태의 측면도.

도 20의 (a) 및 (b)는 실시예에서의 냉각 플레이트에 대한 기판의 착좌(着座) 동작의 설명도.

도 21의 (a)∼(c)는 다른 실시예에서의 냉각 플레이트에 대한 기판의 착좌 동작의 설명도.

도 22는 실시예에서의 건조 장치에서의 건조 시간의 관리 처리를 나타내는 플로차트.

도 23은 컬러 필터 제조 공정을 설명하는 플로차트.

도 24의 (a)∼(e)는 제조 공정 순서로 나타낸 컬러 필터의 모식 단면도.

도 25는 본 발명을 적용한 컬러 필터를 사용한 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 요부(要部) 단면도.

도 26은 본 발명을 적용한 컬러 필터를 사용한 제 2 예의 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 요부 단면도.

도 27은 본 발명을 적용한 컬러 필터를 사용한 제 3 예의 액정 장치의 개략 구성을 나타내는 요부 단면도.

도 28은 유기 EL 장치인 표시 장치의 요부 단면도.

도 29는 유기 EL 장치인 표시 장치의 제조 공정을 설명하는 플로차트.

도 30은 무기물 뱅크층의 형성을 설명하는 공정도.

도 31은 유기물 뱅크층의 형성을 설명하는 공정도.

도 32는 정공 주입/수송층을 형성하는 과정을 설명하는 공정도.

도 33은 정공 주입/수송층이 형성된 상태를 설명하는 공정도.

도 34는 청색의 발광층을 형성하는 과정을 설명하는 공정도.

도 35는 청색의 발광층이 형성된 상태를 설명하는 공정도.

도 36은 각색의 발광층이 형성된 상태를 설명하는 공정도.

도 37은 음극의 형성을 설명하는 공정도.

도 38은 플라즈마형 표시 장치(PDP 장치)인 표시 장치의 요부 분해 사시도.

도 39는 전자 방출 장치(FED 장치)인 표시 장치의 요부 단면도.

도 40의 (a)는 표시 장치의 전자 방출부 주위의 평면도, 도 40의 (b)는 그 형성 방법을 나타내는 평면도.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

A : 기판(워크(work))

1a, 1b, 1c : 처리 유닛

2, 2a, 2b, 2c : 묘화(描畵) 장치

4, 4a, 4b, 4c : 건조 장치

5, 5a, 5b : 워크 반송(搬送) 장치

26 : 액체방울 토출 헤드

45 : 버퍼 수단

51 : 건조로(乾燥爐)

51a : 출입구

52 : 핫플레이트

52a : 워크 착좌면

53 : 챔버 케이스

54 : 분류판(分流板)

54a : 통기 구멍

55 : 배기실

55a : 배기구

56 : 배기 블로어(blower)(배기 수단)

58 : 레일 부재

59 : 인상(引上) 기구

60 : 승강(昇降) 부재

61 : 결합 부재

62 : 진퇴(進退) 기구

Claims (12)

1. 판 형상의 워크(work)를 착좌(着座)시키는 핫플레이트(hot-plate)를 상하 복수단(段)으로 수납하여 이루어지는 건조로(乾燥爐)를 구비하고,

   상기 건조로의 앞면에 상기 복수단의 핫플레이트에 면하는, 항상 개방되는 워크의 출입구를 마련하는 동시에,

   상기 건조로의 뒷면에 챔버 케이스를 설치하여, 이 챔버 케이스 내에, 상기 복수단의 핫플레이트 사이의 각 간극에 면하는 복수의 통기 구멍을 형성한 분류판(分流板)을 통하여 상기 건조로의 노내(爐內) 공간에 연통하는, 배기 수단에 의해 강제 배기되는 배기실을 구획 형성(劃成)하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 배기실에 상기 배기 수단에 접속되는 상하 복수의 배기구를 마련하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 챔버 케이스를 상기 건조로의 뒷면에 개폐 가능하게 부착시키고, 상기 챔버 케이스를 개방함으로써 개방되는 상기 건조로 뒷면의 개구를 통하여 상기 각 핫플레이트를 교환 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
4. 제 3 항에 있어서,

   상기 건조로의 측벽 내면에, 상기 각 핫플레이트의 측부 에지(edge)가 전후 방향으로 슬라이딩 가능하게 결합되는 레일 부재를 상하 복수단으로 고정 설치하는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 복수단의 핫플레이트로부터 워크를 선택적으로 인상(引上)시켜 지지할 수 있는 인상 기구를 더 구비하고,

   상기 인상 기구는, 상기 건조로의 측벽 외면에 배치한, 승강 운동하는 상하 방향으로 긴 승강 부재와,

   상기 측벽의 내측에 상하 복수단으로 배치한, 상기 각 핫플레이트의 워크 착좌면(着座面)으로부터 돌출되는 워크의 측부 에지의 하면에 결합 가능한 결합 부재와,

   이들 결합 부재를, 워크의 상기 측부 에지의 상하 방향의 투영면 내에 들어가는 작동 위치와 이 투영면 외측의 퇴피(退避) 위치에 개별적으로 진퇴시키도록 상기 승강 부재에 연결하는 진퇴 기구로 구성되는 것을 특징으로 하는 건조 장치.
6. 액체방울 토출 헤드를 사용하여 판 형상의 워크에 액체방울을 도포하는 묘화 장치와, 워크에 도포된 액체방울을 건조시키는 건조 장치를 구비하는 처리 유닛의 복수개를 이들 각 처리 유닛 사이에 워크 반송 장치를 개재시켜 연속 설치하고, 각 처리 유닛에서 처리된 워크를 각 워크 반송 장치를 통하여 후단의 처리 유닛에 차례로 반송하게 한 워크 처리 장치에 있어서,

   상기 건조 장치로서 제 1 항에 기재된 건조 장치를 사용하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치.
7. 제 6 항에 있어서,

   상기 워크는 컬러 필터의 기판이고, 상기 묘화 장치는 상기 액체방울 토출 헤드에 필터 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 상기 기판 위의 다수의 화소 영역에 필터 소자로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치.
8. 제 6 항에 있어서,

   상기 워크는 유기 EL 장치의 기판이고, 상기 묘화 장치는 상기 액체방울 토출 헤드에 발광 기능 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 상기 기판 위의 다수의 화소 영역에 유기 EL 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치.
9. 제 6 항에 있어서,

   상기 워크는 플라즈마 디스플레이 장치의 기판이고, 상기 묘화 장치는 상기 액체방울 토출 헤드에 금속 배선 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 상기 기판 위의 다수의 화소 영역에 소자 전극 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치.
10. 제 6 항에 있어서,

    상기 워크는 플라즈마 디스플레이 장치의 기판이고, 상기 묘화 장치는 상기 액체방울 토출 헤드에 형광 기능 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 상기 기판 위의 다수의 화소 영역에 형광 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치.
11. 제 6 항에 있어서,

    상기 워크는 전자 방출 장치의 기판이고, 상기 묘화 장치는 상기 액체방울 토출 헤드에 도전성 기능 재료를 함유하는 기능액을 도입하여, 상기 기판 위의 다수의 화소 영역에 도전성 기능층으로 이루어지는 기능 액체방울을 도포하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치.
12. 제 6 항에 있어서,

    상기 워크 반송 장치에 워크를 일시적으로 스톡(stock)하는 버퍼 수단을 배치하고, 상기 건조 장치에서의 워크의 건조 시간이 소정의 일정 시간에 도달한 시점에서, 상기 건조 장치로부터 워크를 제거하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치.