KR100495928B1 - 가스 스크러버의 히팅튜브 - Google Patents

가스 스크러버의 히팅튜브 Download PDF

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Abstract

본 발명은 내열성과 내식성이 우수하면서도 조직이 치밀하여 제품의 수명이 연장되는 새로운 구성의 가스 스크러버 히팅튜브에 대한 것이다.
본 발명에 따르면, 폐가스가 유입되는 유입구(12)와 배출구(14)가 형성된 케이스(10)와, 상기 유입구(12)를 통해 유입되는 폐가스가 그 내부로 공급되도록 상기 케이스(10) 내에 설치되는 히팅튜브(20)와, 상기 히팅튜브(20)와 케이스(10) 사이에 설치되어 히팅튜브(20)로 공급되는 폐가스가 가열산화되도록 히팅시키는 히터(30)를 포함하여 이루어진 가스 스크러버(40)에 있어서, 상기 히팅튜브(20)는 Ni 65.0~80.0, Cr 6.0~15.0, Mo 1.5~25.0 중량부 포함하는 합금재료를 원심주조법으로 성형하여 이루어진 것을 특징으로 하는 히팅튜브(20)가 제공된다.

Description

가스 스크러버의 히팅튜브{ heating tube for gas scrubber}
본 발명은 가스 스크러버의 히팅튜브에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 내열성과 내식성이 우수하면서도 조직이 치밀하여 제품의 수명이 연장되는 새로운 구성의 가스 스크러버 히팅튜브에 관한 것이다.
반도체 제조시 특히, 에칭이나 화학기상증착(CVD)시 발생되는 폐가스 중에는 과불화화합물(PFC) 가스가 과량 함유되어 있는데, 이 PFC가스는 지구온난화 등 심각한 환경오염을 유발할 뿐만 아니라 인체에도 유해하므로 반드시 정화되어 배출되어야 한다.
이러한 폐가스를 처리하는 방법에는 폐가스를 가열산화시켜 분해하는 방법, 폐가스를 흡착처리하는 방법 등이 있는데, 주로 가열산화시키는 방법이 사용된다. 폐가스를 가열산화시켜 정화하는 경우에는 폐가스가 유입되는 유입구와 배출구가 형성된 케이스 내부에 히팅튜브가 설치되고, 이 히팅튜브와 케이스 사이에 히터가 구비된 가스 스크러버가 사용된다. 이러한 가스 스크러버는 히터에 의해 히팅튜브가 가열되면 상기 유입구를 통해 히팅튜브 내로 공급되는 폐가스가 가열산화되어 분해되고, 분해된 가스는 상기 배출구를 통해 배출되는데, 폐가스 처리시 히팅튜브의 온도가 700~950℃ 정도가 되도록 고온으로 가열되기 때문에 히팅튜브는 내열성과 내식성이 우수한 소재로 제조되어야 한다.
한편, 종래에는 일반적으로 상기 히팅튜브는 Ni-Cr합금으로 압연이나 인발에 의해 제조되었다. 그런데 이러한 종래의 히팅튜브는 가격이 상당히 고가임에도 불구하고 조직이 치밀하지 못하여 고온에서 균열이 생기는 등 쉽게 손상되었다. 따라서 폐가스 처리시 히팅튜브가 손상되어 폐가스가 새거나 폐가스가 효과적으로 처리되지 못하였다.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 내식성과 내열성이 우수할 뿐만 아니라 조직이 치밀하게 성형되어 장시간 고온으로 가열하여도 손상되지 않아 수명이 연장되며, 코스트도 저렴한 새로운 구성의 가스 스크러버의 히팅튜브가 제공된다.
본 발명에 따르면, 폐가스가 유입되는 유입구(12)와 배출구(14)가 형성된 케이스(10)와, 상기 유입구(12)를 통해 유입되는 폐가스가 그 내부로 공급되도록 상기 케이스(10) 내에 설치되는 히팅튜브(20)와, 상기 히팅튜브(20)와 케이스(10) 사이에 설치되어 히팅튜브(20)로 공급되는 폐가스가 가열산화되도록 히팅시키는 히터(30)를 포함하여 이루어진 가스 스크러버(40)에 있어서, 상기 히팅튜브(20)는 Ni 65.0~80.0, Cr 6.0~15.0, Mo 1.5~25.0 중량부 포함하는 합금재료를 원심주조법으로 성형하여 이루어지며, 적어도 내측면이 알루미나(Al2O3)로 코팅된 것을 특징으로 하는 히팅튜브(20)가 제공된다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 설명하면 다음과 같다. 도 1은 본 발명에 의한 일 실시예를 보인 개략도이다.
삭제
본 발명은 반도체 제조시에 배출되는 폐가스를 가열산화시켜 정화하는 가스 스크러버(40)에 관한 것으로, 폐가스가 유입되는 유입구(12)와 배출구(14)가 형성된 케이스(10) 내부에 히팅튜브(20)가 설치되고, 이 히팅튜브(20)의 둘레부에 위치되도록 케이스(10)에 내장되는 히터(30)를 포함하여 이루어진다. 이러한 가스스크러버(40)는 폐가스처리시 히터(30)에 의해 상기 히팅튜브(20)가 대략 700~950℃ 정도로 가열되어 히팅튜브(20) 내로 공급되는 폐가스가 가열산화되도록 하는데, 이때 케이스(10)의 일측에는 상기 히터의 온도를 감지하는 감지센서(18)가 구비되고 케이스(10)의 둘레부에는 단열재(16)가 구비되어 히터(30)의 열이 손실되는 것이 방지되도록 구성된다.
상기 히팅튜브(20)는 Ni-Cr-Mo 합금으로 제조되는데, 바람직하게는 Ni 65.0 ~ 80.0, Cr 6.0 ~ 15.0, Mo 15.0 ~ 25.0, Fe 0.5 ~ 3.0 중량부 및 미량의 Si, Mn, P, C, S 등을 포함하는 합금으로 제조된다. 이때 상기 Ni는 잔유응력에 의한 균열 및 부식에 의한 균열에 대한 완전한 면역성을 갖기 위해서는 적어도 65중량부 이상 함유되어야 하며, 80중량부 이상 함유된 경우에는 상대적으로 다른 금속들의 혼합비가 저하되므로 바람직하지 않다. 그리고 Cr은 내산화성과 내열성이 우수한 금속으로 적어도 6.0중량부 이상은 함유되어야 Cr에 의한 내열성 상승효과를 얻을 수 있다. 반면 Cr이 15중량부 이상 함유된 경우에는 Cr이 F와 반응하여 CrF2로 녹아버릴 우려가 있다. 또 Mo도 내열성이 우수한 금속으로 적어도 15중량부 이상 함유되어야 Mo에 의한 내열성 향상효과를 얻을 수 있으며, 25중량부 이상 함유된 경우에는 오히려 히팅튜브(20)의 내열성이 저하된다.
그리고 상기 히팅튜브(20)는 상기 합금소재를 사용하여 원심주조법으로 성형된다. 원심주조법은 용융금속을 주입 응고시킬 때 주형을 고속으로 회전하여 그 원심력을 이용하는 것으로, 이러한 원심주조법에 의해 성형된 제품은 기공이 없으며 조직이 치밀하다. 따라서 본 발명에 의한 히팅튜브(20)는 종래의 압연이나 인발 등의 방법으로 제조된 히팅튜브(20)에 비해 조직이 치밀하므로, 고온으로 장시간 가열하여도 금이 가는 등 손상되지 않는다. 또한, 원심주조법으로 성형하는 경우에는 종래 압연 등의 방법에 비해 제작시간이 단축되므로 제품의 코스트도 절감된다.
실시예 1
Ni 68.0, Cr 8.0, Mo 22.5, Fe 1.5 중량부 및 미량의 기타 금속을 포함하는 합금소재로 원심주조하여 직경이 대략 110Φ인 히팅튜브를 제조하여, 내식성을 테스트하였다. 그리고 그 결과를 다른 합금소재로 제조된 히팅튜브와 비교한 결과 <표 1>과 같았다. 이때에는 히터의 온도를 1000℃로 하여 HF의 함량이 90%정도인 폐가스를 144시간 계속하여 처리한 후, 히팅튜브의 두께 감소량을 측정하였다.
두께 삭감량(㎜)
실시예 1 0.18
242 ALLOY 0.3
230 ALLOY 1.8
C-22 ALLOY 2
<표 1>을 통해 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 의한 히팅튜브는 다른 소재로 된 히팅튜브에 비해 두께 삭감량이 상당히 미미하였으며, 이로 부터 본 발명에 의한 히팅튜브는 내식성이 상당히 우수함을 알 수 있다.
한편, 필요에 따라서는 적어도 상기 히팅튜브(20)의 내측면에는 알루미나(Al2O3)가 코팅된다. 상기 알루미나는 플라즈마 코팅 등의 방법으로 코팅되며, 이러한 알루미나 코팅층에 의해 히팅튜브의 내식성과 내열성이 향상된다.
이와 같은 본 발명에 의한 히팅튜브는 Ni-Cr-Mo 합금으로 제조되어 종래의 히팅튜브에 비해 내열성과 내식성이 우수하며, 특히 원심주조법으로 제조되어 조직이 치밀하므로 고온에서 장시간 사용하여도 손상되지 않는다.
이상에서와 같이 본 발명에 의하면, 내식성과 내열성이 우수할 뿐만 아니라 원심주조법으로 성형되어 조직이 치밀하므로 장시간 고온으로 가열하여도 손상되지 않아 수명이 연장되며, 코스트도 저렴한 새로운 구성의 가스 스크러버의 히팅튜브가 제공된다.
도 1은 본 발명에 의한 가스 스크러버를 보인 개략도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10. 케이스 20. 히팅튜브
30. 히터 40. 스크러버

Claims (2)

  1. 폐가스가 유입되는 유입구(12)와 배출구(14)가 형성된 케이스(10)와, 상기 유입구(12)를 통해 유입되는 폐가스가 그 내부로 공급되도록 상기 케이스(10) 내에 설치되는 히팅튜브(20)와, 상기 히팅튜브(20)와 케이스(10) 사이에 설치되어 히팅튜브(20)로 공급되는 폐가스가 가열산화되도록 히팅시키는 히터(30)를 포함하여 이루어진 가스 스크러버(40)에 있어서, 상기 히팅튜브(20)는 Ni 65.0~80.0, Cr 6.0~15.0, Mo 1.5~25.0 중량부 포함하는 합금재료를 원심주조법으로 성형하여 이루어지며, 적어도 내측면이 알루미나(Al2O3)로 코팅된 것을 특징으로 하는 히팅튜브(20).
  2. 삭제
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100648268B1 (ko) * 2004-10-07 2006-11-23 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조에 사용되는 배기 시스템 및 이를 이용한기판 처리 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4788036A (en) * 1983-12-29 1988-11-29 Inco Alloys International, Inc. Corrosion resistant high-strength nickel-base alloy
KR0122078B1 (ko) * 1988-03-03 1997-12-04 하 하인리히, 우 호이프너 니켈-크롬-몰리브덴 합금
KR19980074081A (ko) * 1997-03-21 1998-11-05 김동수 배기가스 처리용 가스 스크러버
KR20000021475A (ko) * 1998-09-29 2000-04-25 윤종용 반도체소자 제조용 화학기상증착장치의 가스스크러버

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4788036A (en) * 1983-12-29 1988-11-29 Inco Alloys International, Inc. Corrosion resistant high-strength nickel-base alloy
KR0122078B1 (ko) * 1988-03-03 1997-12-04 하 하인리히, 우 호이프너 니켈-크롬-몰리브덴 합금
KR19980074081A (ko) * 1997-03-21 1998-11-05 김동수 배기가스 처리용 가스 스크러버
KR20000021475A (ko) * 1998-09-29 2000-04-25 윤종용 반도체소자 제조용 화학기상증착장치의 가스스크러버

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