KR100478548B1

KR100478548B1 - 물 처리 매체의 재생

Info

Publication number: KR100478548B1
Application number: KR10-1999-0042462A
Authority: KR
Inventors: 유차우차우
Original assignee: 이우 차우 차우
Priority date: 1998-10-02
Filing date: 1999-10-02
Publication date: 2005-03-23
Also published as: CN1250748A; CA2283056C; ATE309962T1; EP0992459A2; CN101092253A; US6231763B1; JP2000107751A; DE69928348D1; CA2283056A1; US20010009237A1; DE69928348T2; EP0992459B1; CN100334004C; US6042729A; HK1027087A1; KR20000028789A; US6447678B2; CN101092253B; EP0992459A3

Abstract

내부에 하나 이상의 매체를 가지는 물 처리 유닛을 포함하고, 물의 유체 유동이 개시될 때 처리 매체에 난류와 마모를 제공하여 매체상에 오염물 막뿐만 아니라 가벼운 고형 오염물을 매체로부터 청소하는 물처리 매체의 재생이 개시되어 있다. 이것은 매체의 작동을 매우 향상시키고 그 수명을 연장시킨다. 게다가, 처리 매체의 더욱나은 재생을 위하여, 개시된 물 처리 유닛은 단지 서비스(service), 백워싱(backwash), 플러시(flush), 차단(off) 및/또는 우회(bypass) 작동 모드 사이의 많은 위치중 하나를 통과해 회전될 수 있다.

Description

물 처리 매체의 재생{REGENERATION OF WATER TREATMENT MEDIA}

본 출원은 1998년 2월 18일에 출원된 출원 번호 09/025,231의 일부계속출원이다.

본 발명은 물 처리 매체의 재생에 관한 것으로서, 특히 하나 이상의 매체를 가지며 상기 매체의 선택적인 재생을 위한 밸브를 가진 물 처리 유닛 및 상기 매체의 재생방법에 관한 것이다.

하나 이상의 유체 처리 매체를 사용하는 유체 처리 시스템은, 물과 같은 다양한 유체의 처리를 통해 상기 유체로부터 다양한 불순물과 오염물을 제거하기 위하여 과거부터 사용되어왔다. 이런 시스템중 일부에서는, 다양한 상이한 처리 매체가 상호간에 일련의 관계로 사용되므로, 예컨데 하나의 매체가 연속되는 아래의 매체에 유익한 영향을 미친다. 예컨데, 헤스켓(Heskett)에게 허여된 U.S 특허 제5,415,770호에는, 활성 탄소 및/또는 이온 교환 매체와 같은 다른 하류 물 처리 매체에 물을 가하기 전에, 구리 및 아연의 합금과 같은 미세하게 분쇄된 금속이 상류의 처리 매체로서 사용되어 잔류 염소와 같은 화학성분을 제거할 수 있다. 상기 염소의 제거는 최종 생산물의 질에 유익할 뿐만아니라, 최후의 두개의 매체의 기능 및 수명을 향상시킨다.

종래의 시스템에서, 몇 개의 각각의 매체가 물리적으로 서로 분리된 몇 개의 별개의 유닛에 종종 위치되고 유체는 연속적인 방식으로 상기 별개의 유닛을 통과한다. 이런 각각의 유닛은 개별적으로 제공될 수 있으나 공간 및 재료를 요구한다. 몇 개의 각각의 매체가 단일의 컨테이너 또는 탱크에 함유되는 경우엔, 특히 각각의 매체 입자의 무게 및/또는 크기의 상이함 때문에, 그들이 서로 독립된 상태를 유지하는 것은 어렵다. 심지어 그들이 서로 독립된 상태를 유지할 수 있을 지라도, 동일한 탱크 내에 있는 각각의 매체의 배치는, 서로에 대한 위치관계 때문에 나머지 매체를 교체하지 않고 하나의 매체만을 제공하거나 교체하는 것을 물리적으로 어렵게 한다. 특히 샤우어 헤드 장착 유닛(shower head mounted unit)과 같은 수도꼭지가 장착된 유닛 상부의 소형 카운터에 있어서, 다른 단점은 시스템 및 각각의 매체의 수명을 상당히 연장할 수 있는 매체의 헹굼(rinsing) 또는 백워싱(backwashing)을 허용하는 설비가 일반적으로 불가능하다는 것이다.

많은 물 처리 유닛에 있어서의 다른 단점은 서비스 동안에 처리 매체를 통한 유동이 일반적으로 매체를 압축하는 방향으로 발생한다는 것이다. 그래서, 매체에 의해 제거된 먼지 또는 오염물이 매체내에 잡혀지고 축적되어 결국엔 매체를 막거나 또는 처리 기능을 방해한다는 것이다. 이것이 발생할 때, 매체의 수명은 끝나며 매체를 교체해야 한다.

발명의 목적은 앞서 언급한 단점을 피하거나 또는 제거하는 것이다. 본 발명에 있어서, 유닛의 일부인 효과적인 제어 밸브를 가진 꽉 찬 다중 매체 유체 처리 유닛이 제공되며, 유닛의 준비된 서비스 및 유닛내에 많은 상이한 매체의 사용을 허용한다. 본 발명에 있어서, 상기 유닛의 수명은 상당히 연장되고, 효과적인 매체 량이 서로에 대해 여러 매체의 선택적인 배치에 의해 감소되며, 처리 매체의 주기적인 헹굼 및/또는 백워싱를 제공함으로서, 그리고/또는 정상적인 유체 유동이 시작될 때에 매체의 자동 재생에 의해 일부의 매체에 유해할 수 있는 조성물을 제거한다.

더우기, 유닛의 매체를 함유하는 부분은 헹굼 및 백워싱을 일으키기 위하여 단순히 수동으로 회전될 필요가 있다. 필요할 때, 본 발명의 유체 처리 유닛에 있어서, 유닛 및 그 내부 처리 매체의 교체 및 제공이 용이하다.

본 발명의 하나의 주요 양상에 있어서, 유닛은 회전가능한 밸브를 포함하고, 상기 밸브는 실질적으로 원판 형상 밸브 판, 원판 형상 밸브 판의 일면상의 외면과 상기 외면내의 개구로부터 상기 판 내로 연장되는 복수의 통로를 포함하며, 적어도 통로의 일부는 상기 밸브 판의 두께를 관통해 연장되어 상기 외면에 대향되는 판의 면과 연통된다. 원판 형상 밸브 판은 상기 외면까지 연장되는 축 주위로 상당한 각도로 회전가능하다. 상기 밸브 판 외면에 인접한 외면을 가지는 밸브 하우징은 그 내부에 밸브 하우징 외면까지 개방된 다수의 통로를 또한 가진다. 제 1 밸브 하우징 통로는 유체 공급원과 연통되고, 제 2 밸브 하우징 통로는 밸브 하우징의 유체의 방출구와 연통되고, 제 3 통로는 밸브 하우징의 배수로와 연통된다. 상기 밸브 판은, 유체가 밸브 하우징내의 제 1 통로로부터 밸브 판을 관통하는 하나의 통로까지 그리고 밸브 판을 관통하는 다른 통로로부터 밸브 하우징의 방출구와 연통하는 밸브 하우징 내의 제 2 통로까지 공급되는 제 1 위치와, 유체가 밸브 하우징 내의 다른 통로로부터 밸브 판을 관통하는 다른 통로까지 그리고 밸브 판을 관통하는 다른 통로로부터 밸브 하우징의 하우징과 연통하는 밸브 하우징내의 제 3 통로까지 공급되는 제 2 위치 사이에서, 축 주위로 회전할 수 있다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 외면들은 대체로 평면이고 서로에 대해 평행하고, 상기 판의 축은 상기 평면에 대해 대체로 수직이다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 밸브 판이 회전함에 따라 나머지 외면이 하나 이상의 외면에 대해 회전될 때, 하나 이상의 외면상의 다수의 밀봉체가 나머지 외면을 관통해 개방되는 통로중 하나와 선택적으로 일직선으로 정렬될 수 있다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 밀봉체는 O-링 및/또는 스프링이 장전된 개스킷을 포함한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 또한 상기 유닛은 회전가능한 밸브와 함께 하나 이상의 유체 처리 매체를 포함하는 하우징을 포함한다. 상기 밸브 판이 제 1 위치에 있을 때, 유체는 밸브 하우징내의 유체 공급원으로부터의 제 1 통로로부터 밸브 판을 관통하는 하나의 통로 및 유체 처리 매체까지 그리고 유체 처리 매체로부터 밸브 판을 관통하는 다른 통로 및 밸브 하우징의 방출구와 연통하는 밸브 하우징내의 제 2통로까지 공급되어, 유체 처리 매체에 의해 처리된 유체를 방출구를 통해 제공된다. 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때, 유체는 밸브 하우징내의 다른 통로로부터 밸브 판을 관통하는 다른 통로 및 유체 처리 매체까지, 그리고 유체 처리 매체로부터 밸브 하우징을 관통하는 다른 통로 및 밸브 하우징의 배수로와 연통되는 밸브 하우징내의 제 3 통로까지 공급되어, 유체 처리 매체를 백워싱한다.

본 발명의 주요 다른 양상에 있어서, 또한 상기 밸브 판은, 유체가 유체 공급원으로부터 유체 처리 매체를 거쳐 매체를 헹구고 드레인까지 흐르는 헹굼위치, 상기 유닛을 통한 유체 유동이 차단되는 차단 위치 또는 유체가 유체 공급원으로 부터 밸브 판을 거쳐 밸브 하우징의 유체 방출구까지 유체 처리 매체 주위로 우회되는 우회 위치를 포함하는 하나 이상의 추가적인 위치까지 회전될 수 있다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때, 유체는 유체 공급원으로부터 유체 처리 매체까지 공급되어 유체 처리 매체를 백워싱한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 밸브 하우징은 유체 처리 매체의 재생을 위한 염수원과 연통하는 통로를 포함하고, 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때, 유체는 염수원으로부터 마지막에 언급된 통로를 거쳐 유체 처리 매체까지 공급되어, 유체 처리 매체를 재생한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 유체 처리 매체를 함유하는 하우징은 밸브 판에 고정되고, 이로 인해 밸브 판은 하우징의 회전에 의해서 제 1 위치와 제 2 위치 사이에서 회전된다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 유체 처리 유닛은 소정의 체적을 가지는 챔버를 가지는 하우징과, 처리될 유체가 매체를 통해 흐르지 않을 땐 챔버의 소정의 체적보다 상당히 작은 체적을 점유하는 상기 챔버내의 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체를 포함한다. 상기 챔버는 처리될 유체를 챔버에 및 챔버 내의 유체 처리 매체 아래에 유입시키는 입구와, 처리된 유체를 챔버로부터 방출하기 위하여 유체 처리 매체의 챔버 하류에 있는 출구를 가진다. 상기 유닛은, 입구로부터 처리될 유체의 유동이 시작될 때, 제어된 방식으로 성긴 유체 처리 매체를 상승시켜 매체로부터 오염물을 씻어내어 제거하며, 유체 유동이 계속되는 동안에 매체를 부유시키며, 유체 유동이 중단될 땐 매체가 챔버의 바닥에 가라앉는 것을 허용하도록 구성되고 배치된다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 챔버는 최대 폭보다 큰 높이를 가지며, 유체 유동이 시작될 때 매체가 챔버내에서 상승되는 비율을 감소시키기 위하여 챔버는 챔버의 높이 중간에 챔버의 최대 폭보다 상당히 작은 부분을 하나 이상 포함한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 부분의 단면적은 챔버의 최대 폭의 단면적의 약 5 내지 50% 이며, 더욱 양호하게는 약 10% 이다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 다수의 부분이 챔버의 길이를 따라 서로 서로 이격되어 있다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 추가적인 입구는 챔버의 중간 높이에 위치 설정되고, 처리될 추가적인 유체를 좁은 폭 부분에 인접한 챔버로 유입시키기 위하여 좁은 폭 부분과 관련된다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 좁은 폭 부분은 챔버내에 위치된 슬리브를 포함한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 매체는 본질적으로 구리, 아연 및 그 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택된 미립자 금속이며, 바람직하게는 구리 및 아연의 합금이다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 유체의 처리를 시작할 때, 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체를 급속하게 재생하는 방법은, 매체를 부유시키기에 충분하지 않은 양까지 유체 유동을 정지시키거나 또는 감소시킴으로서 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체를 앞선 처리에 이어 층내에 가라앉히는 것, 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체를 상기 층으로부터 상승시키기에 충분히 크며, 반면에 매체가 상승되는 비율을 제한하여 상기 층상에 이미 축적된 오염물을 완전히 분리하여 씻어내는 유동으로서 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체 층 아래에서 처리될 유체의 유동을 개시하는 것과, 유체의 처리 동안에 성긴 유체 처리 매체가 유동하는 유체내에 부유된 상태를 계속해서 유지하기에 충분한 방식으로, 처리될 유체의 유동을 계속해서 유지하는 것을 포함한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 방법은 유체 유동이 시작되는 동안에 유동로에 걸쳐서 하나 내지 두 개 이상의 구획에서 매체가 상승되는 비율을 선택적으로 제한하는 것을 포함한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 방법에서 상기 매체가 상승되는 비율은, 층의 최대 폭의 단면적의 약 5 내지 50%, 더욱 양호하게는 약 10% 인 단면적을 거쳐 상승된 처리 매체를 통과시킴으로써 제한된다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 상기 방법은 유체 유동의 개시 동안에 추가적으로 처리될 유체를 유동로에 걸쳐서 하나 이상의 구획에 유입시키는 것을 포함한다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 본 발명의 방법에서 상기 매체는 본질적으로 구리, 아연 및 그 합금으로 구성된 그룹으로부터 선택된 미립자 금속이며, 바람직하게는 구리 및 아연의 합금이다.

본 발명의 다른 주요 양상에 있어서, 처리될 유체는 물이다.

본 발명의 상기 목적 및 다른 목적, 특징 및 장점은 후술할 상세한 설명을 통해 더욱 명백히 이해될 것이다.

다중 매체 유체 처리 유닛(10)은 도 1 내지 도 4에 도시된다. 양호한 적용에 있어서, 상기 유닛(10)은, 시의(municipal) 물 공급원 또는 다른 휴대용 물 공급원의 처리를 위한 샤우어 헤드 유닛과 같은 수도꼭지가 장착된 유닛이거나, 카운터 유닛 상부 또는 하부의 카운터일 수 있다.

바람직하게는, 상기 유닛(10)은 외부 하우징(12)을 가지면, 외부 하우징(12)은 그 내부에 두 개의 챔버(14,16)를 가지고, 상기 챔버는 각각의 챔버 내부에 바람직하게는 상이한 물 처리 매체(18,20)을 함유한다. 바람직하게, 상기 내부 챔버(14)는 내부 수직 원통형 측벽에 의해 규정된다. 천공 판(24)은 내부 챔버(14)의 하부에 인접하여 위치되고, 차례로 그것은 ,상기 유닛을 통한 어떠한 유체 유동도 없을 때, 처리 매체(18)을 지지하는 메시 스크린(mesh screen)(26)을 위한 지지 판을 제공한다.

복수의 수직 슬롯(28)은 측벽(22)의 상부에 위치된다. 도 2에 도시된 바와 같이, 바람직하게, 상기 슬롯(28)의 폭은 측벽의 두께에 걸쳐 그리고 챔버(16)를 향하여 정상의 유체 공급 유동방향으로 감소하므로, 챔버(14)로부터 챔버(16)로의 정상의 서비스 작동하에서 슬롯의 유체 배출측에, 최소 슬롯 폭이 생긴다. 상기 슬롯(28)의 최소 폭은, 챔버(16)내의 매체(20)의 최소 크기 뿐만아니라 챔버(14)내의 미세하게 분쇄된 물 처리 매체(18)의 최소 크기보다 약간 좁게 선정된다. 이것은, 백워싱시에 슬롯에 부딪칠 수 있는 매체(18)가 챔버(14)내로 백워싱되는 경향이 있기 때문에 공급 작업 동안에 매체(18)가 챔버(14)를 통과하는 것을 방지하고, 영구히 슬롯내에 매체가 고착될 가능성을 최소화시킨다. 또한, 이것은 백워싱중에 매체(20)가 챔버(14) 및 매체(18)로의 손실을 방지한다.

상기 외부 환형 챔버(16)는 내부 챔버(14)를 둘러싸고 측벽(22) 및 외부 측벽(30)에 의해 한정된다. 바람직하게, 바닥 판(32)은 외부 측벽(30) 사이의 전체 폭을 가로질러 연장되고 그와 함께 일체로 형성된다. 상기 바닥 판(32)은 도 3 및 도 4의 화살표에 의해 도시된 바와 같이 상기 유닛용 유체 입구를 규정하는 개구(34)를 포함한다. 또한, 상기 바닥 판(32)은 처리될 유체를 수용하기 위하여 그리고 유체를 유체 처리 매체(18)에 통과시키기 위하여 챔버(14)의 하부를 규정한다. 게다가, 내부 측벽(22) 및 외부 측벽(30) 사이의 바닥 판(32)은 외부로 연장되는 복수의 슬롯(36)을 포함하며, 상기 슬롯(36)은, 상기 측벽(22)의 상부에 있는 수직 슬롯(28)에 관해 앞서 설명된 이유 때문에 그들이 유체 처리 매체(20)와 마주보는 측에서 넓어지고 그 배출측에서 좁아진다는 점에서, 수직 슬롯(28)과 유사하다.

또한, 상기 유닛(10)은 일반적인 디스크 형상 밸브 판(38)을 포함하고, 도1 , 도3 및 도4에 잘 도시된 바와 같이, 상기 밸브 판(38)은 외부 측벽(30)의 하부에 견고하게 장착된다. 바람직하게는, 상기 밸브 판(38)은 천공 지지 판(40)을 수용하기 위하여 도면에 도시된 바와 같이 위로 향한 컵 형상이다. 바람직하게는, 도 1, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 지지 판(40)은 쇼울더(41)에 위치하고, 지지 판(40)은 미세한 메시 스크린(42)을 지지하며, 상기 메시 스크린(42)의 메시는 챔버(14)의 바닥에 있는 스크린의 메시보다 미세하다. 예컨데, 메시 크기가 대략 0.5 미크론(micron)인 스크린(42)은 각각의 매체를 통과하거나, 또는 처리된 유체와 함께 매체 및 슬롯(36)을 통과할 수 있는 가장 작은 입자 크기의 매체를 구성하는 매우 작은 미세 입자를 걸러 내는 것을 목적으로 한다. 이런 매우 작은 미세 입자는 미세한 메시(42)에 유지되어 하기에 설명될 플러시(flush) 사이클 동안에 상기 시스템으로부터 씻겨진다.

상기 컵 형상 밸브 판(38)의 평평한 원판 형상 바닥은 몇 개의 통로를 포함하며, 그 중 일부만이 도 1, 도 3 및 도 4에 도시되며, 모든 통로는 도 5에 도시된다. 상기 컵 형상 밸브 판(38)의 평평한 디스크 형상 바닥에 있는 통로는 그 바닥면(46)가지 개방되어 있다. 그들은 U-형상 우회로(52)와 도 5에 도시되고 밸브 판(38)을 관통하는 통로(48,49,40)를 포함한다. 상기 우회로(52)는 밸브 판(38)을 관통하지 않는다. 우회로의 양 단부는 밸브 판의 바닥면에 개방되어 있다.

또한, 상기 유닛(10)은 밸브 하우징(54)을 포함하며, 상기 밸브 하우징(54)은 하우징(12)의 바닥에 부착되고, 도 1, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 밸브 판 아래에 놓인다. 또한, 상기 밸브 하우징(54)은 바람직하게는 상향 컵 형상 본체를 제공하며, 상기 상향 컵 형상 본체는 그 내부에 컵 형상 밸브 판(38)을 수납하고 상기 컵의 상부에 수나사(56)를 포함한다.

또한, 하우징(12)의 바닥과 밸브 하우징 사이에 밸브 판(38)이 위치된 채로 하우징(12)의 바닥에 밸브 하우징을 결합시키기 위하여, 나사(60)를 가지는 커플링 링(58)은 밸브 하우징(54)의 수나사(56)상에 나사결합된다. 바람직하게는, 상기 하우징(12)의 바닥은 확대된 환형 쇼울더(62)를 가지며, 상기 환형 쇼울더(62)는, 링이 유닛 요소들을 서로 고정하도록 설치될 때, 밸브 하우징(54)의 상단부 및 커플링 링(58) 사이에 설치된다. 이러한 커플링 배치는 밸브 하우징(54)의 상부 및 하우징(12)이 서로에 대해 회전되는 것을 허용한다. 그러나, 밸브 판(38)은 하우징(12)에 고정되어 밸브 하우징(54)에 관해 상기 하우징과 함께 회전한다. 서로 끼워진 부분이 누설 방지 밀봉을 형성하도록 적합한 O-링(61,62,63)이 구비된다.

도 5에 도시된 바와 같이, 상기 유닛의 하우징 및 그 내부의 처리 매체를 향해 그리고 하우징 및 그 내부의 처리 매체로부터 유체의 유도를 위하여, 상기 밸브 하우징(54)은 많은 통로, 포트 및 밀봉체를 포함한다. 상세하게 이러한 포트 및 통로를 설명하기 전에, 도 5에서 주목해야 할 것은, 밸브 하우징(54)을 관통해 연결된 포트 또는 통로를 가지지 않는 밀봉체, 즉 " 막힌(blind)" 밀봉체가 굵은 검은 원으로 표시되어 있다. 이것과 대조적으로, "포트" 밀봉체는 도 5에 단지 윤곽으로 도시되고, 예컨데, 도 6에 도시된 바와 같이 포트 통로(P)의 상부에 있는 포트와 연결된다. 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 포트 밀봉체(S) 뿐만아니라 막힌 밀봉체는 바람직하게는 밸브 하우징(54)의 상측으로 향하는 면(64)내의 얕은 환형 리세스내에 위치된다. 대안으로, 도 7에 도시된 바와 같이, 개스킷(G)은 밸브 판(38)의 바닥면(46)에 대해 상측으로 스프링(L)에 의해 밀어부쳐질 수 있다. 도 7에 도시된 바와 같이, 개스킷 배치는, 밸브 판(38)이 하기에서 설명될 다양한 작동 모드를 통해 회전할 때, 스프링 장전된 개스킷(spring loaded gasket)이 더욱더 양호한 일정한 밀봉을 제공하므로 외면(46 및 64) 사이의 다소 정확하지 못한 공차에 대한 보상을 위해 유리하다.

도 1, 도3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 유체 입구(66)는 예컨데, 시의 물 공급원으로부터 밸브 하우징(54)내의 구획실(compartment)(68)에 물을 공급한다. 몇 개의 통로는 상기 구획실(68)로 연결되어 있어서 구획실(68)로부터 물을 수용하고, 매체와의 상호작용을 위하여 매체(18, 20)로 밸브 판(38)을 통해 물을 유도하거나 또는 상기 매체를 지나서 물을 우회시킨다. 구획실(68)로부터 공급 유체를 전달시키는 밸브 하우징(54)내의 통로 및 포트는; (a) 도 5a에 도시된 바와 같이 서비스 작동 모드 동안에 밸브 판(38)내의 통로(48) 및 매체에 처리될 공급 유체를 전달하는 통로(70) 및 그 포트(71); (b) 도 5b에 도시된 바와 같이 백워싱 작동 모드 동안에 밸브 판(38)내의 통로(49) 및 매체에 처리될 공급 유체를 전달하는 통로(72) 및 그 포트(73); (c) 도 5c에 도시된 바와 같이 플러시 작동 모드 동안에 밸브 판(38)내의 통로(48) 및 매체에 처리될 공급 유체를 전달하는 통로(74) 및 그 포트(75); 및 (d) 도 5e에 도시된 바와 같이 우회 작동 모드 동안에 밸브 판(38)내의 U-형상 우회통로(52)와 일직선으로 정렬된 통로(72) 및 그 포트(73)를 포함한다. 도 5에 관하여, 매체로부터 배출된 유체는; (a) 도 5a에 도시된 바와 같이, 서비스 작동 모드에서, 밸브 판(38)내의 통로(49)를 통해 밸브 하우징(54)으로부터 처리된 유체를 위한 포트(78) 및 배출 통로(79)로; (b) 도 5b에 도시된 바와 같이, 백워싱 작동 모드 동안에 배출을 위하여, 밸브 판(38)내의 통로(48)을 통해 밸브 하우징(54)내의 포트(80) 및 통로(81)로; (c) 도 5c에 도시된 바와 같이, 플러시 작동 모드에서, 밸브 판(38)내의 통로(50)를 통해 밸브 하우징(54)내의 포트(82) 및 그 배수로(83)로; 및 (d) 도 5e에 도시된 바와 같이, 우회 작동 모드에서, 밸브 판(38)내의 U-형상 우회통로(52)로부터 그리고 포트(84) 및 우회통로(85)를 통해 방출된다.

밸브 하우징(54)의 외면(64)내의 마지막에 언급된 포트와 결합된 포트 밀봉체 외에, 다양한 막힌 밀봉체(86 내지 90)는 도 5에 도시된 바와 같이 다양한 위치에 상기 외면(64)상에 위치된다. 상기 밸브 판(38)내의 다양한 통로는 어떤 작동 모드 동안에 막힌 밀봉체와 직선으로 정렬된다. 그러나, 이러한 밀봉체가 막혀있으므로 상기 밸브 판 통로를 통한 유동은 금지된다. 이러한 각각의 막힌 밀봉체(86 내지 90)는 밸브 판(38)내의 통로가 각각의 도 5a 내지 도 5e를 단순화하기 위하여 특정의 막힌 밀봉체와 일직선으로 정렬되도록 실제로 위치설정된 모드 개수에 따라 한정된다.

매체중 하나가 이온 교환 매체라면, 매체를 재생하기 위하여 순수한 물보다는 염수 용액을 사용하여 백워싱하여 주는 것이 바람직하다. 이 경우에, 적합한 염수 공급원(도시되지 않음)에 연결된 염수 통로는 통로(72)내로 연결될 수 있다. 이 경우에, 적합한 체크 밸브(V)가, 염수 공급원으로 서비스 공급 물이 범람하는 것 및/또는 구획실(68)내의 서비스 공급 물로 염수가 범람하는 것을 방지하기 위하여 염수 통로(72A)에 그리고 구획실 출구에 구비된다.

간단하게 이미 언급된 그리고 하기에서 자세히 언급될 백워싱 및 헹굼의 결과로 유체 처리 매체의 재생 외에, 상기 유닛이 시동될 때 마다, 본 발명의 유닛은 처리 매체(18)의 잦은 그리고 순간적인 재생을 행하도록 구성되고 배치된다. 이것은 유닛이 시의 물 공급원 또는 다른 휴대용 물 공급원의 처리를 위한 카운터 유닛 상부 또는 하부의 카운터인 경우에 유익하고, 또한 이것은, 사용에 있어서 초기의 물 유동은 어떠한 경우든지 버려지므로 유닛이 샤우어 헤드 유닛인 경우엔 더욱 유익하다. 그러한 사용에 있어서, 처리될 물은 통상 어떤 주기로 공급되거나 차단된다. 차단되면, 어떤 물도 처리되지 않고, 공급될 때 소비될 물이 처리된다. 특히, 처리 매체가 앞에서 언급된 U.S 특허 제5,415,770호에 개시된 것과 같은 미세하게 분쇄된 구리-아연 금속인 경우엔, 유닛이 정지되어 있는 동안에 매체상에 가라앉아 있는 가벼운 고형 오염물을 제거하기 위하여 초기 시동시에 간단히 그리고 자주 매체를 재생하는 것이 유리하다. 이러한 가벼운 오염물은 정지 동안에 그들이 매우 가볍기 때문에 안정된 처리 매체 층의 상부면상에 전형적으로 가라앉고, 그러므로, 무거운 금속 입자보다 중력에 의해 더욱 느리게 가라앉는다. 반대로, 역동적인 유체 유동이 시작될 때, 본 발명에서처럼, 이러한 가벼운 고형 오염물은 무거운 금속 입자 매체(18)가 움직이는 것 보다 더욱더 빠르게 매체(18)로부터 멀리 이동하고, 가벼운 오염물은 시스템으로부터 배출될 것이다.

특히, 물 처리 전에 표면을 덮고 있는, 염소로부터 생겨난 염 염화물(chloride salt)와 같은, 산화물을 제거하기 위하여 매체 표면의 플러싱이 유익하며, 이로 인해 표면은 새롭게 도달하는 산화 오염물과 최대로 반응하는 정도까지 다시 노출된다. 금속 입자의 표면으로부터 산화체(oxidant)의 제거는 미립자 금속 매체의 수명을 6 개월에서부터 3년까지 크게 향상시킨다. 동시에, 빈번한 재생은 30 내지 50% 만큼의 처리를 완성하기 위하여 요구되는 금속 미립자 매체의 양을 감소시킨다.

이러한 초기의 상당한 재생을 성취하기 위하여, 챔버(14)는 키가 크고 챔버의 최대 폭이 비교적 좁다. 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 유닛의 시동시에, 이것은, 지지 판(24)에 있는 입력 단부로부터 슬롯(28)을 통한 유체 배출까지 챔버를 통한 유동률이 매체(18)를 점차적으로 부유시키고 여기시키기에 충분하며 이로 인해 입자는 거칠게 서로를 마모시켜 입자상의 산화생성물 막을 제거한다는 것을 보장한다.

시동시에, 이와 같은 입자의 초기 마모 및 난류를 최대화하기 위하여, 입자의 상승은 느리게 진행되고 억제된다. 이것은 본 발명의 하나 이상의 슬리브(91,92,93)에 의해 달성되며 상기 슬리브(91,92,93)는 챔버(14)내에 설치된다. 하부 슬리브(91)는 바람직하게는 단순한 원통이며, 도 3 및 도 4에 화살표로 도시된 바와 같이 물 처리 매체(18)상에 난류 효과를 강화시켜 챔버(14)내의 더욱 높은 높이에서 처리되도록 하기 위해 유입 유체를 주입하기 위한 입구 오리피스(94)를 만들도록, 그 원통의 상부엔 구멍이 형성되어 있다.

상기 슬리브(91)의 외경은 바람직하게는 챔버(14)의 내부 측벽(22)의 내경보다 다소 작으므로, 유체 입구 저부 판(24)으로부터 슬리브(91) 둘레로 상측으로 입구 오리피스(94)까지 환형 채널(96)을 제공한다.

다음 상부 슬리브(92)의 외경은 또한 바람직하게는 내부 측벽(22)의 내경보다 다소 작으므로, 환형 채널(97)이 또한 제공되어 슬리브(92)의 상부 및 최상부 슬리브(93)의 하부 사이의 입구 오리피스(98)까지 챔버 위로 유입 유체를 유도한다.

상기 슬리브(92,92)의 주요 목적은 상기 챔버의 측벽(22)로부터 내부로 연장되는 하나 이상의 이격된 선반(shelves)(99)을 제공하는 것이다. 도 1, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 선반(99)들은 개구(100)를 지나서 챔버의 높이를 따라 이격된 위치에 챔버(14)내의 상당히 축소된 단면적을 제공하며, 상기 개구(100)는 챔버(14)의 최대 단면적보다 훨씬 좁다. 상기 개구(100)가 없다면, 시동시에, 미립자 매체(18)는 챔버(14)의 상부에 급속하게 부유될 것이고 이로 인해 밀접하게 접촉하여 널리 서로를 마모시키는 최대 성능을 발휘하지 못할 것이다. 그러나,시동시에, 더욱더 작은 단면적을 가진 개구(100)는 미립자 매체가 상승되는 비율을 감소시켜 입자 사이에 더욱더 밀접한 관계를 제공한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 개구들에 인접하여 유체를 분출하는 오리피스(94,98)와 함께 좁은 개구(100)는 유동에 상당한 난류 및 미립자 물 처리 매체(18)의 부유상태를 발생시킨다.

상기 챔버(14)의 최대 직경은 광범위하게 변할 수 있으나, 전형적으로 1 인치의 몇 분의 1과 몇 피트 사이에 있다. 중요한 것은 챔버(14)의 최대 단면적에 대한 개구(100)의 단면적과의 관계이다. 소정의 재생을 달성하기 위해서, 상기 개구 면적은 챔버(14)의 최대 단면적의 약 5 내지 50%, 양호하게는 10% 이다.

외부 챔버(16)내의 매체(20)는 많은 형태중 어떠한 것이든 취할 수 있다. 매체는 물로부터 경도를 제거하기 위한 양이온 수지, 또는 바람직하지 못한 질산염 또는 유기 오염물을 제거하기 위한 음이온 수지와 같이, 바람직하지 못한 이온을 제거하기 위하여 이온 교환 수지일 수 있다. 또한, 매체는 기술분야에서 공지된 다양한 냄새, 맛 또는 다른 유기 오염물을 제거하기 위한 미립자 활성 탄소일 수 있다. 실제로, 물 처리 매체(20)가 이온 교환 수지 또는 활성 탄소중 하나인 경우에, 염소는 이온 교환 매체 또는 활성 탄소에 해로운 영향을 미치므로, 상류 매체(18)로서 미세하게 분쇄된 미립자 금속을 사용하면 물로부터 잔류 염소를 제거함으로써 나중에 접촉된 매체의 수명을 연장시킬 수 있다.

본 발명의 물 처리 유닛의 작동은 상기 설명으로부터 당업자에게 명확할지라도, 작동에 대한 상세한 설명을 할 것이다.

특히 도 1과 관련하여, 유체 처리 유닛(10)은, 앞서 진행한 처리 작업에 이어서 다음 처리 작동을 위해 시작을 기다리는 정지 상태에 있다. 이 상태에선, 상기 유닛은 도 5a에 도시된 바와 같이 서비스 작동 모드 상태이므로 유체 유동, 예컨데 시의 물 공급이 다시 시작되자마자, 상기 유닛은 다음 처리 작동을 시작하도록 준비된다. 정지 상태에선, 어떠한 물 유동도 상기 유닛을 통해 발생하지 않고, 도 1에 도시된 바와 같이, 물 처리 매체(18), 예컨데 앞에서 언급된 U.S 특허 제5,415,770호에 개시되고 설명된 미세하게 분쇄된 미립자 금속 입자들은 챔버(14)의 바닥에 가라앉아서 비교적 밀집되고 압축된 층을 형성한다. 상기 유닛은 앞선 처리 작업에 이어지는 정지 상태로 돌아갈 때, 상당히 무거운 미립자 금속은 급속하게 챔버(14) 바닥에 가라앉아서 도 1에 도시된 층을 형성한다. 그러나, 금속 입자보다 가벼우며 그리고 앞선 처리 작업이 중단될 때 나타날 수 있는 대부분의 다른 고형 오염물은 느린 속도로 가라앉으며 금속 입자 층의 상부에 쌓인다.

상기 유닛이 서비스 작업 모드에 있는 이러한 정지 상태에서, 상기 밸브 판(38)은 도 5a의 위치 A까지 회전되어 밸브 판(38)은 유체 유동이 다시 시작될 때 서비스 위치에 있게 된다. 상기 서비스 위치A에서, 밸브 판(38)내의 통로(48)는, 밸브 하우징(54)내의 통로(70) 및 그 포트(71)와 일직선으로 정렬되고 유동이 개시될 때 처리용 매체로 처리될 서비스 유체를 유도할 준비를 한다. 밸브 판(38)내의 통로(49)도 또한 밸브 하우징(54)내의 포트(78) 및 통로(79)와 일직선으로 정렬되어 매체로부터 처리된 유체를 유도하여 밸브 하우징(54)으로부터 배출한다.

유체 유동이 처리를 위해 시작될 때, 유체는 유체 공급원(도시되지 않음), 예컨데 시의 서비스 물 공급원으로부터 공급 도관(66)에 들어가고 물은 압력 하에서 밸브 하우징(54)의 바닥에 있는 구획실(68)을 가득 채운다. 도 3에 도시된 바와 같이, 처리될 유체는 위로 밸브 하우징(54)내의 통로(70) 및 포트(71), 개구(34), 챔버(14)내의 바닥 판(32) 위의 공간을 통해 흐르고, 그리고 지지 판(24) 및 메시 스크린(26)을 통해 위로 흐르며 유체 처리 매체(18)내로 들어간다.

이 초기 유동은, 매체 층의 표면으로 돌아가 미리 가라앉아 있을 수 있는 가벼운 고형 오염물을 유닛으로부터 최종적으로 배출시키기 위하여 위로 챔버(14)의 상부에 있는 수직 슬롯(28)을 통해 외부로 플러싱함으로써 앞에서 설명된 바와 같은 매체(18)의 자동적인 청소를 개시한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 초기 유동은 또한 상기 층내의 미세하게 분쇄된 미립자 매체(18)를, 도 1에 도시된 미리 가라앉아 있었던 정지 위치로부터 상측으로 이동시키는 경향이 있다. 이러한 상향 유동은, 환형 채널(96,97)을 지나 선반(99)에 인접한 입구 오리피스(94,98)를 통해 분출된 입력 물로부터의 분출 작용과 결합하며 그리고 또한 선반 및 좁은 개구(100)에 의해 미립자 매체(18)의 상향 유동이 제한되면서 도 3에 화살표에 의해 지시된 바와 같이 매체내의 상당한 난류를 발생시키고 입자들 서로간에 마모를 발생시킨다. 선반(99)에 의해 제한되지 않으면, 미립자 매체(18)는 최소한의 난류 및 마모를 가지면서 순식간에 챔버(14)의 상부까지 유동할 것이다.

시작될 때에, 미립자 매체(18)내의 상당한 교반 및 난류는 미립자 금속 매체의 표면상에 이미 축적되어 있었던 산화 오염물, 예컨데 염소로부터 생겨난 염 염화물을 큰 비율로 제거한다. 이것은, 각각의 개시 초기에 시스템으로부터 이미 제거된 오염물을 플러시하고, 처리될 유체의 다음 분량안에 있는 바람직하지 못한 오염물의 제거를 최대화하는 미립자 매체(18)상에 깨끗한 금속 표면을 제공하는 자동 청소 작용으로 귀착된다. 예컨데, 매체(18)의 미립자 금속 표면상에 이미 쌓여진 산화 생성물의 50% 내지 90%는 시동 후 몇 초내에 제거된다. 이것은 예컨데 처음 몇 초동안의 물 유동이 어떤 경우든지 버려지는 샤우어 헤드 처리 설치에 특히 바람직하다.

물 유동이 계속됨에 따라, 도 4에 도시된 바와 같이, 모든 미립자 매체(18)는 결국에는 챔버(14)의 상부에 부유되며, 여기서 물이 챔버를 통과함에 따라 연속되는 물 유동을 계속해서 처리할 것이다. 일단 부유된 미립자 매체(18)에 의해 처리되면, 물은 측벽(22)의 상부에 있는 수직 슬롯(28)을 통해 유동되고 챔버(16)내의 매체(20)을 통해 아래로 흘러내린다. 이미 설명된 바와 같이, 상기 매체(20)는 다양한 이온 교환 수지 및/또는 활성 탄소를 포함하는 많은 형태중 어느 것이든 취할 수 있다.

도 4의 화살표에 의해 지시된 바와 같이, 매체(20)를 통과한 후에, 처리된 물은 바닥 판(32)내의 홈이 파진 개구(36)을 지나 메시 스크린(42) 및 지지 판(40), 밸브 판(38)의 통로(49), 및 밸브 하우징내의 포트(78) 및 통로(79)를 통과해서 도 5a에 도시된 바와 같이 밸브 하우징으로부터 배출된다. 하기에서 서술되겠지만, 슬롯(36)을 통과할 수 있는 매우 미세한 오염물은 차후의 플러싱을 위한 미세한 메시 스크린(42)상에 축적될 것이다. 통로(50)는 도 5a에 도시된 바와 같이 밸브 하우징(54)의 외면(62)상에 있는 막힌 밀봉체(86)와 일직선으로 정렬되므로 어떠한 유동도 밸브 판(38)내의 통로(50)를 통과하지 못할 것이다. 더욱이, 도 5a에 도시된 바와 같이, 밸브 판의 개구들이 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 비-기능성, 비활동 위치와 일직선으로 정렬되는 비작동 위치까지 밸브 판이 회전되므로, 도 5a에 도시된 바와 같이 어떠한 유동도 U-형상 우회로(52)를 통과하지 못한다.

앞에서 서술된 바와 같은 본 발명의 자동 청소 특성에도 불구하고 또는 그것이 없는 경우에, 연장 사용 기간 후에 매체중 하나 또는 두 개를 주기적으로 상기에 서술된 자동 청소 특성외에 다른 방법으로 재생하는 것이 바람직하다.

매체를 백워싱시키는 것이 요구될 때, 해야할 것은 하우징(12) 및 하우징의 바닥에 고정된 밸브 판(38)을 도 5a에 도시된 서비스 위치 A로부터 도 5b에 도시된 백워싱 위치 B까지 회전시키는 것이다. 밸브 하우징(54)은 이런 작동 모드 사이의 하우징의 단순한 회전 동안에 정지상태를 유지한다. 하우징(12) 및 밸브 판(38)이 도 5b에 도시된 바와 같은 백워싱 위치 B까지 회전될 때, 도 1, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 공급 유체는 입구(66)를 통해 구획실(68)내로 계속해서 흐른다. 그러나, 밸브 판(38)내의 통로(49)는 밸브 하우징(54)내의 통로(72) 및 그 포트(73)과 일직선으로 정렬되고, 밸브 판(38)내의 통로(48)는 밸브 하우징(54)상의 포트(80) 및 통로(81)와 일직선으로 정렬된다. 따라서, 공급 유체는 구획실(68)로부터 통로(72) 및 그 포트(73), 및 통로(49)를 통해 상측으로 유동한다. 상기 유체는 그 흐름이 역전되어 지지 판(40) 및 메시 스크린(42)을 통과해 위로 흐르며 스크린상에 축적될 수 있는 미세 입자를 제거하며 이 미세 입자들은 차후 통로(50)를 통해 플러시될 수 있다. 도 5b에 도시된 바와 같이, 백플러시(backflush) 유동은 슬롯(36) 및 챔버(16)내의 매체(20), 챔버(14)의 상부에 있는 슬롯(28)을 통해 상측으로 계속 유동되고, 매체(18)의 층, 메시 스크린(26) 및 지지 판(24), 밸브 판(38)내의 통로(48)를 통해 아래로 계속 유동되어, 배수를 위한 포트(80) 및 통로(81)를 통해 배출되고 버려진다.

상기 매체(20)가 물 경도, 질산염 또는 다른 바람직하지 못한 오염물의 제거를 위한 이온 교환 수지라면, 백워싱하는 유체는 시의 서비스 공급원으로부터의 순수 물보다는 바람직하게는 이온 교환 수지의 재생을 위한 나트륨 염(sodium salt) 또는 칼륨 염(potassium salt)등의 염수로 구성된다. 이 경우에, 상기 염수는 적합한 염수원(도시되지 않음)으로부터 통로(72A)를 통해서, 도 5b에 도시된 바와 같이, 백워싱 설명에서 이미 언급된 것처럼 염수 유동이 계속해서 흐르는 통로(72)내로 유입된다. 또한, 상기 유닛이 염수의 유입용 설비를 포함하는 경우, 도 5b 및 도 5e에 도시된 바와 같이, 적합한 체크 밸브(V)가 통로(72 및 72A)에 포함되어 물 공급 및 염수 공급 사이에 부적합한 유체 유동을 방지한다.

도 5b에 도시된 백워싱 위치 B에 관하여, 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 막힌 밀봉체(87)과 일직선으로 정렬되므로 밸브 판(38)내의 통로(50)는 효과적으로 봉쇄된다. 도 5b에 도시된 바와 같이, 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 비기능성(non-functional), 비활동성 영역과 일직선으로 정렬되므로, 상기 밸브 판(38)내의 U-형상 우회 통로(52)는 효과적으로 봉쇄된다.

유체 처리 매체를 플러시하고자 한다면, 하우징(12)에 고정된 밸브 판(38)과 함께 하우징(12)은 도 5c 에 도시된 플러시 위치C 까지 회전된다. 상기 위치에서, 상기 밸브 판(38)내의 통로(48)는 밸브 하우징(54)내의 포트(75) 및 통로(74)와 일직선으로 정렬된다. 통로(74)는 밸브 하우징(54)내의 구획실(68)과 연통한다. 도 5c에 도시된 바와 같이, 상기 밸브 하우징(38)내의 통로(50)는 밸브 하우징(54)내에 배수용 포트(82) 및 통로(83)와 일직선으로 정렬된다. 따라서, 상기 플러시 위치 C 에선, 공급 유체가 입구(66), 구획실(68) 및 밸브 하우징(54)내의 통로(74) 및 포트(75), 밸브 판(38)내의 통로(48)를 통해 매체까지 흘러서 매체를 플러시한다. 상기 매체를 통한 유체 유동 방향은 앞에서 설명한 서비스 모드 동안의 유체 유동 방향과 동일하다. 그 후, 플러싱 후에 매체를 떠나는 유체는 바닥 판(32) 아래의 챔버내로 흘러들고 메시(42)로부터 제거된 미세입자를 플러시하여 밸브 판(38)내의 통로(50)와 밸브 하우징(54)내의 포트(82)및 통로(83)를 통해 배수관까지 배출한다.

도 5c에 도시된 바와 같이, 밸브 판(38)내의 통로(49)는 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 막힌 밀봉체(88)와 일직선으로 정렬되므로, 밸브 판(38)내의 통로(49)는 봉쇄된다. 도 5c에 도시된 바와 같이, 또한, U-형상 우회 통로(52)는, 그 단부 중 하나가 막힌 밀봉체(89)와 일렬로 정렬되고 나머지 단부는 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 비기능성, 비활동성 면적과 일렬로 정렬되므로, 봉쇄된다.

원한다면, 도 5d에 도시된 바와 같이, 상기 하우징(12) 및 이에 고정된 밸브 판(38)을 잠금 위치D 까지 더욱더 회전시킴으로써, 상기 전체 유닛을 간단하게 잠글 수 있다. 상기 위치에서, 밸브 판(38)내의 모든 통로는 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 비기능성, 비활동성 영역과 일렬로 정렬되거나 또는 드레인 방출구와 일렬로 정렬된다. 특히, 상기 밸브 판(38)내의 U-형상 우회 통로(52) 뿐만 아니라 통로(48,49)는, 밸브 판(38)이 잠금 위치에 있을 때 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 비기능성, 비활동성 영역과 일직선으로 정렬된다. 상기 밸브 판(38)내의 다른 통로(50)는 우회 방출 포트(84) 및 통로(85)와 일직선으로 정렬된다. 따라서, 상기 잠금 위치 D에선, 어떠한 유체 유동도 유닛에서부터 또는 유닛을 향해 발생하지 않는다.

상기 유체를 처리 매체를 통해 우회시키고자 한다면, 도 5e에 도시된 바와 같이, 하우징(12) 및 밸브 판(38)은 우회 위치 E까지 회전된다. 상기 위치에서, 밸브 판(38)내의 U-형상 우회 통로(52) 중 하나의 다리는 밸브 하우징(54)상의 통로(73) 및 포트(73)과 일직선으로 정렬되고, U-형상 우회 통로(52) 중 나머지 다리는 밸브 하우징(54)상의 포트(84) 및 통로(85)와 일직선으로 정렬된다. 따라서, 상기 우회 위치 E에선, 공급 유체가 입구(66)로부터 구획실(68), 밸브 하우징(54)내의 통로(72) 및 포트(73), 밸브 판(38)내의 U-형상 우회 통로(52), 포트(84) 및 통로(85)를 통해 밸브 하우징(54)내의 우회 방출구를 통해 외부로 흐른다. 상기 염수 통로(72A)로의 어떠한 유동도 체크 밸브(V)에 의해 금지된다.

도 5e에 도시된 바와 같이, 상기 밸브 판(38)이 우회 위치 E에 있을 때, 밸브 판(38)을 통한 나머지 통로는 봉쇄된다. 밸브 판(38)내의 통로(49)는 막힌 밀봉체(90)와 일직선으로 정렬되고, 통로(50)는 포트(80) 및 현재 비기능성 및 비활동성인 드레인 통로(81)와 일직선으로 정렬되고, 밸브 판(38)내의 통로(48)는 밸브 하우징(54)의 외면(64)상의 막힌 밀봉체(89)와 일직선으로 정렬된다.

다섯가지의 작동 모드가 도 5a 내지 도 5e와 관련하여 설명되었을 지라도, 본 발명의 정신을 벗어나지 않는다면, 본 발명의 유닛은 설명된 작동 모드중 하나 이상을 없앰으로써 단순화될 수 있다. 작동 모드를 없애기 위하여, 도 5a 내지 도 5e와 관련하여 완전히 설명될 더욱 복잡한 모드를 생각한 후엔, 밸브 판(38) 및/또는 밸브 하우징(54)의 변경은 당업자에게 자명하다.

본 발명의 양호한 실시예는 본 발명의 원리에 대한 단순한 예시이다. 많은 변경이 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않는다면 당업자에 의해 이루어질 수 있다.

본 발명은 앞서 언급한 종래기술의 단점을 피하거나 또는 제거한다. 본 발명에 있어서, 유닛의 일부인 효과적인 제어 밸브를 가진 꽉 찬 다중 매체 유체 처리 유닛이 제공되며, 유닛의 준비된 서비스 및 유닛내에 많은 상이한 매체의 사용을 허용한다. 본 발명에 있어서, 상기 유닛의 수명은 상당히 연장되고, 효과적인 매체 량이 서로에 대해 여러 매체의 선택적인 배치에 의해 감소되며, 처리 매체의 주기적인 헹굼 및/또는 백워싱을 제공함으로서, 그리고/또는 정상적인 유체 유동이 시작될 때에 매체의 자동 재생에 의해 일부의 매체에 유해할 수 있는 조성물을 제거한다.

도 1은 본 발명의 원리를 구체화하는 유체 처리 유닛의 양호한 실시예로서, 앞선 유체 처리 이후 및 다음 처리를 위한 유체 유동의 시작 이전의 상기 유닛이 정지한 상태를 나타내는 정 단면도.

도 2는 도 1의 선 2-2를 따라 도시된 그리고 상기 처리 매체가 없는 유닛의 평 단면도.

도 3은 도 1에 도시된 유닛 및 밸브를 도시하지만 처리를 위해 유체 유동이 개시된 것을 도시하는 정 단면도.

도 4는 도 1에 도시된 유닛 및 밸브를 도시하지만 처리를 위해 유체 유동이 다음 시작을 계속하는 것을 도시하는 정 단면도.

도 5a 내지 도 5e는 본 발명의 제어 밸브의 양호한 실시예로서, 도 5a는 서비스 위치, 도 5b는 백워싱 위치, 도 5c는 플러시 위치, 도 5d는 차단 위치 그리고 도 5e는 우회 위치에서의 밸브 요소를 도시하는 연속되는 사시도.

도 6은 도 3에서 6으로 지시된 원 내에 도시된 O-링 밀봉체의 실시예에 대한 단면도.

도 7은 밀봉체의 스프링이 장전된 개스킷의 실시예의 단면도.

Claims

원판 형상 밸브 판과, 상기 원판 형상 밸브 판의 한 면에 개구를 가지는 외면과, 상기 외면내의 개구로부터 상기 판 내로 연장되는 다수의 통로를 구비하고, 적어도 상기 통로의 일부는 상기 밸브 판의 두께에 걸쳐 연장되어 상기 외면에 대향되는 판의 면과 연통되고, 상기 원판 형상 밸브 판은 상기 외면에 대해 비스듬하게 연장되는 축을 중심으로 회전될 수 있는 회전가능한 밸브와;

상기 밸브 판 외면에 인접한 외면을 구비하며, 상기 밸브 하우징 외면까지 개방된 다수의 통로를 내부에 구비하고, 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 1 통로는 유체 공급원과 연통되고, 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 2 통로는 상기 밸브 하우징의 유체 방출구와 연통되며, 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 3 통로는 밸브 하우징의 배수로와 연통되는 밸브 하우징을 포함하고,

상기 유체가 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 1 통로로부터 상기 밸브 판을 통과하는 하나의 통로까지 그리고 상기 밸브 판을 통과하는 다른 통로로부터 상기 밸브 하우징의 방출구와 연통되는 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 2 통로까지 공급되는 제 1 위치와, 상기 유체가 상기 밸브 하우징 통로 중 다른 통로로부터 상기 밸브 판을 통과하는 다른 통로까지 그리고 상기 밸브 판을 통과하는 다른 통로로부터 상기 밸브 하우징의 배수로와 연통되는 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 3 통로까지 공급되는 제 2 위치 사이에서, 상기 밸브 판은 상기 축을 중심으로 회전될 수 있고,

상기 유체가 상기 유체 공급원으로부터 상기 배수로까지 통과되는 헹굼 위치, 또는 유체가 유체 공급원으로부터 밸브 판을 거쳐 상기 밸브 하우징의 유체 방출구까지 통과되는 우회 위치를 포함하는 하나 이상의 추가적인 위치까지 상기 밸브 판이 회전될 수 있는 유닛.
제 1항에 있어서, 상기 외면들은 평면이고 서로에 대해 평행하고, 상기 판의 축은 상기 평면에 대해 수직인 유닛.
제 2항에 있어서, 상기 밸브 판이 회전함에 따라 나머지 외면이 하나 이상의 외면에 대해 회전될 때, 나머지 외면을 관통해 개방되는 통로중 하나와 선택적으로 일직선으로 정렬될 수 있는 다수의 밀봉체를 하나 이상의 외면상에 포함하는 유닛.
제 3항에 있어서, 상기 밀봉체는 O-링을 포함하는 유닛.
제 3항에 있어서, 상기 밀봉체는 스프링이 장전된 개스킷을 포함하는 유닛.
제 1항에 있어서, 상기 밸브 판이 회전함에 따라 나머지 외면이 하나 이상의 외면에 대해 회전될 때, 나머지 외면을 관통해 개방되는 통로중 하나와 선택적으로 일직선으로 정렬될 수 있는 다수의 밀봉체를 하나 이상의 외면상에 포함하는 유닛.
제 6항에 있어서, 상기 밀봉체는 O-링을 포함하는 유닛.
제 6항에 있어서, 상기 밀봉체는 스프링이 장전된 개스킷을 포함하는 유닛.
제 1항에 있어서, 상기 유닛은, 회전가능한 밸브와, 하나 이상의 유체 처리 매체를 포함하는 하우징을 포함하며, 상기 밸브 판이 상기 제 1 위치에 있을 때, 상기 유체는 밸브 하우징내의 유체 공급원으로부터의 상기 제 1 통로로부터 밸브 판을 관통하는 하나의 통로 및 상기 유체 처리 매체까지 그리고 상기 유체 처리 매체로부터 밸브 하우징의 방출구와 연통하는 상기 밸브 하우징내의 상기 제 2통로 까지 공급되어 상기 유체 처리 매체에 의해 처리되어 방출구를 통과하는 유체를 제공하며, 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때, 상기 유체는 밸브 하우징내의 다른 통로로부터 상기 유체 처리 매체 까지, 그리고 상기 유체 처리 매체로부터 상기 밸브 하우징을 관통하는 다른 통로 및 밸브 하우징의 배수로와 연통되는 밸브 하우징내의 상기 제 3 통로 까지 공급되어, 상기 유체 처리 매체를 백워싱하는 유닛.
삭제
제 9항에 있어서, 상기 밸브 판이 상기 제 2 위치에 있을 때 유체가 유체 공급원으로부터 상기 유체 처리 매체까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 백워싱하는 유닛.
제 9항에 있어서, 상기 밸브 하우징은 상기 유체 처리 매체의 재생을 위한 염수원과 연통하는 통로를 포함하고, 상기 유체는 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때 염수원으로부터 마지막에 언급된 상기 통로를 거쳐 유체 처리 매체 까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 재생하는 유닛.
제 9항에 있어서, 상기 유체 처리 매체를 함유하는 상기 하우징은 상기 밸브 판에 고정되고, 상기 밸브 판은 상기 하우징의 회전에 의해 상기 위치들 사이에서 회전되는 유닛.
삭제
제 13항에 있어서, 상기 밸브 판이 상기 제 2 위치에 있을 때, 유체가 유체 공급원으로부터 상기 유체 처리 매체까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 백워싱하는 유닛.
제 13항에 있어서, 상기 밸브 하우징은 상기 유체 처리 매체의 재생을 위한 염수원과 연통하는 통로를 포함하고, 상기 유체는 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때 염수원으로부터 마지막에 언급된 상기 통로를 거쳐 유체 처리 매체 까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 재생하는 유닛.
유체 처리 유닛에 있어서,

내부에 챔버를 가지는 하우징과;

처리될 유체가 매체를 통해 흐르지 않을 땐 상기 챔버의 체적보다 작은 체적을 점유하는 상기 챔버내의 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체와;

처리될 유체를 챔버에 그리고 챔버 내의 유체 처리 매체 아래에 유입시키는 상기 챔버로의 입구와;

처리된 유체를 상기 챔버로부터 방출하기 위하여 유체 처리 매체 하류의 챔버로의 출구를 포함하며,

상기 유닛은, 상기 출구로부터 처리될 유체의 유동이 개시될 때, 제어된 방식으로 상기 성긴 유체 처리 매체를 상승시켜 상기 매체로부터 오염물을 플러시 및 제거하며, 상기 유체 유동이 계속되는 동안에 상기 매체를 부유시키며, 상기 유체 유동이 중단될 때 상기 매체가 상기 챔버의 바닥에 가라앉는 것을 허용하도록 구성되고 배치된 유체 처리 유닛.
제 17항에 있어서, 상기 챔버는 최대 폭보다 큰 높이를 가지며, 상기 챔버는 유체 유동이 시작될 때 상기 매체가 상기 챔버내에서 상승되는 비율을 감소시키기 위하여 상기 챔버의 높이 중간에 챔버의 최대 폭보다 작은 부분을 하나 이상 포함하는 유체 처리 유닛.
제 18항에 있어서, 챔버의 길이를 따라 상호간에 이격된 다수의 상기 부분을 포함하는 유체 처리 유닛.
제 18항에 있어서, 상기 부분의 단면적은 상기 챔버의 최대 폭의 단면적의 5 내지 50% 인 유체 처리 유닛.
제 18항에 있어서, 상기 부분의 단면적은 상기 챔버의 최대 폭의 단면적의 10% 인 유체 처리 유닛.
제 17항에 있어서, 상기 챔버의 길이 중간에 추가의 입구를 포함하며, 상기 추가의 입구는 처리될 추가적인 유체를 상기 좁은 폭 부분에 인접한 챔버까지 유입시키기 위하여 상기 좁은 폭 부분과 연관되는 유체 처리 유닛 .
제 22항에 있어서, 상기 부분의 단면적은 상기 챔버의 최대 폭의 단면적의 5 내지 20% 인 유체 처리 유닛.
제 22항에 있어서, 상기 부분의 단면적은 상기 챔버의 최대 폭의 단면적의 10% 인 유체 처리 유닛.
제 17항에 있어서, 상기 좁은 폭 부분은 챔버내에 위치된 슬리브를 포함하는 유체 처리 유닛.
제 17항에 있어서, 상기 매체는 본질적으로 구리, 아연 및 그 합금으로 구성된 그룹으로부터 선택된 미립자 금속인 유체 처리 유닛.
제 26항에 있어서, 상기 금속은 구리 및 아연의 합금인 유체 처리 유닛.
제 17항에 있어서, 원판 형상 밸브 판, 상기 원판 형상 밸브 판의 한 면에 있는 외면과, 상기 외면의 개구로부터 상기 판 내로 연장되는 다수의 통로를 포함하며, 적어도 통로의 일부는 상기 밸브 판의 두께에 걸쳐 연장되어 상기 외면에 대향되는 판의 면과 연통되며, 원판 형상 밸브 판은 상기 외면까지 연장되는 축 주위로 회전가능한 밸브와;

상기 밸브 판 외면에 인접한 외면을 가지며, 그 내부에 밸브 하우징 외면까지 개방된 다수의 통로를 가지며, 제 1 밸브 하우징 통로는 유체 공급원과 연통되고, 제 2 밸브 하우징 통로는 밸브 하우징의 유체의 방출구와 연통되고, 제 3 통로는 밸브 하우징의 배수로와 연통하는 밸브 하우징을 포함하며,

상기 유체가 밸브 하우징내의 상기 제 1 통로로부터 상기 밸브 판을 관통하는 하나의 통로 및 상기 유체 처리 매체까지, 그리고 상기 밸브 판을 관통하는 다른 통로 및 상기 유체 처리 매체로부터 상기 밸브 하우징의 방출구와 연통하는 상기 밸브 하우징 내의 상기 제 2 통로까지 공급되는 제 1 위치와, 상기 유체가 밸브 하우징 내의 다른 상기 통로로부터 밸브 판을 관통하는 다른 통로 및 상기 유체 처리 매체까지, 그리고 상기 밸브 판을 관통하는 다른 통로 및 상기 유체 처리 매체로부터 상기 밸브 하우징의 배수로와 연통하는 상기 밸브 하우징내의 상기 제 3 통로까지 공급되는 제 2 위치 사이에서, 상기 밸브 판이 상기 축 주위로 회전할 수 있는 유체 처리 유닛
제 28항에 있어서, 상기 외면들은 평면이고 서로에 대해 평행하며, 상기 판의 축은 상기 밸브 판이 회전함에 따라 나머지 외면이 하나 이상의 외면에 대해 회전될 때, 하나 이상의 외면상에, 나머지 외면을 관통해 개방되는 통로중 하나와 선택적으로 일직선으로 정렬될 수 있는 다수의 밀봉체 및 상기 평면에 대해 수직인 유체 처리 유닛.
제 28항에 있어서, 상기 밀봉체는 O-링을 포함하는 유체 처리 유닛.
제 28항에 있어서, 상기 밀봉체는 스프링이 장전된 개스킷을 포함하는 유체 처리 유닛.
제 28항에 있어서, 상기 밸브 판은, 상기 유체가 상기 유체 공급원으로부터 상기 유체 처리 매체를 거쳐 상기 매체를 헹구고 배수로까지 흐르는 헹굼위치, 상기 유닛을 거치는 유체 유동이 차단되는 차단 위치 또는 유체가 유체 공급원으로 부터 밸브 판을 거쳐 밸브 하우징의 유체 방출구까지 상기 유체 처리 매체 주위로 우회되는 우회 위치를 포함하는 하나 이상의 추가적인 위치까지 회전가능한 유체 처리유닛.
제 28항에 있어서, 상기 밸브 판이 상기 제 2 위치에 있을 때 유체가 유체 공급원으로부터 상기 유체 처리 매체까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 백워싱하는 유체 처리 유닛.
제 28항에 있어서, 상기 밸브 하우징은 상기 유체 처리 매체의 재생을 위한 염수원과 연통하는 통로를 포함하고, 상기 유체는 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때 염수원으로부터 마지막에 언급된 상기 통로를 거쳐 유체 처리 매체 까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 재생하는 유체 처리 유닛.
제 28항에 있어서, 상기 유체 처리 매체를 함유하는 상기 하우징은 상기 밸브 판에 고정됨으로써 상기 밸브 판은 상기 하우징의 회전에 의해서 제 1 및 제 2 위치 사이에서 회전되는 유닛.
제 35항에 있어서, 상기 밸브 판은, 상기 유체가 상기 유체 공급원으로부터 상기 유체 처리 매체를 거쳐 상기 매체를 헹구고 배수로까지 흐르는 헹굼위치, 상기 유닛을 거치는 유체 유동이 차단되는 차단 위치 또는 유체가 유체 공급원으로 부터 밸브 판을 거쳐 상기 밸브 하우징의 유체 방출구까지 상기 유체 처리 매체 주위로 우회되는 우회 위치를 포함하는 하나 이상의 추가적인 위치까지 상기 하우징의 회전에 의해 회전가능한 유닛.
상기 매체 처리를 개시할 때, 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체를 급속하게 재생하는 방법에 있어서,

상기 매체를 부유시키기에 충분하지 않은 양까지 유체 유동을 정지시키거나 또는 감소시킴으로써 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체를 앞선 처리에 이어 층내에 가라앉히는 단계와;

상기 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체를 상기 층으로부터 상승시키기에 충분히 큰 유동이지만 상기 유체 처리 매체가 상승되는 비율을 제한하여 상기 매체 상에 축적된 오염물을 완전히 분리하여 플러시하는 유동으로서 미세하게 분쇄된 성긴 유체 처리 매체 층 아래에서 처리될 유체의 유동을 개시하는 단계와;

상기 유체의 처리 동안에 성긴 유체 처리 매체가 유동하는 유체내에 부유된 상태를 계속해서 유지하기에 충분한 방식으로, 처리될 유체의 유동을 계속해서 유지하는 단계를 포함하는 재생방법.
제 37항에 있어서, 유체 유동이 시작되는 동안에 상기 매체가 유동로를 넘어서 하나 이상의 위치에 상승되는 비율을 선택적으로 제한하는 단계를 포함하는 재생방법.
제 38항에 있어서, 상기 매체가 상승되는 비율은 두 개의 이격된 위치에서 선택적으로 제한되는 재생방법.
제 37항에 있어서, 상기 매체가 상승되는 비율은, 상기 층의 최대 폭의 단면적의 약 5 내지 50% 인 단면적을 거쳐 상승된 처리 매체를 통과시킴으로써 제한되는 재생방법.
제 37항에 있어서, 상기 매체가 상승되는 비율은, 상기 층의 최대 폭의 단면적의 약 10%인 단면적을 거쳐 상승된 처리 매체를 통과시킴으로써 제한되는 재생방법.
제 37항에 있어서, 유체 유동의 개시 동안에 추가적으로 처리될 유체를 상기 유동로에 걸쳐서 하나 이상의 위치에 유입시키는 단계를 포함하는 재생방법.
제 42항에 있어서, 상기 매체가 상승되는 비율은, 상기 층의 최대 폭의 단면적의 약 5 내지 50% 인 단면적을 거쳐 상승된 처리 매체를 통과시킴으로써 제한되는 재생방법.
제 42항에 있어서, 상기 매체가 상승되는 비율은, 상기 층의 최대 폭의 단면적의 약 10 %인 단면적을 거쳐 상승된 처리 매체를 통과시킴으로써 제한되는 재생방법.
제 37항에 있어서, 상기 매체는 본질적으로 구리, 아연 및 그 합금으로 구성된 그룹으로부터 선택된 미립자 금속인 재생방법.
제 45항에 있어서, 상기 금속은 구리 및 아연의 합금인 재생방법.
제 37항에 있어서, 상기 유체는 물인 재생방법.
제 47항에 있어서, 상기 매체는 본질적으로 구리, 아연 및 그 합금으로 구성된 그룹으로부터 선택된 미립자 금속인 재생방법.
제 48항에 있어서, 상기 금속은 구리 및 아연의 합금인 재생방법.
원판 형상 밸브 판과, 상기 원판 형상 밸브 판의 한 면에 개구를 가지는 외면과, 상기 외면의 개구로부터 상기 판 내로 연장되는 다수의 통로를 구비하고, 적어도 상기 통로의 일부는 상기 밸브 판의 두께에 걸쳐 연장되어 상기 외면에 대향되는 판의 면과 연통되고, 상기 원판 형상 밸브 판은 상기 외면에 대해 비스듬하게 연장되는 축을 중심으로 회전될 수 있는 회전가능한 밸브와;

상기 밸브 판 외면에 인접한 외면을 구비하며, 상기 밸브 하우징 외면까지 개방된 다수의 통로를 내부에 구비하고, 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 1 통로는 유체 공급원과 연통되고, 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 2 통로는 상기 밸브 하우징의 유체 방출구와 연통되며, 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 3 통로는 밸브 하우징의 배수로와 연통되는 밸브 하우징과;

상기 하나 이상의 외면에 있는 다수의 제 1 및 제 2 밀봉체를 포함하고,

상기 제 1 밀봉체는 상기 밸브 판이 회전됨에 따라 상기 외면들 중 하나의 외면에 대해 상기 외면들 중 다른 외면이 회전될 때, 상기 다른 외면을 통해 개방되는 통로들에 선택적으로 정렬될 수 있고, 상기 제 2 밀봉체는 상기 밸브 판이 회전됨에 따라 상기 통로들 중 선택된 통로를 통과하는 유동을 차단하는 막힌 밀봉체이고,

상기 유체가 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 1 통로로부터 상기 밸브 판을 통과하는 하나의 통로까지 그리고 상기 밸브 판을 통과하는 다른 통로로부터 상기 밸브 하우징의 방출구와 연통되는 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 2 통로까지 공급되는 제 1 위치와, 상기 유체가 상기 밸브 하우징 통로 중 다른 통로로부터 상기 밸브 판을 통과하는 다른 통로까지 그리고 상기 밸브 판을 통과하는 다른 통로로부터 상기 밸브 하우징의 배수로와 연통되는 상기 하나 이상의 밸브 하우징 통로 중 제 3 통로까지 공급되는 제 2 위치 사이에서, 상기 밸브 판은 상기 축을 중심으로 회전될 수 있는 유닛.
제 50항에 있어서, 상기 밀봉체는 O-링을 포함하는 유닛.
제 50항에 있어서, 상기 밀봉체는 스프링이 장전된 개스킷을 포함하는 유닛.
제 50항에 있어서, 상기 외면들은 평면이고 서로에 대해 평행하고, 상기 판의 축은 상기 평면에 대해 수직인 유닛.
제 50항에 있어서, 상기 유닛은, 회전가능한 밸브와, 하나 이상의 유체 처리 매체를 포함하는 하우징을 포함하며, 상기 밸브 판이 상기 제 1 위치에 있을 때, 상기 유체는 밸브 하우징내의 유체 공급원으로부터의 상기 제 1 통로로부터 밸브 판을 관통하는 하나의 통로 및 상기 유체 처리 매체까지 그리고 상기 유체 처리 매체로부터 밸브 하우징의 방출구와 연통하는 상기 밸브 하우징내의 상기 제 2통로 까지 공급되어 상기 유체 처리 매체에 의해 처리되어 방출구를 통과하는 유체를 제공하며, 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때, 상기 유체는 밸브 하우징내의 다른 통로로부터 상기 유체 처리 매체 까지, 그리고 상기 유체 처리 매체로부터 상기 밸브 하우징을 관통하는 다른 통로 및 밸브 하우징의 배수로와 연통되는 밸브 하우징내의 상기 제 3 통로 까지 공급되어, 상기 유체 처리 매체를 백워싱하는 유닛.
제 54항에 있어서, 유체가 상기 유체 공급원으로부터 유체를 헹구기 위한 유체 처리 매체를 통해 상기 배수로까지 통과되는 헹굼 위치, 상기 유닛을 통과하는 유체 유동이 정지되는 차단 위치, 또는 유체가 유체 공급원으로부터 밸브 판을 거쳐 상기 밸브 하우징의 유체 방출구까지 통과되는 우회 위치를 포함하는 하나 이상의 추가적인 위치까지 상기 밸브 판이 회전될 수 있는 유닛.
제 54항에 있어서, 상기 밸브 판이 상기 제 2 위치에 있을 때 유체가 유체 공급원으로부터 상기 유체 처리 매체까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 백워싱하는 유닛.
제 54항에 있어서, 상기 밸브 하우징은 상기 유체 처리 매체의 재생을 위한 염수원과 연통하는 통로를 포함하고, 상기 유체는 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때 염수원으로부터 마지막에 언급된 상기 통로를 거쳐 유체 처리 매체 까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 재생하는 유닛.
제 54항에 있어서, 상기 유체 처리 매체를 함유하는 상기 하우징은 상기 밸브 판에 고정되고, 상기 밸브 판은 상기 하우징의 회전에 의해 상기 위치들 사이에서 회전되는 유닛.
제 58항에 있어서, 유체가 상기 유체 공급원으로부터 유체를 헹구기 위한 유체 처리 매체를 통해 상기 배수로까지 통과되는 헹굼 위치, 상기 유닛을 통과하는 유체 유동이 정지되는 차단 위치, 또는 유체가 유체 공급원으로부터 밸브 판을 거쳐 상기 밸브 하우징의 유체 방출구까지 통과되는 우회 위치를 포함하는 하나 이상의 추가적인 위치까지 상기 하우징의 회전에 의해 상기 밸브 판이 회전될 수 있는 유닛.
제 58항에 있어서, 상기 밸브 판이 상기 제 2 위치에 있을 때 유체가 유체 공급원으로부터 상기 유체 처리 매체까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 백워싱하는 유닛.
제 58항에 있어서, 상기 밸브 하우징은 상기 유체 처리 매체의 재생을 위한 염수원과 연통하는 통로를 포함하고, 상기 유체는 상기 밸브 판이 제 2 위치에 있을 때 염수원으로부터 마지막에 언급된 상기 통로를 거쳐 유체 처리 매체 까지 공급되어 상기 유체 처리 매체를 재생하는 유닛.