KR100460131B1 - 초 고밀도 자기기록용 플래너형 기록헤드의 특성 최적화방법 - Google Patents

초 고밀도 자기기록용 플래너형 기록헤드의 특성 최적화방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 초 고밀도 자기기록용 기록헤드의 특성 최적화방법에 관한 것으로서 특히, 높은 결정자기이방성을 갖는 매체에 정보의 기록이 가능한 초 고밀도 하드디스크 드라이브용 플래너형 기록헤드에 관한 것이다.
기존의 기록매체를 사용하여 초 고밀도 자기기록 달성하는데 있어 가장 심각한 문제 중의 하나가 열 요동 문제이다. 높은 결정자기이방성을 가진 매체의 사용은 이러한 문제를 해결하는 방법 중의 하나이다. 그러나 높은 결정자기이방성을 가진 매체에 정보를 기록하기 위해서는 높은 기록자계가 필요하다.
이에, 본 발명은 높은 결정자기이방성 에너지를 갖는 매체를 사용하여 초 고기록밀도를 달성하기 위한 플래너형 기록헤드에 있어서, 상기 기록헤드의 소정 부분을 돌출면과, 상기 돌출면에서 기록헤드 내측방향으로 테이퍼 가공된 경사면과, 상기 경사면으로부터 동일 평면상으로 확장된 확장면을 갖고, 상기 돌출면의 넓이에 의해 결정되는 헤드 폴 에지(a), 상기 경사면의 각도에 의해 결정되는 헤드 폴의 경사도(b), 상기 돌출면과 확장면의 높이차에 의해 결정되는 헤드 폴의 두께(c)를 조절하는 제 1,2,3 헤드 형상 제어 방법에 의해 기록헤드의 형상 파라미터를 변화시켜 기록헤드의 특성을 최적화하는 것을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드의 특성 최적화 방법을 제시한다.

Description

초 고밀도 자기기록용 플래너형 기록헤드의 특성 최적화방법{Design optimization of plannar type write heads for ultra high density magnetic recording}
본 발명은 초 고밀도 자기기록용 기록헤드의 특성 최적화방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 높은 결정자기이방성을 갖는 매체에 정보의 기록이 가능한 초 고밀도 하드디스크 드라이브용 플래너형 기록헤드에 관한 것이다.
과거 수십 년간 자기기록 기술은 지속적인 발전을 이룩하였으며 하나의 예로서 기록밀도는 연평균 60%의 빠른 속도로 증가하였다. 최근에는 기술발전 속도가 더욱 증가하여 기록밀도의 연평균 증가율이 거의 100%에 달한다. 이는 기록밀도가 매년 2배씩 증가되는 것을 의미한다. 이러한 기술발전은 주로 스케일링(scaling)으로 알려진 점진적인 기술을 통하여 달성되었는데, 스케일링 기술의 핵심은 다바이스의 모든 크기를 일정한 비로 줄이는 것이다. 현재의 기술발전 추세가 향후 수년간은 지속되겠지만, 어느 단계에 이르면 자기기록 기술은 이론적 한계에 봉착할 것으로 예상되고 있다.
이론적 한계의 주된 이유는 열 요동이다. 즉, 기록된 자기적 정보가 열에너지에 의해 지워지는 현상이다. [P. L. Lu and S. H. Charap, IEEE Transactions onmagnetics, 31 (1995) 2767; R. L. White, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 209 (2000) 1-5] 고기록 밀도를 달성하기 위해서는 비트 사이의 전이 길이(transition length)를 줄이는 것이 필요하며, 이는 통상 매체의 두께와 매체 결정립의 크기를 줄임으로서 달성된다. [B. K. Middleton, Journal of Magnetism and Magnetic Materials,, 193 (1999) 24-28; M. Futamoto, N. Inaba, Y. Hirayama, K. Ito and Y. Honda, Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 193 (1999) 36-43.] 매체의 두께가 줄어지면 감지 신호가 약해지는데, 이러한 문제는 매우 감도가 좋은 거대자기저항(giant magnetoresistance) 재생헤드를 사용함으로서 해결되었다.
그러나, 매체의 두께와 결정립의 크기를 줄이게 되면 결정립 하나의 부피가 줄어들고 따라서 자기에너지(magnetic energy)가 열에 의해 영향을 받을 정도로 줄어들게 된다. 이를 초상자성 현상이라고도 하는데, 이는 자기기록의 근본적 문제를 야기한다.
수평자기기록(longitudinal magnetic recording)에서 이러한 근본적인 열적 요동문제는 스케일링을 포함한 점진적인 방법으로는 해결이 불가능하다. 따라서 많은 혁신적인 아이디어가 제안되었는데, 이러한 방법 중의 하나가 결정자기이방성 에너지가 큰 매체를 사용하는 것이다. 전이 길이는 결정자기이방성 에너지가 증가함에 따라 감소하고, 매체의 열적 안정성을 향상시킨다.
그러나, 결정자기이방성 에너지가 큰 매체는 보자력이 커서 통상의 기록헤드로는 기록이 거의 불가능하다는 단점이 있다. 즉, 현재 사용되고 있는 기록헤드에서 발생되는 자계는 6000 ~ 8000 Oe 정도로서 작기 때문에 결정자기이방성이 큰 매체에 정보를 기록하는 것이 어려웠다.
이러한 문제를 해결하기 위하여 여러가지 기록헤드들이 제안되었는데, 이 중의 하나가 플래너형 헤드이다. 플래너형 헤드는 그 헤드의 형상으로 인하여 통상의 자성재료를 사용하더라도 큰 기록자계를 발생시키는 것이 가능하다.
이러한 장점에도 불구하고, 통상의 플래너 기록헤드는 초 고밀도 자기기록에서 요구되는 다른 특성들 예를 들면, side writing ratio와 기록자계의 분포(distribution) 특성이 우수하지 못한 단점이 있다. 따라서 헤드의 최적화를 통하여 이러한 특성들을 향상시키는 것이 요구된다.
즉, 초 고밀도 자기기록 달성에 가장 심각한 문제 중의 하나가 열 요동 문제인데, 높은 결정자기이방성을 가진 매체의 사용은 이러한 문제를 해결하는 방법 중의 하나이다. 그러나 높은 결정자기이방성을 가진 매체에 정보를 기록하기 위해서는 높은 기록자계가 필요하다.
따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서 본 발명은 높은 결정자기이방성 에너지를 갖는 매체를 사용하여 초 고기록 밀도를 달성할 수 있도록 통상적인 플래너형 헤드의 형상을 변화시켜 기록헤드의 특성을 최적화하는데 그 목적이 있다.
상기한 본 발명의 목적을 달성하기 위한 기술적 사상으로써 본 발명은 높은 결정자기이방성 에너지를 갖는 매체를 사용하여 초 고기록밀도를 달성하기 위한 플래너형 기록헤드에 있어서, 상기 기록헤드의 소정 부분을 돌출면과, 상기 돌출면에서 기록헤드 내측방향으로 테이퍼 가공된 경사면과, 상기 경사면으로부터 동일 평면상으로 확장된 확장면을 갖고, 상기 돌출면의 넓이에 의해 결정되는 헤드 폴 에지, 상기 경사면의 각도에 의해 결정되는 헤드 폴의 경사도, 상기 돌출면과 확장면의 높이차에 의해 결정되는 헤드 폴의 두께를 조절하는 제 1,2,3 헤드 형상 제어 방법에 의해 기록헤드의 형상 파라미터를 변화시켜 기록헤드의 특성을 최적화하는 것을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드의 특성 최적화 방법을 제공한다.
도 1은 일반적인 헤드 형상 제어를 하지 않은 플래너형 기록헤드의 형상을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 플래너형 기록헤드로부터 얻어진 기록자계의 3가지 성분이 비트 방향의 거리에 따라 변화는 상태를 나타낸 그래프이다.
도 3은 도 1에 도시된 플래너형 기록헤드로부터 얻어진 기록자계의 3가지 성분이 트랙 폭 방향의 거리에 따라 변화는 상태를 나타낸 그래프이다.
도 4는 본 발명에 따른 헤드 형상 제어에 의해 플래너형 기록헤드를 최적화하는 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 헤드 형상 제어를 하지 않은 헤드와 헤드 형상 제어를 행한 헤드에 대한 자계 분포의 반가폭과 최대 자계와의 상관관계를 나타낸 그래프이다.
도 6은 본 발명에 따른 헤드 형상 제어를 하지 않은 헤드와 헤드 형상 제어를 행한 헤드에 대한 side writing ratio와 최대 자계와의 상관관계를 나타낸 그래프이다.
도 7은 본 발명에 따른 헤드 형상 제어를 하지 않은 헤드를 사용하여 기록한 패턴의 형상을 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명에 따른 헤드 형상 제어에 의해 최적화된 헤드를 사용하여 기록한 패턴의 형상을 나타낸 도면이다.
이하, 본 발명의 실시예에 대한 구성 및 그 작용을 첨부한 도면을 참조하면서 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 통상적인 플래너형 헤드의 형상을 나타내었다. 도 1에서 헤드의 형상을 보다 확실히 보여주기 위해서 치수는 실제 치수대로 나타내지 않았다. 위 부분의 그림은 매체에서 헤드를 바라다 본 형상(즉 air bearing surface(ABS)에서 본 형상)이며, 아래 부분의 그림은 헤드의 측면 형상이다. 숫자로 나타낸 치수는 모두 ㎛이다. 중요한 헤드 파라미터들로서는 갭 길이가 0.12 ㎛, 트랙 폭이 0.16 ㎛, 자성재료의 상대 투자율은 500, 포화자속밀도는 1.9 Tesla(T), 자기 기전력은 0.4 A.Turn이다.
도 1에 나타낸 헤드에서 얻어진 기록자계의 형상과 크기는 도 2 및 도 3에 각각 나타내었다. 도 2에 도시된 그래프는 기록자계의 3가지 성분, 구제적으로 비트 길이방향의 자기장 성분(Hx), 트랙 폭 방향의 자기장 성분(Hy) 및 매체에 수직한 방향의 자기장 성분(Hz)이 비트 방향에 따라 변화하는 것을 나타내었다.
Hy에 대한 결과를 제외하고는 가로축의 원점은 헤드 갭과 폭의 중심으로17.5 nm 떨어진 거리에 해당된다. Hy와 대한 결과는 수평축의 원점은 트랙 폭 방향으로 트랙 폭의 반 만큼(즉 0.08 ㎛) 떨어진 거리에 해당된다. 즉, Hy에 대한 결과는 트랙의 모서리를 따라서 얻어진 값이다.
도 3에 도시된 그래프는 3가지 자기장 성분, 즉 Hx,Hy,Hz가 트랙 폭 방향에 따라 변화는 것을 나타낸 결과이다. 도 3에서 가로축의 원점은 헤드 갭과 폭의 중심으로부터 17.5 nm 떨어진 거리에 해당한다. 자기기록에서 가장 중요한 것은 도 2에 나타낸 바와 같이 Hx가 x에 따라 변화하는 자계 형상이다.
헤드 형상 제어를 하지 않은 플래너형 헤드에서 얻어진 Hx의 최대치는 14183 Oe로서 매우 크다. 그러나 이 헤드로부터 얻어지는 side writing ratio 또한 크고 기록 자계의 분포도 다소 넓은 단점을 가지고 있다. 이는 초 고기록 밀도를 달성하기 위해서는 해결해야 할 과제이다. 이를 위하여 헤드의 형상을 최적화하였다.
도 4는 본 발명에 따른 플래너형 헤드를 최적화하는 방법을 나타내었다. 도 4에서의 위 부분의 그림은 도 1에서와 같이 ABS에서 바라본 형상이며, 아래 부분의 그림은 측면 형상이다. 헤드의 최적화는 헤드의 어떤 부분을 절단함으로서(이것을 헤드 형상 제어(head-trimming)라고 함) 달성하고자 하였다. 도 4에서 진하게 표시된 부분이 잘라낸 부분이며, 잘라낸 부분의 형상 및 크기는 a,b,c로 나타내었다. 이하, a, b, c는 헤드 폴 에지(a), 헤드 폴의 경사도(b), 헤드 폴의 두께(c)를 각각 의미한다. 3가지 다른 종류의 헤드 형상 제어방법, 즉 제 1형, 제 2형 및 제 3형의 방법을 사용하였으며, 표 1에는 헤드 형상 제어방법을 자세히 정리 하였다.
제 1형의 방법에서는 b는 0 ㎛, c는 0.2 ㎛로 고정하고 a만을 0.12 ~ 0.3 ㎛까지 변화시켰다. b가 0으로 고정되었기 때문에 제 1형에서 잘려나간 부분은 계단형(step-like)이다. 이러한 계단형 형상은 제 2형에서 b를 0.2 ~ 0.6 ㎛까지 변화시킴으로서 형상이 기울어지도록 하였다.
제 2형에서 a는 0.12 ㎛로, c는 0.2 ㎛로 고정하였다. 제 2형에서 b의 값이 작아지면 헤드의 특성은 제 1형과 유사하게 된다. 제 3형의 헤드 형상은 b와 c는 고정되어 있고 a만이 변화한다는 점에서 제 1형과 유사하다. 그러나 b값이 0이 아니고 0.4 ㎛이며, c또한 0.4 ㎛로서 크다.
a(㎛) b(㎛) c(㎛)
형상제어 전(前) 0 0 0
제 1형 0.12 0 0.2
0.24 0 0.2
0.3 0 0.2
제 2형 0.12 0.2 0.2
0.12 0.3 0.2
0.12 0.4 0.2
0.12 0.5 0.2
0.12 0.6 0.2
제 3형 0.12 0.4 0.4
0.24 0.4 0.4
헤드의 특성을 나타내는 파라미터로는 여러가지가 있겠으나, 본 발명에서는 3가지 파라미터를 사용하였다.
헤드의 최대 자계(Hmax), 자계 분포의 반가폭(d50) 및 side writing ratio(Rsw)
이러한 파라미터들은 3가지 자계성분, 즉 Hx, Hy, Hz에 대하여 정의할 수 있다. 본 발명에서는 자기기록에 가장 큰 영향을 미치는 Hx에 대한 3가지 파라미터만을 고려하였다.
d50은 최대 자계의 50% 에서 자계 분포의 폭으로 정의하였다. Rsw는 Htw/Hg로 정의하였는데, 여기서 Htw는 갭의 중앙으로부터 트랙 폭 방향으로 1.1×트랙폭 만큼 떨어진 지점(본 발명의 경우 0.176 ㎛)에서의 자계이며, Hg는 갭 중앙에서의 자계이다. 도 2와 3의 헤드 형상 제어를 하지 않은 결과와 마찬가지로 헤드 자계에 대한 모든 결과는 헤드의 중앙에서 17.5 nm 떨어진 지점에서 얻어졌다.
상기에서 언급한 3가지 헤드 파라미터 중에서 Hmax는 클수록, d50과 Rsw는 작을수록 성능이 우수한 헤드이다. 헤드의 성능을 최적화하기 위해서는 이러한 3가지 헤드 파라미터에 대하여 상호 연관성을 조사하였다.
도 5는 d50과 Hmax의 상관관계에 대한 결과를 나타낸다. 도 5에 도시된 바와 같이, d50과 Hmax의 상관관계는 상당히 좋은 편이다. 양의 상관관계 계수를 보이고 있는데, 이는 d50의 크기는 Hmax가 클수록 증가한다는 것을 의미한다. 예상되는 바와 같이 Hmax의 크기는 헤드 형상 제어에 의해 감소한다. 동시에 헤드 형상 제어에 의해 d50의 크기도 감소한다. 이 2가지 파라미터들 사이의 상관관계는 헤드 형상 제어 종류에 따라 크게 다르다.
도 5에서 사각형으로 나타낸 제 1형의 형상 제어 방법의 경우 d50의 크기는 평균 상관선(도 5에서 실선으로 나타냄) 위쪽에 위치하며, 채워진 원으로 나타낸 제 2형의 헤드 형상의 경우 평균 상관선 아래쪽 위치한다. 이러한 결과는 동일한 Hmax값에서 d50의 크기가 제 2형 보다 제 1형에서 크다는 것을 의미한다.
제 1형에서 d50의 크기가 큰 것은 헤드 형상 제어 후 계단형의 헤드 형상과 관련이 있는 것으로 생각된다. 제 3형의 헤드 형상 제어에서 d50은 제 1형과 제 2형의 중간에 위치한다. 도 5에 나타낸 d50과 Hmax의 상관관계 결과에서 또 한가지 특징은 제 2형 헤드의 경우 d50과 Hmax의 크기는 헤드 형상 제어에 의해 민감하지 않으나 제 1형과 3형 헤드는 이러한 값들이 민감하게 변한다는 것이다. 본 발명에서 얻은 d50의 크기는 갭 길이(0.12 ㎛) 보다 크다. 하나의 예로서 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드의 경우 d50은 갭 길이 보다 1.7배나 크다.
도 6에는 Rsw과 Hmax의 상관관계를 나타내었다. 도 5에 나타낸 d50과 Hmax의 상관관계와는 달리 Rsw과 Hmax의 상관관계가 그리 좋지 못하다. 그러나 상관계수는 d50과 Hmax에서와 같이 양의 값을 보이고 있다. 즉, Rsw는 Hmax가 증가함에 따라 증가하는 경향을 보인다. 디자인 최적화의 관점에서 보면 이러한 좋지 않은 상관관계는 우수한 특성을 가진 헤드를 구별하는 것이 용이하기 때문에 바람직하다.
도 5의 d50과 Hmax의 에 대한 상관관계 결과와는 달리 헤드의 특성이 헤드 형상 제어에 따라 큰 차이를 보이지 않고 있다. 그러나 한가지 두드러진 특성은 제 2헤드의 경우 Hmax의 범위는 매우 작은데 Rsw의 크기는 큰 변화를 보인다는 점이다. 제 2의 헤드의 경우 작은 Rsw값이 b=0.2 ㎛와 0.5 ㎛에서 얻어졌으며(가장 작은 값은 b=0.2 ㎛에서 얻어졌음) b=0.3 ㎛와 0.4 ㎛의 중간 값을 가질 때는 큰 Rsw값이 얻어졌다.
도 5와 6의 상관관계 결과로부터 최적의 헤드는 가장 작은 Rsw값을 가지는 헤드일 것으로 생각되는데, 이것은 제 2형 헤드에서 a=0.12 ㎛, b=c=0.2 ㎛에서 얻어졌다. 그러나 이 때의 Hmax가 10.8 kOe로서 다소 작아 플래너형 헤드가 가지는 주된 장점을 상쇄시킨다. 따라서 제2형의 헤드로서 a=0.12 ㎛, b=0.5 ㎛, c=0.2 ㎛ 조건을 가지는 헤드를 최적의 헤드로 결정하였다. 이러한 헤드에서 Rsw는 두번째로 작은 값을 갖는다.
최적 헤드의 성능을 평가하기 위하여 마이크로 마그네틱 컴퓨터 시뮬레이션에 의하여 기록 패턴을 형성하였으며, 이러한 결과를 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드를 사용하여 형성된 기록패턴과 비교하였다.
도 7에는 본 발명에 따른 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드를 사용하여 기록한 패턴을 나타내었으며, 도 8에는 최적의 조건에서 헤드 형상 제어를 행한 헤드를 사용하여 기록한 패턴을 나타내었다. 결과는 3가지 종류의 비트 밀도, 즉 454 kiloflux change per inch(kfci)(도면에서 위 부분), 605 kfci(도면에서 가운데 부분) 및 907 kfci(도면에서 아래 부분)에 대하여 나타내었다.
기록 조건을 유사하게 하기 위하여 매체의 결정자기이방성 상수의 크기를 Hmax로 나눈 비가 같도록 하였다. 최적화된 헤드의 Hmax가 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드 보다 Hmax가 작기 때문에 최적화된 기록헤드를 사용하여 기록패턴이 얻어진 매체의 결정자기이방성 상수는 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드를 사용하여 기록 패턴이 얻어진 매체의 결정자기이방성 상수보다 작다. 구체적으로 최적화된 매체의 결정자기이방성 상수는이며, 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드의 경우 매체의 결정자기이방성 상수는이다.
도 7과 8에서 보는 바와 같이 기록된 패턴은 최적화된 헤드를 사용하는 경우 크게 향상되었다. 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드의 경우 비트의 형상이 굽었거나(curved), 형성된 기록 패턴의 트랙 폭이 실제 헤드의 트랙 폭보다 매우 길다. 이러한 문제들은 최적화된 헤드를 사용하는 경우 많이 해결되었다. 구체적으로 비트의 형상이 휠씬 적게 굽어졌으며, 트랙 폭이 크게 감소하엿다.
하나의 예로서 605 kfci의 비트 밀도에서 헤드 형상 제어를 하지 않는 헤드를 사용하는 경우 트랙 폭은 390 nm이나 최적화된 헤드를 사용하는 경우 트랙 폭은 220 nm로 크게 감소한다. 이는 헤드의 최적화에 의해 트랙 밀도를 크게 올릴 수 있다는 것을 의미한다. 또 한가지 주목할 것은 헤드 형상 제어를 하지 않는 경우 가장 높은 907 kfci의 비트 밀도에서 기록 패턴은 확실하지 않으나 최적화된 헤드를사용하는 경우 기록 패턴이 휠씬 더 확실하다는 점이다.
이상에서와 같이 본 발명에 의한 플래너형 헤드는 높은 기록자계가 가능하여 높은 결정자기이방성을 가진 매체에 정보를 기록하는 것이 가능하다. 이는 초 고밀도 자기기록과 관련된 열적 요동문제를 해결하여 자기기록의 초 고밀도를 가능하게 한다. 특히 헤드 형상 제어에 의한 기록 헤드 최적화를 통하여 d50과 Rsw를 줄임으로써 헤드 형상 제어를 하지 않는 플래너형 헤드보다 더욱 높은 기록 밀도의 달성이 가능하다.
본 발명은 상기의 실시 예에만 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 많은 변형이 가능함은 명백한 사실이다.

Claims (6)

  1. 높은 결정자기이방성 에너지를 갖는 매체를 사용하여 초 고기록밀도를 달성하기 위한 플래너형 기록헤드에 있어서,
    상기 기록헤드의 소정 부분을 돌출면과, 상기 돌출면에서 기록헤드 내측방향으로 테이퍼 가공된 경사면과, 상기 경사면으로부터 동일 평면상으로 확장된 확장면을 갖고,
    상기 돌출면의 넓이에 의해 결정되는 헤드 폴 에지(a), 상기 경사면의 각도에 의해 결정되는 헤드 폴의 경사도(b), 상기 돌출면과 확장면의 높이차에 의해 결정되는 헤드 폴의 두께(c)를 조절하는 제 1,2,3 헤드 형상 제어 방법에 의해 기록헤드의 형상 파라미터를 변화시켜 기록헤드의 특성을 최적화하는 것
    을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 제 1 헤드 형상은 헤드 폴의 경사도(b)와 헤드 폴의 두께(c)는 소정의 값으로 고정하고, 헤드 폴 에지(a)만을 변화시켜 헤드 형상 제어 부분이 계단형(step-like) 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 제 2 헤드 형상은 헤드 폴 에지(a)와 헤드 폴의 두께(c)는 소정의 값으로 고정하여 헤드 폴의 경사도(b)의 값이 작아지면 헤드의 특성이 제 1 헤드 형상 제어방법과 유사한 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 제 3 헤드 형상은 헤드 폴의 경사도(b)와 헤드 폴의 두께(c)는 소정의 값으로 고정되어 있고, 헤드 폴 에지(a)만을 변화시켜 제 1 헤드 형상 제어방법과 유사한 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 기록헤드의 형상 특성을 나타내는 파라미터는 헤드의 최대 자계(Hmax)와, 자계 분포의 반가폭(d50) 및 side writing ratio(Rsw)를 사용하여 기록헤드의 특성을 최적화하는 것을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드의 특성 최적화 방법.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 최적화된 플래너형 헤드를 사용하는 매체의 결정자기이방성 상수가인 것을 특징으로 하는 플래너형 기록헤드의 특성 최적화 방법.
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