KR100458729B1

KR100458729B1 - 특수용기 내면 처리용 혼합물 및 내면 처리방법

Info

Publication number: KR100458729B1
Application number: KR1020040034597A
Authority: KR
Inventors: 박승근
Original assignee: 박승근
Priority date: 2004-04-28
Filing date: 2004-05-17
Publication date: 2004-12-03

Abstract

본 발명은 특수용기 내면 처리용 혼합물 및 내면 처리방법에 관한 것으로, 반도체 제조 등에 사용되는 공정가스를 비롯한 고순도의 물질을 보관하는데 사용되는 특수용기에 있어서, 용기 내면의 요철이나 이에 부착된 이물질에 의하여 보관 중인 물질의 순도가 감소되는 것을 방지하기 위하여 용기 내부의 표면에 대한 처리 작업시, 그 효과를 증대할 수 있도록 용기 내부에 투입되어 사용되는 혼합물과 이를 이용한 가공 및 광택 등 특수용기 내면 처리방법에 관한 것이다.

본 발명에 따른 가공용 충전물은 Al₂O₃와 SiO₂가 함유된 세라믹 재질의 미디어 44 ~ 48 중량% 와 초순수(De Ionized water) 50 ~ 54 중량% 와 pH 7이상의 계면활성제 0.5 ~ 2 중량% 가 혼합되어 이루어지며, 이를 이용한 가공방법은 상기 충전물이 투입된 용기를 수평방향의 회전축을 중심으로 회전하면서 상기 회전축을 지면에서 일정한 각도로 좌우로 기울여서, 상기 가공용 충전물이 용기의 어깨와 밑면 부분에도 용이하게 접할 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

특수용기 내면 처리용 혼합물 및 내면 처리방법 { The mixture for processing inner surface of vessel and method therefor }

본 발명은 특수용기 내면 처리용 혼합물 및 내면 처리방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 제조 등에 사용되는 공정가스를 비롯한 고순도의 물질을 보관하는데 사용되는 특수용기에 있어서, 용기 내면의 요철이나 이에 부착된 이물질에 의하여 보관 중인 물질의 순도가 감소되는 것을 방지하기 위하여 용기 내부의 표면에 대한 처리 작업시, 그 효과를 증대할 수 있도록 용기 내부에 투입되어 사용되는 혼합물과 이를 이용한 가공 및 광택 등의 특수용기 내면 처리방법에 관한 것이다.

일반적으로 산업 현장에서는 고순도의 물질이 흔히 사용되고 있다. 특히 다이오우드나 트랜지스터와 같은 반도체 소자를 제조함에 있어서는 고순도의 가스가 필수적이다. 즉, 일반적인 반도체 소자의 제조과정은, 산화실리콘(모래)에서 고순도의 실리콘을 추출하여 단결정으로 성장시키고 이를 원판 모양으로 잘라서 웨이퍼를 만드는 공정, 웨이퍼의 전체 표면에 절연막을 형성하고 필요한 부분을 제거하여 일정한 패턴을 형성하는 공정, 형성된 패턴에 따라 불순물 이온을 주입하는 공정, 불순물 이온을 통하여 형성되는 전기적 활성영역을 배선하는 공정으로 이루어지는데, 여기서 웨이퍼에 절연막을 형성하는 경우나 일정한 패턴을 형성함에 있어서는 막성분을 포함하는 소스를 고순도의 공정가스 형태로 웨이퍼 표면에 공급함으로써화학반응을 유도하여 막을 증착시킨다.

그런데 주지된 바와 같이, 반도체 소자는 대단히 정밀한 제품이므로 미세한 인자에 의해서도 그 성능에 영향을 받을 수 있다. 따라서 웨이퍼에 공급되는 공정가스는 필수적으로 고순도를 유지해야 하며, 만일 공정가스가 불순물을 함유하여 웨이퍼에서 불필요한 반응이 발생된다면 제품의 동작에 악영향을 미칠 수 있다.

공정가스의 순도를 유지하기 위해서는, 최초 가스 자체를 고순도로 준비하는 것도 중요하지만 준비된 가스를 담고있는 용기의 내부 표면에 오염물질이나 요철이 없도록 별도의 처리가 필요하다. 왜냐하면 용기 내부에서 공정가스가 오염물질과 반응하여 순도가 떨어질 수 있기 때문이다. 특히 공정가스가 부식성이 강한 황 또는 불소계열 가스인 경우에는, 용기 내부에 미세한 흠집이 있어도 그 주변을 급속히 오염시키며 흠집 부분에 부착된 잔류가스와 새로 충전된 가스가 반응하여 가스의 순도가 급속히 감소된다.

따라서 반도체 제조를 비롯하여 초고순도의 물질을 사용하는 경우, 그러한 초고순도 물질을 보관하는 특수용기는 내부를 별도 처리하는 공정을 거치는데, 도 1은 종래 특수용기 내면 처리방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.

도면에 도시된 바와 같이, 고순도 물질을 보관하는 특수용기의 내면 처리시, 종래에는 용기(1) 내부에 세라믹 재질의 미디어와 초순수(De Ionized water) 등이 배합된 가공용 충전물(100)을 투입한 후 상기 용기(1)를 회전축(2)을 중심으로 회전시켜, 상기 가공용 충전물(100)과 용기(1) 내부 표면에서 마찰을 통한 연마가 일어나도록 함으로써, 용기(1) 내면을 가공하고 불필요한 이물질을 제거하였다.

그러나 위와 같은 종래의 방법은 다음과 같은 문제가 있다.

첫째, 상기 충전물(100)을 구성하는 미디어와 초순수가 적정하게 배합되지 못하여, 용기(1) 내부의 절삭된 부분과 미디어가 서로 엉켜서 겔(gel) 상태를 형성함으로써 가공 작업의 질이 저하되고, 또한 과다하게 투입된 초순수가 미디어의 작용을 방해하는 문제가 있다.

둘째, 효율적인 가공을 위해서는 충전물(100)이 용기(1) 내부의 전영역에 골고루 접하도록 해야하는데, 도 1과 같이, 용기(1)가 수평으로 눕혀진 상태에서 수평방향 회전축(2)을 중심으로 용기(1)를 회전시키면, 용기의 어깨(1a)나 밑면(1b) 부분에 대해서는 충전물(100)이 충분히 접할 수 없게 되므로, 해당 부분의 가공이 부족하게 되는 문제가 있다.

본 발명은 상기한 사정을 감안하여 발명된 것으로, 고순도 물질을 보관하는 특수용기의 내부 처리 작업시, 적정비로 배합되어 이물질 제거와 표면거칠기 감소 효과를 최대화 할 수 있는 특수용기 내면 처리용 혼합물과, 상기 혼합물을 이용한 작업시 특수용기의 어깨나 밑면 부분에 대해서도 상기 혼합물이 충분하게 접할 수있도록 된 특수용기 내면 처리방법 및 이러한 방법이 구체적으로 구현된 장치를 제공하고자 함에 그 목적이 있다.

도 1은 종래 특수용기 내면 처리방법을 개략적으로 나타낸 도면,

도 2는 본 발명이 적용된 특수용기의 준비과정을 나타낸 절차 흐름도,

도 3은 본 발명에 사용되는 세라믹 미디어의 형태를 나타낸 구조도,

도 4는 온도변화에 따른 초순수의 표면장력 변화를 나타낸 그래프,

도 5는 본 발명 특수용기 내면 처리방법의 원리를 나타내는 도면,

도 6은 본 발명 특수용기 내면 처리방법이 구체적으로 구현된 장치를 나타낸 도면이다.

♧도면의 주요부분에 대한 부호의 설명♧

1 -- 용기 2 -- 회전축

10 -- 고정프레임 20 -- 제1회전드럼

30 -- 제2회전드럼 40 -- 유압실린더

50 -- 받침대 100 -- 충전물

상기와 같은 목적을 구현하기 위한 본 발명 특수용기 내면 처리용 혼합물은, 고순도 물질을 보관하는 특수용기에 있어, 용기 내면에 부착된 이물질을 제거하거나 내면의 거칠기를 감소시키기 위한 용기 내면 가공 작업시 용기 내부에 투입되어 사용되며, Al₂O₃와 SiO₂가 함유된 세라믹 재질의 미디어 44 ~ 48 중량%, 초순수(De Ionized water) 50 ~ 54 중량%, pH 7이상의 계면활성제 0.5 ~ 2 중량% 의 비율로 혼합되어 이루어진 것을 특징으로 한다.

또한 본 발명의 다른 구현예로, 상기 가공 작업 후 내부를 보다 미세하게 절삭하기 위한 광택 작업에 사용되는 혼합물은, Al₂O₃와 SiO₂가 함유된 광택제 50 ~ 54 중량%, 초순수(De Ionized water) 44 ~ 48 중량%, pH 7이상의 계면활성제 0.5 ~ 3 중량% 의 비율로 혼합되어 이루어진 것을 특징으로 한다.

한편 본 발명 특수용기 내면 처리방법은, 고순도 물질을 보관하는 특수용기에 가공용 충전물을 투입한 후 용기를 회전하면서 상기 가공용 충전물과 용기 내부 표면의 마찰력을 통하여 용기 내면을 균일하게 가공하는 단계, 상기 가공용 충전물을 제거한 후 용기 내부를 세정하는 단계, 상기 용기 내부로 광택용 충전물을 투입한 후 용기를 회전하면서 상기 광택용 충전물과 용기 내부 표면의 마찰력을 통하여 용기 내면을 보다 미세하게 절삭하는 광택 단계, 상기 광택용 충전물을 제거한 후 용기 내부를 세정하는 단계, 상기 용기 내부로 고온의 질소나 공기를 투입하여 건조하는 단계를 포함하여 이루어지는 특수용기 내면 처리방법에 있어서, 상기 용기 가공 또는 광택 단계는, 수평방향의 회전축을 중심으로 용기가 회전하면서 상기 회전축을 지면에서 일정한 각도로 좌우로 기울여서, 상기 가공용 충전물 또는 광택용 충전물이 용기의 어깨와 밑면 부분에도 용이하게 접할 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 한다.

또한 상기 방법이 구체적으로 구현된 본 발명 특수용기 내면 처리장치는, 고순도 물질을 보관하는 특수용기가 장착되어 이를 회전시키는 다수개의 제1회전드럼, 상기 다수개의 제1회전드럼 중심부에 설치되며 동력을 공급받아 각각의 제1회전드럼에 전달하여 상기 제1회전드럼과 동일한 방향으로 회전하는 제2회전드럼, 상기 제1회전드럼 및 제2회전드럼이 설치되는 고정프레임, 상기 고정프레임의 일측 외부에 설치되어 상기 고정프레임을 일정한 각도로 좌우로 기울일 수 있도록 작동하는 유압실린더를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명의 실시예를 예시도면에 의거 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명이 적용된 특수용기의 준비과정을 나타낸 절차 흐름도이다.

도면을 참조하면, 전체 절차는 용기 내부의 가공(S10), 용기 세정(S20), 용기 내부의 광택(S30), 용기 세정(S40), 용기 건조(S50)로 이루어진다.

상기 용기 내부의 가공(S10)은, 가공용 충전물을 투입(S11)하고 용기를 회전(S12)하면서 가공한 후 충전물을 제거(S13)하는 것으로 이루어진다. 상기 가공용 충전물은, 세라믹 재질의 미디어와 초순수 및 소량의 계면활성제 혼합물인데, 종래에는 이들 구성성분의 적정 배합비를 설정하지 못하여 효과적인 가공이 이루어지지 않았다. 그러나 본 발명에 따라, 미디어 44 ~ 48 중량% 와 초순수 50 ~ 54 중량% 와 계면활성제 0.5 ~ 2 중량% 로 배합된 경우 용기 내부의 가공 효과가 크게 증가된다.

상기 미디어는 Al₂O₃와 SiO₂가 함유된 세라믹 재질로서, 6 ~ 8 mm 의 높이를 가지는 삼각기둥, 사각기둥, 삼각뿔, 사각뿔 중 어느 하나 이상의 형태를 가지며, 도 3에 도시된 삼각기둥의 형태가 가장 많이 사용된다. 상기 초순수는 물속에 녹아있는 각종 이온과 무기물을 제거한 순수한 물로 '탈이온수' 라고도 하며, 반도체 제조의 웨이퍼 세정을 비롯하여 각종 세척에 사용된다. 상기 미디어와 초순수는 특히 1 : 1.15의 비율로 배합되었을 때 가장 큰 효과를 발휘한다.

상기 미디어와 초순수외에도 소량의 계면활성제가 첨가된다. 계면활성제는, 묽은 용액 속에서 계면에 흡착하여 그 표면장력을 감소시키는 것으로, 비누나 세제가 대표적인 물질이다. 가령, 의류를 세탁하는 경우 물 속에 세제를 넣으면, 세제가 물과 의류에 부착된 이물질의 경계면에서 양쪽에 작용하여, 표면장력을 낮추고 이물질이 의류에서 떨어지도록 작용한다. 마찬가지로 본 발명에 사용되는 소량의계면활성제도 용기 내부에 부착된 이물질의 탈락을 유도하는데, pH 7이상의 염기성 계면활성제가 산성의 계면활성제에 비하여 효과적으로 작용한다. 한편 상기 초순수는 온도에 따라 표면장력이 변화하여, 도 4와 같이 50 ~ 70 ℃ 에서 표면장력이 최소가 되어 이물질의 탈락 효과가 증대되므로, 상기 온도에서 사용함이 바람직하다.

다음의 표는 본 발명에 따라 특수용기를 가공 처리한 경우와 종래 기술에 따라 가공한 후의 결과를 비교한 실험데이터이다.

구 성	작업시간(시간)	계면활성제(g)	거칠기(Ra)
8mm의 구형 미디어 20Kg상온의 물 25Kg	12	500	30<
8mm의 구형 미디어 15Kg8mm의 세모형 미디어 10Kg상온의 물 20Kg	12	500	25<
8mm의 세모형 미디어 25Kg50 ℃의 초순수 20Kg	8	400	20<
8mm의 세모형 미디어 25Kg60 ℃의 초순수 20Kg	4	350	1<

본 실험에서 나타난 바와 같이, 가공용 충전물을 구성하는 세라믹 미디어, 초순수, 계면활성제의 배합비 및 초순수의 온도 등에 따라서 가공 후 용기 내면의 거칠기가 크게 차이남을 알 수 있다. 따라서 본 발명과 같이, 충전물의 적정 배합비를 설정하는 것에는, 고도의 기술적 노하우가 담겨있으며 대단히 중요한 것임을 확인할 수 있다.

본 발명에서는 미디어를 세라믹 재질로 이루어지는 것으로 살펴보았으나, 이외에도 금속이나 합성수지 재질의 미디어에 의해서도 동일한 효과가 나타난다면 그러한 방향으로 변형이 가능할 것이다.

위와 같이 배합된 가공용 충전물이 준비되면, 이를 용기에 투입하고 용기를 회전하면서 가공 작업을 진행한다. 앞서 살펴 본 바와 같이, 종래 가공시에는 용기가 수평으로 눕혀진 상태에서 수평축을 중심으로 회전하므로, 용기의 어깨나 밑면 부분에 대해서는 충전물이 충분히 접할 수 없는 문제가 있었다.

그러나 본 발명에 의하면, 회전축을 중심으로 용기가 회전할 때, 그와 동시에 상기 회전축을 지면에서 일정한 각도로 좌우로 경사지게 한다. 따라서 도 5(a)에 도시된 바와 같이, 좌측으로 기울인 상태에서 용기(1)를 회전시키면 용기(1)의 어깨(1a) 부분으로 충전물(100)이 집중되고, 도 5(b)와 같이 우측으로 기울인 상태에서 용기(1)를 회전시키면 용기(1)의 밑면(1b)으로 충전물(100)이 집중되어, 종래의 문제가 해소된다. 이 때 상기 회전축(2)이 지면에 대하여 기울어지는 각도는, 용기(1)의 형상 등을 감안하여 약 2 ~ 30°정도인 것이 좋다.

이와 같이 용기의 가공이 끝나면, 용기 내면이 연마된 것과 기타 이물질이 포함된 충전물을 용기에서 제거한다.

상기 용기 가공 후에는, 세정 단계(S20)가 진행된다. 가공 후 용기 내부에는, 충전물 및 이물질이 완전히 제거되지 않고 남아있으므로 세정이 필요하며, 이 때는 초순수(70 Kg 이하)와 소량(200 ~ 300 g)의 계면활성제를 세정액으로 사용한다.

다음으로 광택 단계(S30)가 진행된다. 광택 단계는 경우에 따라서 생략될 수도 있지만, 가공 단계 후 용기 내부의 표면적을 더욱 작고 조밀하게 하기 위해서는 광택 단계를 통하여 용기 내부를 미세하게 절삭함이 바람직하며, 특히 초고순도의 반도체 제조용 공정가스를 보관하는 용기에 있어서는 필요하다. 광택은 가공과 대체로 유사하나, 반드시 가공 단계를 거친 후 진행되어야 한다는 점과 광택시 투입되는 충전물의 성분이나 배합에 있어서 차이난다.

구체적으로 광택 단계(S30)는, 광택용 충전물을 용기에 투입(S31)하고, 용기를 회전(S32)하면서 충전물이 용기 내부에서 마찰을 통하여 절삭을 일으키도록 한 후, 충전물을 제거(S33)하는 것으로 이루어진다.

상기 광택용 충전물은, 광택제와 초순수 및 계면활성제의 혼합물로, 종래에는 가공용 충전물의 경우와 마찬가지로 적정 배합비를 설정하지 못하여 미세한 절삭이 불가능한 문제가 있었으나, 본 발명에 따라, 광택제 50 ~ 54 중량% 와 초순수 44 ~ 48 중량% 와 pH 7이상의 계면활성제 0.5 ~ 3 중량% 로 배합된 경우 만족스러운 광택 효과가 나타난다.

상기 광택제는 가공시 사용되는 미디어와 유사하게 Al₂O₃와 SiO₂성분을 포함하며 3 ~ 8 mm 의 직경을 가지는 볼 타입이다. 상기 초순수는 표면장력이 최소화된 50 ~ 70 ℃ 상태에서 사용함이 바람직하며, 상기 광택제와 초순수는 특히 1.125: 1 의 비율로 배합되었을 때 가장 큰 효과를 발휘한다. 한편 위와 같은 배합비로 광택제, 초순수, 계면활성제가 배합된 혼합물을 준비하여 용기 내에 투입한 후, 용기를 회전시키는 경우에는 가공 단계에서와 마찬가지로 용기의 어깨와 밑면으로 충전물이 충분히 접할 수 있도록 용기를 좌우로 기울이면서 회전시킨다.

광택 후에는 초순수(70 Kg 이하)와 소량(200 ~ 300 g)의 계면활성제를 세정액으로 사용하여 세정(S40)하고, 용기를 건조(S50)시킨다. 건조시 이를 촉진시키기 위해 통상 100 ℃ 이상의 고온 질소(N₂)나 공기를 용기 내부로 분사한다.

도 6은, 본 발명 특수용기 내면 처리방법이 구체적으로 구현된 장치를 나타낸 도면으로, (a)는 정면도이고 (b)는 측면도이다.

도면을 참조하면, 본 발명의 처리장치는, 전체 골격을 형성하는 고정프레임(10), 상기 고정프레임(10) 내측에 설치되는 제1회전드럼(20)과 제2회전드럼(30), 상기 고정프레임(10)의 외부 일측에 설치되는 유압실린더(40)를 포함한다.

상기 제1회전드럼(20)은 다수개로 이루어져 고순도 물질을 보관하는 다수개의 특수용기(1)가 장착되며, 상기 제2회전드럼(30)은 다수개의 제1회전드럼(20)의 중심부에 설치된다. 통상 제2회전드럼(30)은 육각형의 구조로 형성되어, 육각형의 각 변에 총 6개의 제1회전드럼(20)이 연결된다. 상기 제2회전드럼(30)은 모터(미도시)에서 동력을 공급받아 구동축(32)이 회전하므로, 이 때 개개의 제1회전드럼(20)도 회전하게 된다. 상기 제1회전드럼(20)은 300 ~ 500 rpm 으로 회전하며 제2회전드럼(30)은 85 ~ 150 rpm 으로 회전하므로, 약 4배의 속도차가 난다. 또한 제1회전드럼(20)과 제2회전드럼(30)은 동일한 방향으로 회전하므로, 용기(1)내에 투입된 충전물은 높은 속도로 가속되어 용기(1)의 내면과 큰 마찰력에 의한 연마가 이루어질 수 있다.

한편 도 6(b)에 도시된 바와 같이, 고정프레임(10)의 외부 일측에는 유압실린더(40)가 설치된다. 상기 유압실린더(40)가 작동하여 일정한 주기마다 고정프레임(10) 일측을 들어 올리거나 내림으로써, 구동축(32)의 작동으로 회전하는 제1회전드럼(20)을 좌우로 경사지게 기울일 수 있게 된다. 또한 고정프레임(10)의 중심부에는 받침대(50)가 설치되어 유압실린더(40)의 작동시 고정프레임(10)의 균형을 유지한다.

이상에서 살펴 본 바와 같이, 본 발명 특수용기 내면 처리용 혼합물 및 내면 처리방법에 의하면, 고순도의 물질을 보관하는 특수용기 내면의 가공 및 광택 처리 작업에 있어서, 상기 내면 처리 작업시 투입되는 충전물을 적정 배합비로 설정하여 작업 효율을 극대화 할 수 있고, 또한 내면 처리 작업시 용기를 단순히 회전시키는 외에 일정 각도로 기울임으로써 용기의 어깨와 밑면 등에 대해서도 충분히 충전물이 접할 수 있어 용기 전체가 골고루 가공될 수 있는 효과가 있다.

Claims

고순도 물질을 보관하는 특수용기에 있어, 용기 내면에 부착된 이물질을 제거하거나 내면의 거칠기를 감소시키기 위한 용기 내면 가공 작업시 용기 내부에 투입되어 사용되며, Al₂O₃와 SiO₂가 함유된 세라믹 재질의 미디어 44 ~ 48 중량%, 초순수(De Ionized water) 50 ~ 54 중량%, pH 7이상의 계면활성제 0.5 ~ 2 중량% 의 비율로 혼합되어 이루어진 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리용 혼합물.
제 1항에 있어서, 상기 세라믹 재질의 미디어는, 6 ~ 8 mm 의 높이를 가지는 삼각기둥, 사각기둥, 삼각뿔, 사각뿔 중 어느 하나 이상의 형태를 가지는 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리용 혼합물.
제 1항에 있어서, 상기 초순수의 온도는 50 ~ 70 ℃ 인 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리용 혼합물.
고순도 물질을 보관하는 특수용기에 있어, 용기 내면에 부착된 이물질을 제거하거나 내면의 거칠기를 감소시키기 위한 용기 내면 가공 작업 후 내부를 보다 미세하게 절삭하기 위한 광택 작업에 사용되며, Al₂O₃와 SiO₂가 함유된 광택제 50 ~ 54 중량%, 초순수(De Ionized water) 44 ~ 48 중량%, pH 7이상의 계면활성제 0.5 ~ 3 중량% 의 비율로 혼합되어 이루어진 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리용 혼합물.
제 4항에 있어서, 상기 광택제는, 3 ~ 8 mm 의 직경을 가지는 볼 타입인 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리용 혼합물.
제 4항에 있어서, 상기 초순수의 온도는 50 ~ 70 ℃ 인 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리용 혼합물.
고순도 물질을 보관하는 특수용기에 가공용 충전물을 투입한 후 용기를 회전하면서 상기 가공용 충전물과 용기 내부 표면의 마찰력을 통하여 용기 내면을 균일하게 가공하는 단계, 상기 가공용 충전물을 제거한 후 용기 내부를 세정하는 단계, 상기 용기 내부로 광택용 충전물을 투입한 후 용기를 회전하면서 상기 광택용 충전물과 용기 내부 표면의 마찰력을 통하여 용기 내면을 보다 미세하게 절삭하는 광택 단계, 상기 광택용 충전물을 제거한 후 용기 내부를 세정하는 단계, 상기 용기 내부로 고온의 질소나 공기를 투입하여 건조하는 단계를 포함하여 이루어지는 특수용기 내면 처리방법에 있어서,

상기 용기 가공 또는 광택 단계는, 수평방향의 회전축을 중심으로 용기가 회전하면서 상기 회전축을 지면에서 일정한 각도로 좌우로 기울여서, 상기 가공용 충전물 또는 광택용 충전물이 용기의 어깨와 밑면 부분에도 용이하게 접할 수 있도록 이루어지는 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리방법.
제 7항에 있어서, 상기 회전축이 지면에 대하여 기울어지는 각도는 2 ~ 30°인 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리방법.
제 7항에 있어서, 상기 용기 가공 단계에 투입되는 가공용 충전물은 제 1항 내지 제 3항에 의한 특수용기 내면 처리용 혼합물인 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리방법.
제 7항에 있어서, 상기 용기 광택 단계에 투입되는 광택용 충전물은 제 4항내지 제 6항에 의한 특수용기 내면 처리용 혼합물인 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리방법.
고순도 물질을 보관하는 특수용기가 장착되어 이를 회전시키는 다수개의 제1회전드럼, 상기 다수개의 제1회전드럼 중심부에 설치되며 동력을 공급받아 각각의 제1회전드럼에 전달하여 상기 제1회전드럼과 동일한 방향으로 회전하는 제2회전드럼, 상기 제1회전드럼 및 제2회전드럼이 설치되는 고정프레임, 상기 고정프레임의 일측 외부에 설치되어 상기 고정프레임을 일정한 각도로 좌우로 기울일 수 있도록 작동하는 유압실린더를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 특수용기 내면 처리장치.