KR100396181B1 - 가변 커패시터 및 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

가변 커패시터용 금속 로터가 압연(壓延) 공정을 거쳐서 얻어진 금속판을 에칭가공함으로써 제조하였을 때, 휨이 생기며, 로터 전극을 제공하는 단차부와 경사방지용 볼록부 사이에 단차가 생기는 경우가 있다.

본 발명에 따르면, 금속판을 에칭가공함으로써, 로터 전극(14)을 제공하는 단차부(13) 및 이것과 동등한 높이를 갖는 경사방지용 볼록부(15)를 형성할 수 있으며, 단차부(13)와 경사방지용 볼록부(15)의 배열 방향에 대하여, 금속판의 압연 방향(19)을 실질적으로 직교하는 방향으로 한다.

Description

가변 커패시터 및 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법{Variable capacitor and method of manufacturing metal rotor therefor}

본 발명은 가변 커패시터 및 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 압연 공정을 거쳐서 얻어진 금속판을 에칭가공함으로써 제조된 금속 로터를 포함하는 가변 커패시터, 및 이 금속 로터의 제조 방법에 관한 것이다.

도 5에는 본 발명에서 흥미있는 가변 커패시터의 일례가 단면도로 도시되어 있다.

여기에 도시한 가변 커패시터(1)는 표면실장가능한 형식의 것으로, 크게 나누면, 고정자(2), 금속 로터(3), 금속 커버(4) 및 스프링 워셔(5)를 포함하고 있다.

고정자(2)는 세라믹 유전체로 구성되며, 그 내부에는 고정자 전극(6) 및 (7)이 나란히 형성되어 있다. 이들 고정자 전극(6) 및 (7)에 각각 전기적으로 접속되도록, 고정자(2)의 서로 대향하는 측면상에는, 도전막에 의하여 제공된 단자(8, 9)가 형성되어 있다.

이와 같이, 고정자(2)는 좌우대칭의 구조를 가지고 있다. 이에 따라서, 가변 커패시터(1)의 조립 작업을 실시할 때, 고정자(2)의 방향을 고려할 필요가 없다는 이점을 갖는데, 이와 같은 이점을 바라지 않는 경우에는, 도 5에 도시한 조립 구조에 있어서, 고정자 전극(7) 및 이것과 관련된 단자(9)가 생략되는 경우도 있다.

상술한 고정자(2)상에, 금속 로터(3)가 배치된다. 금속 로터(3)는 도 6 및 도 7에도 도시되어 있다. 도 6은 금속 로터(3)의 상측 주면(10)측을 나타내고, 도 7은 금속 로터(3)의 하측 주면(11)측을 나타내고 있다.

금속 로터(3)는 각각 원형의 상측 주면(10)과, 하측 주면(11) 및 이들을 연결하는 외주면(12)을 갖는, 전체적으로 원주형상을 이루고 있다.

하측 주면(11)측에는, 도 7에 잘 도시되어 있는 바와 같이, 대략 반원형상으로 부분적으로 돌출하는 단차부(13)의 표면에 의해 로터 전극(14)이 형성된다. 또한, 마찬가지로 하측 주면(11)측에는 단차부(13)의 높이와 동등한 높이를 갖는 경사방지용 볼록부(15)가 형성되며, 단차부(13)의 형성에 의하여 금속 로터(3)가 기우는 것이 방지된다.

상술한 단차부(13) 및 볼록부(15)의 배치의 상세에 대하여 설명하면, 하측 주면(11)을, 직경 방향으로 연장되는 경계선을 사이에 두고 제 1 및 제 2 반원형상 영역으로 2분할하였을 때, 단차부(13)는 제 1 반원형상 영역에 형성되고, 볼록부(15)는 제 2 반원형상 영역 내로, 경계선에 직교하는 직경상에 위치되어 있다.

다른 한편, 금속 로터(3)의 상측 주면(10)측에는, 도 6에 잘 도시되어 있는바와 같이, 드라이버 홈(16)이 형성된다.

상술한 금속 로터(3)는 금속 커버(4)에 의하여 회전가능하게 수납된다. 금속 커버(4)는 이와 같이 금속 로터(3)를 회전가능하게 수납하는 형상을 가지고 있으므로, 도시하지 않았지만, 그 일부가 고정자(2)에 걸어맞춰지게 되어, 고정자(2)에 고정된다.

금속 커버(4)의 상면에는, 금속 로터(3)의 드라이버 홈(16)을 노출시키기 위한 조정용 구멍(17)이 형성된다. 이 조정용 구멍(17)의 둘레부에는 약간 원추형상의 경사가 제공되며, 이에 따라서 금속 로터(3)를 향하여 스프링 작용을 하게 된다.

또한, 금속 커버(4)에는 고정자(2)의 외주면(12)의 하단부에까지 연장되는 단자(18)가 형성된다. 이 단자(18)는 고정자(2)의 한쪽의 단자(9)와 솔더링되는 경우도 있다.

스프링 워셔(5)는 금속 로터(3)의 상측 주면(10)과 금속 커버(4)의 조정용 구멍(17)의 둘레부 사이에 배치되며, 금속 로터(3)를 향하여 스프링 작용을 하도록, 예를 들면 원추형상의 경사를 형성하고 있다.

따라서, 금속 커버(4)의 조정용 구멍(17)의 둘레부 및 스프링 워셔(5)가 각각 미치는 스프링 작용에 의하여, 금속 로터(3)는 고정자(2)에 가압되며, 금속 로터(3)와 고정자(2) 사이에서 안정된 밀착 상태가 얻어진다.

이와 같은 구성을 갖는 가변 커패시터(1)에 있어서, 로터 전극(14)이 고정자(2)의 일부인 유전체를 사이에 두고 고정자 전극(6)과 대향함으로써, 정전용량이 얻어진다. 그리고, 금속 로터(3)를 회전시킴으로써, 로터 전극(14)과 고정자 전극(6)간의 유효대향면적을 변화시키고, 이에 따라서 취득 정전용량이 조정된다. 이 정전용량은 고정자 전극(6)에 전기적으로 접속되는 단자(8)와, 로터 전극(14)을 형성하는 금속 로터(3)에 스프링 워셔(5)를 개재하여 전기적으로 접촉하고 있는 금속 커버(4)에 형성된 단자(18)와의 사이에 인출된다.

상술한 금속 로터(3)는 통상 냉간 단조 또는 주조에 의하여 제조되고 있다. 그러나, 냉간 단조 또는 주조는 금속 로터(3)를 위한 전용 금형이 필요하므로, 초기 코스트가 높아짐과 아울러, 가공 중에 금형에 미치는 부하가 비교적 크기 때문에, 금형의 수명이 짧아서 비용이 많이 드는 작업이다.

또한, 냉간 단조 또는 주조에 의하여 얻어진 금속 로터(3)에 있어서의 로터 전극(14)의 표면 거칠기 및 기복은 비교적 크다. 이와 같은 표면 거칠기 및 기복은 정전용량의 안정성을 늘리기 위해서는 작아야만 한다. 따라서, 냉간 단조 또는 주조에 의하여 얻어진 금속 로터(3)는 통상 연마와 같은 후가공을 필요로 한다. 그러나, 이와 같은 연마 공정도 더욱 비용이 드는 작업이다.

이와 같은 배경하에서, 상술한 바와 같은 문제를 해결하기 위하여, 냉간 단조 또는 주조에 의하지 않고, 저가이고 또한 능률적으로 가변 커패시터용 금속 로터를 제조할 수 있는 방법이, 일본국 특허공개 평9-190951호 공보에 제안되어 있다.

이 공보에서 제안된 금속 로터의 제조 방법은 기본적으로 에칭 기술을 적용하여 금속 로터를 제조하고자 하는 것으로, 도 5 내지 도 7에 도시한 금속 로터(3)를 제조하고자 하는 경우, 먼저 금속판이 준비되며, 이 금속판에 대하여 에칭 레지스트를 사용하면서 선택적인 에칭이 실시되며, 이에 따라서 로터 전극(14)을 위한 단차부(13), 경사방지용 볼록부(15), 드라이버 홈(16), 및 외주면(12)이 형성된다.

이와 같은 방법을 적용하는 경우, 금속판은 압연 공정을 거쳐서 얻어지는 것이지만, 그 표면에 연마를 실시하여, 표면 거칠기를 작게 해 두면, 이 평활한 표면은 에칭 동안에도 유지되며, 얻어진 금속 로터에 있어서 평활한 평면으로 그대로 로터 전극(14)으로 할 수 있다.

그러나, 상술한 바와 같은 에칭 기술을 적용하여 제조된 금속 로터(3)에 있어서, 때로는 휨이 생기고, 그 결과 로터 전극(14)과 경사방지용 볼록부(15)의 단면 사이에 단차가 생기는 경우가 있다. 또한, 이와 같은 휨 또는 단차의 크기는 복수의 금속 로터(3) 사이에서 일정하지 않다.

이와 같이, 로터 전극(14)과 볼록부(15)의 단면 사이에 단차가 생기면, 고정자(2)와의 접촉 상태가 불안정하게 되며, 이 때문에 금속 로터(3)의 회전을 위한 토크가 불안정하게 됨과 아울러, 가변 커패시터91)의 세팅 드리프트를 불안정하게 한다.

따라서, 본 발명의 목적은 상술한 바와 같은 휨 또는 단차에 의하여 초래되는 문제를 해결할 수 있는, 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법 및 이 제조 방법에 의하여 얻어진 금속 로터를 포함하는 가변 커패시터를 제공하는데 있다.

도 1은 본 발명의 한 실시형태에 따른 가변 커패시터에 포함되는 금속 로터(3)의 하측 주면(11)측을 나타낸 도이다.

도 2는 도 1에 도시한 금속 로터(3)의 제조 방법에 포함되는 공정을 순차로 나타내는 단면도이다.

도 3은 도 1에 상응하는 도로, 비교예로서의 금속 로터(3)의 하측 주면(11)측을 나타낸 도이다.

도 4는 본 발명의 다른 실시형태에 따른 가변 커패시터에 포함되는 금속 로터(3a)의 하측 주면(11)측을 나타낸 도이다.

도 5는 본 발명에서 흥미있는 가변 커패시터(1)를 나타낸 단면도이다.

도 6은 도 5에 도시한 가변 커패시터(1)에 포함되는 금속 로터(3)를 단독으로 상측 주면(10)측에서 본 사시도이다.

도 7은 도 6에 도시한 금속 로터(3)의 하측 주면(11)측을 나타낸 사시도이다.

(도면의 주요 부분에 있어서의 부호의 설명)

1: 가변 커패시터 2: 고정자

3, 3a: 금속 로터 6, 7: 고정자 전극

10, 22: 상측 주면 11, 23: 하측 주면

13: 단차부 14: 로터 전극

15: 경사방지용 볼록부 19: 압연 방향

21: 금속판 24, 25: 레지스트

본건 발명자들은 금속 로터에 있어서의 휨의 원인을 규명하기 위하여, 여러가지 실험을 거듭한 결과, 금속 로터를 제조하기 위하여 사용되는 금속판의 압연 방향이 휨의 발생과 관계있다는 것을 발견하였다. 즉 압연 공정을 거쳐서 얻어진 금속판에 대하여, 로터 전극을 위한 단차부 및 경사방지용 볼록부를 형성하기 위하여 부분적인 에칭을 실시하면, 금속판의 두께가 부분적으로 바뀌며, 그 결과, 금속판에 있어서의 내부 잔류 응력의 분포 상태가 변화하게 된다. 그리고, 사용된 금속판의 압연 방향과 에칭 가공에 의하여 두께가 변화한 부분의 관계가 영향을 미치어, 얻어진 금속 로터에 있어서 휨이 생기거나 생기지 않는다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이른 것이다.

본 발명은 금속 로터를 포함하며, 이 금속 로터의 한쪽의 주면측에서 부분적으로 돌출하는 단차부의 표면에 의하여 제공되는 로터 전극이, 유전체를 사이에 두고 고정자 전극과 대향하며, 금속 로터를 회전시킴으로써 로터 전극과 고정자 전극의 유효 대향면적을 변화시키고, 이에 따라서 정전용량을 조정하도록 한, 가변 커패시터에 관한 것이다.

이와 같은 가변 커패시터에 있어서, 금속 로터는 압연 공정을 거쳐서 얻어진 금속판을 에칭가공함으로써 제조된 것으로, 금속 로터의 한쪽의 주면측에, 상술한 단차부와 이 단차부의 높이와 동등한 높이를 갖는 경사방지용 볼록부가 배열되어 있다. 그리고, 상술한 기술적 과제를 해결하기 위하여, 이들 단차부와 볼록부의 배열 방향은 금속판의 압연 방향에 대하여 실질적으로 직교하는 방향이 되도록 되어 있다.

상술한 가변 커패시터에 있어서, 더욱 특정적인 실시양태에서는, 금속 로터의 주면은 원형이며, 이 주면을, 직경방향으로 연장되는 경계선을 사이에 두고 제 1 및 제 2 반원형상 영역으로 2분할하였을 때, 단차부는 제 1 반원형상 영역에 형성되며, 경사방지용 볼록부는 제 2 반원형상 영역 내로서, 경계선에 직교하는 직경상에 위치된다.

또한, 본 발명은 한쪽의 주면측에, 표면에 로터 전극을 형성하도록 부분적으로 돌출하는 단차부, 및 이 단차부의 높이와 동등한 높이를 갖는 경사방지용 볼록부가 배열되어 있는, 가변 커패시터용 금속 로터를 제조하는 방법에 관한 것이다.

이 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법은 압연 공정을 거쳐서 얻어진 금속판을 준비하는 공정과, 이 금속판을 에칭가공함으로써, 상술한 단차부 및 경사방지용 볼록부를 형성하는 공정을 포함하며, 상술한 기술적 과제를 해결하기 위하여, 단차부 및 경사방지용 볼록부를 형성하는 공정에 있어서, 단차부와 경사방지용 볼록부의 배열 방향에 대하여, 금속판의 압연 방향을 일정한 방향을 향하도록 하는 것을 특징으로 하고 있다.

본 발명에 따른 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법에 있어서, 바람직하게는 금속판을 에칭가공함으로써, 단차부 및 경사방지용 볼록부를 형성할 때, 단차부와 경사방지용 볼록부의 배열 방향에 대하여 직교하는 방향으로 금속판의 압연 방향을 향하게 한다.

(발명의 실시형태)

이하에, 본 발명의 실시형태를 상술한 도 5 내지 도 7을 참조하여 설명한 가변 커패시터(1)와 관련하여 설명한다. 따라서, 이하의 설명에 있어서, 특히 지적하는 사항을 제외하고, 본 발명의 실시형태의 설명에는 상술한 설명을 원용할 수 있다.

도 1은 본 발명의 한 실시형태에 따른 금속 로터(3)를 설명하기 위한 것으로, 도 5 내지 도 7에 나타낸 금속 로터(3)의 하측 주면(11)측이 도시되어 있다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 금속 로터(3)의 하측 주면(11)측에는, 상술한 바와 같이, 로터 전극(14)을 형성하는 단차부(13)와 경사방지용 볼록부(15)가 형성되어 있다. 더욱 상세히 설명하면, 하측 주면(11)은 원형이며, 이 하측 주면(11)을, 직경 방향으로 연장되는 경계선을 사이에 두고 제 1 및 제 2 반원형상 영역으로 2분할하였을 때, 단차부(13)는 제 1 반원형상 영역에 형성되며, 경사방지용 볼록부(15)는 제 2 반원형상 영역 내로서, 경계선에 직교하는 직경상에 위치되어 있다.

도 1에 나타낸 바와 같이, 금속 로터(3)의 하측 주면(11)측에 있어서, 단차부(13)와 경사방지용 볼록부(15)가 배열되는 경우, 이 배열 방향은 금속 로터(3)를 얻기 위한 금속판의 압연 방향(19)에 대하여 실질적으로 직교하는 방향으로 선택된다.

이와 같은 금속 로터(3)를 제조하기 위한 방법의 일례에 대하여 도 2를 참조하여 설명하겠다. 도 2는 금속 로터(3)의 제조 방법에 포함되는 공정을 순차로 나타낸 단면도이다.

먼저, 도 2의 (1)에 나타낸 바와 같이, 금속판(21)이 준비된다. 이금속판(21)은 압연 공정, 또는 압연 및 연마 공정을 거쳐서 얻어진 것으로, 상측 주면(22) 및 하측 주면(23)을 가지고 있다. 특히, 하측 주면(23)에 대해서는, 로터 전극(14)에서 필요한 평활면을 형성하고 있다. 또한, 압연 공정을 거쳐서 얻어진 금속판(21)의 압연 방향(19)이 도 2에 있어서 지면(紙面)에 직교하는 방향이 되도록 금속판(21)이 배치된다.

다음으로, 마찬가지로 도 2의 (1)에 나타낸 바와 같이, 금속판(21)의 상측 주면(22) 및 하측 주면(23)의 각각에, 제 1 레지스트(24)가 형성된다. 이 제 1 레지스트(24)의 형성 패턴은 상측 주면(22)측에는, 얻고자 하는 금속 로터(3)의 상측 주면(10)에 있어서의 드라이버 홈(16)의 부분, 또한 하측 주면(23)측에는, 금속 로터(3)의 하측 주면(11)에 있어서의 단차부(13) 및 경사방지용 볼록부(15) 이외의 부분을 각각 노출시키도록 선택된다.

다음으로, 도 2의 (2)에 나타낸 바와 같이, 하프(half) 에칭이 실시된다. 이에 따라서, 드라이버 홈(16)이 상측 주면(22)측에 형성되며, 단차부(13) 및 경사방지용 볼록부(15)가 하측 주면(23)측에 형성된다. 상측 주면(22)측으로부터의 하프 에칭의 깊이, 및 하측 주면(23)측으로부터의 하프 에칭의 깊이는 예를 들면 에칭액의 양 및 에칭 시간의 조건에 따라서 별개로 설정된다.

다음으로, 도 2의 (3)에 나타낸 바와 같이, 제 1 레지스트(24)가 제거된다.

다음으로, 도 2의 (4)에 나타낸 바와 같이, 금속판(21)의 상측 주면(22) 및 하측 주면(23)의 각각에, 제 2 레지스트(25)가 형성된다. 이 제 2 레지스트(25)의 형성 패턴은 얻고자 하는 금속 로터(3)의 상측 주면(10) 및 하측 주면(11)의 각 평면형상 즉 원형상에 상응한다.

다음으로, 도 2의 (5)에 나타낸 바와 같이, 제 2 레지스트(25)에 의하여 끼워진 부분 이외의 부분을 제거하도록, 에칭이 실시된다. 이 에칭에 의하여, 얻고자 하는 금속 로터(3)의 외주면(12)이 형성된다. 이 단계에서, 금속 로터(3)의 형상이 완성되어 있다.

다음으로, 도 2의 (6)에 나타낸 바와 같이, 제 2 레지스트(25)가 제거된다.

이와 같이 하여, 소망의 금속 로터(3)가 얻어진다. 여기서, 금속판(21)의 압연 방향(19)은 도 2의 지면에 직교하는 방향으로 설정되었으므로, 단차부(13)와 경사방지용 볼록부(15)는 이 금속판(21)의 압연 방향(19)에 대하여 실질적으로 직교하는 방향으로 배열되어 있다는 것에 주목해야한다.

또한, 단차부(13)의 표면에 의하여 형성된 로터 전극(14)은 에칭 처리중에는 제 1 또는 제 2 레지스트(24) 또는 (25)에 의하여 피복되어 있었으므로, 금속판(21)의 하측 주면(23)에 당초 제공되어 있던 평활성이 그대로 유지되고 있다는 것에도 주목해야한다. 준비된 금속판(21)의 표면이 충분한 평활성을 가지고 있지 않는 경우, 예를 들면 도 2의 (3)에 나타낸 공정 후에, 금속 로터(3)의 로터 전극(14)에서 필요한 평활성을 제공하기 위한 연마 공정이 실시되어도 된다.

이상, 본 실시형태에 따른 금속 로터(3)에 있어서의 휨을 확인하기 위하여, 두께가 약 0.2∼0.4㎜의 범위에 있는 금속판(21)을 사용하여, 직경이 약 2∼3㎜의 범위에 있는 금속 로터(3)를 제조한 바, 단차부(13)의 표면의 로터 전극(14)과 경사방지용 볼록부(15)의 단면 사이의 단차를 0㎛로 할 수 있었다.

이에 비하여, 동일한 금속판(21)을 사용하고, 동일한 치수의 금속 로터(3)를 제조하면서, 도 3에 나타낸 바와 같이, 단차부(13)와 경사방지용 볼록부(15)의 배열 방향을 압연 방향(19)과 일치시킨 경우에는, 단차부(13)의 표면의 로터 전극(14)과 경사방지용 볼록부(15)의 단면간의 단차는 0.5∼2.0㎛의 범위에서 나타났다.

이상, 본 발명을 도시한 실시형태와 관련하여 설명하였으나, 본 발명의 범위 내에서 여러가지의 변형예가 가능하다.

예를 들면, 도 2를 참조하여 설명한 에칭공정의 순서는 일례에 불과하며, 이것을 변경하는 것도 가능하다.

또한, 도 2에 도시한 금속 로터(3)의 제조 방법에서는 금속 로터(3)의 외주면(12)에 대해서도 에칭에 의하여 형성하였으나, 이와 같은 외주면(12)은 예를 들면 절단에 의하여 형성해도 된다.

또한, 본 발명에 따른 제조 방법에 의하여 제조되는 금속 로터의 형상에 대해서는, 도시된 것에 한정되지 않으며, 로터 전극을 형성하기 위한 단차부와 경사방지용 볼록부를 포함하는 것이면, 다른 형상의 것이어도 된다. 예를 들면 도 4에 나타낸 형상이어도 된다. 즉 도 4에 나타낸 금속 로터(3a)에는 관통하는 드라이버 홈(16a)이 형성되어 있다. 다른 구성에 대해서는, 도 1에 도시한 금속 로터(3)와 실질적으로 동일하므로, 대응하는 요소에는 동일한 참조 번호를 붙이고, 중복 설명을 생략한다.

또한, 본 발명에 따른 금속 로터의 제조 방법에 있어서, 금속판을 에칭가공함으로써, 단차부 및 경사방지용 볼록부를 형성하고자 하였을 때, 단차부와 경사방지용 볼록부의 배열방향에 대하여, 금속판의 압연 방향을 직교하는 방향으로 하는 것이 가장 바람직한데, 이들 배열 방향과 압연 방향 사이에 일정한 관계를 갖도록 하여 두는 것만으로, 가령 휨이 생기더라도, 휨의 정도를 실질적으로 동일하게 할 수 있으므로, 제품간의 편차를 방지할 수 있다는 이점을 기대할 수 있다.

이상과 같이, 본 발명에 따른 가변 커패시터에 따르면, 금속 로터가 압연 공정을 거쳐서 얻어진 금속판을 에칭가공함으로써 제조되며, 이 금속 로터의 한쪽 주면측에, 로터 전극을 제공하는 단차부와 이 단차부의 높이와 동등한 높이를 갖는 경사방지용 볼록부가, 금속판의 압연 방향에 대하여 실질적으로 직교하는 방향으로 배열되어 있으므로, 에칭가공을 위한 금속판의 두께가 변화하여, 금속판의 내부잔류응력의 분포에 변화가 생기더라도, 휨이 발생하기 어려우며, 따라서 단차부의 표면의 로터 전극과 경사방지용 볼록부의 단면간의 단차가 발생하기 어렵게 할 수 있다.

따라서, 금속 로터의 유전체에의 접촉 상태가 안정되며, 가변 커패시터의 세팅 드리프트를 안정화시킬 수 있음과 아울러, 금속 로터의 회전에 있어서의 토크를 안정화시킬 수 있다.

또한, 본 발명에 따른 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법에 따르면, 금속판을 에칭가공함으로써, 단차부 및 경사방지용 볼록부를 형성할 때, 단차부와 경사방지용 볼록부의 배열 방향에 대하여, 금속판의 압연 방향을 일정한 방향으로 하고 있으므로, 얻어진 복수의 금속 로터 사이에서, 설령 휨이 생기더라도, 이 휨의 정도를 실질적으로 일정하게 하는 것이 가능해지며, 가변 커패시터의 제조 공정에 있어서의 금속 로터의 품질 관리를 용이하게 할 수 있다.

본 발명에 따른 금속 로터의 제조 방법에 있어서, 단차부와 경사방지용 볼록부의 배열 방향에 대하여, 금속판의 압연 방향을 직교하는 방향으로 하면, 얻어진 금속 로터에 있어서 휨이 발생하기 어렵게 할 수 있다.

Claims (4)

1. 금속 로터를 포함하며, 상기 금속 로터의 한쪽 주면측에 있어서 부분적으로 돌출하는 단차부의 표면에 의하여 제공되는 로터 전극이, 유전체를 사이에 두고 고정자 전극과 대향하며, 상기 금속 로터를 회전시킴으로써, 상기 로터 전극과 상기 고정자 전극간의 유효 대향 면적을 변화시키고, 이에 따라서 정전 용량을 조정하도록 한 가변 커패시터로서,

   상기 금속 로터는 압연 공정을 거쳐서 얻어진 금속판을 에칭가공함으로써 제조된 것이며,

   상기 금속 로터의 한쪽 주면측에, 상기 단차부 및 상기 단차부의 높이와 동등한 높이를 갖는 경사방지용 볼록부가, 상기 금속판의 압연 방향에 대하여 실질적으로 직교하는 방향으로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 금속 로터의 주면은 원형이며, 상기 주면을 직경방향으로 연장되는 경계선을 사이에 두고 제 1 및 제 2 반원형상 영역으로 2분할하였을 때, 상기 단차부는 상기 제 1 반원형상 영역에 형성되며, 상기 볼록부는 상기 제 2 반원형상 영역 내로, 상기 경계선에 직교하는 직경상에 위치되는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터.
3. 한쪽 주면측에, 표면에 로터 전극을 형성하도록 부분적으로 돌출하는 단차부 및 상기 단차부의 높이와 동등한 높이를 갖는 경사방지용 볼록부가 배열되어 있는, 가변 커패시터용 금속 로터를 제조하는 방법으로,

   압연 공정을 거쳐서 형성된 금속판을 준비하는 공정, 및

   상기 금속판을 에칭가공함으로써, 상기 단차부 및 상기 경사방지용 볼록부를 형성하는 공정을 포함하며,

   상기 단차부 및 상기 경사방지용 볼록부를 형성하는 공정에 있어서, 상기 단차부 및 상기 경사방지용 볼록부의 배열 방향에 대하여, 상기 금속판의 압연 방향을 일정한 방향으로 하는 것을 특징으로 하는 가변 커패시터용 금속로터의 제조 방법.
4. 제 3 항에 있어서, 상기 일정한 방향은 직교하는 방향인 것을 특징으로 하는 가변 커패시터용 금속 로터의 제조 방법.