KR100373202B1 - 자외선흡수제,이의제조방법및용도 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 일반식(1)의 화합물에 관한 것이다.
상기식에서,
B1및 B2는 각각 독립적으로 지방족 결합 그룹이고,
U는 일반식
의 라디칼이고,
(L1)1-3은 설포, 하이드록시, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 내지 3개의 라디칼 L1이고,
(L2)0-1은 설포, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 1개의 치환체 L2이고,
W는 그룹 -NR2-, -O- 또는 -S-이고,
R2는 수소, 또는 치환되지 않거나 치환된 C1-C4알킬이고,
W1은 라디칼 -C(O)O-, -O(O)C-, -C(O)NH-또는 -HN(O)C-이고,
=E-는 그룹 =N-또는 =C(T1)-이고,
T1은 할로겐, C1-C4알킬설포닐, 포밀, C2-C4알콕시카보닐 또는 시아노이고,
X1은 할로겐, 하이드록시, 설포, C1-C4알킬설포닐, 페닐설포닐, 치환되지 않거나 치환된 아미노, 3-카복시피리딘-1-일 또는 3-카바모일피리딘-1-일이고,
T는 독립적으로 X1의 정의 중 하나이거나; 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오 또는 아릴티오 라디칼이거나; 질소-함유 헤테로사이클릭 라디칼 또는 일반식
의 반응성 라디칼이고,
R1은 수소; 치환되지 않거나 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시 또는 시아노에 의해 치환된 C1-C4알킬; 또는 라디칼이고,
R3은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
R4는 수소, 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시, 시아노, 할로겐, C1-C4알콕시카보닐, C1-C4알카노일옥시, 카바모일 또는 그룹 -SO2-Y이고,
alk 및 alk'는 서로 독립적으로 C1-C6알킬렌이고,
아릴렌은 치환되지 않거나 설포, 카복시, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 라디칼이고,
Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-Z이고,
Z는 이탈 그룹이고,
W2는 -O- 또는 -NR3-이고,
W3은 그룹 -SO2-NR1, -CONR1- 또는 -NR1CO-이고,
r, s, t 및 u는 서로 독립적으로 0 또는 1이고, t가 0인 경우, s는 0이며,
단 일반식(1)의 화합물은 하나 이상의 설포 또는 설페이토 그룹과 알칼리성 조건하에서 제거가능한 하나 이상의 그룹을 수반한다.
당해 화합물은 염색되지 않은 섬유재료, 염색된 섬유재료 또는 날염된 섬유 재료의 광화학적 안정화 및 이의 일광보호인자를 강화시키기 위한 UV 흡수제로서사용하기에 적합하다.

Description

자외선 흡수제, 이의 제조방법 및 용도
본 발명은 신규한 섬유 반응성 자외선(UV) 흡수제, 이의 제조방법 및 염색 및 비염색 섬유의 광화학적 안정화 및 섬유의 일광 보호인자를 강화시키기 위한 이의 용도에 관한 것이다.
UV 조사선은 피부에 유해한 것으로 알려져 있다. 강렬한 일광 조사선에 대한 보호는 통상적으로 UV 흡수제를 함유하는 조성물(선크림)을 피부에 직접 적용시켜 수행되고 있다. 특히 오스트레일리아와 미국에서 처럼 햇볕이 강렬한 지역에서는 최근에 UV 조사선에 의해 유도되는 피부 손상의 발생이 현저하게 증가하고 있다. 따라서 이들 나라에서는 일광 조사선으로부터 피부 보호 문제에 대한 관심이 증대되고 있다.
본 제안은 피부를 직접 보호할 뿐만 아니라 UV 조사선으로 부터 추가로 보호하는, 피부를 감싸는 의복 및 차양 또는 양산과 같은 일광 보호용 직물 제품을 제공한다. 대부분의 천연 및 합성 직물은 염색여부를 불문하고 통상적으로 UV 조사선 에 대해 적어도 부분 투과성이므로 단순한 의복 착용만으로는 UV 조사선에 기인한 피부 손상으로부터 적당한 보호를 제공하지 못한다. 본원에서는 직물에 UV 흡수제를 혼입시켜 이를 가능하게 하고 있다.
UV 조사선으로부터의 보호에 대하여 직물, 특히 셀룰로오스성 섬유 또는 천연 및 합성 폴리아미드 섬유를 함유하는 물질 분야에서 수득한 결과가 현재까지는 만족스럽지 못하여 이들 물질에 대해 특히 부합되는 신규한 UV 흡수제를 개발할 필요성이 있다.
따라서, 본 발명은 일반식(1)의 화합물에 관한 것이다.
상기식에서,
B1및 B2는 각각 독립적으로 지방족 결합 그룹이고,
U는 2-하이드록시벤조페논, 2-하이드록시페닐-1,3,5-트리아진, 옥스아미드, 아크릴레이트, 비치환 또는 치환된 벤조산 및 이의 에스테르, 및 일반식
의 라디칼로 이루어진 그룹으로부터 선택된 UV 흡수제의 라디칼이고,
(R)0-3은 설포, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 하이드록시, 카복시, 니트로 및 C1-C4알킬카보닐아미노로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 라디칼 R이고,
R'는 수소, 설포, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시이고,
M은 그룹 -NR"-CO-또는 -NR"-SO2-이고,
R"는 수소 또는 C1-C4알킬이고,
W는 그룹 -NR2-, -O- 또는 -S-이고,
R2는 수소 또는 비치환 또는 치환된 C1-C4알킬이고,
W1은 라디칼 -C(O)O-, -O(O)C-, -C(O)NH- 또는 -HN(O)C-이고, =E-는 그룹 =N- 또는 =C(T1)-이고,
T1은 할로겐, C1-C4알킬설포닐, 포밀, C2-C4알콕시카보닐 또는 시아노이고,
X1은 할로겐, 하이드록시, 설포, C1-C4알킬설포닐, 페닐설포닐, 비치환 또는 치환된 아미노, 3-카복시피리딘-1-일 또는 3-카바모일피리딘-1-일이고,
T는 X1의 정의중 하나이거나: 추가로 치환될 수 있는 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오 또는 아릴티오 라디칼이거나; 질소 함유 헤테로사이클릭 라디칼
또는 일반식
의 반응성 라디칼이고,
R1은 수소; 비치환 또는 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시 또는 시아노에 치환된 C1-C4알킬; 또는 라디칼이고,
R3은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
R4는 수소, 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시, 시아노, 할로겐, C1-C4알콕시카보닐, C1-C4알카노일옥시, 카바모일 또는 그룹 -SO2-Y이고,
alk 및 alk'는 서로 독립적으로 C1-C6알킬렌이고,
아릴렌은 비치환 또는 설포, 카복시, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 라디칼이고,
Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-Z이고,
Z는 이탈 그룹이고,
W2는 -O- 또는 -NR3-이고,
W3은 그룹 -SO2-NR1, -CONR1-또는 -NR1CO-이고,
r, s, t 및 u는 각각 독립적으로 0 또는 1이고, t가 0인 경우, s는 0이며,
단, 일반식(1)의 화합물은 하나 이상의 설포 또는 설페이토 그룹과 알칼리성 조건하에서 제거가능한 하나 이상의 그룹을 수반한다.
지방족 결합 그룹으로 정의된 B1및 B2는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C12알킬렌, 바람직하게는 직쇄 또는 측쇄의 C1-C6알킬렌일 수 있다. 특히 바람직한 알킬렌 라디칼 B1및 B2의 예는 메틸렌, 1,2-에틸렌, 1,2-프로필렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 2-메틸-1,5-펜틸렌 및 1,6-헥실렌이다. 메틸렌 및 1,2-에틸렌이 바람직하다.
r 및 s는 바람직하게는 각각 0이고 t는 0 또는 1이다. r, s 및 t는 가장 바람직하게는 각각 0이다.
R2는 수소, 또는 비치환 또는 전형적으로 할로겐, 하이드록시, 시아노, C1-C4알콕시, C1-C4알콕시카보닐, 카복시, 설파모일, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된C1-C4알킬일 수 있다. 바람직하게는 R2는 수소 또는 C1-C4알킬, 가장 바람직하게는 수소, 메틸 또는 에틸이다.
2-하이드록시페닐-1,3,5-트리아진으로 정의된 U는 전형적으로는 일반식(3)의 라디칼이다.
상기식에서,
z는 1 내지 3의 정수이고,
Q1, Q2및 Q2'는 서로 독립적으로 수소, 하이드록실, 탄소수 1 내지 12의 알킬, 탄소수 1 내지 18의 알콕시, 또는 비치환되거나 하이드록시-치환된 C1-C4알콕시-C1-C4알콕시이다.
적당한 2-하이드록시페닐트리아진 라디칼 U의 예는 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스 (2,4-디메틸페닐)- 1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4- 디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 , 2,4-비스(2-하이드록시-4- 프로폭시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 , 2-(2- 하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5- 트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4- 디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시- 3-부톡시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5- 트리아진, 2-(2-하이드록시-4-메톡시-6-설포페닐)-4,6-비스(페닐)- 1,3,5-트리아진 또는 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸 옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진의 라디칼이다.
2-하이드록시벤조페논의 라디칼로서 U는 편리하게는 일반식(4)의 라디칼이다.
상기식에서,
(A)0-3은 할로겐, 하이드록실, 설포, C1-C12알콕시 또는 페닐-C1-C4알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 라디칼이고,
(A1)0-2는 할로겐, 하이드록실, 설포, C1-C12알콕시 또는 페닐-C1-C4알콕시로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 라디칼이다.
적당한 2-하이드록시벤조페논 라디칼 U의 예는 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논, 2-하이드록시-4-데실옥시 벤조페논, 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논, 2-하이드록시- 4-메톡시-5-설포벤조페논, 2-하이드록시-4-벤질옥시벤조페논, 4,2',4'-트리하이드록시벤조페논 또는 2'-하이드록시-4,4'- 디메톡시벤조페논의 라디칼이다.
2-하이드록시벤조페논의 라디칼로서 U는 바람직하게는 일반식(4a)의 라디칼이다.
상기식에서,
(A)1-2는 C1-C12알콕시 또는 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 또는 2개의 라디칼이다.
옥스아미드 라디칼로서의 U는 편리하게는 일반식(5)의 옥살아닐라이드 라디칼이다.
상기식에서,
(L1)x는 설포, 하이드록시; 각각의 탄소수가 1 내지 22이고 각각 비치환되거나 알킬 잔기가 설포에 의해 치환된 알킬, 알콕시 또는 알킬티오; 또는 각각 비치환되거나 페닐 환이 설포에 의해 치환된 페녹시 또는 페닐티오로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 x개의 치환체 L1을 나타내고,
(L2)y는 설포; 각각의 탄소수가 1 내지 22이고 각각 비치환되거나 알킬 잔기가 설포에 의해 치환된 알킬, 알콕시 또는 알킬티오; 각각 비치환되거나 페닐 환이 설포에 의해 치환된 페녹시 또는 페닐티오로 이루어진 그룹으로 부터 선택된 동일하거나 상이한 y개의 치환체 L2이고,
x 및 y는 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이고, x+y의 값은 1 이상이다.
x는 바람직하게는 1, 2 또는 3, 가장 바람직하게는 1 또는 2이고, y는 바람직하게는 0 또는 1, 가장 바람직하게는 0이다. 치환체 L1및 L2는 각각 독립적으로 바람직하게는 설포, C1-C4알킬 또는 C1-C12알콕시, 가장 바람직하게는 설포 또는 C1-C4알콕시이다.
적당한 옥살아닐라이드 라디칼 U의 전형적인 에는 4,4'-디옥틸옥시옥스아닐라이드, 2,2'-디에톡시옥스아닐라이드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-t-부틸옥스아닐라이드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-t-부틸옥스아닐라이드, 2-에톡시-2'-에틸옥스 아닐라이드, 2-메톡시-5-설포옥스아닐라이드, 2-에톡시-5-설포옥스아닐라이드, 2,5-디메톡시옥스아닐라이드, 2-에톡시-5-t- 부틸-2'-에틸옥스아닐라이드 라디칼 단독 또는 2-에톡시-2'- 에틸-5,4'-디-t-부틸-옥스아닐라이드와의 부가 혼합물, 또는 o- 또는 p-메톡시아닐라이드 및 o- 및 p-디에톡시옥스아닐라이드 라디칼의 혼합물이다.
옥스아미드로서의 U는 바람직하게는 일반식(5a')의 라디칼이다.
상기식에서,
(L1)1-3은 설포, 하이드록시, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 3개의 라디칼 L1이고,
(L2)0-1은 설포, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 1개의 치환체 L2이다.
옥스아미드로서의 U는 바람직하게는 일반식(5a)의 라디칼이다.
상기식에서,
(L1)1-2는 설포, 하이드록시, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시, 바람직하게는 설포 및 C1-C4알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 또는 2개의 라디칼 L이다.
적당한 아크릴레이트 라디칼 U는 치환되지 않거나 α 위치에 시아노 또는 카보-C1-C4알콕시에 의해 치환되고, β 위치에 페닐, C1-C4알콕시페닐 또는 인돌릴 라디칼을 수반하고 다른 β 위치는 치환되지 않거나 페닐, C1-C4알콕시페닐 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 C1-C10알킬아크릴레이트이다.
아크릴레이트 라디칼 U의 전형적인 예는 에틸 또는 이소옥틸 α-시아노-β, β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 또는 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시신나메이트 또는 N-(β-카보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린 라디칼이다.
비치환 또는 치환된 벤조산 또는 이의 에스테르 라디칼로시 U는 전형적으로 비치환, 또는 하이드록시 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 벤조산 라디칼, 페닐, C1-C8알킬페닐 또는 이의 C1-C18알킬 에스테르이다. 예를 들어 벤조산, 4-t-부틸페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐살리실레이트, 디벤조일 레소르시놀, 비스 (4-t- 부틸벤조일)레소르시놀, 벤조일 레소르시놀, 2,4-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-t- 부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4- 하이드록시벤조에이트 또는 2-메틸-4,6-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤조에이트 라디칼이다.
U가 일반식(1')의 라디칼인 경우, (R)0-3은 바람직하게는 설포, 메틸, 메톡시, 하이드록시 및 카복시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 라디칼 R을 나타내고, R'은 바람직하게는 수소이며 M은 바람직하게는 그룹 -NH-CO- 또는 NH-SO2-이다. U는 이경우에 바람직하게는 일반식(1'')의 라디칼이다.
상기식에서,
(R)0-1은 설포, 메틸, 메톡시, 하이드록시 및 카복시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 또는 1개의 라디칼 R이고,
M은 바람직하게는 그룹 -NH-CO-또는 NH-SO2-이다.
U는 상기 일반식(1"), (4a) 또는 (5a')의 라디칼, 또는 비치환 또는 하이드록시 또는 C1-C4알킬에 의해 치환된 벤조산 라디칼 또는 페닐, C1-C8알킬페닐 또는 이의 C1-C18알킬 에스테르, 가장 바람직하게는 상기 일반식(5a)의 라디칼이다.
W는 바람직하게는 =NR2-라디칼이고, 여기서 R2는 위에서 제공된 정의 및 바람직한 정의와 동일하다. W의 특히 바람직한 정의는 -NH-이다.
비치환 또는 치환된 아미노로서 일반식(1)에서 정의된 X1은 전형적으로는 -NH2; 각각의 알킬 잔기가 비치환 또는 하이드록시, 카복시, 설포, 설페이토 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 N-모노-또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 사이클로헥실아미노; 또는 각각의 페닐 잔기가 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시, 설포, 할로겐 또는 일반식(6a) 또는 (6b)의 라디칼에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노; 치환된 페닐아미노; 또는 하나 이상의 설포 그룹에 의해 치환된 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노 또는 1- 또는 2-나프틸아미노들을 의미하는 것으로 새길 수 있다.
상기식에서,
Y는 상기 정의한 바와 동일하고,
p는 1 내지 6의 정수이다.
일반식(6b)에서, p는 바람직하게는 2, 3 또는 4, 가장 바람직하게는 2 또는 3이다.
비치환 또는 치환된 아미노로 정의된 X1은 바람직하게는 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노 카복시메틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, 2-설포에틸아미노, N,N-디-β- 하이드록시에틸아미노, 사이클로헥실아미노, o-, m- 또는 p-메틸페닐아미노, o-, m- 또는 p-메톡시페닐아미노, o-, m- 또는 p-설포페닐아미노, 2,4- 또는 2,5-디설포페닐아미노, o-카복시페닐아미노, N-에틸-N-페닐아미도, N-메틸-N- 페닐아미노, 또는 일반식(6a) 또는 (6b)의 라디칼에 의해 치환된 페닐아미노이다. 가장 바람직하게는 비치환 또는 치환된 아미노로서 X1은 아미노, β-설포에틸아미노, β-하이드록시 에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노 및 o-, m- 또는 p-설포페닐아미노이다.
X1은 바람직하게는 클로로, 플루오로, 하이드록시, 아미노; 비치환 또는 각각의 알킬 잔기가 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬 아미노; 또는 비치환 또는 페닐 잔기가 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 카복시, 설포, 클로로 또는 일반식(6a) 또는 (6b)의 라디칼에 의해 치환된 페닐아미노를 의미한다.
가장 바람직하게는 X1은 클로로 또는 플루오로이다.
가변 성분 =E-가 그룹 =C(T1)-인 경우, T1은 바람직하게는 할로겐, 가장 바람직하게는 플루오로 또는 클로로이다. 가변 성분 =E-는 바람직하게는 그룹 =N-이다.
알콕시 라디칼을 의미하는 T는 바람직하게는 C1-C4알콕시 라디칼, 전형적으로는 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소프로폭시 또는 n-, iso-, sec- 또는 tert-부톡시이다. 메톡시 또는 이소프로폭시가 바람직하다.
아릴옥시 라디칼을 의미하는 T는 전형적으로는 비치환 또는 치환체 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 하이드록시, 카복시 또는 설포에 의해 치환될 수 있는 치환된 페녹시이다.
알킬티오 라디칼로서 정의된 T는 전형적으로는 C1-C4알킬티오, 바람직하게는 메틸티오 또는 에틸티오이다.
아릴티오 라디칼로서 정의된 T는 전형적으로는 비치환 또는 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 하이드록시, 카복시 또는 설포에 의해 치환될 수 있는 치환된 페닐티오이다.
T가 독립적으로 X1에 대한 상기 정의 중의 하나인 경우 역시 바람직한 정의가 동일하게 적용된다.
질소-함유 헤테로사이클릭 라디칼을 의미하는 T는 전형적으로 피페리디노 또는 피페라지노 라디칼 또는, 바람직하게는 모르폴리노 라디칼이다.
적당한 이탈 그룹 Z는 전형적으로는 -Cl, Br, -F, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, -OPO3H2, -OCO-CCl3, -OCO-CHCl2, -OCO-CH2Cl, -OSO2-C1-C4알킬, -OSO2-N(C1-C4알킬)2또는 -OCO-C6H5이다.
Z는 바람직하게는, -Cl, -OSO3H, -SSO3H-, -OCO-CH3, -OCO-C6H5또는 -OPO3H2, 보다 바람직하게는 -Cl 또는 -OSO3H, 가장 바람직하게는 -OSO3H이다.
Y는 비닐, β-클로로에틸, β-설페이토에틸, β-티오설페이토에틸, β-아세톡시에틸, β-페녹시에틸 또는 β-포스페이트에틸, 가장 바람직하게는 β-설페이토에틸 또는 비닐이다.
alk 및 alk'는 각각 독립적으로 전형적으로는 메틸렌, 에틸렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부티렌, 1,5-펜틸렌 또는 1,6-헥실렌 라디칼 또는 이의 측쇄화된 이성체이다.
바람직하게는 alk 및 alk'는 각각 독립적으로 C1-C4알킬렌 라디칼, 가장 바람직하게는 에틸렌 라디칼 또는 1,2-또는 1,3-프로필렌 라디칼이다.
아릴렌은 바람직하게는 비치환 또는 설포, 메틸, 메톡시 또는 카복시에 의해 치환된 1,3- 또는 1,4-페닐렌 라디칼, 또는 비치환 또는 설포 치환된 나프틸 라디칼, 가장 바람직하게는 비치환 1,3-또는 1,4-페닐렌 라디칼이다.
R1은 바람직하게는 수소 또는 C1-C4알킬[예: 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, s-부틸 또는 t-부틸]이다. R1은 가장 바람직하게는 수소이다.
R3은 바람직하게는 수소, 메틸 또는 에틸, 가장 바람직하게는 수소이다.
R4는 바람직하게는 수소이다.
W2는 바람직하게는 -NH-또는 -O-, 가장 바람직하게는 -O-이다.
W3은 바람직하게는 구조식 -CONH- 또는 -NHCO-의 그룹, 가장 바람직하게는 -CONH- 그룹이다.
u는 바람직하게는 0이다.
반응성 라디칼 T는 W3이 구조식 -CONH- 또는 -NHCO-의 그룹이고, R1, R3및 R4가 각각 수소이고, W2가 -O- 또는 -NH-이고 alk 및 alk'가 각각 독립적으로 에틸렌 또는 프로필렌이고, 아릴렌이 비치환 또는 메틸, 메톡시, 카복시 또는 설폰에 의해 치환된 페닐렌, 또는 비치환 또는 설포에 의해 치환된 나프탈렌이고, Y가 비닐 또는 β-설페이토에틸이고 u가 0인 일반식(2a) 내지 (2e)의 라디칼이다.
특히 바람직한 섬유 반응성 라디칼 T는 구조식(2c') 또는 (2d')의 라디칼이다.
상기식에서,
Y는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
본 발명의 바람직한 양태는 B1이 직쇄 또는 측쇄화된 C1-C6알킬렌이고, W가 -NH-이고, X1이 클로로 또는 플루오로이고, U가 (i) 일반식(4a)의 라디칼; (ii) 일반식(5a')의 라디칼; (iii) 비치환 또는 하이드록시- 또는 C1-C4알킬- 치환된 벨조산 라디칼 또는 페닐, C1-C8알킬페닐 또는 이의 C1-C18알킬 에스테르; 또는 (iv) 일반식 (1")의 라디칼인 일반식(1a)의 화합물이다.
상기식에서,
(A)1-2는 C1-C12알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 또는 2개의 라디칼이고,
(L1)1-3은 설포, 하이드록시, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 1 내지 3개의 라디칼 L1이고,
(L2)0-1은 설포, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 1개의 치환체 L2이고,
(R)0-1은 설포, 메틸, 메톡시, 하이드록시 및 카복시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 또는 1개의 라디칼 R이고,
M은 그룹 -NH-CO- 또는 NH-SO2-이고,
T는 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 카복시메틸아미노, β- 하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, N,N-디-β- 하이드록시에틸아미노, 사이클로헥실아미노, o-, m- 또는 p-메틸페닐아미노, o-, m- 또는 p-메톡시페닐아미노, o-, m- 또는 p-설포페닐아미노, 2,4- 또는 2,5-디설포페닐아미노, o-카복시페닐아미노, N-에틸-N-페닐아미노, N-메틸-N-페닐 아미노, 모노-, 디- 또는 트리설포나프틸아미노, 모르폴리노, 또는 W3이 구조식 -CONH- 또는 -NHCO-의 그룹이고, R1, R3및 R4가 각각 수소이고, W2가 -O-또는 -NH-이고, alk및 alk'가 각각 독립적으로 에틸렌 또는 프로필렌이고, 아릴렌이 비치환 또는 메틸, 메톡시, 카복시 또는 설포에 의해 치환되는 페닐렌, 또는 비치환 또는 설포에 의해 치환된 나프틸렌이고, Y가 비닐 또는 β-설페이토에틸이고 u가 0인 상기한 일반식(2a) 내지 (2e)의 라디칼이다.
본 발명의 특히 바람직한 양태는 U가 상기의 일반식 (5a') 또는, 바람직하게는 (5a)인 일반식(1a)의 화합물에 관한 것이다.
특히 관심을 끄는 화합물은 일반식(1b)의 화합물이다.
상기식에서,
(L1)x, (L2)y, T 및 X1의 정의 및 바람직한 정의는 위에서 정의된 바와 동일하다.
일반식(1) 내지 (6b)에 있어서, C1-C18알킬은 전형적으로는 메틸, 에틸, n-또는 이소프로필, n-, iso-, sec- 또는 tert-부틸 또는 직쉐 또는 측쇄화된 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 헥사데실, 헵타데실 또는 옥타데실이다.
C1-C18알콕시는 전형적으로는 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소프로폭시, n-, i-, s- 또는 t-부톡시 또는 직쇄 또는 측쇄화된 펜톡시, 헥실옥시, 헵틸옥시, 옥틸옥시, 노닐옥시, 데실옥시, 운데실옥시, 도데실옥시, 트리데실옥시, 테트라데실옥시, 펜타데실옥시, 헥사데실옥시, 헵타데실옥시 또는 옥타데실옥시를 의미한다. C1-C12알킬렌은 전형적 으로는 메틸렌, 1,1- 또는 1,2-에틸렌, 1,2- 또는 1,3-프로필렌 또는 직쇄 또는 측쇄화된 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데실렌, 운데실렌 또는 도데실렌이다. 할로겐은 전형적으로는 플루오로, 클로로 또는 브로모를 의미한다. C1-C4알콕시카보닐은 전형적으로 메톡시카보닐, 에톡시카보닐, n-또는 이소프로폭시카보닐 또는 n-, i-, s- 또는 t-부톡시카보닐 을 의미한다. C1-C4알킬티오의 예는 메틸티오 또는 에틸티오이다. C5-C8사이클로알킬은 전형적으로 사이클로펜틸 또는, 바람직하게는 사이클로헥실이다.
일반식(1)의 화합물은 알칼리로 제거가능한 하나 이상의 그룹을 지녀야 한다. 즉, 트리아지닐 라디칼 또는 상기의 일반식(2a) 내지 (2e), (6a) 또는 (6b)의 라디칼에서 하나 이상의 할로겐 원자를 수반한다.
일반식(1)의 화합물은 추가로 하나 이상의 설포 또는 설페이토 그룹을 지녀야 하고, 이 경우 이들 화합물은 유리산 형태 또는 바람직하게는 염 형태, 전형적으로는 나트륨, 리튬, 칼륨 또는 암모늄 염으로서 수득될 수 있다.
일반식(1)의 화합물은 섬유 반응성이다. 섬유 반응성 라디칼이란 셀룰루오스의 하이드록실 그룹; 모 및 실크의 아미노, 카복실, 하이드록실 및 티올 그룹; 또는 합성 폴리아미드의 아미노 및, 존재하는 경우 카복실 그룹과 반응하여 화학적 공유결합을 형성할 수 있는 라디칼을 의미한다.
일반식(1)의 화합물은 일반식(7) 내지 (9)의 화합물을 상호 반응시켜서 원리하게 제조할 수 있으며, 부분 반응순서는 출발 화합물에 대하여 자유로이 선택될 수 있다.
상기식에서,
U, B1, B2, W, W1, E, X1, r, s 및 t는 상기 정의된 바와 동일하고,
Hal은 할로겐, 바람직하게는 플루오로 또는 클로로이고,
T*는 위에서 T로 정의된 것과 동일하다(단, 할로겐은 제외됨).
본 방법의 바람직한 변형태는 약 1mol당량의 일반식(7)의 화합물을 1mol당량의 일반식(8a)의 화합물과 반응시키는 데 있다.
상기식에서, Hal, E, X1및 T는 각각 상기 정의된 바와 동일하다.
일반식(7), (8) 및 (9)의 화합물의 축합에 사용되는 조건은 반응성 염료의 화학 분야에 잘 공지되어 있다. 이 반응은 통상적으로 산 수용체, 편리하게는 탄산나트륨 또는 수산화나트륨의 존재하에 수성 또는 수성 유기 매체의 존재하에 수행될 수 있다.
일반식(8), (8a) 및 (9)의 화합물은 일반적으로 공지되어 있거나 자체 공지된 방법으로 수득할 수 있다.
일반식(7)의 UV 흡수제 중 일부는 공지된 종류의 화합물에 속하고 자체 공지된 방법, 특히 미합중국 특허원 제3 041 330호, 제3 042 669호 또는 제3 159 646호에 기술된 방법으로 제조할 수 있다.
일반식(7a)의 화합물은 신규하고 본 발명의 추가의 목적이다.
상기식에서,
(L1)x및 (L2)y의 정의 및 바람직한 정의는 상기 정의된 바와 동일하다.
일반식(7a)의 화합물은 편리하게는 일반식
[여기서, D는 할로겐 또는 C1-C4알콕시일 수 있고 (L2)y는 상기 정의된 바와 동일하다]의 니트로옥스아닐란 유도체를 일반식[여기서, (L1)x는 상기 정의된 바와 동일하다]의 아닐린 유도체와 반응시키고 이어서 생성된니트로 옥스아닐라이드 화합물을 상응하는 아미노 화합물로 촉매적으로 수소화시켜 제조할 수 있다.
일반식(1)의 신규한 UV 흡수제는 비염색 및 염색 또는 인쇄 섬유 물질, 전형적으로는 실크, 가죽, 모, 폴리아미드 또는 폴리우레탄 및, 특히 모든 종류의 셀룰로오스성 섬유물질의 광화학적 안정화용으로 적당하다. 상기의 섬유물질은 전형적으로는 천연 셀룰로오스 섬유(예: 면, 아마, 황마 및 대마)뿐아니라 셀룰로오스 및 재생 셀룰로오스이다. 면직물이 바람직하다. 일반식(1)의 화합물 역시 예를 들면 면 및 폴리에스테르 또는 폴리아미드 섬유의 혼방물과 같은 혼방 섬유의 성분인 하이드록실 그룹-함유 섬유의 광화학적 안정화용 으로 적당하다. 추가의 바람직한 사용 분야는 상기 직물을 통과하는 UV 조사선의 봉쇄 또는 완화(UV 차단), 및 본 발명의 화합물로 처리시킨 직물이 사람의 피부에 제공하는 증가된 일광 보호에 관한 것이다.
이러한 목적은 직물에 하나 이상의 일반식(1)의 화합물을 섬유물질의 중량을 기준으로 하여 유리하게는 0.01 내지 5중량%, 바람직하게는 0.1 내지 3중량%, 가장 바람직하게는 0.25 내지 2중량%의 양으로 반응성 염료에 대한 통상의 염색 방법으로 적용시킴으로써 성취된다. 직물이 반응성 염료로 염색한 셀룰로오스성 물질인 경우 염색 전후 또는 도중에, 바람직하게는 염료의 적용과 동시에 적용시킬 수 있다.
일반식(1)의 화합물은 섬유물질에 적용시키고 상이한 방법으로, 바람직하게는 수용액 또는 날염 페이스트 형태로 고착시킬 수 있다. 상기 화합물은 배기 공정및 패드 염색용으로 적합하다. 이는 저온에서 사용가능하고 패드-스팀 공정에서 짧은 스티밍(steaming) 시간만을 요한다. 고착력이 탁월하고 비고착 흡수제는 용이하게 제거시킬 수 있으며 흡착 정도와 고착률 사이의 차이는 현저하게 미소하다. 일반식(1)의 화합물은 또한 특히 면위의 날염용으로도 적당하다.
일반식(1)의 화합물로 처리한 직물은 광화학적 섬유 분해 및 황변에 대한 보호력을 강화시킬 뿐 아니라 염색된 물질의 경우 고온 광에 대한 내구성을 강화시킨다. 처리된 직물의 고도로 강화된 광 안정성은 특히 중요하고, 특히 단파장의 UV 조사선에 대한 보호 작용이 양호하다. 이러한 효과는 비처리 섬유와 비교하여 일반식(1)의 화합물로 처리한 직물이 대단히 강화된 일광보호인자(SPR)를 갖는 사실에서 알 수 있다.
일광보호인자는 일광보호없는 유해한 UV 조사선과 일광 보호 있는 유해한 UV 조사선의 비율로서 정의된다. 따라서, 일광보호인자는 UV 조사선에 대한 비처리 섬유 및 일반식(1)의 화합물로 처리한 섬유의 투과성의 척도이다. 직물의 일광보호인자의 계산은 문헌[참조: WO 94/04515 또는 J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133 (1989)]에 기술되어 있으며 이와 유사한 방법으로 측정할 수 있다.
본 발명의 화합물은 이들을 적당한 제품을 수득하기 위해 사용되는 경우 직물에 얼룩을 남기지 않는 추가의 장점을 제공한다.
본 발명은 하기 실시예에 의해 설명되며, 부 및 %는 별도의 언급이 없는한 중량 단위이다.
실시예 1 :
20부의 에틸 3-니트로옥스아닐레이트 및 23부의 o-펜에티딘 혼합물을 질소하에 140 내지 150 ℃로 4시간 동안 가열시킨다. 압력을 약 40mbar로 강하시키고, 혼합물을 약 140 ℃에서 4시간 동안 교반시키고, 냉각시키고 반고체 잔사를 물 및 4N 염화수소산으로 세척한다. 구조식(10)의 화합물을 여과에 의해 분리시키고, 물로 세척하고 건조시킨다.
실시예 1a :
o-펜에티딘 23부 대신에 51.9부를 사용하고, 에틸 4-니트로옥스아닐레이트 20부 대신에 45부를 사용하여 실시예 1에 기술된 방법을 반복하여 구조식(10a)의 화합물을 수득한다.
실시예 2 :
온도를 20℃ 미만으로 유지시키면서 실시예 1에서 수득한 구조식(10)의 화합물 9.9부를 100% 황산 55부에 1시간에 걸쳐 부가한다. 이어서 1시간 동안 반응 혼합물을 교반시키고 얼음 위에 붓는다. 염화나트륨의 부가후 석출된 고체를 여과하여 분리시키고, 염화나트륨용액에 용해시키고 수산화나트륨 용액으로 처리시킴으로써 재석출시켜 하기 구조식의 화합물을 수득한다.
실시예 2a :
구조식(10)의 화합물을 등량의 구조식(10a)의 화합물로 대체하고 실시예 2에 기술된 방법을 반복하여 하기 구조식의 화합물을 수득한다.
실시예 3 :
실시예 2에서 수득된 니트로 화합물 12부의 현탁액을 Pd/C(5%) 촉매를 사용하여 물 1000ml중에서 촉매적으로 수소화시킨다. 생성된 하기 구조식의 아미노 화합물을 분리시키고 통상의 방법으로 정제한다.
실시예 3a :
실시예 3의 기술된 방법에 따라 실시예 2a에서 수득된 니트로 화합물로부터 하기 구조식의 화합물을 제조할 수 있다.
실시예 3b 내지 3i :
실시예 1 내지 3a에 기술된 방법에 따라 하기의 옥스아닐라이드 중간체를 제조할 수 있다.
실시예 3i :
56부의 N,N-디메틸아세트아미드 중의 28.5부의 에틸 2-에톡시옥스아닐레이트 용액을 40 ℃에서 질소하에 56부의 N,N-디메틸아세트아미드중의 22.5부의 1,4-페닐렌디아민-2- 설폰산(나트륨 염으로서) 및 9.5부의 이미다졸의 혼합물에 부가한다. 반응 혼합물을 90 ℃에서 약 18시간 동안 교반하고, 이어서 45 ℃로 냉각시키고 220부의 물을 부가한다. 여과하여 하기 구조식의 생성물을 분리시키고 물로 세척하고 건조시킨다.
실시예 3k :
온도를 약 20 ℃로 유지시키면서 실시예 3j에서 수득한 화합물 10부를 100% 황산 50부에 15분에 걸쳐 부가한다. 반응 혼합물을 실온에서 1시간 동안 교반한 다음 얼음 위에 붓는다. 염화나트륨을 부가한 후 여과하여 석출된 고체를 분리시키고 염화나트륨 용액에 용해시킨다. 수산화나트륨 용액으로 처리하여 하기 구조식의 화합물을 나트륨 염으로서 분리시킨다.
실시예 31 내지 3r :
또한 실시예 3j 및 3k에 기술된 방법에 따라 하기 구조식의 옥스아닐라이드 중간체를 제조할 수 있다.
실시예 4 :
실시예 3에서 수득한 아미노 화합물 3.79부의 수성 현탁액을 1.84부의 시아누릭 클로라이드 및 2.81부의 4-β-설페이토에틸설포닐아닐린의 축합물(DE-A 제3 740 650호에 따라 제조)의 빙냉 현탁액에 부가한다. 온도를 35 ℃로 상승시키고 15%의 탄산나트륨 용액을 적가하여 pH7로 일정하게 유지시키면서 축합 완료시까지 반응 혼합물을 교반한다. 이어서 생성물을 염석시키고, 여과하여 분리시키고, 염화나트륨 용액으로 세척하고 건조시켜 분말로서 하기 구조식의 화합물을 수득한다.
반응성 염료로 염색하는 표준 방법에 의해 면직물에 당해 화합물을 적용하는 경우 미처리 직물에 비해 매우 강화된 일광보호인자를 제공한다.
실시예 4a :
실시예 4에 기술된 방법에 따라 실시예 3a에서 수득한 아미노 화합물 7.6부 및 실시예 4에서 수득한 시아누릭 클로라이드 및 4-β-셀페이토에틸설포닐아닐린의 축합물 8.6부로부터 하기 구조식의 화합물을 제조할 수 있다.
반응성 염료로 염색하는 표준 방법에 의해 면직물에 당해 화합물을 적용하는경우 미처리 직물에 비해 매우 강화된 일광보호인자를 제공한다.
실시예 5 내지 13 :
실시예 1, 2, 3 및 4에 기술된 방법에 따라 하기 일반식의 화합물을 제조할 수 있다.
상기식에서, T는 하기 표에 제공된 바와 같다. 면직물에 적용하는 경우 이들 화합물은 실시예 4의 화합물로 수득된 것과 비슷한 일광보호인자를 부여한다.
실시예
실시예 14 내지 38b :
실시예 4의 방법에 따라 실시예 3 내지 3r에 따라 수득한 중간체로부터 하기화합물을 제조할 수 있다. 반응성 염료를 염색하는 표준 방법에 의해 면직물에 이들 화합물을 적용하는 경우 미처리 직물과 비교하여 매우 강화된 일광보호인자를 제공한다.
실시예 39 :
교반하면서, 물 40부 중의 4-(4'-아미노벤조일아미노) 벤젠설폰산 5.84부의 수용액을 실온에서 시아누릭 클로라이드 3.68부 및 4-β-설페이토에틸설포닐아닐린 5.63부의 축합물(DE-A 제3 740 650호에 기술된 대로 제조)의 수성 현탁액에 부가한다. 반응온도를 약 30 ℃로 상승시키고 15% 탄산나트륨 용액을 적가하여 혼합물을 pH6.5로 일정하게 유지시키면서 축합 완료시까지 계속 교반한다. 통상의 방법으로 생성물을 염석시키고, 여과하여 분리시키고 염화나트륨 용액으로 세척하고 건조시켜 분말로서 하기 구조식의 화합물을 수득한다.
반응성 염료로 염색하는 표준 방법에 의해 면직물에 상기 화합물을 적용하는 경우 미처리 직물에 비해 매우 강화된 일광보호인자를 제공한다.
응용 실시예 :
제트 염색 장치에서, 표백된 트리코트 면직물을 실시예 4의 화합물 1g 및 황산나트륨 75g을 1:15의 제품 비율로 함유하는 액으로 60 ℃에서 20분 동안 처리한다. 탄산나트륨 30g을 부가한 후 트리코트 면직물을 60분 동안 추가로 처리한다. 액으로부터 면직물을 꺼내고 냉수, 온수 및 고온수로 반복 세척하고 건조시킨다. 처리시킨 트리코트 면직물은 탁월한 일광보호인자를 갖는다.

Claims (14)

  1. 일반식(1)의 화합물.
    상기식에서,
    B1및 B2는 각각 독립적으로 지방족 결합 그룹이고,
    U는 일반식
    의 라디칼이고,
    (L1)1-3은 설포, 하이드록시, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 내지 3개의 라디칼 L1이고,
    (L2)0-1은 설포, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 1개의 치환체 L2이고,
    W는 그룹 -NR2-, -O- 또는 -S-이고,
    R2는 수소, 또는 치환되지 않거나 치환된 C1-C4알킬이고,
    W1은 라디칼 -C(O)O-, -O(O)C-, -C(O)NH- 또는 -HN(O)C-이고,
    =E-는 그룹 =N-또는 =C(T1)-이고,
    T1은 할로겐, C1-C4알킬설포닐, 포밀, C2-C4알콕시카보닐 또는 시아노이고,
    X1은 할로겐, 하이드록시, 설포, C1-C4알킬설포닐, 페닐설포닐, 치환되지 않거나 치환된 아미노, 3-카복시피리딘-1-일 또는 3-카바모일피리딘-1-일이고,
    T는 독립적으로 X1의 정의 중 하나이거나; 알콕시, 아릴옥시, 알킬티오 또는 아릴티오 라디칼이거나; 질소-함유 헤테로사이클릭 라디칼 또는 일반식
    의 반응성 라디칼이고,
    R1은 수소; 치환되지 않거나 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시 또는 시아노에 의해 치환된 C1-C4알킬; 또는 라디칼이고,
    R3은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
    R4는 수소, 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시, 시아노, 할로겐, C1-C4알콕시카보닐, C1-C4알카노일옥시, 카바모일 또는 그룹 -SO2-Y이고,
    alk 및 alk'는 서로 독립적으로 C1-C6알킬렌이고,
    아릴렌은 치환되지 않거나 설포, 카복시, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 라디칼이고,
    Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-Z이고,
    Z는 이탈 그룹이고,
    W2는 -O- 또는 -NR3-이고,
    W3은 그룹 -SO2-NR1, -CONR1-또는 -NR1CO-이고,
    r, s, t 및 u는 서로 독립적으로 0 또는 1이고, t가 0인 경우, S는 0이며,
    단 일반식(1)의 화합물은 하나 이상의 설포 또는 설페이토 그룹과 알칼리성 조건하에서 제거가능한 하나 이상의 그룹을 수반한다.
  2. 제1항에 있어서, =E-가 =N-이고, r 및 s가 각각 0인 화합물.
  3. 제1항에 있어서, B1이 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬렌인 화합물.
  4. 제1항에 있어서, X1이 클로로 또는 플루오로인 화합물.
  5. 제2항에 있어서, W가 -NR2-이고, R2가 수소 또는 C1-C4알킬인 화합물.
  6. 제1항에 있어서, T가 일반식(2a) 내지 (2e)의 반응성 라디칼인 화합물.
  7. 제6항에 있어서, W3이 구조식 -CONH- 또는 -NHCO-의 그룹이고, R1, R3및 R4가 각각 수소이고, W2가 -O-또는 -NH-이고, alk 및 alk'가 각각 독립적으로 에틸렌 또는 프로필렌이고, 아릴렌이 치환되지 않거나 메틸, 메톡시, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌, 또는 치환되지 않거나 설포에 의해 치환된 나프틸렌이고, Y가 비닐 또는 β-설페이토에틸이고, u가 0인 화합물.
  8. 제1항에 있어서, (L1)x가 설포, 하이드록시, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 x개의 동일하거나 상이한 치환체 L1을 나타내고, (L2)y가 설포, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 y개의 치환체L2를 나타내고, x가 1, 2 또는 3이고; y가 0 또는 1이고, X1이 클로로 또는 플루오로이고, T가 일반식(2c') 또는 (2d')의 섬유 반응성 라디칼인 일반식(1b)의 화합물.
    상기식에서,
    Y는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
  9. 일반식(7), (8) 및 (9)의 화합물을 임의의 순서로 상호 반응시킴을 포함하여, 제17항에 따르는 일반식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서,
    U, B1, B2, W, W1, E, X1, r, s 및 t는 각각 제17항에서 정의된 바와 동일하고,
    Hal은 할로겐이고,
    T*는 제17항에서 T에 대해 정의된 것과 동일하다.
  10. 제1항에 다른 하나 이상의 일반식(1)의 화합물을 수용액 또는 수성의 유기용액 속에서 섬유재료에 적용시키고, 이 화합물 또는 화합물들을 고착시킴을 포함하는, 섬유재료의 일광보호인자를 강화시키는 방법.
  11. 제1항에 따른 하나 이상의 일반식(1)의 화합물을 수용액 또는 수성의 유기용액 속에서 염색되지 않은 섬유재료, 염색된 섬유재료 또는 날염된 섬유재료에 적용시키고, 이 화합물 또는 화합물들을 고착시킴을 포함하는, 염색되지 않은 섬유재료, 염색된 섬유재료 또는 날염된 섬유재료의 광화학적 안정화 방법.
  12. 제1항에 있어서, B1이 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬렌이고, W -NH-이고, X1이 클로로 또는 플루오로이고, U가 일반식(5a')의 라디칼인 일반식(1a)의 화합물.
    상기식에서,
    (L1)1-3은 설포, 하이드록시, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 내지 3개의 동일하거나 상이한 라디칼 L1이고,
    (L2)0-1은 설포, C1-C4알킬 및 C1-C12알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 1개의 치환체 L2이고,
    T는 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, 카복시메틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, N,N-디-β- 하이드록시에틸아미노, 사이클로헥실아미노, o-, m- 또는 p-메틸페닐아미노, o-, m- 또는 p-메톡시페닐아미노, o-, m- 또는 p-설포페닐아미노, 2,4- 또는 2,5-디설포페닐아미노, o-카복시페닐아미노, N-에틸-N-페닐아미노, N-메틸-N-페닐아미노, 모노-, 디- 또는 트리설포나프틸아미노, 모르폴리노, 또는 W3이 구조식 -CONH- 또는 -NHCO-의 그룹이고, R1, R3및 R4가 각각 수소이고, W2가 -O- 또는 -NH-이고, alk및 alk'가 각각 독립적으로 에틸렌 또는 프로필렌이고, 아릴렌이 치환되지 않거나 메틸, 메톡시, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌, 또는 치환되지 않거나 설포에 의해 치환된 나프틸렌이고, Y가 비닐 또는 2-설페이토에틸이고, u가 0인 제17항에 제시된 일반식(2a) 내지 (2e)의 라디칼이다.
  13. 제1항에 있어서, 아릴티오 라디칼이 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 하이드록시, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 페닐티오인 화합물.
  14. 제9항에 있어서, Hal이 플루오로 또는 클로로인 방법.
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