KR100363055B1 - Continuous heat treatment system - Google Patents

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KR100363055B1
KR100363055B1 KR1019960009047A KR19960009047A KR100363055B1 KR 100363055 B1 KR100363055 B1 KR 100363055B1 KR 1019960009047 A KR1019960009047 A KR 1019960009047A KR 19960009047 A KR19960009047 A KR 19960009047A KR 100363055 B1 KR100363055 B1 KR 100363055B1
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히로시 가와모토
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고요 써모시스템 주식회사
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Abstract

로(1)안에 상하 방향으로 신장하는 제 1 및 제 2 열처리실(2,3)을 칸막이벽(4)을 사이에 두고 나란하게 설치하고, 제 1 열처리실(2) 안에 상부 전송 운반 장치(18)를, 제 2 열처리실(3) 안에 하부 전송 운반 장치(19)를 설치한 연속 열처리 장치이다. 상부 전송 운반 장치(18) 및 하부 전송 운반 장치(19)를 각각 각 열처리실(2,3) 안의 전후에 대향하는 형태로 설치된 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)에 의해 구성한다. 가동 랙(22)을 상하 방향 및 전후 방향으로 이동이 자유로운 가동 랙 본체(24)와, 가동 랙 본체(24)에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 설치되며, 또한 좌우 방향으로 간격을 두고 배치된 전후 방향으로 긴 복수의 핑거(27)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(28)에 의해 구성한다. 고정 랙(23)을 고정 랙 본체(29)와, 고정 랙 본체(29)에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 설치되며, 또한 좌우 방향으로 간격을 두고 배치된 전후 방향으로 긴 복수의 핑거(33)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(34)에 의해 구성한다. 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)와, 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 각 핑거(33)를 좌우 방향으로 벗어난 위치에 배치한다.First and second heat treatment chambers 2 and 3 extending in the vertical direction are provided in parallel in the first furnace 1 with the partition walls 4 interposed therebetween, 18 in the second heat treatment chamber 3, and a lower transfer conveying device 19 in the second heat treatment chamber 3. The upper transmission transport device 18 and the lower transport transport device 19 are constituted by a movable rack 22 and a fixed rack 23 which are provided so as to face each other in the front and rear of each of the heat treatment chambers 2 and 3. A movable rack main body 24 which is movable in the up-and-down direction and the front-rear direction; a plurality of movable rack main bodies 24 which are provided in the movable rack main body 24 at intervals in the vertical direction, And a plurality of fingers 27 each having a long length in the direction indicated by the arrow. A plurality of fixed fingers 33 are provided in the fixed rack body 29 and the fixed rack body 29 at intervals in the up and down direction and spaced apart in the left and right direction, And a to-be-processed support fork 34 made of a material to be processed. The respective fingers 27 of the to-be-processed object supporting fork 28 of the movable rack 22 and the respective fingers 33 of the to-be-processed supporting fork 34 of the fixed rack 23 are disposed at positions deviating laterally do.

Description

연속 열처리 장치Continuous heat treatment system

본 발명은, 예컨대 액정 디스플레이, 광학 디바이스 등의 전자광학 부품으로 이루어지는 판형 피처리물에 연속적으로 열처리를 행하는 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for continuously performing heat treatment on a plate-like object to be processed made of an electro-optical part such as a liquid crystal display or an optical device.

본 명세서에 있어서, 제1도의 좌우를 "좌우"라 하고, 제2도의 하측을 "전", 그 반대측을 "후"라고 한다.In this specification, the left and right sides of FIG. 1 are referred to as "left and right", the lower side of FIG. 2 is referred to as "former", and the opposite side thereof is referred to as "back".

이러한 종류의 연속 열처리 장치로서, 노 내에 상하 방향으로 연장하는 제1 열처리실과 제2 열처리실이 칸막이 벽을 사이에 두고 나란히 설치되어 있고, 제1 열처리실의 하단부에 피처리물 입구가 형성되는 동시에 제2 열처리실의 하단부에 피처리물 출구가 형성되며, 칸막이 벽의 상단부에 양 열처리실을 서로 연통시키는 연통구가 형성되고, 제1 열처리실 내에 피처리물 입구로부터 전송된 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 상측으로 전송하는 상부 전송 운반 장치가 설치되며, 제2 열처리실 내에 연통구를 통하여 제1 열처리실로부터 전송된 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 하측으로 전송하는 하부 전송 운반 장치가 설치되고, 노 내의 상단부에 상부 전송 운반 장치에 의하여 제1 열처리실의 상단부까지 전송된 피처리물을 수취하는 동시에 연통구를 통하여 제2 열처리실에 전송되며 하부 전송 운반 장치에 전달하는 횡전송 운반 장치가 설치되어 있고, 상부 전송 운반 장치 및 하부 전송 운반 장치가 각각 상승 하강이 자유롭고 축선을 중심으로 회전이 자유로운 연직형 승강 회전 막대와 축선을 중심으로 회전이 자유로운 연직형 회전 막대로 이루어지는 쌍을 이룬 회전 막대를 복수 개 구비하고 있으며, 각 쌍이 각 열처리실의 전후, 좌우로 설치되고, 각 승강 회전 막대 및 그 주위에 동일 방향을 향하여 피처리물의 전후 양 단부를 지지하는 피처리물 지지 포크가 고정되어 있는 열처리 장치가 공지되어 있다(일본 특공소 63-52307호 참조).In this type of continuous heat treatment apparatus, a first heat treatment chamber and a second heat treatment chamber extending in the up-and-down direction are provided side by side in the furnace with a partition wall therebetween, and an object to be treated is formed at the lower end of the first heat treatment chamber A communication port for communicating the two heat treatment chambers with each other is formed at the upper end of the partition wall, and the to-be-processed object transferred from the inlet of the object to be processed in the first heat treatment chamber is supplied one by one And a lower transfer conveying device for intermittently transferring the object to be processed transferred from the first heat treatment chamber through the communication hole in the second heat treatment chamber one by one and intermittently transferring the object to be processed downward And an upper conveying device for conveying the object to be processed to the upper end of the first heat treatment chamber at an upper end in the furnace, And the upper transmission unit and the lower unit are freely movable up and down and freely rotatable around the axis. A pair of rotary rods each of which is composed of a vertical type elevating and rotating rod and a vertical type rotary rod freely rotatable about an axial line are provided and each pair is provided on the front and rear sides of the respective heat treatment chambers, There is known a heat treatment apparatus in which a to-be-processed support fork supporting both front and rear ends of a material to be processed is fixed in the same direction around the periphery thereof (see Japanese Patent Publication No. 63-52307).

그러나, 종래의 장치는 상부 전송 운반 장치 및 하부 전송 운반 장치에 의한 운반 중에 피처리물은 그 전후 양 단부가 피처리물 지지 포크에 의하여 지지되어 있을 뿐이므로, 피처리물의 전후 방향으로 중간부가 하측으로 휘어지는 문제가 있다. 예컨대 액정 디스플레이용 유리 기판의 경우, 2매의 유리 기판을 그 사이에 액정을 주입하기 위한 미크론 단위의 틈새가 마련된 상태로 접착시킬 필요가 있는데, 유리 기판이 휘어 있으면, 전술한 바와 같은 틈새의 정밀도를 유지할 수 없다는 문제가 있다. 또한 대형 유리 기판의 경우, 그러한 휨에 의해 응력이 가해져 미세한 균열이나 미세한 틈새 등이 발생하며, 이와 같이 미세한 균열이나 미세한 틈새 등이 존재할 경우에는 온도차에 의해 유리 기판이 깨져 버리는 문제가 있다. 또한, 판형 피처리물의 크기가 작아 그 전후 양 단부를 피처리물 지지 포크에 의하여 지지할 수 없는 경우에는 트레이를 준비하여야 하며, 이 트레이 위에 피처리물을 얹는 동시에 트레이를 지지 포크로 지지하여 운반할 필요가 있다. 그렇게 하면 트레이도 가열하여야 하므로, 가열 효율이 나빠지는 동시에 피처리물에 있어서의 트레이와의 접촉면과 비접촉면과의 온도가 불균일해지는 문제가 있다.However, in the conventional apparatus, since the object to be processed is supported by both the front and rear ends of the object to be processed while the object is being transported by the upper and lower transporting apparatuses, As shown in Fig. For example, in the case of a glass substrate for a liquid crystal display, it is necessary to adhere two glass substrates in a state in which a clearance of a unit of micron is provided for injecting liquid crystal therebetween. When the glass substrate is warped, There is a problem in that it can not be maintained. Further, in the case of a large glass substrate, stress is applied due to such bending, so that fine cracks or minute gaps are generated. If such fine cracks or minute gaps are present, there is a problem that the glass substrate is broken by the temperature difference. In addition, if the size of the plate-like object to be processed is small so that both ends of the plate-like object can not be supported by the to-be-processed object supporting fork, a tray must be prepared. The tray is supported on a support fork Needs to be. In this case, since the tray must be heated, the heating efficiency is deteriorated, and the temperature between the contact surface with the tray and the non-contact surface becomes uneven.

본 발명의 목적은 상기 문제를 해결하는 연속 열처리 장치를 제공하는 것에 있다.It is an object of the present invention to provide a continuous heat treatment apparatus which solves the above problems.

본 발명에 의한 제1 연속 열처리 장치는,In the first continuous heat treatment apparatus according to the present invention,

노 내에 상하 방향으로 연장하는 열처리실이 설치되어 있고, 열처리실의 상하 양 단부에 각각 개구가 형성되며, 열처리실 내에 상하 어느 한쪽의 개구로부터 전송된 판형 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 수직 방향으로 다른쪽의 개구를 향하여 전송하는 운반 장치가 설치되어 있는 연속 열처리 장치에 있어서,The furnace is provided with a heat treatment chamber extending upward and downward in the furnace. An opening is formed at both upper and lower ends of the heat treatment chamber. The plate-like substance to be processed transferred from one of the upper and lower openings is intermittently held in the vertical direction And a transporting device for transporting the other transporting device toward the other opening,

운반 장치가 열처리실 내에 전후로 대향하게 설치된 가동 랙 및 고정 랙에 의하여 구성되고, 상기 가동 랙은 상단 개구에서 하단 개구에 이르는 높이를 갖추고 있으며 상하 전후 방향으로 이동이 자유로운 가동 랙 본체와, 가동 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되고 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되는 전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거로 이루어지는 피처리물 지지 포크에 의하여 구성되며, 상기 고정 랙은 상단 개구에서 하단 개구에 이르는 높이를 갖추고 있는 고정 랙 본체와, 고정 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되고 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되는 전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거로 이루어지는 피처리물 지지 포크에 의하여 구성되며, 가동 랙의 피처리물 지지 포크의 각 핑거와, 고정 랙의 피처리물 지지 포크의 각 핑거가 좌우 방향으로 엇갈린 위치에 배치되어 있다.A movable rack body having a height ranging from an upper end opening to a lower end opening and being freely movable in the vertical direction forward and backward directions, And a plurality of fingers extending in the front-rear direction and spaced apart from each other in the left-right direction. The fixed rack has a height ranging from an upper end opening to a lower end opening And a plurality of fingers for supporting the object to be processed, the plurality of fingers being arranged in the longitudinal direction and spaced horizontally from the fixed rack body, The respective fingers of the support fork of the object to be processed in the rack, Each finger has a fork is arranged in a staggered position in the right and left direction.

본 발명에 의한 제2 연속 열처리 장치는,In the second continuous heat treatment apparatus according to the present invention,

노 내에 상하 방향으로 연장하는 제1 열처리실과 제2 열처리실이 칸막이 벽을 통해 나란히 설치되어 있고, 제1 열처리실의 하단부에 피처리물 입구가 형성되는 동시에 제2 열처리실의 하단부에 피처리물 출구가 형성되며, 칸막이 벽의 상단부에 양 열처리실을 서로 연통시키는 연통구가 형성되고, 제1 열처리실 내에 피처리물 입구에서 전송된 판형 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 상측으로 전송하는 상부 전송 운반 장치가 설치되며, 제2 열처리실 내에 연통구를 통하여 제1 열처리실로부터 전송된 판형 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 하측으로 전송하는 하부 전송 운반 장치가 설치되고, 노 내의 상단부에 상부 전송 운반 장치에 의하여 제1 열처리실의 상단부까지 전송된 판형 피처리물을 수취하는 동시에 연통구를 통하여 제2 열처리실에 전송하며 하부 전송 운반 장치에 전달하는 횡전송 운반 장치가 설치되어 있는 연속 열처리 장치에 있어서,A first heat treatment chamber and a second heat treatment chamber extending in the vertical direction in the furnace are provided side by side through the partition wall, an inlet for the object to be processed is formed at the lower end of the first heat treatment chamber, And an upper portion of the partition wall is provided with a communication hole for communicating the two heat treatment chambers with each other. The upper portion of the partition wall is provided with a communication hole for communicating the two heat treatment chambers, There is provided a lower transporting apparatus in which a transporting apparatus is installed and intermittently transports a plate-like object to be processed transferred from a first heat treatment chamber through a communication hole in a second heat treatment chamber intermittently downward, Receiving a plate-shaped article to be transferred to an upper end portion of the first heat treatment chamber by the transfer conveying device and simultaneously performing a second heat treatment Transferred to and in the continuous heat treatment system with a transverse transfer carrier to pass to the lower transmission carrier is provided,

상기 상부 전송 운반 장치 및 하부 전송 운반 장치가 각각 개개의 열처리실내에 전후로 대향하게 설치된 가동 랙 및 고정 랙에 의해 구성되며, 상기 가동 랙은 피처리물 입구에서 연통구에 이르는 높이를 갖추고 있고 상하 전후 방향으로 이동이 자유로운 가동 랙 본체와, 가동 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수개 설치되며 또한 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되는 전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거로 이루어지는 피처리물 지지 포크에 의해 구성되고, 상기 고정 랙은 피처리물 입구에서 연통구에 이르는 높이를 갖추고 있는 고정 랙 본체와, 고정 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되고 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되는 전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거로 이루어지는 피처리물 지지 포크에 의하여 구성되며, 가동 랙의 피처리물 지지 포크의 각 핑거와, 고정 랙의 피처리물 지지포크의 각 핑거가 좌우 방향으로 엇갈린 위치에 배치되어 있다.Wherein said upper and lower transporting apparatuses are constituted by a movable rack and a fixed rack provided so as to be opposed to each other in a front and rear direction in respective heat treatment chambers, said movable rack having a height from an inlet of the object to be processed to a communication port, And a plurality of fingers for supporting the object to be processed, the plurality of fingers being arranged in the longitudinal direction of the movable rack body and spaced apart from each other in the left-right direction A fixed rack main body having a height ranging from the entrance of the object to be processed to a communication port; a plurality of fixed rack main bodies provided in the fixed rack main body at intervals in the vertical direction and spaced apart in the left- Shaped workpiece support fork made up of four fingers, and the feature of the movable rack The fingers of the leg support fork and the fingers of the support object fork of the fixed rack are arranged at positions staggered in the left and right direction.

본 발명에 의한 제3 연속 열처리 장치는,In the third continuous heat treatment apparatus according to the present invention,

상기 제1 연속 열처리 장치 또는 제2 연속 열처리 장치에 있어서, 고정 랙은 전술한 제1 연속 열처리 장치 또는 제2 연속 열처리 장치의 고정 랙과 달리, 고정 랙 본체와, 고정 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되는 피처리물 지지판에 의하여 구성되고, 고정 랙의 피처리물 지지판에 있어서의 가동 랙의 피처리물 지지 포크의 각 핑거와 대응하는 좌우 방향의 여러 지점에 가동 랙이 고정 랙에 최대한 접근한 상태로 상하 방향으로 이동할 때에 가동 랙의 핑거가 통과할 수 있는 복수 개의 홈이 그 피처리물 지지판의 선단으로부터 형성되어 있다.In the first continuous heat treatment apparatus or the second continuous heat treatment apparatus, unlike the fixed rack of the first continuous heat treatment apparatus or the second continuous heat treatment apparatus described above, the fixed rack includes a stationary rack body and a stationary rack body And the movable rack is provided at a plurality of points in the left and right direction corresponding to the fingers of the to-be-processed object support fork of the movable rack on the to-be-processed support plate of the fixed rack, A plurality of grooves through which the fingers of the movable rack can pass are formed from the tip end of the workpiece support plate.

상기 제3 연속 열처리 장치에 있어서, 피처리물 지지판은 가열 수단을 구비할 수도 있다.In the third continuous heat treatment apparatus, the object support plate may be provided with a heating means.

본 발명의 제1 연속 열처리 장치에 의하면, 하단 개구로부터 열처리실 내에 반입되는 판형 피처리물은 후술하는 바와 같이 열처리실 내에서 상측으로 운반되어 상단의 개구를 통하여 반출된다. 이 때 운반 장치의 가동 랙과 고정 랙은 최대한 간격을 둔 위치에 있다. 또한, 가동 랙의 각 피처리물 지지 포크와, 고정 랙의 각 피처리물 지지 포크가 상하 방향으로 엇갈린 상태로 되어 있는 동시에, 양 피처리물 지지 포크의 선단이 평면에서 보아 간격을 둔 상태로 배치되어 있다. 그리고, 적당한 반입 수단에 의하여 판형 피처리물이 운반 장치의 고정 랙의 최하단의 피처리물 지지 포크 상에 얹혀진다. 이어서, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 접근되고, 그 피처리물 지지 포크가 고정 랙의 피처리물 지지 포크의 하측으로 들어간다. 이어서, 각 피처리물 지지 포크가 바로 위의 고정 랙의 피처리물 지지 포크의 상측에 올 때까지 가동 랙이 상승되고, 피처리물이 가동 랙의 최하단의 피처리물 지지 포크에 얹혀진다. 계속하여, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 간격을 둔 위치에 배치된다. 이어서, 각 피처리물 지지 포크가 바로 위의 고정 랙의 각 피처리물 지지 포크의 상측에 올 때까지 가동 랙이 상승된다. 계속하여, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 접근한 위치로 접근된다. 계속하여, 각 피처리물 지지 포크가 바로 아래의 고정 랙의 각 피처리물 지지 포크의 하측에 올 때까지 가동 랙이 하강되고, 피처리물이 고정 랙의 아래로부터 2번째의 피처리물 지지 포크 상에 얹혀진다. 계속하여, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 간격을 둔 위치에 배치된 후 하강되어 최초의 상태로 되돌아간다. 이러한 동작을 반복함으로써, 판형 피처리물은 운반 장치의 고정 랙의 최상단의 피처리물 지지 포크 상에 운반된다. 그 후, 적당한 반출 수단에 의하여 판형 피처리물은 상단 개구를 통하여 열처리실의 외부로 반출된다.According to the first continuous heat treatment apparatus of the present invention, the plate-like object to be brought into the heat treatment chamber from the lower end opening is transported upward in the heat treatment chamber and is carried out through the upper opening as described later. At this time, the movable rack and the fixed rack of the conveying apparatus are located at the maximum spacing. Further, each of the for-treatment object forks of the movable rack and the to-be-processed object support forks of the fixed rack are staggered in the up-and-down direction, and the tip ends of the for- Respectively. Then, the plate-shaped object to be processed is placed on the for-treatment object support member at the lowermost end of the fixed rack of the conveying device by suitable conveying means. Then, the movable rack is moved toward the fixed rack, and the object to be supported fork enters the lower side of the object to be supported fork of the fixed rack. Then, the movable rack is raised until each for-treatment object supporting fork reaches the upper side of the to-be-processed support fork of the fixed rack immediately above, and the to-be-processed object is placed on the fork of the lowermost end of the movable rack. Subsequently, the movable racks are disposed at positions as far as possible with respect to the fixed rack. Then, the movable rack is lifted until each for-treatment object fork reaches the upper side of each for-treatment support fork of the fixed rack immediately above. Subsequently, the movable rack is approached to a position where it is as close as possible to the fixed rack. Subsequently, the movable rack is lowered until each to-be-processed supporting fork comes to the lower side of each of the for-treatment supporting fingers of the fixed rack immediately below, and the to-be- It rests on a fork. Subsequently, the movable rack is disposed at a position spaced apart as far as possible from the fixed rack, and then is lowered and returned to the initial state. By repeating this operation, the plate-like object is carried on the for-treatment object supporting fork at the uppermost end of the fixed rack of the conveyance device. Thereafter, the plate-shaped object to be processed is taken out to the outside of the heat treatment chamber through the upper opening by an appropriate carrying out means.

또한 본 발명의 제1 연속 열처리 장치에 의하면, 상단 개구로부터 열처리실 내로 반입된 판형 피처리물은 후술한 바와 같이 열처리실 내에서 하측으로 운반되어 하단 개구를 통하여 반출된다. 이 때 운반 장치의 가동 랙과 고정 랙은 최대한 간격을 두고 배치되어 있다. 또한, 가동 랙의 각 피처리물 지지 포크와, 고정 랙의 각 피처리물 지지 포크가 상하 방향으로 엇갈린 위치에 배치되어 있는 동시에, 양 피처리물 지지 포크의 선단이 서로 평면에서 보아 간격을 두고 배치되어 있다. 그리고, 적당한 반입 수단에 의하여 판형 피처리물이 운반 장치의 고정 랙의 최상단의 피처리물 지지 포크 상에 얹혀진다. 이어서, 운반 장치의 가동 랙이 상승되고, 그 피처리물 지지 포크가 고정 랙의 피처리물 지지 포크의 상측에 오게 된다. 이어서, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 접근되고, 피처리물 지지 포크가 고정 랙의 피처리물 지지 포크의 하측으로 들어간다. 계속하여, 각 피처리물 지지 포크가 바로 위의 고정 랙의 피처리물 지지 포크의 상측에 올 때까지 가동 랙이 상승되고, 피처리물이 가동 랙의 피처리물 지지 포크에 얹혀진다. 이어서, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 간격을 둔 위치에 배치된다. 계속하여, 각 피처리물 지지 포크가 바로 아래의 고정 랙의 각 피처리물 지지 포크의 하측으로 올 때까지 가동 랙이 하강된다, 이어서, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 접근한 위치까지 접근된다. 계속하여, 각 피처리물 지지 포크가 바로 아래의 고정 랙의 각 피처리물 지지 포크의 하측에 올 때까지 가동 랙이 하강되고, 피처리물이 고정 랙의 위에서 2번째의 피처리물 지지 포크 상에 얹혀진다. 이어서, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 간격을 둔 위치에 배치되어 최초의 상태로 되돌아간다. 이러한 동작을 반복함으로써, 판형 피처리물은 운반 장치의 고정 랙의 최하단의 피처리물 지지 포크 상에 운반된다. 그 후, 적당한 반출 수단에 의하여 판형 피처리물은 하단 개구를 통하여 열처리실의 외부로 반출된다.According to the first continuous heat treatment apparatus of the present invention, the plate-shaped object to be processed brought into the heat treatment chamber from the upper opening is transported downward in the heat treatment chamber and is carried out through the lower end opening as described later. At this time, the movable rack and the fixed rack of the conveying device are disposed with a maximum spacing. Further, the for-treatment object forks of the movable rack and the to-be-processed object support forks of the fixed rack are arranged at positions staggered in the vertical direction, and the ends of the for-processing object support forks are spaced apart from each other Respectively. Then, the plate-shaped object to be processed is placed on the for-processing object support fork at the uppermost end of the fixed rack of the conveyance device by suitable conveying means. Then, the movable rack of the conveying apparatus is raised, and the to-be-processed object supporting fork comes to the upper side of the to-be-processed supporting fork of the fixed rack. Then, the movable rack approaches the fixed rack, and the object to be supported fork enters the lower side of the object to be supported fork of the fixed rack. Subsequently, the movable rack is lifted until each for-treatment object supporting fork reaches the upper side of the to-be-processed support fork of the fixed rack immediately above, and the to-be-processed object is placed on the for-treatment object fork of the movable rack. Then, the movable racks are disposed at positions spaced apart from each other as much as possible with respect to the fixed rack. Subsequently, the movable rack is lowered until each to-be-processed supporting fork comes to the lower side of each of the for-treatment supporting fingers of the fixed rack immediately below. Then, the movable rack is approached to a position where it reaches the maximum position with respect to the fixed rack . Subsequently, the movable rack is lowered until each to-be-processed supporting fork comes to the lower side of each of the for-treatment supporting fingers of the fixed rack immediately below, and the to-be- Lt; / RTI > Then, the movable racks are arranged at positions as far as possible with respect to the fixed racks, and return to the initial state. By repeating this operation, the plate-like object is carried on the for-treatment object support member at the lowermost end of the fixed rack of the conveyance apparatus. Thereafter, the plate-like article to be processed is taken out to the outside of the heat treatment chamber through the lower end opening by an appropriate carrying-out means.

본 발명의 제2 연속 열처리 장치에 의하면, 피처리물 입구를 통하여 제1 열처리실 내에 반입된 판형 피처리물은 후술한 바와 같이 제1 열처리실 내에서 상측으로 운반되는 동시에 제2 열처리실 내에서 하측으로 운반되며, 피처리물 출구를 통하여 반출된다. 먼저, 적당한 반입 수단에 의하여 판형 피처리물은 상부 전송 운반 장치의 고정 랙의 최하단의 피처리물 지지 포크 상에 얹혀진다. 그 후, 판형 피처리물은 상기 제1 연속 열처리 장치에 있어서 하단 개구에서 반입된 판형 피처리물을 상측으로 운반하는 것과 동일하게 상부 전송 운반 장치의 고정 랙의 최상단의피처리물 지지 포크 상까지 운반된다.According to the second continuous heat treatment apparatus of the present invention, the plate-like object to be brought into the first heat treatment chamber through the inlet of the object to be processed is conveyed upward in the first heat treatment chamber as described later, And is carried out through the object to be treated. First, the plate-like object to be processed is placed on the for-treatment object at the lowermost end of the stationary rack of the upper transporting apparatus by suitable loading means. Thereafter, the plate-shaped object to be processed is conveyed to the object to be processed fork on the uppermost stage of the fixed rack of the upper transporting apparatus, similarly to carrying the plate-shaped object to be processed brought in at the lower end opening in the first continuous heat- Lt; / RTI >

계속하여, 횡전송 운반 장치가 판형 피처리물을 수취하는 동시에 연통구를 통하여 제2 열처리실에 전송하며, 하부 전송 운반 장치의 고정 랙의 최상단의 피처리물 지지 포크 상에 전달한다. 그 후, 판형 피처리물은 상기 제1 연속 열처리 장치에 있어서 상단 개구로부터 반입된 판형 피처리물을 하측으로 운반하는 것과 동일하게 하부 전송 운반 장치의 고정 랙의 최하단의 피처리물 지지 포크 상까지 운반된다. 그 후, 적당한 반출 수단에 의하여 판형 피처리물은 피처리물 출구를 통하여 제2 열처리실의 외부로 반출된다.Subsequently, the lateral transfer conveying device receives the plate-shaped object to be processed, and at the same time, transfers it to the second heat treatment chamber through the communication hole, and transfers it to the object to be supported fork at the uppermost end of the fixed rack of the lower transfer carrier. Thereafter, the plate-shaped object to be processed is conveyed to the object to be processed on the fork of the lowermost stage of the stationary rack of the lower transporting apparatus, similarly to carrying the plate-shaped article to be transported from the upper opening in the first continuous heat- Lt; / RTI > Thereafter, the plate-like object to be processed is carried out to the outside of the second heat treatment chamber through the outlet of the object to be processed by suitable carrying out means.

본 발명의 제1 연속 열처리 장치 및 제2 연속 열처리 장치에 의하면, 가동 랙의 피처리물 지지 포크의 핑거와, 고정 랙의 피처리물 지지 포크의 핑거가 좌우방향으로 엇갈린 위치에 배치되어 있으므로, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 접근한 상태에서 상하 이동할 때에도 이들의 핑거가 서로를 간섭하는 일은 없다.According to the first continuous heat treatment apparatus and the second continuous heat treatment apparatus of the present invention, since the fingers of the to-be-processed supporting fingers of the movable rack and the fingers of the to-be-processed supporting fingers of the fixed rack are arranged at positions staggered in the left- These fingers do not interfere with each other even when the movable rack is moved up and down with a maximum approach to the fixed rack.

본 발명의 제3 연속 열처리 장치에 의하면, 판형 피처리물의 운반은 상기 제1 연속 열처리 장치 및 제2 연속 열처리 장치의 경우와 동일하게 행해진다. 그리고, 고정 랙의 피처리물 지지판에 있어서의 가동 랙의 피처리물 지지 포크의 각 핑거와 대응하는 좌우 방향의 여러 지점에 가동 랙이 고정 랙에 최대한 접근한 상태로 상하 방향으로 이동했을 때에 가동 랙의 핑거가 통과할 수 있는 복수 개의 홈이 그 선단으로부터 형성되어 있으므로, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 접근한 상태로 상하 이동할 때에 가동 랙의 피처리물 지지 포크의 각 핑거는 고정 랙의 피처리물 지지판의 각 홈을 통과하며, 그 결과 가동 랙의 피처리물 지지 포크와 고정랙의 피처리물 지지판이 서로를 간섭하는 일은 없다.According to the third continuous heat treatment apparatus of the present invention, the conveyance of the plate-like object to be processed is performed in the same manner as in the case of the first continuous heat treatment apparatus and the second continuous heat treatment apparatus. When the movable rack is moved up and down in a state of being as close as possible to the fixed rack at various points in the left and right direction corresponding to the fingers of the to-be-processed support fork of the movable rack in the fixed rack, Since the plurality of grooves through which the fingers of the rack are allowed to pass are formed from the front ends thereof, when the movable rack is moved up and down as close as possible to the fixed rack, each finger of the supporting object fork of the movable rack is moved So that the object to be supported in the movable rack and the object support plate in the fixed rack do not interfere with each other.

또한 본 발명의 제3 연속 열처리 장치에 있어서, 피처리물 지지판이 가열 수단을 구비하고 있으면, 전술한 바와 같이 판형 피처리물이 운반되는 사이에 피처리물 지지판에 의해서만, 또는 이 피처리물 지지판과 다른 적당한 가열 수단에 의하여 가열되어 열처리가 행해진다.Further, in the third continuous heat treatment apparatus of the present invention, when the object support plate is provided with the heating means, only the object support plate during the transportation of the plate-like object to be processed as described above, And other appropriate heating means to perform the heat treatment.

이하, 본 발명의 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

제1도 내지 제3도는 본 발명의 연속 열처리 장치의 전체 구성을 도시하고, 제4도 내지 제8도는 그 주요부의 구성을 도시한다. 또한, 제9도는 상부 전송 운반장치의 동작을 도시한다. 제1도 내지 제3도에 있어서, 연속 열처리 장치는 세로형의 노(1)를 구비하고 있다. 노(1) 안에 상하 방향으로 연장하는 제1 열처리실(2)과, 제2 열처리실(3)이 칸막이 벽(4)을 통해 나란히 설치되어 있다. 우측의 제1 열처리실(2)의 하단부에 피처리물 입구(5)가 형성되는 동시에, 좌측의 제2 열처리실(3)의 하단부에 피처리물 출구(6)가 형성되고, 칸막이 벽(4)의 상단부에 제1 열처리실(2)과 제2 열처리실(3)을 서로 연통시키는 연통구(7)가 형성되어 있다. 그리고, 도시되지 않은 적당한 반입 장치에 의하여 피처리물 입구(5)를 통하여 판형의 피처리물(S)이 하나씩 제1 열처리실(2) 안에 반입되도록 되어 있다. 또한, 도시되지 않은 적당한 반출 장치에 의하여 피처리물 출구(6)를 통하여 피처리물(S)이 하나씩 제2 열처리실(3)로부터 반출되도록 되어 있다.FIG. 1 to FIG. 3 show the overall configuration of the continuous heat treatment apparatus of the present invention, and FIGS. 4 to 8 show the configuration of the main part thereof. Fig. 9 also shows the operation of the upper transmission carrier. 1 to 3, the continuous heat treatment apparatus is provided with a vertical furnace 1. A first heat treatment chamber 2 and a second heat treatment chamber 3 extending in the vertical direction are provided in the furnace 1 side by side along the partition wall 4. The object to be treated 5 is formed at the lower end of the first heat treatment chamber 2 on the right side and the material to be treated 6 is formed at the lower end of the second heat treatment chamber 3 on the left side, 4 are formed at the upper end thereof with a communication hole 7 for communicating the first heat treatment chamber 2 and the second heat treatment chamber 3 with each other. Then, the plate-like object S to be processed is brought into the first heat treatment chamber 2 one by one through the object to be treated 5 by means of a suitable loading device (not shown). The object to be processed S is carried out one by one from the second heat treatment chamber 3 through the to-be-processed water outlet 6 by a suitable unloading device (not shown).

노(1)에는 제1 열처리실(2)의 후방 우측에 대기(大氣) 순환로(8)가 형성되어 있다. 제1 열처리실(2)의 우측 벽에 대기 입구(9)가 형성되고, 뒷벽에는 대기출구(11)가 형성되어 있다. 또한, 제2 열처리실(3)의 후방 좌측에 걸쳐서 대기 순환로(12)가 형성되어 있다. 제2 열처리실(3)의 좌측 벽에 대기 입구(13)가 형성되고, 뒷벽에는 대기 출구(14)가 형성되어 있다. 그리고, 각 순환로(8, 12)의 내부에 히터(15) 및 송풍기(16)가 배치되어, 히터(15)에 의해 가열된 고온의 대기가 송풍기(16)에 의해 각 순환로(8, 12)를 거쳐 제1 열처리실(2)과 제2 열처리실(3)에 순환되도록 되어 있다. 또한, 제1 열처리실(2)과 제2 열처리실(3) 내에는 대기 입구(9, 13)를 덮어 싸는 HEPA 필터(17)가 배치되어, 대기가 제1 열처리실(2)과 제2 열처리실(3) 내의 피처리물(S)에 내뿜어지기 전에 HEPA 필터(17)에 의해 청정화되도록 되어 있다.The furnace 1 is provided with a large circulation passage 8 on the rear right side of the first heat treatment chamber 2. An air inlet 9 is formed in the right side wall of the first heat treatment chamber 2 and an atmospheric outlet 11 is formed in the rear wall. An atmospheric circulation path 12 is formed on the rear left side of the second heat treatment chamber 3. An atmosphere inlet (13) is formed in the left side wall of the second heat treatment chamber (3), and an atmospheric outlet (14) is formed in the rear wall. The heater 15 and the blower 16 are disposed in the respective circulation paths 8 and 12 so that the high temperature atmosphere heated by the heater 15 is supplied to the circulation paths 8 and 12 by the blower 16. [ To the first heat treatment chamber (2) and the second heat treatment chamber (3). A HEPA filter 17 for covering atmospheric inlets 9 and 13 is disposed in the first heat treatment chamber 2 and the second heat treatment chamber 3 so that atmospheric air passes through the first heat treatment chamber 2 and the second heat treatment chamber 3, Is cleaned by the HEPA filter (17) before being blown to the object (S) in the heat treatment chamber (3).

제1 열처리실(2) 내에는 피처리물 입구(5)로부터 전송된 피처리물(S)을 하나씩 유지하여 간헐적으로 상측으로 전송하는 상부 전송 운반 장치(18)가 설치되고, 제2 열처리실(3) 내에는 연통구(7)를 통하여 제1 열처리실(2)로부터 전송된 피처리물(S)을 하나씩 유지하여 간헐적으로 하측으로 전송하는 하부 전송 운반 장치(19)가 설치되어 있다. 노(1) 내의 상단부에는 상부 전송 운반 장치(18)에 의해 제1 열처리실(2)의 상단부까지 전송된 피처리물(S)을 수취하는 동시에 그 피처리물을 연통구(7)를 통하여 제2 열처리실(3)에 전송하여 하부 전송 운반 장치(19)에 전달하는 횡전송 운반 장치(21)가 설치되어 있다.An upper transfer conveying device 18 is provided in the first heat treatment chamber 2 for intermittently transferring the object S transferred from the object to be treated 5 from the object to be processed 5 upwardly, (3), there is provided a lower transmission device (19) for intermittently transferring the object (S) transferred from the first heat treatment chamber (2) through the communication hole (7) one by one and intermittently transferring the object (S) downward. The upper end of the furnace 1 receives the object S to be transferred to the upper end of the first heat treatment chamber 2 by the upper transfer carrier 18 and the object to be processed is passed through the communication hole 7 And a transverse transmission equipment 21 for transferring to the second heat treatment room 3 and delivering it to the lower transmission equipment 19 are provided.

상부 전송 운반 장치(18)는 제1 열처리실(2) 내에 전후로 대향하게 설치된 가동 랙(22)과 고정 랙(23)으로 구성되어 있다. 가동 랙(22)은 피처리물 입구(5)로부터 연통구(7)에 이르는 높이를 갖고 있으며 또한 상하 전후로 이동이 자유로운가동 랙 본체(24)를 구비하고 있다. 가동 랙 본체 (24)는 좌우 1쌍의 다리부(25)를 구비하고, 이들 다리부(25)는 각각 노(1)의 저벽에 형성된 전후 방향으로 긴 구멍(26)을 통과하고 있다. 가동 랙 본체(24)에 좌우 방향으로 간격을 두고 고정되어 후방으로 연장하는 복수 개의 스테인레스강관제 핑거(27)로 이루어진 피처리물 지지 포크(28)가 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되어 있다. 고정 랙(23)은 제1 열처리실(2)의 후벽을 따라 설치되고, 또한 피처리물 입구(5)로부터 연통구(7)에 이르는 높이를 갖추고 있는 고정 랙 본체(29)를 구비한다. 고정 랙 본체(29)는 좌우 1쌍의 지주(31)를 구비하고, 이들 지주(31)는 노(1)의 저벽을 관통하여 하측으로 연장하며, 그 하단이 노(1)가 설치되는 실내의 바닥면 등에 고정된 베이스 틀(32)에 고정되어 있다. 고정 랙 본체(29)에 좌우 방향으로 간격을 두고 고정된 전후 방향으로 긴 복수 개의 스테인레스 강관제 핑거(33)로 이루어진 피처리물 지지 포크(34)가 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되어 있다.The upper transfer conveying device 18 is constituted by a movable rack 22 and a fixed rack 23 provided in the first heat treatment chamber 2 so as to be opposed to each other in the forward and backward directions. The movable rack 22 has a movable rack body 24 having a height from the object to be processed 5 to the communication port 7 and being movable up and down. The movable rack body 24 is provided with a pair of left and right leg portions 25. These leg portions 25 pass through the elongated hole 26 in the front and rear direction formed on the bottom wall of the furnace 1 respectively. A plurality of workpiece support forks 28, each of which is made up of a plurality of stainless steel pipe fingers 27 fixed to the movable rack body 24 at intervals in the lateral direction and extending rearward, are provided at intervals in the vertical direction . The fixed rack 23 has a fixed rack body 29 provided along the rear wall of the first heat treatment chamber 2 and having a height from the object to be processed 5 to the communication hole 7. The fixed rack main body 29 has a pair of left and right pillars 31. These pillars 31 extend downward through the bottom wall of the furnace 1 and have a lower end, And fixed to the base frame 32 fixed to the bottom surface of the base frame 32. [ A plurality of work piece supporting forks 34 made up of a plurality of longitudinally extending stainless steel pipe fingers 33 which are fixed to the fixed rack body 29 in the left and right direction with intervals therebetween are provided at intervals in the vertical direction .

제4도에 도시된 바와 같이, 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)의 각 피처리물 지지 포크(28, 34)를 구성하는 모든 핑거(27, 33)의 상면에는 각각 전후 방향으로 간격을 두고 복수 개의 돌기(27a, 33a)가 형성되어 있다. 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)의 각 피처리물 지지 포크(28, 34)를 구성하는 핑거(27, 33)의 전후 방향 길이는 이 연속 열처리 장치에 의해 열처리되도록 예정되어 있는 최대의 판형 피처리물(S)의 전후 방향 폭보다도 긴 것이 좋다. 또한, 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)와, 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 각 핑거(33)는 좌우 방향으로 서로 엇갈리게 배치되어 있다(제2도 참조).As shown in FIG. 4, on the upper surfaces of all the fingers 27 and 33 constituting the to-be-processed support forks 28 and 34 of the movable rack 22 and the fixed rack 23, A plurality of protrusions 27a and 33a are formed. The front and rear lengths of the fingers 27 and 33 constituting the to-be-processed support forks 28 and 34 of the movable rack 22 and the fixed rack 23 are set to be the maximum It is preferable to be longer than the front-back direction width of the plate-like object S to be processed. The fingers 27 of the to-be-processed support fork 28 of the movable rack 22 and the fingers 33 of the to-be-processed support fork 34 of the fixed rack 23 are staggered in the left- (See FIG. 2).

하부 전송 운반 장치(19)는 상부 전송 운반 장치(18)와 완전히 동일한 구성이며, 동일 부분에는 동일 부호를 붙이고 설명을 생략한다.The lower transmission transport device 19 has exactly the same structure as the upper transport transport device 18, and the same parts are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

횡전송 운반 장치(21)는 좌우 방향으로 이동이 자유로운 좌우 방향으로 긴 이동 바(35)를 구비하고 있다. 이동 바(35)는 고정 랙(23)의 고정 랙 본체(29)의 상측에 위치하고 있다. 이동 바(35)의 양 단부는 노(1)의 좌우 양측 벽에 형성된 구멍(36)을 통하여 노(1) 외부로 연장하고 있다. 이동 바(35)의 노(1) 내에 존재하는 부분에는 하측으로 돌출한 브래킷(37)을 통하여 피처리물 유지 부재(38)가 고정되어 있다. 피처리물 유지 부재(38)는 좌우 방향으로 연장하는 막대형 부재(39)와, 막대형 부재(39)에 좌우 방향으로 간격을 두고 설치되어 전방으로 연장하는 복수 개의 스테인레스 강관제 핑거(41)로 이루어진다. 도시는 생략하였지만, 각 핑거(41)의 상면에도 길이 방향으로 간격을 두고 복수 개의 돌기가 형성되어 있다. 피처리물 유지 부재(38)는 고정 랙(23)의 최상단의 피처리물 지지 포크(34)의 상측에 위치하고 있고, 피처리물 유지 부재(38)와 고정 랙(23)의 최상단의 피처리물 지지 포크(34)와의 간격은 고정 랙(23)의 인접 피처리물 지지 포크(34) 간의 간격과 같다. 피처리물 유지 부재(38)의 핑거(41)의 수는 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 핑거(33)의 수와 동일하고, 또한 인접하는 핑거(41) 간의 간격은 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 인접하는 핑거(33) 간의 간격과 같다. 또한, 피처리물 유지 부재(38)의 핑거(41)의 선단은 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 핑거(33)의 선단과 동일 수직면 상에 위치한다.The transverse transmission and delivery device 21 is provided with a long movable bar 35 in the left and right direction which is freely movable in the lateral direction. The movable bar 35 is located on the upper side of the fixed rack body 29 of the fixed rack 23. Both ends of the moving bar 35 extend outside the furnace 1 through holes 36 formed in the right and left side walls of the furnace 1. A to-be-processed object holding member 38 is fixed to a portion of the movable bar 35 existing in the furnace 1 through a bracket 37 protruding downward. The object to be processed holding member 38 includes a rod member 39 extending in the left and right direction and a plurality of stainless steel pipe fingers 41 extending in the left and right direction and extending forward in the rod member 39, . Although not shown, a plurality of projections are formed on the upper surface of each finger 41 at intervals in the longitudinal direction. The object to be processed holding member 38 is located on the upper side of the for-treatment object 34 at the uppermost stage of the fixed rack 23, The distance between the water holding fork 34 and the water holding fork 34 is equal to the distance between the adjacent to-be-processed supporting forks 34 of the fixed rack 23. [ The number of the fingers 41 of the object to be processed holding member 38 is equal to the number of the fingers 33 of the to-be-processed object supporting fork 34 of the fixed rack 23, Is equal to the distance between adjacent fingers (33) of the workpiece support fork (34) of the fixed rack (23). The distal end of the finger 41 of the object to be processed holding member 38 is positioned on the same vertical plane as the tip of the finger 33 of the object to be supported 34 of the fixed rack 23.

상부 전송 운반 장치(18)의 가동 랙(22)의 구동 기구는 후술하는 바와 같이노(1) 외부에 설치되어 있다.The driving mechanism of the movable rack 22 of the upper transmission transport device 18 is provided outside the furnace 1 as described later.

제5도 및 제6도에 도시된 바와 같이, 베이스 틀(32)에 좌우 방향으로 간격을 두고 전후 방향으로 긴 1쌍의 연직 벽(42)이 고정적으로 설치되어 있고, 연직 벽(42)의 상측에 가동 랙(22)을 지지하는 수평 지지판(43)이 배치되어 있다. 양 연직 벽(42)의 좌우 방향 외면의 전후 양 단부에는 각각 상하 방향으로 연장하는 가이드 레일(44)이 고정되어 있다. 수평 지지판(43)의 하면에는 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되어 있으며 또한 양 연직 벽(42)의 좌우 방향 외측에 위치하는 전후 방향으로 긴 1쌍의 연직 벽(45)이 고정적으로 설치되어 있고, 양 연직 벽(45)의 서로 대향하는 면에 각각 가이드 레일(44)을 따라서 상하 방향으로 활주하는 슬라이더(46)가 고정되어 있다. 좌우 방향으로 연장하는 수평 회전축(47)의 양 단부가 각각 양 연직 벽(42)에 회전 가능하게 지지되어 있다. 회전축(47)의 일단부는 도시되지 않은 감속기를 통하여 모터(48)의 구동축에 연결되어 있다. 또한, 회전축(47)의 길이 방향 중앙부 부근에 캠(49)이 고정되어 있다. 이 캠(49)의 회전에 의해 상하로 이동하는 캠 종동부(51)가 브래킷(52)을 통해 수평 지지판(43)의 하면에 회전 가능하게 장착되어 있다. 그리고, 모터(48)에 의하여 회전축(47)이 회전됨으로써 캠(49)이 회전되어, 캠 종동부(51)를 통하여 수평 지지판(43)이 상하로 이동된다.As shown in FIGS. 5 and 6, a pair of vertical walls 42 fixed to the base frame 32 in the front-rear direction are provided fixedly at intervals in the left-right direction, and the vertical walls 42 And a horizontal support plate 43 for supporting the movable rack 22 is disposed on the upper side. A guide rail 44 extending in the vertical direction is fixed to both front and rear ends of the left and right outer surfaces of the both vertical walls 42, respectively. On the lower surface of the horizontal support plate 43, there are fixedly provided a pair of vertical walls 45 spaced apart from each other in the left-right direction and extending in the longitudinal direction of the both vertical walls 42, A slider 46 is fixed to the mutually facing surfaces of the both vertical walls 45, respectively, which slides in the vertical direction along the guide rails 44. Both ends of the horizontal rotation shaft 47 extending in the left-right direction are rotatably supported by the both vertical walls 42, respectively. One end of the rotary shaft 47 is connected to the drive shaft of the motor 48 through a speed reducer (not shown). Further, the cam 49 is fixed in the vicinity of the central portion in the longitudinal direction of the rotary shaft 47. A cam follower 51 that moves up and down by the rotation of the cam 49 is rotatably mounted on the lower surface of the horizontal support plate 43 through the bracket 52. [ The rotation shaft 47 is rotated by the motor 48 so that the cam 49 is rotated and the horizontal support plate 43 is moved up and down through the cam follower 51. [

수평 지지판(43)의 상면의 좌우 양측 가장자리에 각각 전후 방향으로 연장하는 가이드 레일(53)이 고정되어 있다. 양 가이드 레일(53) 사이로 수평 지지판(43)의 상면에는 상측으로 돌출한 2개의 브래킷(54)이 전후 방향으로 간격을 두고 고정되어 있고, 이들 브래킷(54)에는 전후 방향으로 연장하는 볼나사축(55)이 회전 가능하게 지지되어 있다. 볼나사축(55)의 일단은 모터(56)의 구동축에 연결되어 있다. 가동 랙 본체(24)의 다리부(25)의 하단 사이에 연결판(57)이 걸쳐져 고정되어 있고, 연결판(57)의 좌우 양측 가장자리의 전후 양 단부에 각각 가이드 레일(53) 위를 전후 방향으로 활주하는 슬라이더(58)가 고정되어 있다. 또한, 연결판(57)의 하면에 볼나사축(55)에 볼이 통과하여 끼워지는 볼너트(59)가 설치되어 있다. 그리고, 모터(56)에 의해 볼나사축(55)이 회전되어 볼나사축(55)과 볼너트(59)의 작용에 의해 가동 랙(22)이 전후 방향으로 이동하도록 되어 있다.Guide rails 53 extending in the front-rear direction are fixed to the left and right side edges of the upper surface of the horizontal support plate 43, respectively. Two brackets 54 protruding upward are fixed to the upper surface of the horizontal support plate 43 between the both guide rails 53 at intervals in the front and rear direction. (55) is rotatably supported. One end of the ball screw shaft 55 is connected to the drive shaft of the motor 56. The guide rails 53 are fixed to both front and rear ends of the left and right side edges of the connecting plate 57 in the front and rear directions And a slider 58 slidable in the direction of the arrow. A ball nut 59 is provided on the lower surface of the connecting plate 57 so that the ball passes through the ball screw shaft 55. The ball screw shaft 55 is rotated by the motor 56 to move the movable rack 22 in the forward and backward direction by the action of the ball screw shaft 55 and the ball nut 59. [

하부 전송 운반 장치(19)의 가동 랙(22)의 구동 기구는 상부 전송 운반 장치(18)의 가동 랙(22)의 구동 기구와 완전히 동일한 구성이다.The driving mechanism of the movable rack 22 of the lower transmission transport device 19 is completely the same as the driving mechanism of the movable rack 22 of the upper transmission transport device 18. [

횡전송 운반 장치(21)의 구동 기구는 다음과 같이 노 외부에 설치되어 있다.The driving mechanism of the transverse transmission and transport device 21 is installed outside the furnace as follows.

제7도 및 제8도에 도시된 바와 같이, 노(1)의 정상 벽의 상면에 좌우 방향으로 연장하는 지지 부재(61)가 고정되어 있다. 지지 부재(61)의 좌우 양 단부는 노(1)의 정상 벽의 좌우 양 단부보다 더 돌출되어 있다. 이와 같이 좌우 양측에 노(1)의 정상벽보다 더 돌출한 지지 부재(61)의 부분의 하면 전후 양측 가장자리에는 각각 좌우 방향으로 연장하는 가이드 레일(62)이 고정되어 있다. 또한, 우측의 노(1)의 정상 벽보다 더 돌출한 지지 부재(61)의 부분의 하면으로 양 가이드 레일(62) 사이 부분에는 좌우 방향으로 간격을 두고 하측으로 돌출한 2개의 브래킷(63)이 고정되어 있고, 이들 브래킷(63)에 좌우 방향으로 연장하는 볼나사축(64)이 회전 가능하게 지지되어 있다. 볼나사축(64)의 우측단은 모터(65)의 구동축에 연결되어 있다. 이동 바(35)의 좌우 양 단부의 전후 양측에 각각 브래킷(66)을 통해 가이드 레일(62)을 따라 좌우 방향으로 활주하는 슬라이더(67)가 고정되어 있다. 또한, 이동 바(35)의 우측단의 상면에는 볼나사축(64)에 볼이 통과하여 끼워지는 볼너트(68)가 설치되어 있다. 그리고, 모터(65)에 의해 볼나사축(64)이 회전되어 볼나사축(64)과 볼너트(68)의 작용에 의해 이동 바(35)가 좌우 방향으로 이동하도록 되어 있다. 또한, 제7도에 있어서는 우측 전방의 가이드 레일(62), 브래킷(66) 및 슬라이더(67)는 생략되어 있다.7 and 8, a support member 61 extending in the left-right direction is fixed to the upper surface of the top wall of the furnace 1. Both left and right end portions of the support member 61 protrude more than left and right end portions of the top wall of the furnace 1. Guide rails 62 extending in the left and right directions are fixed to both front and rear edges of the lower surface of the portion of the support member 61 which protrudes more than the top wall of the furnace 1 on both left and right sides. Two brackets 63 protruding downward in the left and right direction are provided on the lower surface of the portion of the support member 61 which protrudes more than the top wall of the right side furnace 1 and between the both guide rails 62, And a ball screw shaft 64 extending in the left-right direction is rotatably supported on these brackets 63. [0053] The right end of the ball screw shaft 64 is connected to the drive shaft of the motor 65. A slider 67 is fixed to both the front and rear sides of the left and right ends of the movable bar 35, respectively, through the bracket 66, and slides in the left-right direction along the guide rail 62. A ball nut 68 is provided on the upper surface of the right end of the moving bar 35 so that the ball passes through the ball screw shaft 64. The ball screw shaft 64 is rotated by the motor 65 so that the movement bar 35 is moved in the left and right direction by the action of the ball screw shaft 64 and the ball nut 68. [ In Fig. 7, the guide rail 62, the bracket 66 and the slider 67 on the right front side are omitted.

이러한 구성에 있어서, 도시되지 않은 적당한 반입 수단에 의하여 피처리물 입구(5)를 통하여 제1 열처리실(2) 내에 반입된 판형 피처리물(S)은 후술하는 바와 같이 노(1) 내에서 열처리되고, 도시되지 않은 적당한 반출 수단에 의하여 제2 열처리실(3)로부터 피처리물 출구(6)를 통하여 반출된다.In this configuration, the plate-like object S conveyed into the first heat treatment chamber 2 through the object to be treated 5 by the appropriate carrying means (not shown) is introduced into the furnace 1 And is taken out from the second heat treatment chamber 3 through the object to be treated outlet 6 by an appropriate unloading means not shown.

제9도에는 상부 전송 운반 장치(18)의 가동 랙(22)이 고정 랙(23)으로부터 가장 먼 위치에 배치되어 있는 상태가 도시되어 있다. 또한, 상부 전송 운반 장치(18)의 가동 랙(22)은 하강 위치에 있고, 그 피처리물 지지 포크(28)는 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)보다 약간 하측에 위치하고 있다. 이 때, 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 선단과 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34) 사이에는 평면에서 보아 간극이 존재하고 있다. 이 상태로 먼저 판형 피처리물(S)은 반입 수단에 의하여 피처리물 입구(5)를 통하여 고정 랙(23)의 최하단의 피처리물 지지 포크(34) 상에 얹혀진다(단계 A)(제9a도 참조). 계속하여, 모터(56)에 의해 볼나사축(55)이 회전되어 볼나사축(55)과 볼너트(59)의 작용에 의해 가동 랙(22)이 후방으로 이동되어, 가동 랙(22)이 고정 랙(23)에 최대한 접근하게 되어그 피처리물 지지 포크(28)가 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 바로 아래에 오게 된다(단계 B)(제9b도 참조). 이어서, 모터(48)에 의해 회전축(47)이 회전되어 캠(49)과 캠 종동부(51)와의 작용에 의해 수평 지지판(43)이 상승되어 그 피처리물 지지 포크(28)가 바로 위의 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 상측에 올 때까지 가동 랙(22)이 상승되고, 판형 피처리물(S)이 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28) 상에 얹혀진다(단계 C)(제9c도 참조). 계속하여, 모터(56)에 의해 볼나사축(55)이 회전되어 볼나사축(55)과 볼너트(59)의 작용에 의해 가동 랙(22)이 전방으로 이동되어 고정 랙(23)으로부터 최대한 먼 위치에 배치된다(단계 D)(제9d도 참조). 이어서, 모터(48)에 의해 회전축(47)이 회전되어 캠(49)과 캠 종동부(51)와의 작용에 의해 수평 지지판(43)이 상승되어, 피처리물 지지 포크(28)가 바로 위의 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 상측에 올 때까지 가동 랙(22)이 상승된다(단계 E)(제9e도 참조). 단계 E에서의 가동 랙(22)의 상승 거리는 단계 C에서의 가동 랙(22)의 상승 거리보다 약간 길도록 되어 있다. 이어서, 모터(56)에 의해 볼나사축(55)이 회전되어 볼나사축(55)과 볼너트(59)의 작용에 의해 가동 랙(22)이 후방으로 이동되어 고정 랙(23)에 최대한 접근되어 그 피처리물 지지 포크(28)가 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 바로 아래에 오도록 된다(단계 F)(제9f도 참조). 계속하여, 모터(48)에 의해 회전축(47)이 회전되어 캠(49)과 캠 종동부(51)의 작용에 의해 수평 지지판(43)이 하강되어, 피처리물 지지 포크(28)가 바로 아래의 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 하측에 올 때까지 가동 랙(22)이 하강되고, 판형 피처리물(S)이 고정 랙(23)의 아래로부터 2번째의 피처리물 지지 포크(34) 상에 얹혀진다(단계 G)(제9g도 참조). 단계 G에서의 가동 랙(22)의 하강 거리는 단계 E에서의 가동 랙(22)의 상승 거리에서 단계 C에서의 가동 랙(22)의 상승 거리를 감한 거리이다. 계속하여, 모터(56)에 의해 볼나사축(55)이 회전되어 볼나사축(55)과 볼너트(59)의 작용에 의해 가동 랙(22)이 전방으로 이동되어, 가동 랙(22)이 고정 랙(23)으로부터 최대한 간격을 둔 위치에 배치된다(단계 H)(제9h도 참조). 계속하여, 모터(48)에 의해 회전축(47)이 회전되어 캠(49)과 캠 종동부(51)와의 작용에 의해 수평 지지판(43)이 하강되어, 피처리물 지지 포크(28)가 바로 아래의 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 하측에 올 때까지 가동 랙(22)이 하강된다(단계1)(제9i도 참조). 이렇게 하여 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)은 제9a도에 도시된 상태로 복귀되어, 이후에 반입되어 오는 판형 피처리물(S)을 기다린다. 이러한 단계 A에서 단계 1까지의 동작을 1사이클로 하고, 이 사이클을 반복함으로써, 판형 피처리물(S)은 상부 전송 운반 장치(18)에 의해 제1 열처리실(2) 내에서 상측으로 간헐적으로 운반된다.FIG. 9 shows a state in which the movable rack 22 of the upper transmission transport apparatus 18 is disposed at the farthest position from the fixed rack 23. The movable rack 22 of the upper transfer conveyance device 18 is in the lowered position and the to-be-processed support fork 28 is positioned slightly lower than the to-be-processed support fork 34 of the fixed rack 23 have. At this time, a clearance is present between the tip of the to-be-processed supporting fork 28 of the movable rack 22 and the to-be-processed supporting fork 34 of the fixed rack 23 in a plan view. In this state, first, the plate-like object S is placed on the for-treatment object holding member 34 at the lowermost end of the stationary rack 23 via the object to be processed 5 by the carrying means (step A) See also Section 9a). The ball screw shaft 55 is rotated by the motor 56 and the movable rack 22 is moved backward by the action of the ball screw shaft 55 and the ball nut 59 to move the movable rack 22, So that the to-be-processed object supporting fork 28 reaches the fixed rack 23 directly below the to-be-processed supporting fork 34 of the fixed rack 23 (step B) (see also FIG. 9b) ). The rotary shaft 47 is rotated by the motor 48 so that the horizontal support plate 43 is raised by the action of the cam 49 and the cam follower 51 so that the to- The movable rack 22 is lifted until the movable rack 22 reaches the upper side of the to-be-processed support fork 34 of the fixed rack 23 of the movable rack 22, 28) (step C) (see also figure 9c). Subsequently, the ball screw shaft 55 is rotated by the motor 56, and the movable rack 22 is moved forward by the action of the ball screw shaft 55 and the ball nut 59, (Step D) (see also figure 9d). The rotary support shaft 47 is rotated by the motor 48 so that the horizontal support plate 43 is moved upward by the action of the cam 49 and the cam follower 51, The movable rack 22 is lifted up (step E) (see also Fig. 9e) until it comes to the upper side of the to-be-processed support fork 34 of the fixed rack 23 of the fixed rack 23. The rising distance of the movable rack 22 in the step E is slightly longer than the rising distance of the movable rack 22 in the step C. The ball screw shaft 55 is rotated by the motor 56 so that the movable rack 22 is moved backward by the action of the ball screw shaft 55 and the ball nut 59 to move the fixed rack 23 to the maximum extent (Step F) (see also Fig. 9 (f)) so that the for-processing support fork 28 is brought directly under the workpiece support fork 34 of the fixed rack 23. Subsequently, the rotary shaft 47 is rotated by the motor 48 so that the horizontal support plate 43 is lowered by the action of the cam 49 and the cam follower 51, The movable rack 22 is lowered until the movable rack 22 reaches the lower side of the to-be-processed support fork 34 of the lower fixed rack 23 and the plate- (Step G) (see also Fig. 9g). The descent distance of the movable rack 22 in the step G is a distance obtained by subtracting the rising distance of the movable rack 22 in the step C from the rising distance of the movable rack 22 in the step E. The ball screw shaft 55 is rotated by the motor 56 and the movable rack 22 is moved forward by the action of the ball screw shaft 55 and the ball nut 59 to move the movable rack 22, (Step H) (see also Fig. 9 (h)). Subsequently, the rotary shaft 47 is rotated by the motor 48, the horizontal supporting plate 43 is lowered by the action of the cam 49 and the cam follower 51, and the to-be- The movable rack 22 is lowered (Step 1) until it comes to the lower side of the to-be-processed support fork 34 of the lower fixed rack 23 (see also Fig. In this way, the movable rack 22 and the fixed rack 23 are returned to the state shown in FIG. 9A, and wait for the plate-like object S to be brought in afterward. By repeating this cycle of the operations from step A to step 1, the plate-like object S is intermittently moved upward in the first heat treatment chamber 2 by the upper transfer carrier 18 Lt; / RTI >

하부 전송 운반 장치(19)에 의한 판형 피처리물(S)의 제2 열처리실(3) 내에서의 하측으로의 운반은 전술한 단계 A에서 단계 I까지의 동작을 각각 반대의 양태로 행하고, 또한 단계 I에서 단계 A로의 순서대로 실시하는 사이클을 반복함으로써 행해진다.The downward conveyance of the plate-like object S in the second heat treatment chamber 3 by the lower transmission conveyor 19 is performed in the opposite manner to the operation from Step A to Step I described above, And repeating the cycle in which the steps from step I to step A are repeated.

상부 전송 운반 장치(18)로부터 횡전송 운반 장치(21)로의 판형 피처리물(S)의 상호 전달, 횡전송 운반 장치(21)에 의한 제1 열처리실(2)로부터 제2 열처리실(3)로의 판형 피처리물(S)의 운반, 그리고 횡전송 운반 장치(21)로부터 하부 전송 운반 장치(19)로의 판형 피처리물(S)의 상호 전달은 후술하는 바와 같이 행해진다. 상부 전송 운반 장치(18)의 가동 랙(22)과 고정 랙(23)이 제9a도에 도시된 상태에 있을 때, 모터(65)에 의해 볼나사축(64)이 회전되어, 이동 바(35)가 볼나사축(64)과 볼너트(68)의 작용에 의해 좌측으로 이동되며, 피처리물 유지 부재(38)가 상부 전송 운반 장치(18)의 고정 랙(23)의 최상단 피처리물 지지 포크(34)의 바로 위의 위치에 대기되어 있다. 그리고, 상부 전송 운반 장치(18)가 전술한 1사이클의 동작을 행하는 동안에 상부 전송 운반 장치(18)의 고정 랙(23)의 최상단의피처리물 지지 포크(34) 상에 얹혀져 있던 판형 피처리물(S)은 피처리물 유지 부재(38) 상에 얹혀진다. 계속하여, 모터(65)에 의해 볼나사축(64)이 회전되어 볼나사축(64)과 볼너트(68)와의 작용에 의해 이동 바(35)가 우측으로 이동되며, 피처리물 유지 부재(38)가 하부 전송 운반 장치(19)의 고정 랙(23)의 최상단 피처리물 지지 포크(34)의 바로 위의 위치에 오게 한다. 그리고, 하부 전송 운반 장치(19)가 전술한 1사이클의 동작을 행하는 동안에 피처리물 유지 부재(38) 상에 얹혀져 있던 판형 피처리물(S)이 하부 전송 운반 장치(19)의 고정 랙(23)의 최상단 피처리물 지지 포크(34) 상에 얹혀진다.The transfer of the plate-like object S from the upper transfer conveyance device 18 to the lateral transfer conveyance device 21 is carried out from the first heat treatment chamber 2 by the lateral transfer conveyance device 21 to the second heat treatment chamber 3 And the mutual transfer of the plate-like object S from the lateral transfer conveying device 21 to the lower transfer conveying device 19 is carried out as described later. The ball screw shaft 64 is rotated by the motor 65 when the movable rack 22 and the fixed rack 23 of the upper transmission transport apparatus 18 are in the state shown in Fig. 35 are moved to the left by the action of the ball screw shaft 64 and the ball nut 68 and the object to be processed holding member 38 is moved to the uppermost processing And stands at a position just above the water support fork 34. [ While the upper transporting apparatus 18 is performing the above-described one cycle of operation, the plate-shaped processing object (not shown) placed on the uppermost target object supporting fork 34 at the uppermost stage of the fixed rack 23 of the upper transporting apparatus 18 The water S is placed on the object to be treated 38. Subsequently, the ball screw shaft 64 is rotated by the motor 65 so that the moving bar 35 is moved to the right by the action of the ball screw shaft 64 and the ball nut 68, (38) comes to a position just above the uppermost target support fork (34) of the fixed rack (23) of the lower transmission transport device (19). While the lower transmission device 19 performs the above-described one cycle of operation, the plate-like object S placed on the to-be-processed object holding member 38 is guided to the fixed rack (not shown) of the lower transmission device 19 23 on the uppermost object to be supported fork 34.

전술한 바와 같이하여, 피처리물 입구(5)를 통하여 제1 열처리실(2) 내에 반입된 판형의 피처리물(S)이 제2 열처리실(3)의 피처리물 출구(6)로부터 반출되는 사이에 히터(15)에 의해 가열된 고온 대기가 송풍기(16)에 의해 제1 열처리실(2)과 제2 열처리실(3) 및 각 순환로(8, 12)에서 순환되고, HEPA 필터(17)에 의해 청정화된 고온 대기가 피처리물(S)에 내뿜어짐으로써 피처리물(S)에 적당한 열처리가 행해진다.As described above, the plate-shaped object S to be introduced into the first heat treatment chamber 2 through the object to be treated 5 is discharged from the object to be processed 6 of the second heat treatment chamber 3 The high temperature atmosphere heated by the heater 15 is circulated in the first heat treatment chamber 2 and the second heat treatment chamber 3 and the circulation paths 8 and 12 by the blower 16 while being blown out, The high-temperature atmosphere cleaned by the heater 17 is blown to the object to be treated S, so that the object to be treated S is subjected to a suitable heat treatment.

상기 실시예에 있어서는 상부 전송 운반 장치(18) 및 하부 전송 운반 장치(19)의 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(28, 34)를 구성하는 핑거(27, 33) 및 횡전송 운반 장치(21)의 피처리물 유지 부재(38)의 핑거(41)가 각각 스테인레스 강관제이지만, 이들이 세라믹스제이어도 좋다. 이 경우, 핑거(27, 33, 41)가 금속제일 때에 발생할 우려가 있는 판형 피처리물의 금속 오염이 방지된다. 또한, 상기 실시예에 있어서는 상부 전송 운반 장치(18) 및 하부 전송 운반 장치(19)의 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(28, 34)를 구성하는 핑거(27, 33) 및 횡전송 운반 장치(21)의 피처리물 유지 부재(38)의 핑거(41)의 상면에 각각 돌기(27a, 33a)가 형성되어 있으므로, 판형 피처리물(S)과 핑거(27, 33, 41)의 접촉 면적이 작아지며, 핑거(27, 33, 41)와 판형 피처리물(S)과의 사이의 전열량이 적어진다. 따라서, 판형 피처리물(S)의 핑거(27, 33, 41)와의 접촉부와 비접촉부와의 온도차가 극히 작아지며, 판형 피처리물(S) 전체를 균일하게 가열할 수 있다. 그러나, 전술한 모든 핑거(27, 33, 41)의 상면에 돌기(27a, 33a)를 형성할 필요는 없다.The movable rack 22 of the upper transmission transport device 18 and the lower transmission transport device 19 and the fingers 27 and 34 constituting the to-be-processed support forks 28 and 34 of the fixed rack 23, 33 and the fingers 41 of the object to be treated holding member 38 of the transverse transmission and delivery device 21 are made of stainless steel pipes, respectively, but these may be made of ceramics. In this case, metal contamination of the plate-like object to be processed, which may occur when the fingers (27, 33, 41) are made of metal, is prevented. In the above embodiment, the movable rack 22 of the upper transmission transport device 18 and the lower transmission transport device 19, and the fingers (not shown) of the to-be- The projections 27a and 33a are formed on the upper surfaces of the fingers 41 of the target object holding members 38 of the transverse transmission and transport devices 21 and 27 and 33, The contact area between the fingers 27, 33 and 41 becomes smaller and the amount of heat transferred between the fingers 27, 33 and 41 and the plate-like object S becomes smaller. Therefore, the temperature difference between the contact portion of the plate-like object S with the fingers 27, 33, 41 and the non-contact portion becomes extremely small, and the entire plate-like object S can be uniformly heated. However, it is not necessary to form the projections 27a, 33a on the upper surfaces of all the fingers 27, 33, 41 described above.

상기 실시예에 있어서, 모든 핑거(27, 33, 41)를 구성하는 스테인레스강관의 내부를 대기 통로로 형성하고, 핑거(27, 33, 41)의 돌기의 선단에 대기 취출구를 형성해 두어도 좋다. 이 경우, 판형 피처리물(S)을 비접촉 상태로 지지하는 것이 가능하며, 판형 피처리물(S)은 한층 더 균일하게 가열된다.In the above embodiment, the inside of the stainless steel pipe constituting all the fingers 27, 33 and 41 may be formed as an atmospheric passage, and atmospheric air outlets may be formed at the ends of the projections of the fingers 27, 33 and 41. In this case, it is possible to support the plate-like object S in a noncontact state, and the plate-like object S is further uniformly heated.

제10도는 본 발명의 다른 실시예를 도시한다.FIG. 10 shows another embodiment of the present invention.

제10도에 있어서, 상부 전송 운반 장치(18) 및 하부 전송 운반 장치(19)의 고정 랙(23)은 피처리물 입구(5)에서 연통구(7)에 이르는 높이를 갖추고 있는 고정 랙 본체(29)에 알루미늄제(알루미늄 합금제도 포함한다) 피처리물 지지판(70)이 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치됨으로써 구성되어 있다. 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)와 대응하는 피처리물 지지판(70)의 좌우 방향으로 복수 개의 지점에, 가동 랙(22)이 고정 랙(23)에 최대한 접근한 상태에서 상하 방향으로 이동했을 때 가동 랙(22)의 각 핑거(27)가 통과할 수 있는 복수 개의 홈(71)이 피처리물 지지판의 선단에 형성되어 있다. 또한, 피처리물 지지판(70)의 하면에는 판형 피처리물(S)을 가열하기 위한 면(面) 히터(72)(가열수단)가 장착되어 있다.10, the fixed racks 23 of the upper transmission carrier device 18 and the lower transmission carrier device 19 are fixed to the stationary rack body 18 having the height from the object to be processed 5 to the communication hole 7, (Including an aluminum alloy system) supporting object plate 70 is provided in the upper portion 29 at intervals in the vertical direction. The movable rack 22 is fixed to the stationary rack 23 at a plurality of points in the left and right direction of the workpiece support plate 70 corresponding to the respective fingers 27 of the workpiece support fork 28 of the movable rack 22, A plurality of grooves 71 through which the respective fingers 27 of the movable rack 22 can pass are formed at the ends of the workpiece support plate when the workpiece is moved up and down in the state of being as close as possible to the workpiece support plate. A surface heater 72 (heating means) for heating the plate-like object S is mounted on the lower surface of the object to be processed support plate 70.

본 실시예의 장치에 있어서, 도시되지 않은 적당한 반입 수단에 의하여 피처리물 입구(5)를 통하여 제1 열처리실(2) 내에 반입된 판형 피처리물(S)은 제1 실시예와 같이 노 내에서 운반된다. 가동 랙(22)이 고정 랙(23)에 대하여 최대한 접근한 상태로 상하 이동할 때 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)는 피처리물 지지판(70)에 형성된 각 홈(71)을 통과한다.In the apparatus of the present embodiment, the plate-like object S conveyed into the first heat treatment chamber 2 through the object to be processed 5 by the appropriate carrying means (not shown) Lt; / RTI > The fingers 27 of the to-be-processed object supporting fingers 28 of the movable rack 22 move up and down on the to-be-processed support plate 70 when the movable rack 22 moves up and down as close as possible to the fixed rack 23 And passes through the respective grooves 71 formed.

상기 다른 실시예에 있어서는 판형 피처리물(S)이 노(1) 내에서 운반되는 동안에 상부 전송 운반 장치(18) 및 하부 전송 운반 장치(19)의 고정 랙(23)의 피처리물 지지판(7C)을 통하여 면 히터(72)에서 발생된 열에 의하여 가열되어 열처리된다. 따라서, 노(1) 내에 제1 실시예의 경우와 같이 대기 순환로를 형성할 필요가 없어지는 동시에, 히터, 송풍기 및 HEPA 필터가 불필요해진다. 또한, 다른 방식으로 판형 피처리물(S)을 열처리하는 경우에는 다른 적당한 가열 수단이 필요하며 전술한 가열 수단은 불필요하다.The object to be processed S in the fixed rack 23 of the upper transmission conveyance device 18 and the lower transmission conveyance device 19 during the conveyance of the plate-like object S in the furnace 1 7C by the heat generated from the surface heater 72. As shown in FIG. Therefore, it is not necessary to form an atmospheric circulation path in the furnace 1 as in the case of the first embodiment, and a heater, a blower, and a HEPA filter become unnecessary. When the plate-like object S is heat-treated in another manner, another suitable heating means is required, and the above-mentioned heating means is unnecessary.

또한 상기 다른 실시예에 있어서, 판형 피처리물(S)의 열처리를 피처리물 지지판(70)에 의한 가열만이 아니라, 이 피처리물 지지판(70)에 의한 가열과, 제1 실시예의 경우와 같은 방식에 의한 가열을 병용함으로써 행해도 좋다.In addition, in the above-described another embodiment, the heat treatment of the plate-like object S is performed not only by the heating of the material support plate 70 but also by the heating by the material support plate 70, May be performed in combination with heating by the same method as that described above.

또한 상기 다른 실시예에 있어서, 판형 피처리물(S)의 열처리를 제1 실시예의 경우와 같은 방식에 의해서만 행해도 좋다. 이 경우, 면 히터(72)는 불필요하다.In the other embodiments, the heat treatment of the plate-like object S may be performed only in the same manner as in the first embodiment. In this case, the surface heater 72 is unnecessary.

상기 2개의 실시예는 노 안에 상하 방향으로 연장하는 제1 열처리실과 제2 열처리실이 칸막이 벽을 통해 나란히 설치되어 있고, 제1 열처리실의 하단부에 피처리물 입구가 형성되는 동시에 제2 열처리실의 하단부에 피처리물 출구가 형성되며, 칸막이 벽의 상단부에 양 열처리실을 서로 연통시키는 연통구가 형성되고, 제1 열처리실 내에 피처리물 입구로부터 전송된 판형 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 상측으로 전송하는 상부 전송 운반 장치가 설치되며, 제2 열처리실 내에는 상기 연통구를 통하여 제1 열처리실에서 전송된 판형 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 하측으로 전송하는 하부 전송 운반 장치가 설치되고, 노 내의 상단부에 횡전송 운반 장치가 설치되어 상부 전송 운반 장치에 의해 제1 열처리실의 상단부까지 전송된 판형 피처리물을 수취하는 동시에 연통구를 통하여 제2 열처리실로 전송하며 또한 하부 전송 운반 장치에 전달하지만, 이것으로만 한정되는 것은 아니며, 노 내에 상하 방향으로 연장하는 1개의 열처리실이 설치되고, 열처리실의 상하양 단부에 각각 개구가 형성되며, 열처리실 내에 상하 어느 한쪽의 개구로부터 전송된 판형 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 수직 방향으로 다른쪽의 개구를 향하여 전송하는 운반 장치가 설치되어 있어도 좋다.In the two embodiments, the furnace is provided with a first heat treatment chamber and a second heat treatment chamber arranged in parallel in the furnace through a partition wall, an inlet for the object to be processed is formed at the lower end of the first heat treatment chamber, Shaped object to be processed transferred from the inlet of the object to be processed from the inlet of the object to be processed in the first heat treatment chamber is intermittently supplied to the upper end of the partition wall, And a lower transfer conveying device for intermittently transferring down the plate-shaped objects transferred from the first heat treatment chamber through the communication holes in the second heat treatment chamber A transverse transmission device is provided at an upper end portion of the furnace, and a plate-shaped substrate is transferred to the upper end of the first heat treatment chamber by the upper transmission device The heat treatment chamber is provided with a heat treatment chamber extending upward and downward in the furnace. The heat treatment chamber is connected to the lower heat transfer chamber through a communication hole, And a conveying device may be provided in which openings are formed in both upper and lower ends of the heat treatment chamber and intermittent vertical movement of the plate-shaped objects to be processed transferred from either one of the upper and lower openings in the heat treatment chamber is made toward the other opening .

본 발명의 제1 내지 제3 연속 열처리 장치에 의하면, 전술한 바와 같이 가동 랙의 피처리물 지지 포크 및 고정 랙의 피처리물 지지 포크 또는 피처리물 지지판에 의해 지지되어 판형 피처리물이 노 내에서 운반되므로, 운반 중에 판형 피처리물이 휘어지는 것이 방지된다.According to the first to third continuous heat treatment apparatuses of the present invention, as described above, the to-be-processed object is supported by the to-be-processed support fork of the movable rack and the to-be- So that the plate-like object to be processed is prevented from bending during transportation.

또한 이러한 3개의 연속 열처리 장치에 의하면, 판형 피처리물의 크기가 작은 경우에도 피처리물 지지 포크 또는 피처리물 지지판 상에 피처리물을 얹을 수 있다. 따라서, 종래의 장치와 같이 트레이를 준비할 필요가 없어지며, 트레이를 이용할 경우의 문제, 즉 가열 효율이 나빠지는 동시에 피처리물에 있어서의 트레이와의 접촉면과 비접촉면과의 온도가 불균일해진다고 하는 문제의 발생을 방지할 수 있다.According to these three continuous heat treatment apparatuses, even when the size of the plate-like object to be processed is small, the object to be processed can be placed on the object to be supported fork or the substrate to be processed. Therefore, there is no need to prepare the tray as in the conventional apparatus, and the problem of using the tray, that is, the heating efficiency is deteriorated, and the temperature between the contact surface with the tray and the non- It is possible to prevent the occurrence of problems.

또한 이러한 3개의 연속 열처리 장치에 의하면, 가동 랙이 고정 랙에 대하여 최대한 접근한 상태로 상하 이동할 때에도 가동 랙의 피처리물 지지 포크와, 고정 랙의 피처리물 지지 포크 또는 피처리물 지지판이 서로를 방해하는 것을 방지할 수 있다.Further, according to such three continuous heat treatment apparatuses, even when the movable rack is vertically moved in a state of being as close as possible to the fixed rack, the to-be-processed support forks of the movable rack and the to- Can be prevented.

또한 본 발명의 제3 연속 열처리 장치에 있어서, 피처리물 지지판이 가열 수단을 구비하고 있으면, 판형 피처리물이 노 내에서 운반되는 동안에 고정 랙의 피처리물 지지판에 의해 가열된다. 따라서, 판형 피처리물의 열처리에 가열 수단에의해 발생되는 열을 이용할 수 있다.Further, in the third continuous heat treatment apparatus of the present invention, when the object to be processed has the heating means, the object to be processed is heated by the object support plate of the fixed rack while being conveyed in the furnace. Therefore, the heat generated by the heating means can be used for the heat treatment of the plate-like object to be processed.

제1도는 본 발명에 의한 연속 열처리 장치의 전체 구성을 도시하는 정면에서 본 수직 단면도이고,FIG. 1 is a vertical sectional view showing the entire structure of a continuous heat treatment apparatus according to the present invention, viewed from the front,

제2도는 본 발명에 의한 연속 열처리 장치의 전체 구성을 도시하는 수평 단면도이며,FIG. 2 is a horizontal sectional view showing the entire configuration of a continuous heat treatment apparatus according to the present invention,

제3도는 본 발명에 의한 연속 열처리 장치의 전체 구성을 도시하는 우측에서 본 수직 단면도이고,FIG. 3 is a vertical sectional view from the right side showing the overall structure of the continuous heat treatment apparatus according to the present invention,

제4도는 가동 랙의 일부와 고정 랙의 일부를 확대하여 도시하는 측면도이며,4 is a side view showing an enlarged view of a part of the movable rack and a part of the fixed rack,

제5도는 제1도의 부분 확대도이고,FIG. 5 is a partially enlarged view of FIG. 1,

제6도는 제5도의 VI-VI 선 단면도이며,6 is a cross-sectional view taken along line VI-VI of FIG. 5,

제7도는 연속 열처리 장치의 상부의 구조를 일부분을 생략하여 도시하는 상면으로부터 본 부분 수직 단면도이고,FIG. 7 is a vertical cross-sectional view of the upper part of the structure of the upper part of the continuous heat treatment apparatus,

제8도는 제7도의 VIII-VIII 선 확대 단면도이며,8 is an enlarged cross-sectional view taken along line VIII-VIII of FIG. 7,

제9도는 상부 전송 운반 장치에 의한 운반 동작을 순서대로 도시하는 도면이고,FIG. 9 is a view showing in sequence the carrying operation by the upper transmission carrier,

제10도는 본 발명의 다른 실시예를 도시하는 가동 랙과 고정 랙의 평면도이다.10 is a plan view of a movable rack and a fixed rack showing another embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>Description of the Related Art

1: 노1: No

2: 제1 열처리실2: First heat treatment chamber

3: 제2 열처리실3: second heat treatment chamber

4: 칸막이 벽4: partition wall

5: 피처리물 입구5: Entrance of material to be treated

6: 피처리물 출구6: Outlet of material to be treated

7: 연통구7:

18: 상부 전송 운반 장치18: Upper transmission carrier

19: 하부 전송 운반 장치19: Lower transmission carrier

21: 횡전송 운반 장치21: transverse transmission device

22: 가동 랙22: movable rack

23: 고정 랙23: Fixed rack

24: 가동 랙 본체24: movable rack main body

27: 핑거27: finger

28: 피처리물 지지 포크28: object to be processed supporting fork

29: 고정 랙 본체29: Fixed rack body

33: 핑거33: finger

34: 피처리물 지지 포크34: object to be processed supporting fork

S: 판형 피처리물S: plate-shaped material to be processed

Claims (5)

노(1) 내에 상하 방향으로 연장하는 열처리실이 설치되어 있고, 열처리실의 상하 양 단부에 각각 개구가 형성되며, 열처리실 내에 상하 어느 한쪽의 개구로부터 전송되는 판형 피처리물(S)을 하나씩 유지하여 간헐적으로 수직 방향으로 다른쪽의 개구를 향하여 전송하는 운반 장치가 설치되어 있는 연속 열처리 장치에 있어서,The object 1 to be processed is placed in a heat treatment chamber extending up and down in the furnace 1, and openings are formed in both upper and lower ends of the heat treatment chamber. The plate- And a carrier for intermittently moving the carrier in the vertical direction toward the other opening, 상기 운반 장치는 열처리실 내에 전후로 대향하게 설치되는 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)에 의하여 구성되고,The conveying device is constituted by a movable rack (22) and a fixed rack (23) which are installed so as to be opposed to each other in the front and rear in the heat treatment chamber, 상기 가동 랙(22)은 상단 개구에서 하단 개구에 이르는 높이를 갖추고 있으며 상하 전후 방향으로 이동이 자유로운 가동 랙 본체(24)와, 가동 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되고 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되며 전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거(27)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(28)에 의하여 구성되며,The movable rack 22 has a height ranging from the upper end opening to the lower end opening and is movable in the up-down direction and the back-and-forth direction. The movable rack main body 24 is provided with a plurality of vertically spaced- And a to-be-processed support fork 28 made up of a plurality of fingers 27 arranged at intervals and long in the anteroposterior direction, 상기 고정 랙(23)은 상단 개구에서 하단 개구에 이르는 높이를 갖추고 있는 고정 랙 본체(29)와, 고정 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되고 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되며 전후 방향으로 긴 복수개의 핑거(33)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(34)에 의하여 구성되며,The fixed rack (23) has a fixed rack body (29) having a height from an upper opening to a lower opening, a plurality of fixed rack main bodies (29) spaced apart in the vertical direction and spaced horizontally And a to-be-processed support fork 34 composed of a plurality of long fingers 33, 상기 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)와, 상기 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 각 핑거(33)는 좌우 방향으로 엇갈린 위치에배치되어 있는 것인 연속 열처리 장치.The respective fingers 27 of the to-be-processed object supporting fork 28 of the movable rack 22 and the respective fingers 33 of the to-be-processed supporting fork 34 of the fixed rack 23 are positioned at positions And the second heat exchanger is disposed in the second heat exchanger. 노(1) 내에 상하 방향으로 연장하는 제1 열처리실(2)과 제2 열처리실(3)이 칸막이 벽을 통해 나란히 설치되어 있고, 제1 열처리실의 하단부에 피처리물 입구(5)가 형성되는 동시에 제2 열처리실의 하단부에 피처리물 출구(6)가 형성되며, 칸막이 벽의 상단부에 제1열처리실(2) 및 제2열처리실(3)을 서로 연통시키는 연통구(7)가 형성되고, 제1 열처리실 내에 피처리물 입구에서 전송된 판형 피처리물(S)을 하나씩 유지하여 간헐적으로 상측으로 전송하는 상부 전송 운반 장치(18)가 설치되며, 제2 열처리실 내에 연통구를 통하여 제1 열처리실로부터 전송된 판형 피처리물(S)을 하나씩 유지하여 간헐적으로 하측으로 전송하는 하부 전송 운반 장치(19)가 설치되고, 노 내의 상단부에 상부 전송 운반 장치에 의하여 제1 열처리실의 상단부까지 전송되는 판형 피처리물을 수취하는 동시에 연통구를 통하여 제2 열처리실에 전송하며 하부 전송 운반 장치에 전달하는 횡전송 운반 장치(21)가 설치되어 있는 연속 열처리 장치에 있어서,A first heat treatment chamber 2 and a second heat treatment chamber 3 extending in the vertical direction are provided side by side in the furnace 1 through a partition wall and an object to be treated 5 is provided at the lower end of the first heat treatment chamber A material outlet 6 is formed at the lower end of the second heat treatment chamber and a communication hole 7 for communicating the first heat treatment chamber 2 and the second heat treatment chamber 3 with each other is formed at the upper end of the partition wall, There is provided an upper transfer conveying device 18 for intermittently transferring upward the plate-like objects S transferred from the object to be processed in the first heat treatment chamber one by one, Shaped object to be processed (S) transferred from the first heat treatment chamber via a sphere and intermittently transferring the object S in a downward direction, and a first transfer conveying device The plate-like object to be transferred to the upper end of the heat treatment chamber And a transverse transfer device (21) for transferring the heat to a second heat treatment chamber through a communication port and delivering the same to a lower transmission device, the continuous heat treatment device comprising: 상기 상부 전송 운반 장치(18) 및 하부 전송 운반 장치(19)가 각각 개개의 열처리실 내에 전후로 대향하게 설치되는 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)에 의하여 구성되며,The upper transmission transport device 18 and the lower transport transport device 19 are constituted by a movable rack 22 and a fixed rack 23 which are respectively installed in the respective heat treatment chambers so as to face each other in the front- 상기 가동 랙(22)이 피처리물 입구(5)에서 연통구(7)에 이르는 높이를 갖추고 있고 상하 전후 방향으로 이동이 자유로운 가동 랙 본체(24)와, 가동 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되며 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되고전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거(27)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(28)에 의하여 구성되고,A movable rack body 24 having a height that allows the movable rack 22 to reach the communicating port 7 from the object to be processed 5 and movable in the up-and-down direction; And a plurality of fingers (27) disposed in the front and rear direction, the plurality of fingers (27) being arranged at intervals in the left and right directions, 상기 고정 랙(23)이 피처리물 입구(5)에서 연통구(7)에 이르는 높이를 갖추고 있는 고정 랙 본체(29)와, 고정 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되고 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되며 전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거(33)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(34)에 의하여 구성되고,A fixed rack body (29) having a height at which the fixed rack (23) reaches the communication port (7) from the object to be processed (5); a plurality of fixed rack main bodies And a to-be-processed support fork 34 composed of a plurality of fingers 33 arranged in a spaced-apart relation and long in the anteroposterior direction, 상기 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)와, 상기 고정 랙(23)의 피처리물 지지 포크(34)의 각 핑거(33)가 좌우 방향으로 엇갈린 위치에 배치되어 있는 것인 연속 열처리 장치.The respective fingers 27 of the to-be-processed object supporting fork 28 of the movable rack 22 and the respective fingers 33 of the to-be-processed object supporting fork 34 of the fixed rack 23 are staggered in the left- And the second heat exchanger is disposed in the second heat exchanger. 노(1) 내에 상하 방향으로 연장하는 열처리실이 설치되어 있고, 열처리실의 상하 양 단부에 각각 개구가 형성되며, 열처리실 내에 상하 어느 한쪽의 개구로부터 전송된 판형 피처리물(S)을 하나씩 유지하여 간헐적으로 수직 방향으로 다른쪽의 개구를 향하여 전송하는 운반 장치가 설치되어 있는 연속 열처리 장치에 있어서,The object to be processed (S) is transferred from the upper and lower openings in the heat treatment chamber one by one to the upper and lower ends of the heat treatment chamber And a carrier for intermittently moving the carrier in the vertical direction toward the other opening, 상기 운반 장치는 열처리실 내에 전후로 대향하게 설치되는 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)에 의하여 구성되고,The conveying device is constituted by a movable rack (22) and a fixed rack (23) which are installed so as to be opposed to each other in the front and rear in the heat treatment chamber, 상기 가동 랙(22)은 상단 개구에서 하단 개구에 이르는 높이를 갖추고 있으며 상하 전후 방향으로 이동이 자유로운 가동 랙 본체(24)와, 가동 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되고 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되는 전후방향으로 긴 복수 개의 핑거(27)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(28)에 의하여 구성되며,The movable rack 22 has a height ranging from the upper end opening to the lower end opening and is movable in the up-down direction and the back-and-forth direction. The movable rack main body 24 is provided with a plurality of vertically spaced- And a to-be-processed support fork 28 made up of a plurality of fingers 27 that are long in the anteroposterior direction and are spaced apart from each other. 상기 고정 랙(23)은 고정 랙 본체(29)와, 고정 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되는 피처리물 지지판(70)에 의하여 구성되고,The fixed rack 23 is constituted by a stationary rack body 29 and an object support plate 70 provided on the stationary rack body at plural intervals in the vertical direction, 상기 고정 랙(23)의 피처리물 지지판(70)에 있어서 상기 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)에 대응하는 좌우 방향의 여러 지점에서 가동 랙(22)이 고정 랙(23)에 최대한 접근한 상태로 상하 방향으로 이동할 때에 상기 가동 랙(22)의 핑거(27)가 통과할 수 있는 복수 개의 홈(71)이 그 선단으로부터 형성되어 있는 것인 연속 열처리 장치.In the left and right direction corresponding to the respective fingers 27 of the to-be-processed support fork 28 of the movable rack 22 on the to-be-processed support plate 70 of the fixed rack 23, the movable rack 22 Wherein a plurality of grooves (71) through which the fingers (27) of the movable rack (22) can pass when the movable rack (22) moves up and down in a state approaching the fixed rack Heat treatment apparatus. 노(1) 내에 상하 방향으로 연장하는 제1 열처리실(2)과 제2 열처리실(3)이 칸막이 벽을 통해 나란히 설치되어 있고, 제1 열처리실의 하단부에 피처리물 입구(5)가 형성되는 동시에 제2 열처리실의 하단부에 피처리물 출구(6)가 형성되며, 칸막이 벽의 상단부에 제1 열처리실 및 제2 열처리실을 서로 연통시키는 연통구(7)가 형성되고, 제1 열처리실 내에 피처리물 입구에서 전송된 판형 피처리물(S)을 하나씩 유지하여 간헐적으로 상측으로 전송하는 상부 전송 운반 장치(18)가 설치되며, 제2 열처리실 내에 연통구를 통하여 제1 열처리실로부터 전송된 판형 피처리물을 하나씩 유지하여 간헐적으로 하측으로 전송하는 하부 전송 운반 장치(19)가 설치되고, 노 내의 상단부에 상부 전송 운반 장치에 의하여 제1 열처리실의 상단부까지 전송된 판형 피처리물을 수취하는 동시에 연통구를 통하여 제2 열처리실에 전송하며 하부 전송 운반 장치에 전달하는 횡전송 운반 장치(21)가 설치되어 있는 연속 열처리 장치에 있어서,A first heat treatment chamber 2 and a second heat treatment chamber 3 extending in the vertical direction are provided side by side in the furnace 1 through a partition wall and an object to be treated 5 is provided at the lower end of the first heat treatment chamber A material outlet 6 is formed at the lower end of the second heat treatment chamber and a communication hole 7 for communicating the first heat treatment chamber and the second heat treatment chamber with each other is formed at the upper end of the partition wall, There is provided an upper transfer conveying device 18 for intermittently transferring upward the plate-like objects S transferred from the entrance of the object to be processed in the heat treatment chamber one by one, And a lower transfer conveying device 19 for intermittently transferring downward the plate-shaped objects to be processed transferred from the yarn to the upper end of the furnace, The treated water is taken And a transverse transmission device (21) for transmitting the heat to the second heat treatment chamber through a communication port and delivering the heat to a lower transmission device, the continuous heat treatment device comprising: 상기 상부 전송 운반 장치(18) 및 하부 전송 운반 장치(19)가 각각 개개의 열처리실 내에 전후로 대향하게 설치되는 가동 랙(22) 및 고정 랙(23)에 의하여 구성되며,The upper transmission transport device 18 and the lower transport transport device 19 are constituted by a movable rack 22 and a fixed rack 23 which are respectively installed in the respective heat treatment chambers so as to face each other in the front- 상기 가동 랙(22)이 피처리물 입구(5)에서 연통구(7)에 이르는 높이를 갖추고 있고 상하 전후 방향으로 이동이 자유로운 가동 랙 본체(24)와, 가동 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되며 좌우 방향으로 간격을 두고 배치되는 전후 방향으로 긴 복수 개의 핑거(27)로 이루어지는 피처리물 지지 포크(28)에 의하여 구성되고,A movable rack body 24 having a height that allows the movable rack 22 to reach the communicating port 7 from the object to be processed 5 and movable in the up-and-down direction; And a plurality of fingers 27 each having a plurality of fingers 27 that are long in the front-rear direction and are spaced apart from each other in the left-right direction. 상기 고정 랙(23)은 고정 랙 본체(29)와, 고정 랙 본체에 상하 방향으로 간격을 두고 복수 개 설치되는 피처리물 지지판(70)에 의하여 구성되며,The fixed rack 23 is constituted by a stationary rack body 29 and an object support plate 70 provided on the stationary rack body at a plurality of intervals in the vertical direction, 상기 고정 랙(23)의 피처리물 지지판(70)에 있어서 상기 가동 랙(22)의 피처리물 지지 포크(28)의 각 핑거(27)에 대응하는 좌우 방향의 여러 지점에서 상기 가동 랙(22)이 상기 고정 랙(23)에 최대한 접근한 상태로 상하 방향으로 이동할 때에 상기 가동 랙(22)의 핑거(27)가 통과할 수 있는 복수개의 홈(71)이 그 선단으로부터 형성되어 있는 것인 연속 열처리 장치.In the left and right direction corresponding to the respective fingers 27 of the fork 28 to be processed in the movable rack 22 on the to-be-processed support plate 70 of the fixed rack 23, A plurality of grooves 71 through which the fingers 27 of the movable rack 22 can pass when the movable rack 22 moves up and down with a maximum approach to the fixed rack 23 is formed from its tip Continuous heat treatment apparatus. 제3항 또는 제4항에 있어서, 피처리물 지지판(70)이 가열 수단(72)을 구비하는 것인 연속 열처리 장치.The continuous heat treatment apparatus according to claim 3 or 4, wherein the object support plate (70) comprises a heating means (72).
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