KR100360451B1 - 수직형 노광장치의 간격 조정 장치 - Google Patents

수직형 노광장치의 간격 조정 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100360451B1
KR100360451B1 KR1019990056303A KR19990056303A KR100360451B1 KR 100360451 B1 KR100360451 B1 KR 100360451B1 KR 1019990056303 A KR1019990056303 A KR 1019990056303A KR 19990056303 A KR19990056303 A KR 19990056303A KR 100360451 B1 KR100360451 B1 KR 100360451B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
mask
adjusting means
holder
plate
Prior art date
Application number
KR1019990056303A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20010055189A (ko
Inventor
차상환
Original Assignee
주식회사 엘지이아이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지이아이 filed Critical 주식회사 엘지이아이
Priority to KR1019990056303A priority Critical patent/KR100360451B1/ko
Publication of KR20010055189A publication Critical patent/KR20010055189A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100360451B1 publication Critical patent/KR100360451B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 자외선을 이용하여 기판 위에 패턴을 형성하는 수직형 노광 장치에 관한 것으로서, 챔버 내에서 패턴이 형성된 마스크를 수직 방향으로 고정하는 마스크 홀더와; 상기 챔버 내에 설치되어 상기 마스크 홀더를 지지하는 동시에 마스크 홀더의 위치를 조정하는 마스크위치 조정수단과; 상기 챔버 내에서 상기 마스크 홀더와 대향되게 수직 방향으로 위치되어 패턴이 형성되도록 기판을 고정하는 기판 홀더와; 상기 챔버내에 설치되어 상기 기판 홀더를 지지하는 동시에 기판 홀더를 전진시켜 상기 마스크와의 간격을 1차적으로 조절하는 기판위치 조정수단과; 상기 기판위치 조정수단과 마주하는 앞쪽에 설치되어 상기 기판위치조정수단이 전진하여 접촉된 다음 마스크와 기판의 간격을 미세하게 조절하는 제2 간격조정수단을 포함한 것을 특징으로 함으로써, 마스크와 기판의 상호 위치를 신속하면서도 보다 부드럽게 정렬할 수 있도록 한 수직형 노광장치의 간격 조정 장치에 관한 것이다.

Description

수직형 노광장치의 간격 조정 장치{Vertical facing type exposure apparatus}
본 발명은 자외선을 이용하여 기판 위에 패턴을 형성하는 수직형 노광 장치에 관한 것으로서, 특히 마스크와 기판의 상호 위치를 신속하면서도 보다 부드럽게 정렬할 수 있도록 한 수직형 노광장치의 간격 조정 장치에 관한 것이다.
일반적으로 노광 장치는 PDP, S/M(Shadow Mask), PCB, C/F(Color Filter), LCD, 반도체 등을 제조하는 공정에서 사용되는 것으로서, 마스크와 조명계, 조정용 스테이지 및 자외선을 이용하여 기판에 패턴을 형성하는 장치이다.
도 1은 종래 기술의 노광 장치가 도시된 구성도이다.
종래 기술의 노광 장치는 원하는 패턴이 형성되어 있는 마스크(1)를 고정하는 마스크 홀더(2)와, 상기 마스크 홀더(2)의 하부측에 위치되어 상부측에 기판(3)을 고정하는 기판 홀더(4)와, 상기 기판 홀더(4)의 하부에 연결되어 마스크(1)와 기판(3)의 틀어짐을 조정하는 조정 스테이지(5)와, 상기 마스크(1)의 상부에 자외선 평행광을 투사하는 광학계(6)와, 상기한 구성 요소들이 내장되어 외부와 차단되도록 하는 챔버(7)로 구성된다.
상기 광학계(6)는 자외선을 방출하는 수은 램프(6a) 및 집광 미러(6b)와, 상기 집광 미러(6b)에서 반사된 광의 진행방향을 변환시키는 콜드 미러(6c)와, 상기 콜드 미러(6c)에서 출사된 광의 조도분포를 균일하게 하는 플라이아이 렌즈(6d)와, 상기 플라이아이 렌즈(6d)로부터 입사된 광을 평행광으로 변환시켜 마스크(1)와 기판(3) 방향으로 출사시키는 콜리메이트 미러(6e)로 구성된다.
그리고 상기 플라이아이 렌즈(6d)의 앞쪽에는 자외선 팽행광을 조사하거나 차단할 수 있도록 셔터(6f)가 설치된다.
상기와 같이 구성된 종래 기술의 노광 장치는 마스크(1)를 마스크 홀더(2)에 세팅 한 다음, 기판(3)을 기판 홀더(4)에 반입하여 장착한다. 이후 조정 스테이지(5)를 상승시키면서 마스크(1)와 기판(3)의 평행도와 간격을 조정한다.
그리고, 조명계(6)의 셔터(6f)를 개방하여 자외선 팽행광을 조사하고, 원하는 양만큼 조사하면서 노광에 의한 패턴 형성 작업을 실시하고, 셔터(6f)를 닫는다. 이후, 상기 조정 스테이지(5)를 하강시킨 다음, 기판 홀더(4)로부터 패턴이 형성된 기판(3)을 분리하여 반출한다.
그러나, 상기한 바와 같은 종래 기술의 노광 장치는 마스크(1)와 기판(3)을 수평으로 위치시킨 상태에서 노광을 실시하도록 구성되어 있기 때문에 마스크(1)와 기판의 안정성에 있어서는 유리하나 도 2에 도시된 바와 같이 마스크(1)가 자중에 의해 중앙부가 상대적으로 처지는 현상이 발생되어 수평 방식의 노광 장치로는 보다 고정도화 된 제품을 생산하기 어려운 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크와 기판 홀더를 수직으로 위치시킨 상태에서 노광에 의한 패턴 형성 작업이 진행될 수 있도록 구성함으로써 패턴 형성 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치를 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명은 마스크와 기판이 상호 접촉될 때 탄성력에 의해 부드럽게 접촉될 수 있도록 구성함으로써 마스크의 손상을 방지하여 보다 신속한 패턴 형성 공정이 진행될 수 있도록 하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치를 제공하는 데 있다.
상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명은 챔버 내에서 패턴이 형성된 마스크를 수직 방향으로 고정하는 마스크 홀더와; 상기 챔버 내에 설치되어 상기 마스크 홀더를 지지하는 동시에 마스크 홀더의 위치를 조정하는 마스크위치 조정수단과; 상기 챔버 내에서 상기 마스크 홀더와 대향되게 수직 방향으로 위치되어 패턴이 형성되도록 기판을 고정하는 기판 홀더와; 상기 챔버 내에 수직 방향으로 설치되는 기판 스테이지 프레임과; 상기 기판 스테이지 프레임의 앞쪽에 위치되는 중간 플레이트와; 상기 기판 스테이지 프레임에 설치되어 상기 중간 플레이트를 전후 방향으로 이동시키는 제1 간격조정수단과; 상기 중간 플레이트의 앞쪽에 위치되어 상기 기판 홀더가 장착되는 기판 플레이트와; 마스크 프레임의 상측 및 하측에 각각 설치되고 상기 기판 플레이트에 접촉되어 마스크와 기판의 간격을 미세하게 조절하는 제2 간격조정수단과, 상기 중간 플레이트와 기판 플레이트 사이에 설치되어 상기 기판 플레이트가 상기 제2 간격조정수단에 접촉될 때 완충 작용을 하는 완충연결수단을 포함하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치에 있어서, 상기 제1 간격조정수단은 상기 기판 스테이지 프레임에 고정된 제1 모터와, 상기 중간 플레이트의 뒷면에 결합되어 상기 제1 모터에 볼 스크류 방식으로 연결되는 볼 조인트로 구성된 것을 특징으로 한다.
도 1은 종래 기술의 노광 장치가 도시된 측면 구성도,
도 2는 종래 기술에서 마스크의 처짐 현상이 도시된 상태도,
도 3은 본 발명에 따른 간격 조정 장치가 구비된 수직형 노광장치의 구성도,
도 4는 본 발명에 따른 간격 조정 장치가 도시된 단면 구성도,
도 5 내지 도 8은 본 발명에 따른 간격 조정 장치의 작동 상태도들이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
46 : 셔터 50 : 챔버
51 : 개방부 55 : 도어 기구
56 : 이송 안내기 60 : 마스크위치 조정기구
61 : 마스크 홀더 70 : 기판위치 조정기구
71 : 기판 홀더 72 ; 기판 스테이지 프레임
73 : 중간 플레이트 74 : 기판 플레이트
75 : 제1 간격조정기구 80 : 완충연결기구
81 : 탄성부재 82 : 조인트 로드
83 : 볼 조인트 84 : 로드 스토퍼
85 : 돌기형 스토퍼 90 : 제2 간격조정기구
91 : 모터 93 : 볼 스크류
95 : 스틸 볼
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하면 다음과 같다.
도 3은 본 발명에 따른 간격 조정 장치가 구비된 수직 노광장치의 평면 구성도이다.
본 발명에 따른 노광 장치는 내부를 밀폐할 수 있도록 이루어진 챔버(50) 내에 구성되고, 상기 챔버(50) 내에는 노광을 실시할 기판(P)을 공급하거나 노광된 기판(P)을 배출하는 로딩 공간부(A)와, 상기 로딩 공간부(A)의 측면에 위치되어 기판(P)에 노광에 의한 패턴 형성 공정이 실시되는 노광 공간부(B)와, 상기 노광 공간부(B)의 전면에 위치되어 자외선 평행광이 조사되는 조사 공간부(C)와, 상기 조사 공간부(C)내에 광을 제공하는 광학 제공부(D)가 위치된다.
여기서 상기 광학 제공부(D) 및 조사 공간부(C)내에는 수은 램프(41) 및 집광 미러(42)와, 상기 집광 미러(42)에서 반사된 광의 진행방향을 변환시키는 콜드 미러(43)와, 상기 콜드 미러(43)에서 출사된 광의 조도분포를 균일하게 하는 플라이아이 렌즈(44)와, 상기 플라이아이 렌즈(44)로부터 입사된 광을 평행광으로 변환시켜 출사시키는 콜리메이트 미러(45)가 설치된다.
그리고 상기 챔버(50)는 노광 공간부(B)의 측면에 개방부(51)가 형성됨과 아울러 개방부(51)를 열고 닫을 수 있도록 도어 기구(55)가 구비되며, 상기 챔버(50)에는 상기 개방부(51)를 통해 기판위치 조정기구(70)가 노광 공간부(B)의 내외 방향으로 이동하면서 기판(P)을 교체하거나 패턴 형성 공정을 실시할 수 있도록 이송 안내기구(56)가 설치된다.
상기 챔버(50)에는 상기 노광 공간부(B) 앞쪽에 자외선 평행광이 입사되도록 개구부(53)가 형성된 마스크 프레임(52)이 설치되어 도 3에서와 같이 조사 공간부(C)와 노광 공간부(B)를 구획한다.
도 4는 본 발명의 주요부인 상기 노광 공간부(B) 내의 구성이 도시된 측면도이다.
상기 노광 공간부(B) 내에는 도 4에 도시된 바와 같이 원하는 패턴이 형성된 마스크(M)를 수직 방향으로 고정하는 마스크 홀더(61)와, 상기 마스크 홀더(61)를 노광 공간부(B)내에 지지하는 동시에 마스크 홀더(61)의 위치를 조정하는 마스크위치 조정기구(60)와, 상기 마스크 홀더(61)와 대향되게 수직 방향으로 위치되어 패턴 형성 작업이 이루어지도록 기판(P)을 고정하는 기판 홀더(71)와, 상기 기판 홀더(71)를 노광 공간부(B)내에 지지하는 동시에 기판 홀더(71)를 전진시켜 상기 마스크(M)와 기판(P) 사이의 간격을 1차적으로 조절하는 기판위치 조정기구(70)와, 상기 기판위치 조정기구(70)와 마주하는 앞쪽에 설치되어 상기 기판위치 조정기구(70)가 전진하여 접촉된 다음 마스크(M)와 기판(P)의 간격을 미세하게 조절하는 제2 간격조정기구(90)로 구성된다.
상기 기판위치 조정기구(70)는 상기 노광 공간부(B) 내에 수직 방향으로 설치되는 기판 스테이지 프레임(72)과, 상기 기판 스테이지 프레임(72)의 앞쪽에 위치되는 중간 플레이트(73)와, 상기 기판 스테이지 프레임(72)에 설치되어 상기 중간 플레이트(73)를 전후 방향으로 이동시키는 제1 간격조정기구(75)와, 상기 중간 플레이트(73)의 앞쪽에 위치되어 상기 기판 홀더(71)가 장착되는 기판 플레이트(74)와, 상기 중간 플레이트(73)와 기판 플레이트(74) 사이에 설치되어 상기 기판 플레이트(74)가 상기 제2 간격조정기구(90)에 접촉될 때 완충 작용을 하는 완충연결기구(80)로 구성된다.
여기서 상기 제1 간격조정기구(75)는 상기 기판 스테이지 프레임(72)에 고정된 제1 모터(75a)와, 상기 중간 플레이트(73)의 뒷면에 결합되어 상기 제1 모터(75a)에 볼 스크류(75b) 방식으로 연결되는 볼 조인트(75c)로 구성되어, 상기 중간 플레이트(73), 기판 플레이트(74), 기판 홀더(71), 기판(P)을 전후 이동토록 구동한다.
상기 완충연결기구(80)는 상기 중간 플레이트(73)와 기판 플레이트(74) 사이에 설치되어 탄성력을 제공하는 탄성 부재(81)와, 상기 중간 플레이트(73)를 관통하여 상기 기판 플레이트(74)에 볼 조인트(83)로 연결되는 조인트 로드(82)와, 상기 조인트 로드(82)의 끝단부에 설치되어 중간 플레이트(73)로부터 이탈되지 않도록 하는 로드 스토퍼(84)로 구성된다.
그리고 상기 기판 플레이트(74)의 앞쪽에는 상기 제2 간격조정기구(90)에 접촉되는 돌기형 스토퍼(85)가 설치된다.
상기 제2 간격조정기구(90)는 상기 마스크 프레임(52)측에 고정된 모터(91)와, 상기 모터(91)의 회전 운동을 직선 운동으로 변화시키는 볼 스크류(93)와, 상기 볼 스크류(93)의 선단부에 설치되어 상기 기판위치 조정기구(70)의 스토퍼(85)와 접촉되는 스틸 볼(95)로 구성된다.
이와 같은 상기 제2 간격조정기구(90), 돌기형 스토퍼(85), 완충연결기구(80)는 상기 마스크(M)와 기판(P)의 상하 좌우에 상호 마주하는 방향으로 4개가 각각 설치되는 것이 바람직하다.
그리고, 상기한 본 실시 예에서는 제1 간격조정기구(75)와 제2 간격조정기구(90)가 모터에 의해 볼 스크류가 작동되도록 구성되어 있으나 실시 조건에 따라 공유압 실린더 및 솔레노이드 작동기구를 사용하여도 무방할 것이다.
상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 수직형 노광장치의 간격 조정 장치의 작용을 도 4내지 도 8을 참고하여 설명하면 다음과 같다.
기판(P)이 기판 홀더(71)에 흡착 고정되면, 제1 간격조정기구(75)의 작동으로 중간 플레이트(73), 기판 플레이트(74), 기판 홀더(71), 기판(P)이 동시에 마스크(M)가 있는 방향으로 빠르게 전진한다.
이와 같이 기판(P)이 흡착된 기판 플레이트(74)가 전진하게 되면 도 5에서와 같이 초기 위치로 세팅되어 있는 제2 간격조정기구(90)의 스틸 볼(95)에 돌기형 스토퍼(85)가 부딪히면서 기판 플레이트(74) 및 기판 홀더(71)의 전진이 멈추게 된다.
상기 기판 플레이트(74)가 정지한 상태에서 제1 간격조정기구(75)가 계속 전진 작동하게 되면 도 6에서와 같이 중간 플레이트(73)에 관통되어 있는 조인트 로드(82)가 슬라이딩되면서 탄성 부재(81)가 더욱 압축되고, 중간 플레이트(73)와 스토퍼(84)는 떨어진 상태로 있게 된다.
이와 같이 하여 제1 간격조정기구(75)의 전진 작동이 완료되면, 도 7에서와 같이 제2 간격조정기구(90)의 미세한 이동량을 이용하여 마스크(M)와 기판(P)의 간격을 조정한다. 이때, 상기 제2 간격조정기구(90)가 전진하면 탄성 부재(81)가 더욱 압축되어 마스크(M)와 기판(P) 사이의 간격이 멀어지고, 반대로 후진하게 되면 탄성 부재(81)의 탄성력에 의해 마스크(M)와 기판(P) 사이의 간격이 작아지게 된다.
이와 같은 상태에서 마스크(M)와 기판(P) 사이에 부드러운 접촉이 필요하게 되면, 제2 간격조정기구(90)를 서서히 후진 작동시키면 되는 바, 제2 간격조정기구(90)가 일정량 후진하게 되면 마스크(M)와 기판(P)은 탄성 부재(81)의 압축력에 의한 힘을 받으며 접촉하게 된다.
여기서, 상기 마스크(M)와 기판(P)이 접촉할 때 탄성 부재(81)의 탄성력에 의해 상호 접촉되므로 마스크(M)와 기판(P)이 보다 부드럽게 접촉되어 마스크의 손상을 줄일 수 있게 된다.
즉, 제1 간격조정기구(75)와 같은 전진구동기구에 의해 마스크와 기판이 접촉하게 되면 구동 기구의 동일한 물리적 힘에 의해 상호 접촉하게 되므로 마스크(M)와 기판(P)의 위치 및 상태에 따라 접촉되는 힘의 크기가 달라지게 되어 마스크나 기판이 손상되거나 접촉 상태가 불량해질 수 있다.
하지만 본 발명과 같이 탄성 부재(81)의 탄성력에 의해 완만하게 접촉되는 경우에는 마스크(M)와 기판(P)이 탄성력에 의해 접촉되므로 보다 완만하고 부드러운 접촉과정을 실행할 수 있게 된다.
이와 같이 상기 마스크(M)와 기판(P)이 접촉된 상태에서 상기 제2 간격조정기구(90)가 계속 후진하게 되면 도 8에서와 같이 스틸볼(95)과 스토퍼(85)가 떨어지게 되고, 이때 마스크(M)와 기판(P)은 상기 탄성 부재(81)의 탄성력에 의해서 상호 접촉된 상태로 있게 된다.
상기와 같이 하여 마스크(M)와 기판(P)의 위치 조정이 끝나면 도 3에서와 같이 광학 제공부(D)와 투사 공간부(C) 사이의 셔터(46)를 개방하여 자외선 평행광을 마스크(M)를 통해 기판(P)에 조사하면서 패턴 형성작업을 실시하고, 기판(P)의 패턴이 완성되면 셔터(46)를 닫아 자외선 평행광을 차단한 다음, 패턴이 형성된 기판을 노광 공간부(B)에서 반출한다.
상기한 바와 같은 본 발명의 수직형 노광장치의 간격 조정 장치는 마스크와 기판 홀더가 수직으로 세워진 상태에서 노광에 의한 패턴 형성 작업을 실시할 수 있도록 구성되어 있기 때문에 마스크의 처짐 현상을 방지할 수 있는 이점이 있다.
특히, 본 발명은 마스크와 기판이 상호 접촉될 때 탄성력에 의해 부드럽게 접촉될 수 있도록 구성되어 있기 때문에 마스크의 손상을 방지할 수 있는 동시에 패턴 형성 공정이 보다 신속하고 신뢰성 있게 진행할 수 있는 이점이 있다.

Claims (8)

  1. 챔버 내에서 패턴이 형성된 마스크를 수직 방향으로 고정하는 마스크 홀더와; 상기 챔버 내에 설치되어 상기 마스크 홀더를 지지하는 동시에 마스크 홀더의 위치를 조정하는 마스크위치 조정수단과; 상기 챔버 내에서 상기 마스크 홀더와 대향되게 수직 방향으로 위치되어 패턴이 형성되도록 기판을 고정하는 기판 홀더와; 상기 챔버 내에 수직 방향으로 설치되는 기판 스테이지 프레임과; 상기 기판 스테이지 프레임의 앞쪽에 위치되는 중간 플레이트와; 상기 기판 스테이지 프레임에 설치되어 상기 중간 플레이트를 전후 방향으로 이동시키는 제1 간격조정수단과; 상기 중간 플레이트의 앞쪽에 위치되어 상기 기판 홀더가 장착되는 기판 플레이트와; 마스크 프레임의 상측 및 하측에 각각 설치되고 상기 기판 플레이트에 접촉되어 마스크와 기판의 간격을 미세하게 조절하는 제2 간격조정수단과, 상기 중간 플레이트와 기판 플레이트 사이에 설치되어 상기 기판 플레이트가 상기 제2 간격조정수단에 접촉될 때 완충 작용을 하는 완충연결수단을 포함하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치에 있어서,
    상기 제1 간격조정수단은 상기 기판 스테이지 프레임에 고정된 제1 모터와, 상기 중간 플레이트의 뒷면에 결합되어 상기 제1 모터에 볼 스크류 방식으로 연결되는 볼 조인트로 구성된 것을 특징으로 하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 완충연결수단은 상기 중간 플레이트와 기판 플레이트 사이에 설치되어 탄성력을 제공하는 탄성 부재와; 상기 중간 플레이트를 관통하여 상기 기판 플레이트에 볼 조인트로 연결되는 조인트 로드와; 상기 조인트 로드의 끝단부에 설치되어 중간 플레이트로부터 이탈되지 않도록 하는 로드 스토퍼로 구성된 것을 특징으로 하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 플레이트는 상기 제2 간격조정수단에 접촉되는 돌기형 스토퍼를 구비한 것을 특징으로 하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제2 간격조정수단과 돌기형 스토퍼는 상기 마스크와 기판의 상하 좌우에 상호 마주하는 방향으로 4개가 각각 설치된 것을 특징으로 하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 간격조정수단은 챔버측에 고정된 모터와, 상기 모터의 회전 운동을 직선 운동으로 변화시키는 볼 스크류와, 상기 볼 스크류의 선단부에 설치되어 상기 기판위치 조정수단에 접촉되는 볼로 구성된 것을 특징으로 하는 수직형 노광장치의 간격 조정 장치.
  8. 삭제
KR1019990056303A 1999-12-09 1999-12-09 수직형 노광장치의 간격 조정 장치 KR100360451B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990056303A KR100360451B1 (ko) 1999-12-09 1999-12-09 수직형 노광장치의 간격 조정 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019990056303A KR100360451B1 (ko) 1999-12-09 1999-12-09 수직형 노광장치의 간격 조정 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20010055189A KR20010055189A (ko) 2001-07-04
KR100360451B1 true KR100360451B1 (ko) 2002-11-13

Family

ID=19624671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019990056303A KR100360451B1 (ko) 1999-12-09 1999-12-09 수직형 노광장치의 간격 조정 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100360451B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100911020B1 (ko) * 2007-10-29 2009-08-05 삼성전기주식회사 마스크, 이를 구비한 노광장치 및 전사방법
CN113138541B (zh) * 2020-01-17 2022-02-01 浙江启尔机电技术有限公司 一种具有新型抽排腔的浸液供给回收装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08167567A (ja) * 1994-12-14 1996-06-25 Nikon Corp 走査型露光装置
JPH0968805A (ja) * 1995-09-04 1997-03-11 Ushio Inc マスクとワークの間隙設定装置
KR100250152B1 (ko) * 1997-11-15 2000-03-15 유무성 노광장치
KR20010046478A (ko) * 1999-11-12 2001-06-15 구자홍 수직형 대면적 노광장치

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08167567A (ja) * 1994-12-14 1996-06-25 Nikon Corp 走査型露光装置
JPH0968805A (ja) * 1995-09-04 1997-03-11 Ushio Inc マスクとワークの間隙設定装置
KR100250152B1 (ko) * 1997-11-15 2000-03-15 유무성 노광장치
KR20010046478A (ko) * 1999-11-12 2001-06-15 구자홍 수직형 대면적 노광장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010055189A (ko) 2001-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI504464B (zh) Defect correction device
KR100360451B1 (ko) 수직형 노광장치의 간격 조정 장치
US6226055B1 (en) Projector
US6206527B1 (en) Device for oblique light irradiation
JP3094827B2 (ja) 液晶パネルの貼り合わせ方法および装置
KR100824022B1 (ko) 투영 노광장치 및 투영 노광방법
KR20010046478A (ko) 수직형 대면적 노광장치
KR100360450B1 (ko) 수직형 노광장치의 마스크 정렬 장치
KR102409763B1 (ko) 전사장치 및 전사방법
JP4045892B2 (ja) ディスプレイパネルの貼り合わせ方法および装置
CN104977811B (zh) 曝光装置及其固定方法
JP3379399B2 (ja) 光照射装置のシャッタ機構
JP4581522B2 (ja) 液晶パネルの貼り合わせ装置
JP2007199699A (ja) ホログラム露光装置およびホログラム露光方法
KR20030059705A (ko) 포토 마스크가 없는 노광장치
CN220004778U (zh) 紫外光照结构及紫外光固化设备
CN112445076B (zh) 光刻机、曝光系统及实现离轴照明的方法与离轴照明装置
JPH11338162A (ja) 露光装置
KR100859987B1 (ko) 가변 초점길이를 갖는 자외선 조사장치 및 이를 구비한 패턴 전극 본딩장치
JPS56132326A (en) Exposure method and exposure device
KR20060099078A (ko) 평판 표시 장치 제조 시스템
KR0170980B1 (ko) 투사형화상표시장치의 광량조절이 가능한 투사스톱
KR100225293B1 (ko) 레이저 스캐닝 유니트의 콜리메이션 방법 및 장치
JP2012189800A (ja) 近接露光装置
JP3182364B2 (ja) 陰極線管パネルの露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070918

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee