KR100279386B1 - 가변형 전자빔 노광시스템 및 가변형 전자빔에 의한패턴기록방법 - Google Patents

가변형 전자빔 노광시스템 및 가변형 전자빔에 의한패턴기록방법 Download PDF

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Abstract

대응 개구부재와 함께 사용되는 가변형 전자빔 노광시스템의 개구부재가 가변형 전자빔 노광을 위해 제공된다. 상기 대응 개구부재는 제 1 개구를 가지며, 상기 개구부재는 전자빔의 모양을 만들기 위한 제 2 개구를 갖는데, 여기에서 상기 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 구비하고, 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용 상기 제 1 및 제 2 개구의 조합에 의해 모양이 만들어지는 경우를 제외하고는 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 만들어지도록 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는다.

Description

가변형 전자빔 노광시스템 및 가변형 전자빔에 의한 패턴기록방법
본 발명은 가변형 (variable shaped) 전자빔 노광 시스템, 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 방법, 및 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하는 컴퓨터 시스템을 저장한 기억 매체에 관한 것으로, 더 상세하게는, 덜 규칙적으로 반복되는 패턴을 갖는 주문형 집적회로 (ASIC) 또는 마이크로컴퓨터의 로직 장치를 형성하기 위해 적합한 가변형 전자빔 노광시스템, 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 방법, 및 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하는 컴퓨터 프로그램을 저장하는 기억 매체에 관한 것이다.
전자빔 노광 방법은 일반적으로 2 가지의 형태로 분류된다. 그 중의 하나는 투영 모드에서 마스크를 사용하여 원샷 전자빔 노광하는 것이다. 다른 하나는 임의의 마스크를 사용하지 않고 가변형 전자빔 노광하는 것이다.
투영 모드에서 마스크를 사용하여 동작하는 원샷 전자빔 노광시스템은 일본 특개평 제 6-140305 호 및 제 7-56318 호에 개시된다. 전자빔은 투영 시스템을 통해 마스크의 패턴 이미지를 투영하는 전자총으로부터 웨이퍼상의 레지스트로 방사된다. 이 방법은 예를 들어 다이내믹 랜덤 액세스 메모리 (DRAM) 장치 및 스태틱 랜덤 액세스 메모리 (SRAM) 장치를 형성하기 위하여 웨이퍼상의 레지스트상에 규칙적으로 반복되는 패턴을 기록하는데 적합하다.
한편, 가변형 전자빔 노광 방법은 예를 들어, 주문형 집적 회로 (ASIC) 및 마이크로컴퓨터의 로직 장치를 형성하기 위하여 덜 규칙적으로 반복되는 패턴을 랜덤하게 기록하는데 적합하다.
도 1a 는 종래의 가변형 기록 전자빔 노광시스템에 사용되는 제 1 및 제 2 개구를 갖는 제 1 및 제 2 개구 플레이트를 나타내는 도면이다. 종래의 가변형 전자빔 노광시스템은 직사각형인 제 1 개구 (30) 를 갖는 제 1 개구 플레이트 (31) 와 또한 직사각형인 제 2 개구 (32) 를 갖는 제 2 개구 플레이트 (33) 를 가지고 있어, 전자총으로부터 방사되는 전자빔은 먼저 제 1 개구 (30) 에 의해 한정된 후 제 2 개구 (33) 에 의해 전자빔의 제 2 한정을 위하여 도시하지 않은 편향기에 의해 편향된다. 제 1 및 제 2 개구 (30, 32) 에 의해 형성된 전자빔은 웨이퍼상의 레지스트로 전송된다. 편향기에 의해 전자빔의 편향을 제어하거나 조절함으로써 제 1 및 제 2 개구 (30, 32) 를 관통하는 전자빔의 모양이 변화한다.
도 1b 는 종래의 가변형 전자빔 노광시스템의 제 1 및 제 2 개구를 나타내는 평면도이다. 제 1 및 제 2 개구 플레이트 (31, 33) 는 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 배치된다. 제 1 및 제 2 개구 플레이트 (31, 33) 는 또한 전자빔이 전송되는 방향에 대하여 수직인 평면상에 서로 변위하도록 배치되어, 제 1 및 제 2 개구 (30, 32) 는 평면에 전자빔이 전송되는 직사각형 중첩 영역 (34) 을 갖도록 부분적으로 중첩된다. 즉, 제 1 및 제 2 개구 (30, 32) 를 관통하는 전자빔은 직사각형 중첩 영역 (34) 과 동일한 모양을 갖도록 한정된다. 결과적으로, 웨이퍼상의 레지스트는 제 1 및 제 2 개구 (30, 32) 에 의해 형성된 직사각형 전자빔에 노광된다.
도 1c 는 종래의 가변형 전자빔 노광 시스템의 완전히 중첩하는 제 1 및 제 2 개구를 나타내는 평면도이다. 제 1 및 제 2 개구는 제 1 및 제 2 개구 (30, 32) 와 동일한 모양을 갖는 최대 중첩 영역 (35) 을 갖도록 완전히 중첩된다. 최대 중첩 영역 (35) 은 단일 시간 가변형 전자빔 노광의 최대 영역을 의미하는 최대 전자빔 노광 영역으로 간주될 수도 있다. 이것은 임의의 모양을 갖는 필요한 패턴의 각각을 최대 전자빔 노광 영역의 크기보다 작은 복수의 직사각형 단위패턴으로 분할함으로써, 가변형 전자빔 노광을 순차적으로 수행하여 분할된 직사각형 단위패턴을 순차적으로 기록할 필요가 있다는 것을 의미한다. 도 2 는 분할 선 (36) 에 의해 단위패턴으로 각각 분할된 필요한 패턴중의 하나의 평면도이다. 다른 모양을 갖는 필요한 6 개의 패턴은 각각 분할선 (36) 에 의해 최대 전자빔 노광 영역보다 크기가 작은 33 개의 직사각형 단위패턴으로 분할된다. 전자빔은 제 1 및 제 2 개구 (30, 32) 의 중첩 영역을 조절함으로써 가변적으로 형성되어 직사각형 단위패턴과 동일한 모양을 갖는다.
최근, 로직 장치의 변화가 증가하고 소형의 생산이 요구되면서 전자빔 리소그래피 공정에 필요한 시간을 단축시키는 것이 요구되어져 왔다.
그러나, 상이한 모양을 갖는 필요한 패턴은 모든 직사각형 단위패턴을 위한 순차 노광을 위하여 각각 최대 전자빔 노광 영역보다 크기가 작은 많은 직사각형 단위패턴으로 각각 분할된다. 이것은 전자빔 리소그래피 공정에 필요한 시간을 단축시키기 어렵고 처리량 (throughput) 을 떨어뜨린다는 것을 의미한다.
또한, 필요한 패턴이 복잡한 모양을 가지면, 이러한 패턴은 미세한 직사각형 단위패턴으로 분할된다. 이것은 필요한 패턴의 크기의 변화를 증가시키는 문제점을 발생시켜 기록의 정확도를 떨어뜨리는 것을 의미한다.
상술한 상황에서, 상술한 문제점과 단점이 없는 신규한 가변형 전자빔 노광시스템과 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 방법 및 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하는 컴퓨터 시스템을 저장한 기억 매체를 개발하는 것이 요구되어 왔다.
따라서, 본 발명의 목적은 상술한 문제점이 없는 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 전자빔 리소그래피 공정에 필요한 시간을 단축시키는 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 높은 처리량을 얻을 수 있는 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 크기가 최소로 변화하는 임의의 복잡한 모양의 패턴을 기록할 수 있는 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 크기의 정확도가 높은 임의의 복잡한 모양의 패턴을 기록할 수 있는 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 여전히 다른 목적은 상술한 문제점이 없는 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 신규한 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 전자빔 리소그래피 공정에 필요한 시간을 단축시키는 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 신규한 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 높은 처리량을 얻을 수 있는 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 신규한 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 크기가 최소로 변화하는 임의의 복잡하게 형성된 패턴을 기록하는 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 신규한 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 여전히 다른 목적은 크기에 있어서 고정확도를 갖는 임의의 복잡하게 형성된 패턴을 기록하는 가변형 전자빔 노광으로 레지스트상에 패턴을 기록하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 상술한 문제점이 없이 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하여 전자빔 리소그래피 공정에 필요한 시간을 단축시키는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하여 높은 처리량을 얻는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하여 크기에 있어서 최소 변화를 갖는 임의의 복잡하게 형성된 패턴을 기록하는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 레지스트상에 임의의 패턴을 기록하기 위하여 가변형 전자빔 노광을 실행하여 크기에 있어서 고정확도를 갖는 임의의 복잡하게 형성된 패턴을 기록하는 컴퓨터 프로그램을 저장한 기억 매체를 제공하는 것이다.
본 발명은 가변형 전자빔 노광 시스템의 개구부재를 제공한다. 개구부재는 가변형 전자빔 노광을 위한 대응 개구부재와 결합하여 사용된다. 대응 개구부재는 제 1 개구를 가지며 개구부재는 전자빔을 형성하는 제 2 부재를 가지고, 개구부재는 또한 제 2 개구의 모양과 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 가지며, 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 제 1 개구보다 작은 크기를 가져 전자빔이 가변형 전자빔 노광을 위한 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 형성될 때를 제외하고 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 전자빔이 형성된다.
대응 개구부재는 제 1 개구부재로서 사용되고 개구부재는 제 2 개구부재로 사용되어 전자빔이 대응 개구부재를 통해 전송된 후, 개구부재를 통해 전송되는 것이 바람직하다. 기록 요구 패턴의 각각은 복수의 단위패턴으로 분할되어 단위패턴을 하나이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하고 단위패턴과 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 임의의 일치성을 확인하고, 단위패턴과 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 개구부재의 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전자빔이 전송되도록 편향기에 의해 전자빔의 편향을 제어하여 전자빔이 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 형성되고, 단위패턴과 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 제 2 개구를 향하여 전자빔이 전송되도록 편향기를 제어하여 전자빔이 가변형 전자빔 노광을 위한 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 형성된다.
개구부재는 서로 다른 모양을 갖는 복수의 개구 마스크 패턴 세트를 갖는 것이 바람직하다. 단위패턴은 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 단위패턴과 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하여, 단위패턴과 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 전자빔이 제 1 개구부재의 복수의 개구 마스크 패턴중의 대응하는 하나를 향하여 전송되도록 편향기를 제어하여 전자빔이 복수의 개구 마스크 패턴의 대응하는 하나의 모양에 따라 형성되도록 하고, 단위패턴과 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 전자빔이 제 2 개구를 향하여 전송되도록 편향기를 제어하여 전자빔이 가변형 전자빔 노광을 위한 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 형성된다.
제 2 개구는 개구부재의 중심에 위치하고 복수의 개구 마스크 패턴이 제 2 개구 주변에 위치하는 것이 바람직하다.
개구부재는 제 1 개구부재로서 사용되고 대응 개구부재는 제 2 개구부재로 사용되어 전자빔은 개구부재를 통하여 전송된 후, 대응 개구부재를 통해 전송된다. 기록 요구 패턴의 각각은 복수의 단위패턴으로 분할되고 단위패턴과 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양을 대조하여 단위패턴과 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 임의의 일치성을 확인하고, 단위패턴과 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하여 형성된 전자빔이 제 2 개구를 관통하도록 편향기에 의해 전자빔의 편향이 제어되어, 전자빔이 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고, 단위패턴과 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 제 1 개구를 통하여 형성된 전자빔이 제 2 개구를 향하여 전송되도록 편향기가 제어되어 전자빔이 가변형 전자빔 노광을 위한 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
개구부재는 서로 다른 모양을 갖는 복수의 개구 마스크 패턴 세트를 갖는 것이 바람직하다. 단위패턴은 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 단위패턴과 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 임의의 일치성을 확인하고, 단위패턴과 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 임의의 일치성이 확인되지 않으면, 복수의 개구 마스크 패턴의 대응하는 하나를 통해 형성된 전자빔이 제 2 개구를 관통하도록 편향기가 제어되어 전자빔이 복수의 개구 마스크 패턴의 대응하는 하나의 모양에 따라 형성되고, 단위패턴과 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 없는 것이 확인되면, 제 1 개구를 통해 형성된 전자빔이 제 2 개구를 관통하도록 편향기가 제어되어 전자빔이 가변형 전자빔 노광을 위한 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
제 2 개구는 개구부재의 중심에 위치하고 복수의 개구 마스크 패턴은 제 2 개구 주변에 배치되는 것이 바람직하다.
상술한 본 발명에 의하면, 복수의 개구 마스크 패턴은 가변형 전자빔 노광을 위하여 선택적으로 및 효과적으로 사용된다. 이러한 이유로, 기록 요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴의 총수는 종래와 비교하여 현저히 감소한다. 단위패턴의 총수의 현저한 감소는 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저히 감소시킨다. 전자빔 리소그래피의 공정수의 현저한 감소는 처리량의 현저한 개선을 초래한다. 또한, 전자빔 리소그래피의 공정수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저히 감소시킨다. 또한, 단위패턴의 총수의 현저한 감소는 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 최종 패턴의 크기에 발생하는 에러를 감소시킨다. 이것은 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기의 정확도가 현저히 개선되는 것을 의미한다.
상술한 본 발명의 목적, 특징, 및 이점은 다음의 설명으로부터 명백해질 것이다.
도 1(a) 는 종래의 가변형 전자빔 노광시스템에 사용되는 제 1 및 제 2 개구를 갖는 제 1 및 제 2 개구 플레이트를 도시하는 도면.
도 1(b) 는 종래의 가변형 전자빔 노광시스템의 제 1 및 제 2 개구를 도시하는 평면도.
도 1(c) 는 종래의 가변형 전자빔 노광시스템의 완전히 겹치는 제 1 및 제 2 개구를 도시하는 평면도.
도 2 는 종래의 가변형 전자빔 노광시스템을 설명하기 위하여 각각이 분리선으로 단위패턴으로 분할되는 기록 요구된 패턴을 도시하는 평면도.
도 3 은 본 발명에 따른 제 1 내지 제 3 실시예에서 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 도시하는 개략도.
도 4 는 본 발명에 따른 제 1 내지 제 5 실시예에서 제 2 사각형 개구 및 다섯개의 개구 마스크 패턴을 갖는 제 2 개구부재를 도시하는 평면도.
도 5 는 신규한 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기의 패턴 분할기로 17 개의 단위패턴으로 분할되는 6 개의 기록 요구된 패턴을 도시하는 도면.
도 6 은 본 발명에 따른 제 1, 제 3 및 제 4 실시예의 신규한 가변형 전자빔 노광시스템의 동작을 도시하는 플로우챠트.
도 7 은 본 발명에 따른 제 2 및 제 5 실시예의 신규한 가변형 전자빔 노광시스템의 동작을 도시하는 플로우챠트.
도 8 은 본 발명에 따른 제 3 실시예의 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 도시하는 개략도.
도 9 는 본 발명에 따른 제 4 및 제 5 실시예의 신규한 가변형 전자빔 노광시스템을 도시하는 개략도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 전자총 2 : 전자빔
3 : 데이터 메모리 4 : 버퍼 메모리
5, 6 : 개구부재 9, 10 : 개구
7 : 편향기 8 : 제어기
11 : 개구 마스크 패턴 12 : 패턴 분할기
13 : 데이터 대조기 14 : 편향 제어기
제 1 본 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 개구부재를 제공한다. 이 개구부재는 가변형 전자빔 노광을 위해 대응 개구부재와 함께 사용된다. 상기 대응 개구부재는 제 1 개구를 구비하고, 상기 개구부재는 전자빔의 모양을 만들기 위한 제 2 개구를 구비하는데, 여기에서 상기 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며, 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 만들어지는 경우를 제외하고는 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 상기 전자빔의 모양이 만들어지도록 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는다.
상기 전자빔이 상기 개구부재를 통하여 연속적으로 전송되기 전에 상기 전자빔이 상기 대응 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 대응 개구부재는 제 1 개구부재로서 사용되고 상기 개구부재는 제 2 개구부재로서 사용되는 것이 바람직하다. 기록 요구 패턴 각각은 복수의 단위패턴으로 분할되어 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 편향기에 의한 상기 전자빔의 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
상기 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 갖는 것이 바람직하다. 상기 단위패턴은 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구는 상기 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크는 상기 제 2 개구의 주변에 위치하는 것이 바람직하다.
상기 전자빔이 상기 대응 개구부재를 통하여 연속적으로 전송되기 전에 상기 전자빔이 상기 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 대응 개구부재는 제 2 개구부재로서 사용되고 상기 개구부재는 제 1 개구부재로서 사용되는 것이 바람직하다. 기록 요구 패턴 각각은 복수의 단위패턴으로 분할되어 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 편향기에 의한 상기 전자빔의 편향이 제어되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
상기 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 갖는 것이 바람직하다. 상기 단위패턴은 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구는 상기 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크는 상기 제 2 개구의 주변에 위치하는 것이 바람직하다.
상기 제 1 본 발명에 따르면, 복수의 개구 마스크 패턴중 어느 하나가 가변형 전자빔 노광을 위해 선택적으로 및 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록 요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴의 총수가 종래의 기술에 비해 상당히 감소된다. 단위패턴의 총수의 이러한 상당한 감소는 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 이러한 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 또한, 단위패턴의 총수에 있어서의 현저한 감소는 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기의 에러에 있어서의 감소를 초래한다. 이것은 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기에 있어서의 정확도가 상당히 개선된다는 것을 의미한다.
제 2 본 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 전자빔 모양 형성부를 제공한다. 전자빔 모양 형성부는 다음과 같은 구성요소를 구비한다. 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍이 전자빔이 전송되는 방향으로 소정 거리를 갖도록 위치한다. 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 갖는다. 편향기가 상기 전자빔을 편향시키기 위하여 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치한다. 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 갖추고, 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 경우를 제외하고는 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 따라 모양이 형성되도록 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는다. 기록 요구 패턴 각각은 복수의 단위패턴으로 분할되어 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 편향기에 의한 상기 전자빔의 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 갖는 것이 바람직하다. 상기 단위패턴은 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구는 상기 제 2 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구의 주변에 위치한다.
상기한 제 2 본 발명에 따르면, 복수의 개구 마스크 패턴중 어느 하나가 가변형 전자빔 노광용으로 선택적으로 및 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록 요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴의 총수가 종래의 기술에 비해 상당히 감소된다. 단위패턴의 총수의 이러한 상당한 감소는 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 이러한 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 또한, 단위패턴의 총수에 있어서의 현저한 감소는 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기의 에러에 있어서의 감소를 초래한다. 이것은 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기에 있어서의 정확도가 상당히 개선된다는 것을 의미한다.
제 3 본 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 전자빔 모양 형성부를 제공한다. 이러한 전자빔 모양 형성부는 다음과 같은 구성요소를 구비한다. 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍이 전자빔이 전송되는 방향으로 소정 거리를 갖도록 위치한다. 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 갖는다. 편향기가 상기 전자빔을 편향시키기 위하여 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치한다. 상기 제 1 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 갖추고, 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 경우를 제외하고는 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 따라 모양이 형성되도록 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는다. 기록 요구 패턴 각각은 복수의 단위패턴으로 분할되어 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 편향기에 의한 상기 전자빔의 편향이 제어되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고, 만일 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 갖는 것이 바람직하다. 상기 단위패턴은 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 1 개구는 상기 제 2 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구의 주변에 위치한다.
상기한 제 3 본 발명에 따르면, 복수의 개구 마스크 패턴중 어느 하나가 가변형 전자빔 노광용으로 선택적으로 및 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록 요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴의 총수가 종래의기술에 비해 상당히 감소된다. 단위패턴의 총수의 이러한 상당한 감소는 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 이러한 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 또한, 단위패턴의 총수에 있어서의 현저한 감소는 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기의 에러에 있어서의 감소를 초래한다. 이것은 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기에 있어서의 정확도가 상당히 개선된다는 것을 의미한다.
제 4 본 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 제어기를 제공한다. 상기 제어기는 편향기에 접속되어 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 전자빔에 대한 편향기에 의한 편향을 제어한다. 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 가진다. 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 제어기는, 제 1 메모리에 접속되어 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 제 1 수단; 및 상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 제 2 메모리에 또한 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하고 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 제 2 수단을 구비하고, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔은 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
바람직하게는, 상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구는 상기 제 2 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구의 주변에 위치하는 것이 바람직하다.
상기한 제 4 본 발명에 따르면, 복수의 개구 마스크 패턴중 어느 하나가 가변형 전자빔 노광용으로 선택적으로 및 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록 요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴의 총수가 종래의 기술에 비해 상당히 감소된다. 단위패턴의 총수의 이러한 상당한 감소는 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 이러한 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 또한, 단위패턴의 총수에 있어서의 현저한 감소는 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기의 에러에 있어서의 감소를 초래한다. 이것은 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기에 있어서의 정확도가 상당히 개선된다는 것을 의미한다.
제 5 본 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 제어기를 제공한다. 상기 제어기는 편향기에 접속되어 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 전자빔에 대한 편향기에 의한 편향을 제어한다. 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 갖는다. 상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 갖추고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 제어기는, 제 1 메모리에 접속되어 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 제 1 수단; 및 상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 제 2 메모리에 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하고 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 제 2 수단을 구비하고, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
바람직하게는, 상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지고, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 복수의 개구 마스크 패턴중 일치하는 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴중 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔은 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 1 개구는 상기 제 1 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구의 주변에 위치하는 것이 바람직하다.
상기한 제 5 본 발명에 따르면, 복수의 개구 마스크 패턴중 어느 하나가 가변형 전자빔 노광용으로 선택적으로 및 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록 요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴의 총수가 종래의 기술에 비해 상당히 감소된다. 단위패턴의 총수의 이러한 상당한 감소는 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 전자빔 리소그래피의 공정의 수에 있어서의 이러한 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간에 있어서의 현저한 감소를 초래한다. 또한, 단위패턴의 총수에 있어서의 현저한 감소는 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기의 에러에 있어서의 감소를 초래한다. 이것은 상기한 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기에 있어서의 정확도가 상당히 개선된다는 것을 의미한다.
제 6 발명은 다음의 요소들로 구성되는 가변형 전자빔 노광시스템을 제공한다. 전자총은 전자빔을 방출하기 위해 설치된다. 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍이 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한다. 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비한다. 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 전자빔을 편향시키기 위한 편향기는 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치한다. 상기 편향기에 접속되어 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대한 상기 편향기에 의한 편향을 제어하기 위한 제어기가 상기 편향기에 접속된다. 상기 제어기는, 제 1 메모리에 접속되어 상기 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하기 위한 제 1 수단; 및 상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 또한 제 2 메모리에 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하여 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하기 위한 제 2 수단을 구비하며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴중 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다. 바람직하게는 상기 제 2 개구는 상기 제 2 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구의 주변에 위치한다.
상기 제 6 발명에 따르면, 다수의 개구 마스크 패턴들이 선택적으로, 그리고 효과적으로 상기 가변형 전자빔 노광용으로 사용된다.
이러한 이유로 기록 요구 패턴들로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 종래 기술에 비해 현저하게 감소된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량을 현저하게 향상시키게 된다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소한 것은 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 7 발명은 다음의 요소들로 구성되는 가변형 전자빔 노광시스템을 제공한다. 전자총은 전자빔을 방출하기 위해 설치된다. 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍은 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한다. 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비한다. 상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 전자빔을 편향시키기 위한 편향기는 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치한다. 상기 편향기에 접속되어 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대한 상기 편향기에 의한 편향을 제어하기 위한 제어기는 상기 제어기에 접속된다. 상기 제어기는, 제 1 메모리에 접속되어 상기 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하기 위한 제 1 수단; 및 상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 또한 제 2 메모리에 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하여 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하기 위한 제 2 수단을 구비하며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
상기 제 1 개구는 상기 제 1 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구의 주변에 위치한다.
상기 제 7 발명에 따르면, 다수의 개구 마스크 패턴들이 선택적으로, 그리고 효과적으로 상기 가변형 전자빔 노광용으로 사용된다.
이러한 이유로 기록 요구 패턴들로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 종래 기술에 비해 현저하게 감소된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량을 현저하게 향상시키게 된다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소한 것은 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 8 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장하기 위한 컴퓨터 판독가능한 기억매체를 제공한다. 상기 편광이 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치하는 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어져서, 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비한다. 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구와는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 컴퓨터 프로그램은, 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계; 상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하여, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 것이 또한 바람직하다.
상기 제 3 의 대조 단계 및 그 후의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 연속적으로 행해지는 것이 또한 바람직하다.
상기 제 8 발명에 따르면, 다수의 개구 마스크 패턴들이 선택적으로, 그리고 효과적으로 상기 가변형 전자빔 노광용으로 사용된다.
이러한 이유로 기록 요구 패턴들로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 종래 기술에 비해 현저하게 감소된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량을 현저한 향상시키게 된다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소한 것은 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 9 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장하기 위한 컴퓨터 판독가능한 기억매체를 제공한다. 편향은 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치하는 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어진다. 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비한다. 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구와는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 컴퓨터 프로그램은, 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계; 상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하고, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하여 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
바람직하기로는, 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성된다.
또한, 바람직하기로는, 상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인한다.
또한, 바람직하기로는, 제 3 의 대조 단계 및 그 후의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 연속적으로 행해진다.
제 9 발명에 따르면, 복수개의 개구 마스크 패턴들이 가변형 전자빔 노광시스템에서 선택적 그리고 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록-요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 종래기술에 비하여 현저하게 감소된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량의 현저한 향상을 가져온다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수의 현저한 감소는 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 10 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하는 방법을 제공한다. 이러한 편향은 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어진다. 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비한다. 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 방법은, 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계; 상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하고, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
바람직하기로는, 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인한다.
바람직하기로는, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성된다.
또한, 바람직하기로는, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
또한, 바람직하기로는, 상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인한다.
또한, 바람직하기로는, 상기 제 3 대조 단계 및 그 다음의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 수행된다.
제 10 발명에 따르면, 복수개의 개구 마스크 패턴들이 가변형 전자빔 노광시스템에서 선택적으로 그리고 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록-요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 종래기술에 비하여 현저하게 감소된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량의 현저한 향상을 가져온다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수의 현저한 감소는 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 11 발명은 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하는 방법을 제공한다. 상기 편향은 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어진다. 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비한다. 상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는다. 상기 방법은, 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계; 상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하고, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며, 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
바람직하기로는, 상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인한다.
또한, 바람직하기로는, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성된다.
또한, 바람직하기로는, 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성된다.
또한, 바람직하기로는, 상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인한다.
또한, 바람직하기로는, 상기 제 3 대조 단계 및 그 다음의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 수행된다.
제 11 발명에 따르면, 복수개의 개구 마스크 패턴들이 가변형 전자빔 노광시스템에서 선택적 그리고 효과적으로 사용된다. 이 때문에, 기록-요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 종래기술에 비하여 현저하게 감소된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량의 현저한 향상을 가져온다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수의 현저한 감소는 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
바람직한 실시예
제 1 실시예
본 발명에 따른 제 1 실시예를 신규한 가변형 전자빔 노광 시스템을 개략적으로 나타낸 도 3 을 참조하여 설명한다. 전자총 (1) 은 전자빔 (2) 을 방사하기 위해 제공된다. 한 쌍의 제 1 및 제 2 개구부재 (5 및 6) 는 전자빔 (2) 이 투과되는 방향을 따라 이격되도록 위치된다. 제 1 및 제 2 개구부재는 전자빔 (2) 을 형성하는 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 를 갖기 때문에 전자빔 (2) 은 제 1 개구 (9) 를 통해 먼저 투과되고 그후 제 2 개구 (10) 를 통해 투과되어, 웨이퍼 "W" 상에 있는 레지스트에 조사되는 가변형 전자빔을 형성한다. 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 는 서로 동일한 크기를 갖는 사각 형태이다. 또한, 제 2 개구부재 (6) 는 모양이 서로 상이한 하나의 세트의 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 및 11e) 을 갖는다. 5 개의 패턴 마스크 (11a, 11b, 11c, 11d, 및 11e) 의 각각은 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 보다 크지 않은 크기를 갖는다. 즉, 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 및 11e) 은 제 1 및 제 2 의 사각형태의 개구 (9 및 10) 와 동일한 정의를 갖는 사각 형태의 영역내에서 형성된다.
도 4 는 제 2 의 사각 형태의 개구 (10) 및 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 및 11e) 를 갖는 제 2 개구부재 (6) 를 나타낸 평면도이다. 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 및 11e) 은 실선으로 나타낸 소정의 모양을 갖는 개구를 구비하며, 점선으로 나타낸 사각 형태내에 형성된다. 사각 형태의 영역은 서로 크기가 동일하며 제 2 의 사각 형태의 개구 (10) 와 크기가 동일하다. 제 1, 제 2, 및 제 3 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 및 11c) 은 사각 형태의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 측을 따라 정렬된다. 제 3, 제 4 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11c, 11d 및 11e) 은 사각 형태의 제 2 의 개구부재의 제 1 측부에 인접한 제 2 측부를 따라 정렬되어, 제 1 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11a 및 11e) 은 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 의 대향하는 코너부에 위치된다. 제 2 의 개구 마스크 패턴 (11a) 은 제 1 의 개구 마스크 패턴과 제 2 의 개구 마스크 패턴 (11a 과 11c) 사이의 중간 위치에 형성된다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 제 3 의 개구 마스크 패턴과 제 4 의 개구 마스크 패턴 (11c 와 11e) 사이의 중간 위치에 형성된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 제 1 및 제 2 측부가 직각으로 서로 교차하는 코너부에 위치된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 의 제 2 측부에 평행한 제 1 방향으로 연장하는 세로축을 갖는 넓은 부분을 갖는 제 1 의 수정된 직사각 모양을 갖는다. 제 1 의 개구 마스크 패턴 (11a) 은 하나의 측부로부터 대향하는 측부로 사각 형태의 영역 내에서 연장하고, 양측부는 제 1 의 방향으로 이격된다. 넓은 부분이 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 의 제 1 측부에 인접하는 하나의 측부에 인접하여 형성된다. 제 1 의 개구 마스크 패턴 (11a) 은 사각 형태의 영역의 중앙으로 연장하는 세로축에 대해 대칭이다. 제 2 의 개구 마스크 패턴 (11b) 은 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 의 제 1 측부에 평행한 제 2 의 방향으로 연장하는 세로축을 갖는, 넓은 부분을 갖는 제 2 의 수정된 직사각 형태이다. 제 2 의 개구 마스크 패턴 (11b) 은 하나의 측부로부터 대향하는 측부로 사각 형태의 영역내에서 연장하고, 양측부는 제 2 의 방향으로 이격된다. 넓은 부분은 제 3 의 개구 마스크 패턴 (11b) 에 인접하는 하나의 측부에 인접하여 형성된다. 제 2 의 개구 마스크 패턴 (11b) 은 사각 형태의 영역의 중앙으로 연장하는 세로축에 대하여 대칭이다. 제 3 의 개구 마스크 패턴 (11c) 은 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 의 제 2 측부에 평행한 제 1 의 방향으로 연장하는 세로축을 갖는, 넓은 부분을 갖는 제 3 의 수정된 직사각 형태이다. 제 3 의 개구 마스크 패턴 (11c) 은 하나의 측부로부터 대향하는 측부로 사각 형태의 영역내에서 연장하고, 양측부는 제 1 의 방향으로 이격된다. 넓은 부분은 제 3 의 개구 마스크 패턴 (11c) 의 중앙 또는 사각 형태의 영역의 중앙에 형성된다. 제 3 의 개구 마스크 패턴 (11c) 은 세로축 및 세로축에 수직한 단축의 둘다에 대하여 대칭이다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 의 제 2 측부에 평행한 제 1 의 방향으로 연장하는 수직축을 갖는, 넓은 부분을 갖는 제 4 의 수정된 직사각 형태이다. 제 4 의 개구 마스크 패턴 (11d) 은 하나의 측부로부터 대향하는 측부로 사각 형태의 영역내에서 연장하고, 양측부는 제 1 의 방향으로 이격된다. 넓은 부분은 제 5 의 개구 마스크 패턴 (11e) 에 인접한 대향하는 측부에 인접하여 형성된다. 제 4 의 개구 마스크 패턴 (11d) 은 사각 형태의 영역의 중앙으로 연장하는 세로축에 대하여 대칭이다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 에 평행한 제 1 의 방향으로 연장하는 세로축을 갖는 하나의 쌍의 직사각형을 갖는다. 제 5 의 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍을 이룬 직사각형은 제 1 측부로부터 제 1 측부에 대향하는 제 2 측부로 사각형태의 영역내에서 연장하고, 제 1 및 제 2 측부는 제 1 방향으로 이격된다. 또한, 제 5 의 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍을 이룬 직사각형은 사각 형태의 제 3 측부 및 제 3 측부에 대향하는 제 4 측부를 각각 따라 연장하여, 제 5 의 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍을 이룬 직사각형은 사각 형태의 제 2 의 개구부재 (6) 의 제 1 측부에 평행한 제 2 의 방향으로 서로 이격된다. 즉, 제 5 의 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍을 이룬 직사각형은 제 1 의 방향에 평행한 세로축을 갖는 직사각 형태의 중앙 영역을 삽입시키도록 연장된다. 제 5 의 개구 마스크 패턴 (11e) 은 세로축 및 세로축에 수직한 단축의 둘다에 대하여 대칭이다.
도 3 을 참조하면, 편향기 (7) 는 제 1 의 개구부재와 제 2 의 개구부재 (5 와 6) 사이에 제공되어 제 1 의 개구부재와 제 2 의 개구부재 (5 와 6) 사이에서 투과되는 전자빔 (2) 을 편향시킨다. 편향기 (7) 는 쌍으로된 편향 전극판 (7a,7b) 사이의 공간에 전기장을 걸어주기 위한 한쌍의 제 1 및 제 2 편향 전극판 (7a,7b) 을 구비하며, 여기서, 제 1 개구부재 (5) 를 통과한 전자빔 (2) 은 쌍으로된 편향 전극판 (7a,7b) 에 의하여 전기장이 걸린 공간을 통하여 전송되어, 전자빔 (2) 은 걸려진 전기장에 따라서 편향되게 된다. 전자빔 (2) 의 편향제어는 전자빔에 걸려진 전기장을 제어함으로써 가능해진다. 제 1 개구부재 (5) 의 제 1 사각형 개구 (9) 를 통과한 전자빔 (2) 은 이 편향기 (7) 에 의하여 편향되어, 제 2 사각형 개구 (10) 및 5 개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 선택된 하나를 향해 전송되도록 편향기 (7) 에 의해서 편향된다.
이 편향기 (7) 의 수정으로서, 전자빔에 전기장이 아닌 자기장을 걸어서 전자빔을 편향시키는 것도 가능하다.
편향기 (7) 에 접속되며, 제 1과 제 2 개구부재 (5 및 6) 간에 전송중인 전자빔 (2) 에 대한 편향을 편향기 (7) 에 의해서 제어하는 제어기 (8) 가 또한 제공된다. 이 제어기 (8) 는 기록 -요구 패턴을 복수개의 단위패턴으로 분할하기 위하여 데이터 메모리 (3) 로부터 기록-요구 패턴의 데이터를 읽는 데이터 메모리 (3) 에 접속된 패턴-분할기 (12) 를 포함한다.
도 5 는 신규한 가변형 전자빔 노광 시스템의 제어기 (8) 에서 패턴 분할기(12) 에 의해서 17 개의 단위패턴으로 분할된 6개의 기록 요구 패턴을 나타낸 도면이다. 도 4에 나타낸 제 2 개구부재 (6)의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a)에 해당하는 제 1 형 단위패턴 (P1) 이 3개 존재한다. 제 2 개구부재 (6)의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b)에 해당하는 제 2 형 단위패턴 (P2) 이 하나 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당하는 제 3 형 단위패턴 (P3) 이 1개 존재한다. 제 2 개구부재 (6)의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d)에 해당하는 제 4 형 단위패턴 (P4) 이 3개 존재한다. 제 2 개구부재 (6)의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e)에 해당하는 제 5 형 단위패턴 (P5)이 1개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당하는 제 5 형의 단위패턴 (P5) 가 하나 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 중 임의의 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 및 11e) 에 대응하지 않는 제 6 형 단위패턴 (P6) 이 8 개 존재한다.
제어기 (8) 는 분할된 단위패턴들을 패 칭하기 위한 패턴-분할기 (12) 에 접속되고, 5 개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 형태의 데이터를 판독하기 위한 버퍼 메모리 (4) 에 접속되어, 이 단위패턴들을 5 개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 모양과 대조하여, 이 단위패턴들과 이 5 개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중의 임의의 모양이 일치하는지 확인하는 데이터-대조기 (13) 를 더 포함한다. 이 대조 결과로서, 데이터-대조기 (13) 가 다음과 같이 일치점을 확인한다. 제 1 형 단위패턴 (P1) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 해당한다. 제 2 형 단위패턴 (P2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 해당한다. 제 3 형 단위패턴 (P3) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당한다. 제 4 형 단위패턴 (P4) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 해당한다. 제 5 형 단위패턴 (P5) 은 제 2 개구부재의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당한다. 제 6 형 단위패턴 (P6) 은 제 2 개구부재 (6) 의 5개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 것에도 해당하지 않는다.
제어기 (8) 는 각 단위패턴과 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,
11e) 중 어느 것과 일치하는지의 결과에 따라서, 전자빔 (2) 에 걸린 전기장을 편향기 (7) 에 의해 제어하기 위하여 비교 결과를 가져오는 데이터-대조기 (13) 에 접속된 편향-제어기 (14) 를 더 포함한다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 일치가 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 향해 전자빔 (2) 이 전송되는 것을 가능하게 함으로써, 전자빔 (2) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상에 있는 레지스트에 조사됨으로서 레지스트상에 제 1 형 단위패턴 (P1) 이 기록된다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 일치가 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 향해 전자빔 (2) 이 통과하는 것을 가능하게 함으로서, 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통과한 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상에 있는 레지스트에 조사되어 레지스트상에 제 2 형 단위패턴 (P2) 이 기록된다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 1 형 단위패턴 (P1)을 기록하게 된다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 일치점이 데이터-대조기 (13)에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 기록하게 된다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 기록하게 된다.
제 4 형 단위패턴 (P4) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11d) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 기록하게 된다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 기록하게 된다.
제 6 형 단위패턴 (P6) 과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 어느 것과도 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되지 않으면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 의 상관이동에 의하여, 정상 가변형 전자빔 노출 시스템에서와 같은 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 의 조합에 의하여 모양을 갖도록 한다.
도 6 을 참조하여, 신규한 가변형 전자빔 노출 시스템의 동작에 초점을 두어 설명한다.
제 1 단계 (S1) 에서, 기록-요구 패턴의 데이터가 데이터 메모리 (3) 로부터 패턴-분할기 (12) 에 의하여 판독된다.
제 2 단계 (S2) 에서, 기록-요구 패턴이 패턴-분할기 (12) 에 의하여 복수개의 단위패턴으로 각각 분할된다.
제 3 단계 (S3) 에서, 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 형태의 데이터가 데이터 대조기 (13) 에 의하여 버퍼 메모리 (4) 로부터 판독된다.
제 4 단계 (S4) 에서, 단위패턴과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 하나의 일치성을 확인하기 위하여, 단위패턴이 대조기 (13) 에 의하여 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 모양과 대조된다.
제 5 단계 (S5) 에서, 각 단위패턴과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 하나와의 일치성 결과에 따라, 편향기 (7) 에 의하여 전자빔 (2) 에 인가된 전기장을 제어하기 위하여, 대조의 결과가 편향-분할기 (14) 에 의하여 꺼내진다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 1 형 단위패턴 (P1) 을 기록하게 된다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 기록하게 된다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 기록하게 된다.
제 4 형 단위패턴 (P4) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11d) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 기록하게 된다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 기록하게 된다.
그러나, 제 6 단계 (S6) 에서, 제 6 형 단위패턴 (P6) 과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 어느 것과도 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되지 않으면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 의 상관이동에 의하여, 정상 가변형 전자빔 노출 시스템에서와 같은 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 의 조합에 의하여 모양을 갖도록 한다.
단계 (S7) 에서, 레지스트상에 모든 기록-요구 패턴들을 기록하기 위하여, 분할된 모든 단위패턴들의 기록여부를 검증한다. 검증이 되면, 이 프로세스는 끝난다. 그러나, 레지스트상에 분할된 단위패턴이 기록되지 않은 것이 존재하게 되면, 프로세스가 제 단계 (S4) 로 되돌아가, 분할된 모든 단위패턴이 기록될 때까지, 연속된 제 4 단계(S4) 및 제 5 단계 (S5) 또는, 제 4 단계(S4) 및 제 6 단계 (S6) 를 반복할 것이다.
종래의 시스템은 6 개의 기록 요구 패턴들을 33 개의 단위패턴으로 분할하는 반면, 상기 본 발명에 따르면 6 개의 기록 요구 패턴들로부터 분할할 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소되어 17 개가 된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량의 현저한 향상을 가져온다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수의 현저한 감소는 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 2 실시예
본 발명에 따른 제 2 실시예는 도 3 을 참고하여 상세히 설명될 것이다.
제 1 실시예와 제 2 실시예의 차이점은 가변형 전자빔 노광의 공정에 있다. 전자총 (1) 은 전자빔 (2) 을 방사하기 위해 제공된다. 한 쌍의 제 1 및 제 2 개구부재 (5 및 6) 는 전자빔 (2) 이 전송되는 방향으로 거리를 두고 배치된다. 제 1 및 제 2 개구부재는 전자빔 (2) 의 모양을 정하는 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 를 갖고, 따라서 전자빔 (2) 은 먼저, 제 1 개구 (9) 를 통해 전송되고, 다음에 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사될 가변형상 전자빔을 형성하기 위한 제 2 개구 (10) 를 통해 전송된다. 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 은 정사각형으로 서로 동일한 크기를 갖는다. 제 2 개구부재 (6) 은 서로 모양이 다른 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 의 세트를 갖는다. 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 각각은 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 보다 크지 않다. 즉, 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 은 제 1 및 제 2 정사각형 형상의 개구 (9 및 10) 과 동일하게 정의한 정사각형 영역 내에서 형성된다.
도 4 를 참고하면, 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 은 실선에 의해 나타낸 소정의 모양을 갖는 개구들로 구성되고, 점선으로 나타낸 정사각형 영역 내에서 형성된다. 정사각형 영역들은 서로 동일한 크기를 갖고, 제 2 정사각형 개구 (10) 와도 동일한 크기를 갖는다. 제 1, 제 2 및 제 3 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b 및 11c) 은 정사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변을 따라 정렬된다. 제 3, 제 4 및 제 5 개구 마스크 패턴들 (11c, 11d 및 11e) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 인접한 제 2 변을 따라 정렬되어, 제 1 및 제 5 개구 마스크 패턴들 (11a 및 11e) 이 정사각형 모양의 제 2 개구부재 (6) 의 맞은 편 코너에 배치된다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 제 1 및 제 3 개구 마스크 패턴 (11a 및 11c) 사이의 중간 위치에 형성된다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 제 3 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11c 및 11e) 사이의 중간 위치에서 형성된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 제 1 및 제 2 변이 서로 직각으로 교차하는 코너에 배치된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 넓은 부분을 갖는 제 1 변형된 직사각형 모양을 가지고, 직사각형 모양의 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변에 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 정사각형 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 가까운 한 변에 인접하게 형성된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 그 세로축에 대해 대칭적이며, 상기 대칭축은 정사각형 모양 영역 중심으로 연장된다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 넓은 부분을 갖는 제 2 변형된 직사각형 모양을 가지며, 정사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 평행한 제 2 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 2 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 가까운 한 변에 인접하게 형성된다. 상기 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 그 세로축에 대해 대칭적이며, 상기 대칭축은 정사각형 영역 중심으로 연장된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 넓은 부분을 갖는 제 3 변형된 직사각형으로, 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변에 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 중앙 또는 정사각형 영역의 중앙에 형성된다. 상기 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 그 세로축과, 상기 세로축에 수직인 단축 양자 모두에 대해 대칭적이다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 넓은 부분을 갖는 제 4 변형된 직사각형이고, 정사각형 모양의 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 가까운 맞은 변에 인접하게 형성된다. 상기 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 그 세로축에 대해 대칭적이며, 상기 대칭축은 정사각형 영역 중심으로 연장된다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 한 쌍의 직사각형을 갖고, 상기 직사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 직사각형 쌍은 제 1 변에서 상기 제 1 변의 맞은편인 제 2 변까지의 영역까지 정사각형 모양의 영역내에 연장되며, 상기 제 1 변 및 제 2 변은 제 1 방향으로 떨어져 있다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 직사각형 쌍은 또한 정사각형 영역의 제 3 변 및 상기 제 3 변의 맞은편인 제 4 변을 따라 각각 연장되고, 따라서 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 정사각형 쌍은 정사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 평행한 제 2 방향으로 서로 떨어져 있다. 즉, 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 직사각형 쌍이 연장되어, 세로축이 제 1 방향과 평행한 직사각형 중앙 영역을 사이에 끼우게 된다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 그 세로축과, 상기 세로축에 수직인 단축 양자 모두에 대해 대칭적이다.
도 3 으로 돌아가서, 전자빔 (2) 이 제 1 및 제 2 개구부재 (5 및 6) 사이에서 전송될 때, 편향시키기 위해서, 편향기 (deflector) (7) 가 제 1 및 제 2 개구부재 (5 및 6) 사이에 설치된다. 편향기 (7) 는 편향 전극판쌍 (7a 및 7b) 사이의 공간에 전기장을 인가하기 위해, 한 쌍의 편향 전극판 (7a 및 7b) 으로 구성되며, 제 1 개구부재 (5) 를 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 상기 편향 전극판쌍 (7a 및 7b) 에 의해 전기장이 가해진 공간을 통해 전송되며, 상기 전자 빔 (2) 은 인가 전기장에 따라서 편향된다. 전자빔에 가해지는 전기장을 제어함으로써 전자빔 (2) 의 편향을 제어할 수 있다. 제 1 개구부재 (5) 의 제 1 정사각형 개구 (9) 를 통해 통과한 전자빔은 편향기 (7) 에 의해서 편향되어 제 2 정사각형 개구 (10) 및 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 선택된 하나를 향해 전송된다.
상기 편향기 (7) 에 대한 변형으로, 전기장 대신에 전자빔에 자기장을 가함으로써 전자빔을 편향시킬 수 있다.
제 1 및 제 2 개구부재들 (5 및 6) 사이에서 전송되는 전자 빔 (2)에 대해, 편향기 (7) 에 의한 편향을 제어하기 위해, 상기 편향기 (7) 에 접속된 제어기 (8) 가 더 설치된다. 제어기 (8) 는 기록 요구 패턴들 각각을 다수의 단위패턴들로 분할하기 위하여 데이터 메모리 (3) 에서 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하기 위해 데이터 메모리 (3) 에 접속된 패턴 분할기 (12) 를 포함한다.
도 5 를 참고하여, 분할된 17 개의 단위패턴들은 6 개의 형으로 분류된다. 상기 단위패턴들에는 3 개의 제 1 형 단위패턴 (P1) 이 있으며, 상기 제 1 형 단위패턴은 도 4 에서 도시된 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 해당한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 해당하는 제 2 형 단위패턴 (P2) 중 하나가 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당하는 제 3 형 단위패턴 (P3) 중 하나가 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 해당하는 제 4 형 단위패턴 (P4) 중 세개가 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당하는 제 5 형 단위패턴 (P5) 중 하나가 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것에도 해당하지 않는 제 6 형 단위패턴 (P6) 중 8 개가 존재한다.
제어기 (8) 는 분할된 단위패턴들을 가져오게 하기 위한 패턴 분할기 (12) 와 접속하고, 또한 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 형태의 데이터를 판독하기 위한 버퍼 메모리 (4) 와 접속됨으로써, 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 의 형태 중 어떤 것의 모양과 단위패턴들 사이에의 일치를 확인하기 위해 단위패턴을 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 의 모양과 대조하기 위한 데이터 대조기 (13) 를 더 포함한다. 대조 결과, 데이터-대조기 (13) 는 다음과 같은 일치를 확인한다. 제 1 형 단위패턴들 (P1) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 해당한다. 제 2 형 단위패턴 (P2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 해당한다. 제 3 형 단위패턴 (P3) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당한다. 제 4 형 단위패턴 (P4) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 해당한다. 제 5 형 단위패턴 (P5) 은 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당한다. 제 6 형 단위패턴 (P6) 은 제 2 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것에도 해당되지 않는다.
제어기 (8) 는, 5 개의 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것과 각각의 단위패턴들의 일치 결과에 따라서, 편향기 (7) 에 의해 전자빔 (2) 에 가해지는 전기장을 제어하기 위하여 대조 결과를 가져오게 하기 위한 데이터-대조기 (13) 에 접속된 편향-제어기 (14) 를 더 포함한다.
제 1 타입 단위패턴 (P1) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a)을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 1 단위패턴 (P1)을 기록한다.
제 2 타입 단위패턴 (P2) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b)을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 2 단위패턴 (P2)을 기록한다.
제 3 타입 단위패턴 (P3) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 3 단위패턴 (P3) 을 기록한다.
제 4 타입 단위패턴 (P4) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 4 단위패턴 (P4) 을 기록한다.
제 5 타입 단위패턴 (P5) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 과의 일치가 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 5 단위패턴 (P5) 을 기록한다.
그러나, 제 6 타입 단위패턴 (P6) 이 상기 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 와 일치하지 않는 것이 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 정사각형 모양의 제 2 개구 (10) 쪽으로 전송되게 하게끔 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 일반의 가변 형상 전자 빔 노출 시스템과 같은 기능에 따른 제 1 및 제 2 개구의 조합에 의해, 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (5, 6) 의 상대적인 움직임에 의해 형성된다.
다음의 기술은 상기 신규의 가변 형상 전자 빔 노광 시스템의 동작에 중점을 둔다. 도 7 은 신규의 가변 형상 전자 빔 노광 시스템의 동작을 도시한 흐름도이다.
제 1 단계 (S11) 에서, 기록이 요구되는 패턴의 데이터는 데이터 메모리 (3) 로부터의 패턴 분할기 (12) 에 의해 판독된다.
제 2 단계 (S12) 에서, 각각의 기록이 요구되는 패턴은 패턴 분할기 (12) 에 의해 다수의 단위패턴으로 분할된다.
제 3 단계 (S13) 에서, 상기 5개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 11e) 의 형상의 데이터는 버퍼 메모리 (3) 로부터의 데이터 대조기 (13) 에 의해 판독된다.
제 4 단계 (S14) 에서, 단위패턴은 단위패턴과 상기 5개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 11e) 의 어떠한 형상사이의 어떠한 일치를 확인하기 위해 상기 5개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 11e) 의 형상과 데이터 대조기 (13) 에 의해 대조된다.
제 5 단계 (S15) 에서, 모든 분할된 단위패턴이 대조되었는지가 확인된다. 그러나, 분할된 단위패턴중 하나라도 대조되지 않았다면, 상기 대조 제 4 단계는 모든 분할된 패턴이 대조될 때까지 반복된다.
제 6 단계 (S16) 에서, 각각의 단위패턴의 5개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d, 11e) 모두와의 일치 결과에 따라, 대조 결과는 편향기 (7) 에 의해 전자 빔 (2) 에 인가된 전기장을 제어하기 위해 편향 제어기 (14) 에 의해 가져와 진다.
제 1 타입 단위패턴 (P1) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 1 단위패턴 (P1) 을 기록한다.
제 2 타입 단위패턴 (P2) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 2 단위패턴 (P2) 을 기록한다.
제 3 타입 단위패턴 (P3) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 3 단위패턴 (P3) 을 기록한다.
제 4 타입 단위패턴 (P4) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 과의 일치가 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 4 단위패턴 (P4) 을 기록한다.
제 5 타입 단위패턴 (P5) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 과의 일치가 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 쪽으로 전송되게 하기 위해 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 형상에 따라 형성된다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통하여 통과한 전자 빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되고 레지스트상에 제 5 단위패턴 (P5) 을 기록한다.
제 7 단계에서, 그러나, 제 6 타입 단위패턴 (P6) 이 상기 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 와 일치하지 않는 것이 데이터 대조기 (13) 에 의해 확인된다면, 편향 제어기 (14) 는 전자 빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 정사각형 모양의 제 2 개구 (10) 쪽으로 전송되게 하게끔 편향을 제어하고, 이 전자 빔 (2) 은 일반의 가변 형상 전자 빔 노출 시스템과 같은 기능에 따른 제 1 및 제 2 개구의 조합에 의해, 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (5, 6) 의 상대적인 움직임에 의해 형성된다.
상기 제 6 및 제 7 단계 (S16, S17) 는 모든 분할된 패턴이 레지스트상의 기록이 요구되는 패턴을 기록하기 위해 기록된다.
종래의 시스템은 6 개의 기록 요구 패턴들을 33 개의 단위패턴으로 분할하는 반면, 상기 본 발명에 따르면 6 개의 기록 요구 패턴들로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소되어 17 개가 된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량의 현저한 향상을 가져온다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수의 현저한 감소는 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 3 실시예
본 발명에 따른 제 3 실시예는 도 8 을 참고하여 상세히 설명될 것이며, 상기 도 8 은 신규 가변형 전자빔 노광 시스템을 도시한 개략도이다. 제 1 실시예와 제 3 실시예의 차이점은 제어기의 제어 작동을 실행하기 위해 사용되는 컴퓨터 프로그램을 저장하는 기억 매체를 더 설치하는데 있다. 전자총 (1) 은 전자빔 (2) 을 방사하기 위해 사용된다. 한 쌍의 제 1 및 제 2 개구부재 (5 및 6) 는 전자빔 (2) 이 전송되는 방향을 따라서 거리를 두고 배치된다. 제 1 및 제 2 개구부재는 전자빔 (2) 모양을 정하는 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 을 갖고, 따라서 전자빔 (2) 은 먼저, 제 1 개구 (9) 를 통해 전송되고, 다음에 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상으로 조사될 가변형 전자빔을 형성하기 위한 제 2 개구 (10) 를 통해 전송된다. 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 는 정사각형으로 서로 동일한 크기를 갖는다. 제 2 개구부재 (6) 는 서로 모양이 다른 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 의 세트를 갖는다. 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 각각은 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 보다 크지 않다. 즉, 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 은 제 1 및 제 2 개구 (9 및 10) 와 동일하게 정의된 정사각형 영역 내에서 형성된다.
도 4 를 참고하여, 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 은 실선에 의해 나타낸 소정의 모양을 갖는 개구들로 구성되며, 점선으로 나타낸 정사각형의 영역 내에서 형성된다. 정사각형 영역들은 서로 동일한 크기를 갖고, 제 2 정사각형 개구 (10) 와도 동일한 크기를 갖는다. 제 1, 제 2 및 제 3 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b 및 11c) 은 정사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변을 따라 정렬된다. 제 3, 제 4 및 제 5 개구 마스크 패턴들 (11c, 11d 및 11e) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 인접한 제 2 변을 따라 정렬되어, 제 1 및 제 5 개구 마스크 패턴들 (11a 및 11e) 이 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 맞은 편 코너에 배치된다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 제 1 및 제 3 개구 마스크 패턴 (11a 및 11c) 사이의 중간 위치에서 형성된다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 제 3 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11c 및 11e) 사이의 중간 위치에서 형성된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 제 1 및 제 2 변이 서로 직각으로 교차하는 코너에 배치된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 넓은 부분을 갖는 제 1 변형된 직사각형으로 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 가까운 한 변에 인접하게 형성된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 그 세로축에 대해 대칭적이며, 상기 대칭축은 정사각형 영역 중심으로 연장된다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 넓은 부분을 갖는 제 2 변형된 직사각형으로, 정사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 평행한 제 2 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 2 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 가까운 한 변에 인접하게 형성된다. 상기 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 그 세로축에 대해 대칭적이며, 상기 대칭축은 정사각형 영역 중심으로 연장된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 넓은 부분을 갖는 제 3 변형된 직사각형으로, 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변에 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 3 마스크 패턴 (11c) 의 중앙에서 형성된다. 상기 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 그 세로축과, 상기 세로축에 수직인 단축 양자 모두에 대해 대칭적이다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 넓은 부분을 갖는 제 4 변형된 직사각형으로 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 정사각형 한 변에서 맞은편 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 두 변 양자는 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 5 마스크 패턴 (11e) 에 가까운 한 변에 인접하게 형성된다. 상기 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 그 세로축에 대해 대칭적이며, 상기 대칭축은 정사각형 영역 중심으로 연장된다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 한 쌍의 직사각형을 갖고, 상기 직사각형들은 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행한 제 1 방향으로 연장되는 세로축을 갖는다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 직사각형 쌍은 정사각형 제 1 변에서 상기 제 1 변의 맞은편인 제 2 변까지의 영역 내에서 연장되며, 상기 제 1 변 및 제 2 변은 제 1 방향으로 떨어져 있다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 직사각형 쌍은 또한 정사각형 영역의 제 3 변 및 상기 제 3 변의 맞은편인 제 4 변을 따라 각각 연장되고, 따라서 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 평행한 제 2 방향으로 서로 떨어져 있다. 즉, 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 직사각형 쌍이 연장되어, 세로축이 제 1 방향과 평행한 직사각형의 중앙 영역을 사이에 끼우게 된다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 그 세로축과, 상기 세로축에 수직인 단축 양자 모두에 대해 대칭적이다.
도 3 으로 돌아가서, 전자빔 (2) 을 제 1 및 제 2 개구부재 (5 및 6) 사이에서 전송할 때, 편향시키기 위해서, 편향기 (deflector) (7) 가 제 1 및 제 2 개구부재 (5 및 6) 사이에 설치된다. 편향기 (7) 는 편향 전극판쌍 (7a 및 7b) 사이의 공간에 전기장을 가하기 위해, 한 쌍의 편향 전극판 (7a 및 7b) 으로 구성되며, 제 1 개구부재 (5) 를 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 상기 편향 전극판쌍 (7a 및 7b) 에 의해 전기장이 가해진 공간을 통해 전송되며, 상기 인가 전기장에 따라서 편향된다. 전자빔에 가해지는 전기장을 제어함으로써 전자빔 (2) 의 편향을 제어할 수 있다. 제 1 개구부재 (5) 의 제 1 정사각형 개구 (9) 를 통해 통과한 전자빔은 편향기 (7) 에 의해서 편향되어 제 2 정사각형 개구 (10) 및 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 선택된 하나를 향해 전송된다.
상기 편향기 (7) 에 대한 변형으로, 전기장 대신에 전자빔에 자기장을 가함으로써 전자빔을 편향시킬 수 있다.
전자빔 (2) 이 제 1 및 제 2 개구부재들 (5 및 6) 사이에서 전송될 때, 편향기 (7) 에 의한 전자빔의 편향을 제어하기 위해, 상기 편향기 (7) 에 접속된 제어기 (8) 가 더 설치된다. 제어기 (8) 는 데이터 메모리 (3) 에서 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하기 위해 데이터 메모리 (3) 에 접속된 패턴 분할기 (12) 를 포함하여, 기록 요구 패턴들 각각을 다수의 단위패턴들로 분할한다.
가변형 전자빔 노광을 수행하기 위한 공정의 컴퓨터 프로그램을 저장하는 기억 매체 (20) 가 더 설치된다. 기억 매체 (20) 가 제어기 (8) 에 접속되어, 제어기 (8) 가 상기 제어기 (8) 의 제어 작동을 수행하기 위해, 기억 매체 (20) 로부터 프로그램을 판독하는 것을 허용하도록 한다.
도 5 를 참고하여, 분할된 17 개의 단위패턴들은 6 개의 형으로 분류된다. 상기 단위패턴들에는 3 개의 제 1 형 단위패턴 (P1) 이 있으며, 상기 제 1 형 단위패턴은 도 4 에서 도시된 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 해당한다. 상기 단위패턴들에는 1 개의 제 2 형 단위패턴 (P2) 이 있으며, 상기 제 2 형 단위패턴은 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 해당한다. 상기 단위패턴들에는 1 개의 제 3 형 단위패턴 (P3) 이 있으며, 상기 제 3 형 단위패턴은 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당한다. 상기 단위패턴들에는 3 개의 제 4 형 단위패턴 (P4) 이 있으며, 상기 제 4 형 단위패턴은 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 해당한다. 상기 단위패턴들에는 1 개의 제 5 형 단위패턴 (P5) 이 있으며, 상기 제 5 형 단위패턴은 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당한다. 상기 단위패턴들에는 8 개의 제 6 형 단위패턴 (P6) 이 있으며, 상기 제 6 형 단위패턴은 제 2 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것에도 해당하지 않는다.
제어기 (8) 는, 패턴 분할기 (12) 와 접속됨으로써 분할된 단위패턴들을 가져오게 하고, 버퍼 메모리 (4) 와 접속됨으로써 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 형태의 데이터를 판독하게 되어, 단위패턴들 및 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 의 형태 중 어떤 것과 어떤 일치가 있는지 확인할 수 있는 데이터-대조기 (13) 를 포함한다. 대조 결과로서, 데이터-대조기 (13) 는 다음과 같이 일치하는가를 확인한다. 제 1 형 단위패턴들 (P1) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 과 일치한다. 제 2 형 단위패턴 (P2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 과 일치한다. 제 3 형 단위패턴 (P3) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 과 일치한다. 제 4 형 단위패턴 (P4) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 과 일치한다. 제 5 형 단위패턴 (P5) 은 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 과 일치한다. 제 6 형 단위패턴 (P6) 은 제 2 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것과도 일치하지 않는다.
제어기 (8) 는, 데이터-대조기 (13) 에 접속됨으로써, 대조 결과를 가져오게 하여, 5 개의 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것이 각각의 단위패턴들과 일치하는지의 결과에 따라서, 편향기 (7) 에 의해 전자빔 (2) 에 가해지는 전기장을 제어하는 편향-제어기 (14) 를 더 포함한다.
제 1 형 단위 (P1) 가 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 과 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향-제어기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 향해 전송되는 것을 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라서 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상으로 조사되어, 제 1 형 단위패턴 (P1) 을 레지스트상에 기록하게 된다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 이 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 과 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향-제어기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 향해 전송되는 것을 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라서 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상으로 조사되어, 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 레지스트상에 기록하게 된다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 이 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 과 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향-제어기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 향해 전송되는 것을 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라서 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상으로 조사되어, 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 레지스트상에 기록하게 된다.
제 4 형 단위패턴 (P2) 이 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 과 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향-제어기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 향해 전송되는 것을 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라서 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상으로 조사되어, 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 레지스트상에 기록하게 된다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 과 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향-제어기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 향해 전송되는 것을 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라서 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상으로 조사되어, 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 레지스트상에 기록하게 된다.
그러나, 제 6 형 단위패턴 (P6) 이 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것과도 일치하지 않는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향-제어기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 정사각형 제 2 개구 (10) 을 향해 전송되는 것을 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 일반 가변형 전자빔 노광 시스템과 동일한 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 예컨대, 제 1 및 제 2 개구부재들 (5 및 6) 의 상대적인 이동에 의해서 모양이 정해진다.
다음의 설명은 다시 도 6 을 참고하여, 상기 신규 가변형 전자빔 노광 시스템의 작동에 초점을 둘 것이다. 제어기 (8) 는 상기 제어기가 컴퓨터 프로그램에 따라서 작동되기 전에 기억 매체 (20) 로부터 컴퓨터 프로그램을 판독한다.
제 1 단계 (S1) 에서, 기록 요구 패턴들의 데이터가, 데이터 메모리 (3) 에서 패턴-분할기 (12) 에 의해 판독된다.
제 2 단계 (S2) 에서, 기록 요구 패턴들 각각이 패턴-분할기 (12) 에 의해서 다수의 단위패턴들로 분할된다.
제 3 단계 (S3) 에서, 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 형태의 데이터가, 버퍼 메모리 (3) 에서 데이터-대조기 (13) 에 의해 판독된다.
제 4 단계 (S4) 에서, 단위패턴을 데이터-대조기 (13) 로 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 모양과 대조하여, 상기 단위패턴과 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것과 모양이 일치하는가를 확인한다.
제 5 단계 (S5) 에서, 상기 대조 결과들을 편향-대조기 (14) 로 가져와서, 단위패턴들 각각이 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 중 어느 것과 일치하는지의 결과에 따라서, 편향기 (7) 에 의해 전자빔 (2) 에 가해지는 전기장을 제어하게 된다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 이 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향 대조기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 향해 전송되도록 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 를 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되어, 제 1 형 단위패턴 (P1) 을 레지스트상에 기록한다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 이 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향 대조기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 향해 전송되도록 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 를 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되며, 따라서 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 레지스트상에 기록한다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 이 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향 대조기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 향해 전송되도록 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 를 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되며, 따라서 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 레지스트상에 기록한다.
제 4 형 단위패턴 (P4) 과 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 이 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향 대조기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 향해 전송되도록 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 를 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되며, 따라서 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 레지스트상에 기록한다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11e) 이 일치하는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향 대조기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 향해 전송되도록 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라 그 모양이 정해진다. 그런 후, 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 를 통해 통과하는 전자빔 (2) 이 웨이퍼 "W" 상의 레지스트상에 조사되며, 따라서 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 레지스트상에 기록한다.
그러나, 제 6 단계에 있어서는, 제 6 형 단위패턴 (P6) 과 상기 5 개의 개구 마스크 패턴들 (11a, 11b, 11c, 11d, 및 11e) 중 어느 것과도 일치하지 않는 것이 데이터-대조기 (13) 에 의해 확인되면, 편향 대조기 (14) 는 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 정사각형 제 2 개구 (10) 를 향해 전송되도록 허용하도록 편향을 제어함으로써, 상기 전자빔 (2) 은, 일반 가변형 전자빔 노광 시스템과 동일한 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 예컨대, 제 1 및 제 2 개구부재들 (5 및 6) 의 상대적인 이동에 의해 모양이 정해진다.
제 7 단계 (S7) 에서, 모든 분할된 단위패턴들이 기록되어, 모든 기록 요구 패턴들을 레지스트상에 기록할 수 있는지 없는지가 증명된다. 증명된다면, 공정이 끝날 것이다. 그러나, 분할된 단위패턴들 중 어느 것이라도 아직 상기 레지스트상에 기록되지 않았다면, 상기 공정은 다시 상기 제 4 단계로 돌아가서 제 4 및 제 5 단계 또는 제 4 및 제 6 단계의 시리즈를 모든 분할된 단위패턴들이 기록될 때까지 반복하게 될 것이다.
종래의 시스템은 6 개의 기록 요구 패턴들을 33 개의 단위패턴들로 분할하는 반면, 상기 본 발명에 따르면 6 개의 기록 요구 패턴들로부터 분할된 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소되어 17 개가 된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량을 현저한 향상시키게 된다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시키며, 또한, 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소한 것은 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 4 실시형태
신규한 가변형 전자빔 노출 시스템을 나타낸 도 9를 참조하여, 본 발명에 따른 제 4 실시모양에 대하여 설명한다. 전자빔 (2) 을 방사하기 위하여 전자총 (1) 이 제공된다. 한쌍의 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 가, 전자빔 (2) 이 전송되는 방향을 따라서 거리를 갖고 위치된다. 이 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 는 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 를 가지며, 빔 (2) 이 먼저 제 1 개구 (10) 를 통하여 전송된 후, 웨이퍼 "W"상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되는 가변형 전자빔을 형성하는 제 2 개구 (9) 를 통하여 전송된다. 이 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 는 사각형으로서 서로 동일한 사이즈를 갖는다. 또한 제 1 개구부재 (6) 는 서로 다른 형태의 일조의 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 을 구비한다. 이 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 은 각기 제 1 및 제 2 개구 (9,10) 보다 크지 않은 사이즈를 갖는다. 즉, 이 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 은 제 1 및 제 2 사각형 개구 (10,9) 와 동일한 규격을 갖는 사각형 영역의 범위 내에서 형성된다.
다시 도 4를 참조하면, 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 은 실선으로 표시된 소정형태의 오프닝을 구비하며, 파선으로 표시된 사각형 영역의 범위 내에서 형성된다. 이 사각형 영역은 제 2 사각형 개구 (10) 와 서로 동일한 사이즈를 갖는다. 제 1, 제 2, 및 제 3 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c) 은 사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 측을 따라서 배열된다. 제 3, 제 4, 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11c,11d,11e) 은 사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 측에 인접한 제 2 측을 따라서 배열되어, 제 1 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11a,11e) 이 사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 맞은편 구석에 배치되도록 한다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11a) 는 제 1 및 제 3 개구 마스크 패턴 (11a,11c) 의 사이 중간영역에 형성된다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 제 3 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11c,11e) 의 사이 중간영역에 형성된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 제 1 및 제 2 측이 오른 앵글에서 서로 가로지르는 구석에 위치된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 사각형의 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 측에 평행한 제 1 방향으로 연장하는 제 1 장축을 갖는 넓은 부분을 구비하는 제 1 수정된 직사각형을 가진다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 제 1 방향으로 간격을 모두 갖는 한 측에서부터 맞은편 측까지의 사각형 영역의 범위내에 연장된다. 넓은 부분은 사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 측에 근접한 한 측에 인접하게 형성된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 사각형 영역의 중심에서 연장하는 장축에 대하여 대칭이다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 측에 평행한 제 2 방향으로 연장된 장축을 갖는 넓은 부분을 갖는 제 2 수정된 직사각형을 가진다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 제 2 방향으로 간격을 모두 갖는 한 측에서부터 맞은편 측까지의 사각형 영역의 범위내에 연장된다. 넓은 부분은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 근접한 한 측에 인접하게 형성된다. 제 2 마스크 패턴 (11b) 은 사각형 영역의 중심에서 연장하는 장축에 대하여 대칭이다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 측에 평행한 제 1 방향으로 연장하는 장축을 갖는 넓은 부분을 갖는 제 3 수정된 직사각형을 가진다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 제 1 방향으로 간격을 모두 갖는 한 측에서부터 맞은편 측까지 사각형 영역의 범위내에서 연장된다. 넓은 영역은 사각형 영역의 중심 또는 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 중심에 형성된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 장축 및 이 장축에 수직한 단축에 모두에 대하여 대칭이다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 측에 평행한 제 1 방향으로 연장하는 장축을 갖는 넓은 부분을 갖는 제 4 수정된 직사각형을 갖는다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 제 1 방향으로 간격을 모두 갖는 한 측에서부터 맞은편 측까지 사각형 영역의 범위내에서 형성된다. 넓은 부분은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 근접한 맞은편 측에 인접하게 형성된다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 사각형 영역의 중심에서 연장하는 장축에 대하여 대칭이다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 측과 평행한 제 1 방향으로 연장하는 장축을 갖는 한쌍의 직사각형을 갖는다. 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍으로된 직사각형은 제 1 측에서부터 이 제 1 측과 마주하는 제 2 측까지 사각형 영역의 범위내에서 연장되며, 이 제 1 및 제 2 측 제 1 방향으로 간격을 갖는다. 또한, 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍으로된 직사각형은 사각형 영역의 제 3 측 및 이 제 3 측과 마주하는 제 4 측을 따라서 각각 연장되어, 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍으로된 직사각형이 사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 측에 평행한 제 2 방향으로 서로 간격을 갖게 된다. 즉, 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 쌍으로된 직사각형은 연장되어 제 1 방향에 평행한 장축을 갖는 직사각형 중심 영역을 샌드위치한다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 장축 및 이 장축에 대하여 수직한 단축 모두에 대하여 대칭이다.
도 9를 참조하면, 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 의 사이에서, 이 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 간의 전송중의 전자빔 (2) 을 편향시키기 위하여 편향기 (7) 가 제공된다. 이 편향기 (7) 는 쌍으로된 편향 전극 (7a,7b) 사이의 공간에 전기장을 걸어주기 위한 한쌍의 제 1 및 제 2 편향 전극 (7a,7b) 을 구비하며, 여기서, 제 1 개구부재 (6) 를 통과한 전자빔 (2) 은 쌍으로된 편향 전극 (7a,7b) 에 의하여 전기장이 걸린 공간을 통하여 전송되어, 전자빔 (2) 이 걸려진 전기장에 따라서 편향되게 된다. 전자빔 (2) 의 편향제어는 전자빔에 걸려진 전기장을 제어함으로써 가능해진다. 제 1 사각형 개구 (10) 및 제 1 개구부재 (6) 의 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 을 통과한 전자빔 (2) 은 이 편향기 (7) 에 의하여 편향되어, 제 1 사각형 개구 (10) 및 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 을 통과한 전자빔 (2) 들 중 선택된 빔이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구(9) 로 전송되게 한다.
이 편향기 (7) 의 수정으로서, 전자빔에 전기장이 아닌 자기장을 걸어서 전자빔을 편향시키는 것도 가능하다.
편향기 (7) 에 접속되어, 편향기 (7) 에 의한 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 사이의 전송중인 전자빔 (2) 에의 편향을 제어하기 위하여 제어기 (8) 가 또한 제공된다. 이 제어기 (8) 는 기록-요구 패턴을 복수개의 단위패턴으로 분할하기 위하여 데이터 메모리 (3) 로부터 기록-요구 패턴의 데이터를 읽는 데이터 메모리 (3) 에 접속된 패턴-분할기 (12) 를 포함한다.
다시 도 5를 참조하면, 이 분할된 17개 단위패턴은 6 개의 형으로 분류된다. 도 4에 나타낸 바와 같이, 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 해당하는 제 1 형 단위패턴 (P1) 이 3개 존재한다. 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11B) 에 해당하는 제 2 형 단위패턴 (P2) 이 한 개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당하는 제 3 형 단위패턴 (P3) 이 1개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 해당하는 제 4 형 단위패턴 (P4) 이 3개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당하는 제 5 형 단위패턴 (P5) 이 1개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 하나에 해당하는 제 6 형 단위패턴 (P6) 이 8개 존재한다.
제어기 (8) 는 분할된 단위패턴들을 꺼내기 위한 패턴-분할기 (12) 에 접속되며, 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 형태로부터 데이터를 판독하기 위한 버퍼 메모리 (4) 에 접속되어, 이 단위패턴들을 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 모양과 대조하여, 이 단위패턴들과 이 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중의 어느 모양과의 일치점을 확인하는 데이터-대조기 (13) 을 포함한다. 이 대조의 결과로서, 데이터-대조기 (13) 가 다음과 같이 일치점을 확인한다. 제 1 형 단위패턴 (P1) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 해당한다. 제 2 형 단위패턴 (P2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 해당한다. 제 3 형 단위패턴 (P3) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당한다. 제 4 형 단위패턴 (P4) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 해당한다. 제 5 형 단위패턴 (P5) 은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당한다. 제 6 형 단위패턴 (P6) 은 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 어느 것에도 해당하지 않는다.
제어기 (8) 는 각 단위패턴과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 어느 하나와의 일치점의 결과에 따라서, 편향기 (7) 에 의해 전자빔 (2) 에 걸린 전기장을 제어하기 위하여 대조의 결과를 꺼내기 위한 데이터-대조기 (7) 에 접속된 편향-제어기 (14) 를 더 포함한다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 1 형 단위패턴 (P1) 을 기록하게 된다.
제 1 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 기록하게 된다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 기록하게 된다.
제 4 형 단위패턴 (P4) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11d) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 기록하게 된다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 기록하게 된다.
제 6 형 단위패턴 (P6) 과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 어느 것과도 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되지 않으면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 의 상관이동에 의하여, 정상 가변형 전자빔 노출 시스템에서와 같은 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 의 조합에 의하여 모양을 갖도록 한다.
다시 도 6 을 참조하여, 신규한 가변형 전자빔 노출 시스템의 동작에 초점을 두어 설명한다.
제 1 단계 (S1) 에서, 기록-요구 패턴의 데이터가 데이터 메모리 (3) 로부터 패턴-분할기 (12) 에 의하여 판독된다.
제 2 단계 (S2) 에서, 기록-요구 패턴이 패턴-분할기 (12) 에 의하여 복수개의 단위패턴으로 각각 분할된다.
제 3 단계 (S3) 에서, 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 형태의 데이터가 데이터 대조기 (13) 에 의하여 버퍼 메모리 (4) 로부터 판독된다.
제 4 단계 (S4) 에서, 단위패턴과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 것과의 일치점을 확인하기 위하여, 단위패턴이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 모양과 대조된다.
제 5 단계 (S5) 에서, 각 단위패턴과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 하나의 일치 결과에 따라서, 편향기 (7) 에 의하여 전자빔 (2) 에 인가된 전기장을 제어하기 위하여, 대조의 결과가 편향-분할기 (14) 에 의하여 패치된다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 1 형 단위패턴 (P1) 을 기록하게 된다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 기록하게 된다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 기록하게 된다.
제 4 형 단위패턴 (P4) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11d) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 기록하게 된다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 "W" 상에 걸쳐서 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 기록하게 된다.
그러나, 제 6 단계 (S6) 에서, 제 6 형 단위패턴 (P6) 과 5개 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 의 어느 것과도 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되지 않으면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 의 상관이동에 의하여, 정상 가변형 전자빔 노출 시스템에서와 같은 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 의 조합에 의하여 모양을 갖도록 한다.
단계 (S7) 에서, 레지스트상에 모든 기록-요구 패턴들을 기록하기 위하여, 분할된 모든 단위패턴들의 기록여부를 검증한다. 검증이 되면, 이 공정은 끝난다. 그러나, 레지스트상에 분할된 단위패턴이 기록되지 않은 것이 존재하게 되면, 공정이 제 단계 (S4) 로 되돌아가, 분할된 모든 단위패턴이 기록될 때까지, 연속된 제 4 단계 (S4) 및 제 5 단계 (S5) 또는, 제 4 단계 (S4) 및 제 6 단계 (S6) 를 반복할 것이다.
종래의 시스템은 6 개의 기록 요구 패턴들을 33 개의 단위패턴으로 분할하는 반면, 상기 본 발명에 따르면 6 개의 기록 요구 패턴들로부터 분할할 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소되어 17 개가 된다. 이러한 단위패턴들의 전체 개수가 현저하게 감소하는 것은, 결과적으로 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키게 된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수를 현저하게 감소시키는 것은 또한 결과적으로 작업 처리량의 현저한 향상을 가져온다. 게다가, 전자빔 리소그래피의 공정 수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저하게 감소시킨다. 또한, 단위패턴들의 전체 개수의 현저한 감소는 결과적으로 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 오차를 감소시키게 된다. 이것은 상기 신규 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 마지막 패턴 크기의 정확도가 매우 향상된 것을 의미한다.
제 5 실시예
본 발명에 따른 제 5 실시예는 도 9 를 참조하여 자세히 설명될 것이다. 제 5 실시예가 제 4 실시예와 다른 점은 편향을 제어하기 위한 제어기의 작동에 있다. 전자빔 (2) 을 방출하기 위해 전자총 (1) 이 제공된다. 한 쌍의 제 1 및 제 2 개구부재 (6, 5) 는 전자빔 (2) 이 전송되는 방향으로 거리를 갖도록 위치한다. 제 1 및 제 2 개구부재 (6, 5) 는 전자빔 (2) 의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구 (10, 9) 를 구비하며, 전자빔 (2) 은, 웨이퍼 W 위의 레지스트상에 방사될 가변형상 전자빔을 형성하기 위해 먼저 제 1 개구 (10) 를 통과한 후, 제 2 개구 (9) 를 통과한다. 제 1 및 제 2 개구 (10, 9) 는 정사각형 모양으로 서로 같은 크기를 갖는다. 제 1 개구부재 (6) 는 서로 모양이 다른 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 한 세트를 더 구비한다. 각각의 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 은 제 1 및 제 2 개구 (10, 9) 보다 크지 않은 크기를 갖는다. 즉, 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 은, 제 1 및 제 2 정사각형 개구 (10, 9) 와 동일하게 한정된 정사각형 영역 내에 형성된다.
도 4 를 다시 참조하여, 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 은 실선으로 표시된 소정의 모양의 개구를 구비하며, 파선으로 표시된 정사각형 영역 내에 형성된다. 정사각형 영역은 서로 동일한 크기를 가지며, 제 2 정사각형 모양 개구 (10) 와도 같은 크기를 갖는다. 제 1 , 제 2 및 제 3 개구 마스크 패턴 (11a, 11b 및 11c) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변을 따라 정렬된다. 제 3, 제 4 및 제 5 개구 마스크 패턴 (11c, 11d 및 11e) 은, 제 1 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11a, 11e) 이 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 반대쪽 모서리에 위치되도록 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 인접한 제 2 변을 따라 정렬된다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 제 1 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11a, 11c) 사이의 가운데 위치에 위치한다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 제 3 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11c, 11e) 사이의 가운데 위치에 위치한다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 제 1변과 제 2 변이 직각으로 서로 교차하는 모서리에 위치한다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은, 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행인 제 1 방향으로 연장된 세로축을 갖는 넓은 부분을 갖는 제 1 수정 직사각형 모양을 갖는다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 정사각형 영역 내에 한 변으로부터 반대쪽 변으로 연장되는데, 양변은 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 가까운 한 변에 인접하여 형성된다. 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 은 정사각형 영역의 중앙에서 연장된 세로축에 대하여 대칭이다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변과 평행인 제 2 방향으로 연장된 세로축을 갖는 넓은 부분을 가진 제 2 수정 직사각형 모양을 갖는다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 정사각형 영역 내에 한 변으로부터 반대쪽 변으로 연장되는데, 양변은 제 2 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 한 변에 인접하여 형성된다. 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 은 정사각형 영역의 중앙에서 연장된 세로축에 대하여 대칭이다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11b) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행인 제 1 방향으로 연장된 세로축을 갖는, 넓은 부분을 가진 제 3 수정 직사각형 모양을 갖는다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 정사각형 영역 내에 한 변으로부터 반대쪽 변으로 연장되는데, 양변은 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 중앙이나 정사각형 영역의 중앙에 형성된다. 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 은 그곳의 세로축과 세로축에 수직인 짧은 축에 대하여 대칭이다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행인 제 1 방향으로 연장된 세로축을 갖는 넓은 부분을 가진 제 4 수정 직사각형 모양을 갖는다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 정사각형 영역 내에 한 변으로부터 반대쪽 변으로 연장되는데, 양변은 제 1 방향으로 떨어져 있다. 상기 넓은 부분은 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 과 가까운 반대쪽 변에 인접하여 형성된다. 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 은 정사각형 영역의 중앙에 연장된 세로축에 대하여 대칭이다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 변과 평행인 제 1 방향으로 연장된 세로축을 갖는 한 쌍의 직사각형을 구비한다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 한 쌍의 직사각형들은, 정사각형 영역 내에 제 1 변으로부터 제 1 변의 반대쪽 변인 제 2 변으로 연장되는데, 제 1 변과 제 2 변은 제 1 방향으로 떨어져 있다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 한 쌍의 직사각형들은, 각각, 정사각형 영역의 제 3 변과, 제 3 변과 반대쪽 변인 제 4 변을 따라 또한 연장되는데, 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 한 쌍의 직사각형들은 정사각형 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 변에 평행인 제 2 방향으로 서로 떨어져 있다. 즉, 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 한 쌍의 직사각형들은, 제 1 방향과 평행인 세로축을 갖는 직사각형 모양의 영역의 중앙부분을 샌드위치 모양으로 사이에 끼우도록 연장된다. 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 은 그곳의 세로축과 세로축에 수직인 짧은 축에 대하여 대칭이다.
도 9 를 다시 참조하여, 편향기 (7) 는, 제 1 및 제 2 개구부재 (6, 5) 사이에서 전송중인 전자빔 (2) 을 편향하기 위해 제 1 개구부재와 제 2 개구부재 사이에 제공된다. 편향기 (7) 는, 쌍을 이룬 편향 전극판 (7a, 7b) 사이의 공간에 전기장을 가하기 위해 한 쌍의 편향 전극판 (7a,7b) 을 구비하는 데 있어서, 제 1 개구부재 (6) 를 통해 통과한 전자빔 (2) 이, 쌍을 이룬 편향 전극판 (7a,7b) 에 의해 전기장이 가해진 공간을 통해 전송되며, 이것에 의해 전자빔 (2) 은 가해진 전기장에 따라 편향된다. 전자빔에 가해지는 전기장을 제어함으로써 전자빔 (2) 의 편향을 제어하는 것이 가능하다. 제 1 정사각형 개구 (10) 와 제일 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 을 통과한 전자빔들은, 제 1 정사각형 개구 (10) 와 제일 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 을 통과한 전자빔들 중에서 선택된 하나가 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형모양의 개구 (9) 를 향해 전송되도록, 편향기 (7) 에 의해 편향된다.
상기 편향기 (7) 의 변형으로써, 전기장 대신에 자기장을 전자빔에 가함으로써 전자빔을 편향시키는 것이 가능하다.
편향기 (7) 에 의해 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 사이에서 전송중인 전자빔 (2) 의 편향을 제어하기 위해 제어기 (8) 가 편향기 (7) 에 더 연결된다. 제어기 (8) 는, 각각의 기록이 요구되는 패턴들을 단위패턴들로 분할하기 위해, 기록이 요구되는 패턴들을 데이터 메모리 (3) 로부터 판독하기 위한 데이터 메모리 (3) 에 연결된 패턴 분할기 (12) 를 더 구비한다.
도 5 를 다시 참조하여, 분할된 17 개의 단위패턴들은 여섯 가지 종류로 분류된다. 도 4 에 도시된 제 2 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 과 일치하는 제 1 형 단위패턴 (P1) 이 3 개 존재한다. 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 과 일치하는 제 2 형 단위패턴 (P2) 이 1 개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 과 일치하는 제 3 형 단위패턴 (P3) 이 1 개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 과 일치하는 제 4 형 단위패턴 (P4) 이 3 개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 과 일치하는 제 5 형 단위패턴 (P5) 이 1 개 존재한다. 제 2 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 의 어느 것과도 일치하지 않는 제 6 형 단위패턴 (P6) 이 8 개 존재한다.
제어기 (8) 는, 분할된 단위패턴들을 꺼내기 위해 패턴 분할기 (12) 에 연결되고 또한, 상기 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 의 형상 데이터를 판독하기 위해 버퍼 메모리 (4) 에 연결된, 데이터 대조기 (13) 를 포함하여, 단위패턴들과 상기 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 들 사이의 일치점을 확인하기 위해, 단위패턴들을 상기 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a, 11b, 11c, 11d 및 11e) 들과 대조한다. 대조의 결과로서, 데이터 대조기 (13) 는 다음과 같이 일치점을 확인한다. 제 1 형 단위패턴 (P1) 은 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 해당한다. 제 2 형 단위패턴 (P2) 은 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 해당한다. 제 3 형 단위패턴 (P3) 은 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 해당한다. 제 4 형 단위패턴 (P4) 은 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 해당한다. 제 5 형 단위패턴 (P5) 은 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 해당한다. 제 6 형 단위패턴 (P6) 은 제 1 개구부재 (6) 의 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d 및 11e) 의 어느 것에도 해당하지 않는다.
제어기 (8) 는 각 단위패턴과 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d 및11e) 중 어느 하나와의 일치점의 결과에 따라서, 편향기 (7) 에 의해 전자빔 (2) 에 걸린 전기장을 제어하기 위하여 대조의 결과를 꺼내기 위한 데이터-대조기 (7) 에 접속된 편향-제어기 (14) 를 더 포함한다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 1 형 단위패턴 (P1) 을 기록하게 된다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 기록하게 된다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 기록하게 된다.
제 4 형 단위패턴 (P4) 과 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 기록하게 된다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 기록하게 된다.
그러나, 제 6 형 단위패턴 (P6) 과 상기 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 하나와의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되지 않으면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 정 사각형 모양의 개구 (10) 를 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 의 상관이동에 의하여, 정상 가변형 전자빔 노출 시스템에서와 같은 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 의 조합에 의하여 모양을 갖도록 한다.
다시 도 7 을 참조하여, 신규한 가변형 전자빔 노출 시스템의 동작에 초점을 두어 설명한다.
제 1 단계 (S11) 에서, 기록이 요구되는 패턴의 데이터가 데이터 메모리 (3) 로부터 패턴-분할기 (12) 에 의하여 판독된다.
제 2 단계 (S12) 에서, 각각의 기록이 요구되는 패턴이 패턴-분할기 (12) 에 의하여 복수개의 단위패턴으로 분할된다.
제 3 단계 (S13) 에서, 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d 및 11e) 의 형태의 데이터가 데이터 대조기 (13) 에 의하여 버퍼 메모리 (4) 로부터 판독된다.
제 4 단계 (S14) 에서, 단위패턴과 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d 및 11e) 중 어느 하나와의 일치점을 확인하기 위하여, 단위패턴이, 데이터-대조기 (13) 에 의하여 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d 및11e) 의 모양과 대조된다.
제 5 단계 (S15) 에서, 모든 분할된 단위패턴이 대조되어야 할지 여부가 확인된다. 만약 확인되면, 공정의 다음의 단계를 시작할 것이다. 그러나, 분할된 단위패턴중 어느 하나라도 대조되지 않았다면, 상기 4 단계의 대조가, 모든 분할된 패턴이 대조 될 때까지 반복될 것이다.
제 6 단계 (S16) 에서, 각 단위패턴과 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d 및 11e) 중 어떤 것과의 일치점의 결과에 따라서, 편향기 (7) 에 의하여 전자빔 (2) 에 인가된 전기장을 제어하기 위하여, 대조의 결과가 편향 제어기 (14) 에 의하여 패치된다.
제 1 형 단위패턴 (P1) 과 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 1 개구 마스크 패턴 (11a) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 1 형 단위패턴 (P1) 을 기록하게 된다.
제 2 형 단위패턴 (P2) 과 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 2 개구 마스크 패턴 (11b) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 2 형 단위패턴 (P2) 을 기록하게 된다.
제 3 형 단위패턴 (P3) 과 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 3 개구 마스크 패턴 (11c) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 3 형 단위패턴 (P3) 을 기록하게 된다.
제 4 형 단위패턴 (P4) 과 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 4 개구 마스크 패턴 (11d) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 4 형 단위패턴 (P4) 을 기록하게 된다.
제 5 형 단위패턴 (P5) 과 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 일치점이 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 을 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (5) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 의 모양에 따라서 모양을 갖도록 한다. 따라서, 제 1 개구부재 (6) 의 제 5 개구 마스크 패턴 (11e) 에 의하여 규정된 전자빔 (2) 은 웨이퍼 W 위의 레지스트상으로 조사되어 이 레지스트상에 제 5 형 단위패턴 (P5) 을 기록하게 된다.
그러나, 제 7 단계 (S17) 에서, 제 6 형 단위패턴 (P6) 과 상기 5 개의 개구 마스크 패턴 (11a,11b,11c,11d,11e) 중 어느 것과의 일치점도 데이터-대조기 (13) 에 의하여 확인되지 않으면, 편향-제어기 (14) 가 편향을 제어하여 제 1 정 사각형 모양의 개구 (10) 를 통과한 전자빔 (2) 이 제 2 개구부재 (6) 의 제 2 정사각형 개구 (9) 쪽으로 전송되게 하여, 전자빔 (2) 이 예를 들어, 제 1 및 제 2 개구부재 (6,5) 의 상관이동에 의하여, 정상 가변형 전자빔 노출 시스템에서와 같은 기능에 따라서 제 1 및 제 2 개구 (10,9) 의 조합에 의하여 모양을 갖도록 한다.
상기 제 6 및 제 7 단계 (S16, S17) 는, 레지스트상에 기록이 요구되는 모든 패턴을 기록하기 위해, 분할된 모든 단위패턴이 기록될 때까지 계속될 것이다.
종래의 시스템이 6 개의 기록이 요구되는 패턴을 30 개의 단위패턴으로 분할되는데 반해, 본 발명에 따르면, 6 개의 기록이 요구되는 패턴들로부터 분할된 단위패턴들의 총 수는 17 개로 현저히 줄어든다. 이러한 단위패턴들의 총 수에 있어서의 현저한 감소는, 전자빔 리소그래피의 공정 수에 있어서의 현저한 감소에 귀착된다. 전자빔 리소그래피의 공정 수에 있어서의 현저함 감소는, 또한 작업 처리량에 있어서의 현저한 향상에 귀착된다. 게다가, 전자빔 리소그래피 공정의 총 수에 있어서의 현저한 감소는 또한, 전자빔 리소그래피에 필요한 시간에 있어서의 현저한 감소에 귀착된다. 또한, 단위패턴의 총수에 있어서의 현저한 감소는, 상기 신규한 가변형상 전자빔 노출에 의해 기록된 최종 패턴 사이즈의 에러의 감소에 귀착된다. 이것은 상기 신규한 가변형상 전자빔 노출에 의해 기록된 최종 패턴 크기에 있어서의 정확성이 현저히 향상된다는 것을 의미한다.
본 발명의 변형예들은 당업자에게는 자명할 것이며, 도해에 의해 도시되고 설명된 실시예들은 제한적 의미로 간주되어서는 안될 것이다. 따라서, 본 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않는 모든 변형예들은 청구항에 의해 보호된다.
상술한 본 발명에 의하면, 복수의 개구 마스크 패턴이 가변형 전자빔 노광을 위하여 선택적 효과적으로 사용되기 때문에, 기록 요구 패턴으로부터 분할된 단위패턴의 총수는 종래와 비교하여 현저히 감소한다. 단위패턴의 총수의 현저한 감소는 전자빔 리소그래피의 공정수를 현저히 감소시키고, 전자빔 리소그래피의 공정수의 현저한 감소는 처리량의 현저한 개선을 초래하며, 또한, 전자빔 리소그래피의 공정수의 현저한 감소는 또한 전자빔 리소그래피에 필요한 시간을 현저히 감소시킨다. 또한, 단위패턴의 총수의 현저한 감소는 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 최종 패턴의 크기에 발생하는 에러를 감소시킨다. 이것은 신규한 가변형 전자빔 노광에 의해 기록된 최종 패턴의 크기의 정확도가 현저히 개선되는 것을 의미한다.

Claims (39)

  1. 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 개구부재로서, 상기 개구부재는 가변형 전자빔 노광을 위해 대응 개구부재와 함께 사용되며, 상기 대응 개구부재는 제 1 개구를 구비하고 상기 개구부재는 전자빔의 모양을 만들기 위한 제 2 개구를 구비하는 개구부재에 있어서,
    상기 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며, 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 만들어지는 경우를 제외하고는 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 상기 전자빔의 모양이 만들어지도록 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 개구부재.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 갖는 것을 특징으로 하는 개구부재.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 제 2 개구는 상기 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구의 주변에 위치하는 것을 특징으로 하는 개구부재.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 전자빔이 상기 개구부재를 통하여 연속적으로 전송되기 전에 상기 전자빔이 상기 대응 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 대응 개구부재는 제 1 개구부재로서 사용되고 상기 개구부재는 제 2 개구부재로서 사용되는 것을 특징으로 하는 개구부재.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 전자빔이 상기 대응 개구부재를 통하여 연속적으로 전송되기 전에 상기 전자빔이 상기 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 개구부재는 제 1 개구부재로서 사용되고 상기 대응 개구부재는 제 2 개구부재로서 사용되는 것을 특징으로 하는 개구부재.
  6. 가변형 전자빔 노광시스템의 전자빔 모양 형성부에 있어서,
    상기 전자빔 모양 형성부는,
    전자빔이 전송되는 방향으로 소정 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍으로서, 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 갖는 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍; 및
    상기 전자빔을 편향시키기 위하여 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치된 편향기를 구비하고,
    상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 갖추고, 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 경우를 제외하고는 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 따라 모양이 형성되도록 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 전자빔 모양 형성부.
  7. 제 6 항에 있어서, 상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 갖는 것을 특징으로 하는 전자빔 모양 형성부.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 제 2 개구는 상기 제 2 개구부재의 중심에 위치하고, 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구의 주변에 위치하는 것을 특징으로 하는 전자빔 모양 형성부.
  9. 가변형 전자빔 노광시스템의 전자빔 모양 형성부에 있어서,
    상기 전자빔 모양 형성부는,
    전자빔이 전송되는 방향으로 소정 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍으로서, 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 갖는 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍; 및
    상기 전자빔을 편향시키기 위하여 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치한 편향기를 구비하고,
    상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 갖추고, 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 경우를 제외하고는 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 상기 모양에 따라 모양이 형성되도록 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 전자빔 모양 형성부.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 갖는 것을 특징으로 하는 전자빔 모양 형성부.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 제 1 개구는 상기 제 1 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구의 주변에 위치하는 것을 특징으로 하는 전자빔 모양 형성부.
  12. 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기로서, 상기 제어기는 편향기에 접속되어 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 전자빔에 대한 편향기에 의한 편향을 제어하고, 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 가지며, 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기에 있어서,
    상기 제어기는,
    제 1 메모리에 접속되어 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 제 1 수단; 및
    상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 제 2 메모리에 또한 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하고 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 제 2 수단을 구비하고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 제 2 개구는 상기 제 2 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구의 주변에 위치하는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기.
  15. 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기로서, 상기 제어기는 편향기에 접속되어 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 전자빔에 대한 편향기에 의한 편향을 제어하고, 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 가지며, 상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 갖추고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기에 있어서,
    상기 제어기는,
    제 1 메모리에 접속되어 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 제 1 수단; 및
    상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 제 2 메모리에 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하고 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 제 2 수단을 구비하고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지고, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 복수의 개구 마스크 패턴중 일치하는 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴중 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중의 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔은 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기.
  17. 제 16 항에 있어서, 상기 제 1 개구는 상기 제 1 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구의 주변에 위치하는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템의 제어기.
  18. 전자빔을 방출하기 위한 전자총;
    상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍으로서, 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비하고, 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍;
    상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치하여 상기 전자빔을 편향시키기 위한 편향기; 및
    상기 편향기에 접속되어 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대한 상기 편향기에 의한 편향을 제어하기 위한 제어기를 구비하고,
    상기 제어기는, 제 1 메모리에 접속되어 상기 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하기 위한 제 1 수단; 및
    상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 또한 제 2 메모리에 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하여 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하기 위한 제 2 수단을 구비하며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴중 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템.
  20. 제 19 항에 있어서, 상기 제 2 개구는 상기 제 2 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구의 주변에 위치하는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템.
  21. 전자빔을 방출하기 위한 전자총;
    상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍으로서, 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비하고, 상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는 제 1 및 제 2 개구부재의 쌍;
    상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에 위치하여 상기 전자빔을 편향시키기 위한 편향기; 및
    상기 편향기에 접속되어 상기 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대한 상기 편향기에 의한 편향을 제어하기 위한 제어기를 구비하고,
    상기 제어기는, 제 1 메모리에 접속되어 상기 제 1 메모리로부터 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하기 위한 제 1 수단; 및
    상기 제 1 수단에 접속되어 상기 단위패턴을 꺼내고 또한 제 2 메모리에 접속되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하여 상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하기 위한 제 2 수단을 구비하며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 상기 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템.
  22. 제 21 항에 있어서, 상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 2 수단은 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 제어기는 상기 편향을 제어하여 상기 제 1 개구를 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템.
  23. 제 22 항에 있어서, 상기 제 1 개구는 상기 제 1 개구부재의 중심에 위치하고 상기 복수의 개구 마스크 패턴은 상기 제 1 개구의 주변에 위치하는 것을 특징으로 하는 가변형 전자빔 노광시스템.
  24. 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장하기 위한 컴퓨터 판독가능한 기억매체로서, 상기 반사는 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치하는 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어지고, 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비하며, 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구와는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는 컴퓨터 판독가능한 기억매체에 있어서,
    상기 컴퓨터 프로그램은,
    기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계;
    상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및
    상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  25. 제 24 항에 있어서, 상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  26. 제 24 항에 있어서, 상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  27. 제 24 항에 있어서, 상기 제 3 의 대조 단계 및 그 후의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 연속적으로 행해지는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  28. 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하기 위한 컴퓨터 프로그램을 저장하기 위한 컴퓨터 판독가능한 기억매체로서, 상기 반사는 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치하는 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어지고, 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비하고, 상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구와는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는 컴퓨터 판독가능한 기억매체에 있어서,
    상기 컴퓨터 프로그램은,
    기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계;
    상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및
    상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하여 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  29. 제 28 항에 있어서, 상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하여 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의하여 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  30. 제 28 항에 있어서, 상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  31. 제 28 항에 있어서, 상기 제 3 의 대조 단계 및 그 후의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 연속적으로 행해지는 것을 특징으로 하는 컴퓨터 판독가능한 기억매체.
  32. 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하는 방법으로서, 상기 반사는 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어지며, 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비하고, 상기 제 2 개구부재는 상기 제 2 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 1 개구보다 작은 크기를 갖는 전자빔의 편향을 제어하는 방법에 있어서,
    상기 방법은 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계;
    상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및
    상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
  33. 제 32 항에 있어서, 상기 제 2 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구부재의 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징을 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
  34. 제 32 항에 있어서, 상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 것을 특징으로 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
  35. 제 32 항에 있어서, 상기 제 3 대조 단계 및 그 다음의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 수행되는 것을 특징으로 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
  36. 가변형 전자빔 노광시스템에 제공된 편향기에 의한 전자빔의 편향을 제어하는 방법으로서, 상기 반사는 상기 전자빔이 전송되는 방향으로 소정의 거리를 갖도록 위치한 제 1 및 제 2 개구부재 사이에서 전송중인 상기 전자빔에 대하여 이루어지며, 상기 제 1 및 제 2 개구부재는 상기 전자빔이 상기 제 1 개구부재를 통하여 우선 전송된 후에 상기 제 2 개구부재를 통하여 전송되도록 상기 전자빔의 모양을 형성하기 위한 제 1 및 제 2 개구를 구비하고, 상기 제 1 개구부재는 상기 제 1 개구의 모양과는 다른 모양을 갖는 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 더 구비하며 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴은 또한 상기 제 2 개구보다 작은 크기를 갖는 전자빔의 편향을 제어하는 방법에 있어서,
    상기 방법은 기록 요구 패턴의 데이터를 판독하여 상기 기록 요구 패턴 각각을 복수의 단위패턴으로 분할하는 단계;
    상기 단위패턴을 꺼내고 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양의 데이터를 판독하는 단계; 및
    상기 단위패턴을 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 단계를 구비하고,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴을 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하고 이로써 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 향하여 전송되도록 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징으로 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
  37. 제 36 항에 있어서, 상기 제 1 개구부재는 모양이 서로 다른 복수의 개구 마스크 패턴의 세트를 가지며, 상기 제 3 단계는 상기 단위패턴을 상기 복수의 개구 마스크 패턴과 대조하여 상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하고,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되면, 상기 편향이 제어되어 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 일치하는 패턴을 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 상기 일치하는 패턴의 모양에 따라 모양이 형성되며,
    상기 단위패턴 및 상기 복수의 개구 마스크 패턴의 모양중 어느 하나 사이의 일치성이 확인되지 않으면, 상기 편향이 제어되어 상기 제 1 개구를 통과하여 모양이 형성된 상기 전자빔이 상기 제 2 개구를 통과하게 함으로써 상기 전자빔이 상기 가변형 전자빔 노광용의 상기 제 1 및 제 2 개구의 결합에 의해 모양이 형성되는 것을 특징을 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
  38. 제 36 항에 있어서, 상기 가변형 전자빔 노광이 모든 상기 단위패턴에 대하여 수행되기 전에 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 모든 상기 단위패턴이 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양과 대조되어 상기 단위패턴 및 상기 하나 이상의 개구 마스크 패턴의 모양 사이의 일치성을 확인하는 것을 특징으로 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
  39. 제 36 항에 있어서, 상기 제 3 대조 단계 및 그 다음의 가변형 전자빔 노광의 세트가 모든 상기 기록 요구 패턴으로부터 분할된 상기 단위패턴 각각에 대하여 수행되는 것을 특징으로 하는 전자빔의 편향을 제어하는 방법.
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