KR100277633B1 - 플라즈마디스플레이장치의격벽제조방법및그에의한플라즈마디스플레이장치 - Google Patents

Abstract

플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법 및 그에 의한 플라즈마 디스플레이 장치에 대하여 개시한다. 본 발명에 따르면, 소정의 스트라이프 패턴을 가지는 전극과, 일측 전면에 걸쳐 형성된 유전층을 가지는 기판을 마련하는 단계, 상기 유전층의 상부 전면에 걸쳐서 보호층을 도포하고 건조시키는 단계, 소정의 스트라이프 패턴으로 형성된 통공을 가지는 마스크를 씌우고 자외선광으로 상기 보호층을 선택적으로 경화시키는 단계, 상기 보호층의 경화된 부분을 제외한 다른 부분을 에칭하는 단계, 상기 보호층의 상부 전면에 걸쳐 격벽 페이스트를 도포하고 건조시킴으로써 격벽 페이스트층을 형성하는 단계 및, 상기 격벽 페이스트층을 다단형 회전 블레이드로 절삭함으로써 소정 패턴의 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법 및, 그에 의한 플라즈마 디스플레이 장치가 제공된다. 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법은 다단형 회전 블레이드를 사용하므로, 블레이드 갯수와 격벽의 선폭 조절이 가능하며, 격벽의 선폭이 30 마이크로 정도인 디스플레이 장치를 구현할 수 있다는 장점을 가진다.

Description

플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법 및 그에 의한 플라즈마 디스플레이 장치{Method for manufacturing partition of plasma display and plasma display thereby}

본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법 및 그에 의한 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 디스플레이 장치에 구비된 배면 기판상의 격벽을 다단형 회전 블레이드를 이용하여 제조하는 방법 및 그에 의해 제조된 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것이다.

통상적으로 플라즈마 디스플레이 장치는 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시능력이 우수하여, CRT를 대체할 수 있는 패널로 각광을 받고 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 장치는 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이의 가스에서 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.

플라즈마 디스플레이 장치는 방전 메카니즘에 의하여 교류형(AC형)과 직류형(DC형)으로 양분될 수 있다. 직류형은 플라즈마 표시 패널을 구성하는 각 전극들이 방전셀에 봉입되는 가스층에 직접적으로 노출되어 그에 인가되는 전압이 그대로 방전 가스층에 인가되는 것이고, 교류형은 각 전극들이 방전 가스층과 유전체층에 의하여 분리되어 방전 현상시 발생되는 하전입자들을 상기 전극들이 흡수하지 않고 벽전하를 형상하게 되며, 이와 같은 벽전하를 이용하여 다음 방전을 일으키는 것이다.

도 1에는 일반적인 교류형 플라즈마 디스플레이 장치의 구조에 대한 개략적인 분해 사시도가 도시되어 있다.

도면을 참조하면, 전면 유리 기판(11)과 배면 유리 기판(12) 사이에 투명한 디스플레이 전극인 제 1 전극(13a)과 어드레스 전극인 제 2 전극(13b)이 형성된다. 제 1 전극(13a)과 제 2 전극(13b)은 전면 유리 기판(11) 및 배면 유리 기판(12)의 내표면에 각각 스트라이프 형상으로 형성되며, 기판(11,12)이 상호 조립되었을 때 상호 직각으로 교차하게 된다. 전면 유리 기판(11)의 내측면에는 유전층(14)과 보호막(15)이 차례로 적층된다. 한편, 배면 유리 기판(12)에는 유전층(14')의 상부 표면에 격벽(17)이 형성되며, 격벽(17)에 의해 셀(19)이 형성된다. 셀(19)내에는 아르곤과 같은 불활성 개스가 충전된다. 또한 각각의 셀(19)을 형성하는 격벽(17)의 내측에는 소정 부위에 형광체(18)가 도포된다.

위와 같은 구성을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 작동을 개략적으로 설명하면, 우선 전극(13a,13b)의 방전을 일으킬 수 있도록 소위 트리거 전압(trigger voltage)이라 불리우는 고전압이 인가된다. 트리거 전압에 의해 유전층(14)에 양이온이 축전되면 방전이 발생하게 된다. 트리거 전압이 쓰레숄드 전압(threshold voltage)을 넘어서면 셀(19)내에 충전된 아르곤 개스등은 방전에 의해 플라즈마 상태가 되며, 전극(13a,13b) 사이에서 안정적인 방전 상태를 유지할 수 있다. 안정된 방전 상태에서는 방전광중에서 자외선 영역의 광들이 형광체(18)에 충돌하여 발광하게 되며, 그에 따라서 셀(19)별로 형성되는 각각의 화소는 화상을 디스플레이할 수 있게 한다.

위에 설명된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 장치에서 격벽은 형광막이 도포되는 장소를 제공하며, 또한 방전 공간을 형성하는 기능을 가진다. 종래 기술에 따른 격벽 형성 방법으로는 스크린 인쇄법과 샌드 블라스트 법을 들 수 있다.

스크린 인쇄법은 유리 재료의 배면 기판위에 격벽 재료 페이스트를 스크린 인쇄 방식으로 반복 인쇄함으로써 중첩시키고, 건조 및 소정 과정을 수행함으로써 소정의 형태로 성형하는 방법이다. 이러한 방법은 공정이 복잡하고 특히 양호한 선폭의 정밀도를 얻기 어렵다는 문제점이 있다.

최근에 많이 적용되는 샌드 블라스트법은 유리 배면 기판위에 격벽 재료의 페이스트를 일정한 두께로 도포하고 건조시킨 다음, 그 위에 원하는 격벽 모양의 보호막을 형성하거나 또는 샌드 블라스트용 마스크를 삽입한 상태에서 연마 입자인 샌드를 고압 분사함으로써 불필요한 부분을 제거하는 방식이다. 그러나 이와 같은 샌드 블라스트 방식을 사용할 경우 다음과 같은 문제점이 있다. 우선 샌드 블라스트 재료로 미세한 연마 입자를 사용하므로 공정 오염이 발생할 가능성이 있고 격벽 재료에 포함된 산화납이 비산되어 환경이 오염될 수 있다. 또한 샌드 블라스트 가공시에 격벽 재료의 2/3 는 폐기되어 회수 및 재생이 불가능해지므로 제조 원가가 높아진다. 또한 교류형 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽은 물리적인 강도 및 정밀성이 요구되는데, 샌드 블라스트 방식은 격벽의 선폭이 30 마이크로로 요구되는 디스플레이 장치에는 부적합하다는 문제점이 있다.

본 발명은 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 신규한 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 다단형 회전 블레이드에 의해 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽을 제조하는 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 다단형 회전 블레이드에 의해 제조된 격벽을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 개략적인 분해 사시도.

도 2a 내지 도 2g는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽을 제조하는 방법을 도시하는 개략적인 단면도.

도 3은 본 발명의 격벽 제조 방법에 사용되는 다단형 회전 블레이드 장치와 기판에 대한 개략적인 사시도.

<도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명>

11.12. 기판 13a,13b. 전극

14.14'. 유전층 15. 보호막

17. 격벽 18. 형광체

21. 기판 22. 유전층

23. 보호층 24. 마스크

25. 보호층 경화부 26. 자외선등

27. 격벽 페이스트 29. 격벽

31. 블레이드 32. 회전축

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 소정의 스트라이프 패턴을 가지는 전극과, 일측 전면에 걸쳐 형성된 유전층을 가지는 기판을 마련하는 단계, 상기 유전층의 상부 전면에 걸쳐서 보호층을 도포하고 건조시키는 단계, 소정의 스트라이프 패턴으로 형성된 통공을 가지는 마스크를 씌우고 자외선광으로 상기 보호층을 선택적으로 경화시키는 단계, 상기 보호층의 경화된 부분을 제외한 다른 부분을 에칭하는 단계, 상기 보호층의 상부 전면에 걸쳐 격벽 페이스트를 도포하고 건조시킴으로써 격벽 페이스트층을 형성하는 단계 및, 상기 격벽 페이스트층을 다단형 회전 블레이드로 절삭함으로써 소정 패턴의 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법이 제공된다.

본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 보호층은 10w% 의 폴리 아크릴 아미드-폴리디아세톤 아크릴 아미드 공중합체(Poly acryl amide-Polydiacentone acryl amide Copolymer) 와, 0.1 w%의 4-디아조 디페닐 아민 1/2 징크 클로라이드 포름 알레히드(4-Diazo diphenylamine 1/2 Zinc chloride Formaldehyde)와, 0.3w% 의 4,4'-디아지도 스틸벤-2,2'-디설포닉 애시드 소듐(4,4'-Diazido Stilbene-2,2'-Disulfonic Acid Sodium )와, 순수한 물의 용매 및 계면 활성제를 포함하는 조성물을 도포하고 건조시킴으로써 형성된다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 보호층은 10w% 의 폴리비닐 피롤리돈과, 0.1w% 의 4-디아조 디페닐 아민 1/2 징크 클로라이드 포름 알레히드(4-Diazo diphenylamine 1/2 Zinc chloride Formaldehyde )와, 0.3w% 의 4,4'-디아지도 스틸벤-2,2'-디설포닉 애시드 소듐(4,4'-Diazido Stilbene-2,2'-Disulfonic Acid Sodium )와 용매로서 순수한 물과 소량의 계면 활성제를 포함하는 조성물을 도포하고 건조시킴으로써 형성된다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 에칭은 묽은 황산으로 수행되는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 노광시에 상기 마스크에 형성된 통공은 상기 전극의 수직 상부에 일치하도록 배치됨으로써, 상기 보호층 경화부는 상기 전극의 수직 상부에 형성된다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 보호층 경화부의 폭은 상기 전극의 폭과 같거나 그보다 크다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 다단형 회전 블레이드는 원형으로 형성된 다수의 블레이드를 동일 회전축선상에 설치한 것이며, 절삭 재료는 다이아몬드이다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 다단형 회전 블레이드의 각 단부는 영문자 U 자형 또는 단부에 각이 형성된 영문자 U 자형으로 형성된다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 각 블레이드가 설치되는 간격은 상기 격벽 페이스트층으로부터 제거되는 부분의 간격에 대응한다.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 보호층은 상기 다단형 회전 블레이드에 의한 격벽 형성 이후의 소성 과정에서 개스로 방출된다.

또한 본 발명에 따르면, 소정 스트라이프 패턴을 가지는 전극과, 일측 전면에 걸쳐 형성되어 있는 유전층을 가지는 기판을 마련하는 단계, 상기 유전층의 상부 전면에 걸쳐서 보호층을 도포하고 건조시키는 단계, 소정의 스트라이프 패턴으로 형성된 통공을 가지는 마스크를 씌우고 자외선광으로 상기 보호층을 선택적으로 경화시키는 단계, 상기 보호층의 경화된 부분을 제외한 다른 부분을 에칭하는 단계, 상기 보호층의 상부 전면에 걸쳐 격벽 페이스트를 도포하고 건조시킴으로써 격벽 페이스트층을 형성하는 단계 및, 상기 격벽 페이스트층을 다단형 회전 블레이드로 절삭함으로써 소정 패턴의 격벽을 형성하는 단계를 포함하여 제작된 격벽을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치가 제공된다.

이하 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 보다 상세히 설명하기로 한다.

도 2a 내지 도 2g에 도시된 것은 본 발명에 따른 방법에 의해 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽을 제조하는 과정을 도시하는 개략적인 단면도이다.

도 2a를 참조하면, 어드레스 전극(23)과 유전층(22)이 일측 표면에 형성된 기판(21)이 마련된다. 어드레스 전극(23)은 소정의 스트라이프 패턴으로서 형성되며, 유전층(22)은 기판(21)의 표면 전체에 걸쳐 형성된다. 이러한 어드레스 전극(23)과 유전층(22)의 형성은 공지의 방법으로 수행될 수 있다.

도 2b를 참조하면, 기판(21)의 유전층(22)의 상부에 보호층(25)을 도포한다. 보호층(25)은 기판(21)의 전체 면적에 대하여 도포된다. 보호층(25)은 일반적인 스프레이 도포법이나 스핀 도포법을 이용하여 형성될 수 있으며, 도포후 건조된다. 보호층의 재료는 용매로서 순수한 물을 사용하고, 유기 바인더(binder)는 폴리비닐 피톨리돈 또는 폴리아크릴 아미드-폴리 디아세톤 아크릴 아미드 공중합체(Poly acryl amide-Polydiacetone acryl amide Copolymer)가 사용되며, 감광체로는 4-디아조 디페닐 아민 1/2 징크 크로라이드 포름 알레하이드(4-Diazo diphenylamine 1/2 Zinc chloride Formaldehyde) 또는 4,4-디아지도 스틸벤 2,2' - 디설포닉 애시드 소듐 설트(4,4'- Diazido Stilbene -2,2'-Disulfonic Acid Sodium)이 사용된다. 이것은 다음의 같은 조성으로 사용될 수 있다.

예 1)

폴리아크릴 아미드-폴리디아세톤 아크릴 아미드 공중합체

(Poly acryl amide-Polydiacentone acryl amide Copolymer ) 10w%

4-디아조 디페닐 아민 1/2 징크 클로라이드 포름 알레히드

(4-Diazo diphenylamine 1/2 Zinc chloride Formaldehyde ) 0.1w%

4,4'-디아지도 스틸벤-2,2'-디설포닉 애시드 소듐

(4,4'-Diazido Stilbene-2,2'-Disulfonic Acid Sodium ) 0.3w%

H₂O 잔량

계면활성제 소량

예2)

폴리비닐 피롤리돈 10w%

4-디아조 디페닐 아민 1/2 징크 클로라이드 포름 알레히드

(4-Diazo diphenylamine 1/2 Zinc chloride Formaldehyde ) 0.1w%

4,4'-디아지도 스틸벤-2,2'-디설포닉 애시드 소듐

(4,4'-Diazido Stilbene-2,2'-Disulfonic Acid Sodium) 0.3w%

H₂O 잔량

계면활성제 소량

도 2c를 참조하면, 보호층(25)은 자외선광에 의해 노광된다. 노광 과정은 자외선등(26)으로부터의 광을 소정 패턴의 통공(24a)이 형성된 마스크(24)를 통해 조사함으로써 이루어진다. 노광 과정을 통해서 보호층(25)의 일부분이 경화됨으로써, 보호층 경화부(25a)가 형성된다. 마스크(24)에는 기판(21)에 형성된 전극(23)의 패턴과 유사한 패턴이 형성되며, 마스크(24)의 통공(24a)의 패턴이 전극(23) 패턴의 수직 상부에 오도록 배치된다. 따라서 노광에 의해 형성되는 보호층 경화부(25a)도 전극(23)의 패턴과 일치하게 된다. 실제에 있어서, 보호층 경화부(25a)는 전극(23)의 폭과 같거나 약간 큰 폭을 가지는 것이 바람직스럽다. 이것은 보호층 경화부(25a)의 기능이 이후에 설명되는 다단 블레이드에 의한 절삭시에 전극(23)을 보호하기 위한 것이기 때문이다. 보호층(25)의 전체 면적이 경화되어 전극(23)을 보호하는 경우도 생각할 수 있는데, 실제에 있어서는 이후의 소성 가공시에 개스 방출이 곤란하고 격벽이 기판과 접합되지 않는 수가 있다.

도 2d는 보호층(25)을 에칭함으로써 보호층 경화부(25a)만이 잔류한 상태를 도시한다. 에칭 작업은 묽은 황산으로 수행하는 것이 바람직스러우며, 에칭 작업이 종료된 이후에는 도면에 도시된 바와 같이 보호층 경화부(25a)만이 잔류하게 된다. 보호층 경화부(25a)는 그 수직 하부에 있는 전극(23)을 보호하게 된다.

도 2e 는 격벽 페이스트(27)가 도포된 상태를 도시한다. 보호층 경화부(25a)가 형성된 상부 표면에 격벽 페이스트(27)를 도포한다. 격벽 페이스트(27)는 공지의 방법을 이용하여 도포될 수 있는데, 예를 들면 블레이드 코오터(blade coater)와 같은 장치를 이용하여 기판(21)의 전체 면적에 걸쳐 도포될 수 있다. 격벽 페이스트(27)는 도포 이후에 건조된다.

도 2f는 격벽 페이스트(27)를 다단형 회전 블레이드 장치를 이용하여 절삭하는 것을 도시한 것이다. 다단형 회전 블레이드 장치(30)는 도 3에 도시된 바와 같이 다수의 원형 블레이드(31)를 동일한 회전축(32)상에 설치한 것이다. 회전축(32)의 회전에 따라 블레이드(31)는 회전하며, 블레이드 장치(30)와 기판(35)의 상호 이송 작용에 의해 기판(35) 상의 격벽 페이스트(27)가 소정 패턴으로 절삭될 수 있다. 블레이드(31)는 다이아몬드 재료로 형성되는 것이 바람직스럽다. 각 블레이드(31)가 회전축(32)에 설치되는 간격은 격벽 페이스트(28)로부터 제거되어야할 부분의 간격과 일치하게 될 것이다. 또한 각 블레이드(31)의 단부의 단면은 영문자 U 자형이거나 또는 각이 형성된 영문자 U 자형으로 형성되는 것이 바람직스럽다. 회전 블레이드 장치(30)의 블레이드(31)가 회전함과 동시에 기판(35)이 회전축(32)의 직각 방향으로 이동하면 기판(35)의 표면에 도포된 격벽 페이스트는 최소한 일부분이 스트라이프 패턴 형상으로 제거될 수 있을 것이다. 다음에 회전 블레이드(31)가 기판(35)의 표면으로부터 상승하고, 블레이드(31)와 기판(35)이 축(32)의 길이 방향으로 상대적으로 이동함으로써, 기판(35)의 다른 부분에 대하여 마찬가지의 스트라이프 패턴 형상을 격벽 페이스트가 제거될 수 있다. 이렇게 함으로써 기판(35)의 전체 면적에 대하여 소정 패턴으로 격벽 페이스트(28)를 제거하게 된다.

도 2g 에는 격벽 페이스트(27)의 일부가 제거됨으로써 형성된 격벽(29)이 도시되어 있다. 격벽 페이스트(27)는 보호층 경화부(25a)의 상부로부터 제거되며, 제거된 부분의 사이에는 격벽(29)이 형성된다. 즉, 격벽(29)은 보호층 경화부(25a) 사이에 형성된다.

위와 같이 형성된 격벽은 후공정인 소성 공정을 통해 기판(21)에 대하여 접합될 수 있다. 또한 소성 공정중에 보호층 경화부(25a)는 위에서 설명된 바와 같이 개스로서 방출된다.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법은 다단형 회전 블레이드를 사용하므로, 블레이드 갯수와 격벽의 선폭 조절이 가능하며, 격벽의 선폭이 30 마이크로 정도인 디스플레이 장치를 구현할 수 있다는 장점을 가진다. 또한 공정 시간이 획기적으로 단축됨으로써 생산성이 향상되며, 보호층 경화부가 절삭 작업에서 파생될 수 있는 전극의 손상을 방지할 수 있다. 또한 환경 오염의 가능성이 적으며, 절삭 작업시에 제거되는 격벽 재료의 최소한 2/3 를 회수하여 재생이 가능하다는 별도의 장점을 가진다.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.

Claims (11)

1. 소정의 스트라이프 패턴을 가지는 전극과, 일측 전면에 걸쳐 형성된 유전층을 가지는 기판을 마련하는 단계,

   상기 유전층의 상부 전면에 걸쳐서 보호층을 도포하고 건조시키는 단계,

   소정의 스트라이프 패턴으로 형성된 통공을 가지는 마스크를 씌우고 자외선광으로 상기 보호층을 선택적으로 경화시키는 단계,

   상기 보호층의 경화된 부분을 제외한 다른 부분을 에칭하는 단계,

   상기 보호층의 상부 전면에 걸쳐 격벽 페이스트를 도포하고 건조시킴으로써 격벽 페이스트층을 형성하는 단계 및,

   상기 격벽 페이스트층을 다단형 회전 블레이드로 절삭함으로써 소정 패턴의 격벽을 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층은 10w% 의 폴리아크릴 아미드-폴리디아세톤 아크릴 아미드 공중합체(Poly acryl amide-Polydiacentone acryl amide Copolyme)와, 0.1 w%의 4-디아조 디페닐 아민 1/2 진크 클로라이드 포름 알레히드(4-Diazo diphenylamine 1/2 Zinc chloride Formaldehyde)와, 0.3w% 의 4,4'-디아지도 스틸벤-2,2'-디설포닉 애시드 소듐(4,4'-Diazido Stilbene-2,2'-Disulfonic Acid Sodium) 와, 순수한 물의 용매 및 계면 활성제를 포함하는 조성물을 도포하고 건조시킴으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
3. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층은 10w% 의 폴리비닐 피롤리돈과, 0.1w% 의 4-디아조 디페닐 아민 1/2 징크 클로라이드 포름 알레히드(4-Diazo diphenylamine 1/2 Zinc chloride Formaldehyde ) 와, 0.3w% 의 4,4'-디아지도 스틸벤 2,2'-디설포닉 애시드 소듐(4,4'-Diazido Stilbene-2,2'-Disulfonic Acid Sodium )과 용매로서 순수한 물과 소량의 계면 활성제를 포함하는 조성물을 도포하고 건조시킴으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
4. 제 1 항에 있어서, 상기 에칭은 묽은 황산으로 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
5. 제 1 항에 있어서, 상기 노광시에 상기 마스크에 형성된 통공은 상기 전극의 수직 상부에 일치하도록 배치됨으로써, 상기 보호층 경화부는 상기 전극의 수직 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
6. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층 경화부의 폭은 상기 전극의 폭과 같거나 그보다 큰 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
7. 제 1 항에 있어서, 상기 다단형 회전 블레이드는 원형으로 형성된 다수의 블레이드를 동일 회전축선상에 설치한 것이며, 절삭 재료는 다이아몬드인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
8. 제 7 항에 있어서, 상기 다단형 회전 블레이드의 각 단부는 영문자 U 자형 또는 단부에 각이 형성된 영문자 U 자형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
9. 제 7 항에 있어서, 상기 각 블레이드가 설치되는 간격은 상기 격벽 페이스트층으로부터 제거되는 부분의 간격에 대응하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
10. 제 1 항에 있어서, 상기 보호층은 상기 다단형 회전 블레이드에 의한 격벽 형성 이후의 소성 과정에서 개스로 방출되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 격벽 제조 방법.
11. 소정 스트라이프 패턴을 가지는 전극과, 일측 전면에 걸쳐 형성되어 있는 유전층을 가지는 기판을 마련하는 단계,

    상기 유전층의 상부 전면에 걸쳐서 보호층을 도포하고 건조시키는 단계,

    소정의 스트라이프 패턴으로 형성된 통공을 가지는 마스크를 씌우고 자외선광으로 상기 보호층을 선택적으로 경화시키는 단계,

    상기 보호층의 경화된 부분을 제외한 다른 부분을 에칭하는 단계,

    상기 보호층의 상부 전면에 걸쳐 격벽 페이스트를 도포하고 건조시킴으로써 격벽 페이스트층을 형성하는 단계 및,

    상기 격벽 페이스트층을 다단형 회전 블레이드로 절삭함으로써 소정 패턴의 격벽을 형성하는 단계를 포함하여 제작된 격벽을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치.

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