KR100269730B1 - 회전센서와 회전센서의 연장부 구조체 및 그의 관성측정장치(ratation sensor, structure connected to sensor and its inerdia measmement device) - Google Patents
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Abstract
실리콘 칩(10)은 복수의 가지(18)가 원형 베이스(14)의 외주면으로부터 방사상으로 공동 평면상으로 연장되도록 마이크로 기계가공된다. 제 1, 제 2 마운팅 부재(2836)는 베이스(14)를 지지대(32)에 장착하기 위하여 베이스로 부터 연장된다. 제 1 마운팅 부재는 제 2 마운팅 부재에 거의 수직으로 배치된다. 펄스 발생기(74)는 각각의 가지가 베이스의 둘레를 따라 회전 순서대로 평면상에서 일시적으로 진동하도록 복수의 가지의 연속 자유단부에 정전기적 또는 전자기적 펄스를 인가한다. 연속 진동기는 제 1 마운팅 부재 또는 제 2 마운팅 부재중의 어느 한 마운팅 부재의 축에 대한 센서의 회전이 코리올러스 힘에 기인한 변형을 다른 마운팅 부재에 가하도록 스파이닝 필에 근접하는 순 각운동량을 확정한다. 휘스톤 브리지(40, 44, 48, 52)를 형성하도록 상호 접속된 복수의 스트레인 게이지(RX1-RX8, RY1-RY8)는 제 1, 제 2 마운팅 부재의 변형을 감지하기 의하여 제 1 제 2 마운팅 부재에 배치된다.
Description
[발명의 명칭]
회전센서와 회전센서의 연장부 구조체 및 그의 관성측정장치(ratation sensor, structure connected to sensor and its inerdia measmement device)
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 회전 센서 보다. 구체적으로는 실리콘 마이크로자이로 회전 센서에 관한 것이다.
통상, 각종 탈 것(Craft)을 위한 항법 및 관성 유도 시스템은 그 탈 것의 움직임에 관한 각속도 데이터를 이용하여 탈 것의 소망하는 이동을 제어하고 있다. 각운동(angular motion) 데이터를 제공하는 한가지 장치로는 잘 알려진 자이로스 코프가 있다. 그러나, 자이로스코프는 많은 결점을 갖고 있다. 자이로스코프는 물리적으로 크고 무거울 뿐만 아니라, 고비용으로 극히 고정밀로 설치되어야 하고 경미한 충격과 진동으로도 손상을 받을 수 있다. 충격과 진동의 영향을 최소화하기 위해서는 무거운 고정 장치로 자이르스코프를 보호해야 하고 그 결과 크기, 중량 비용이 상승한다. 더욱이 베어링과 같은 고감도 가동 요소는 항상 사용으로 인해 마모되기 때문에 정확도 유저를 위해서는 자이로스코프를 자주 유지 보수해야 한다. 잦은 유지 보수와 고정밀도가 필요함에도 불구하고 자이로스코프는 여전히 시간당 미세한 각도의 에러 드리프트 레이트를 가질 수 있다.
종래의 자이로스코프의 단점을 극복하기 위해 시도하고 있는 다른 종류의 각운동 센서는 Juergen H.Staudte에게 허여된 미국특허 제4,899,587 호에 기재되어 있다. 이 특허에서는 수정으로 만든 제1 및 제2 동조 포크를 구비하는 각속도 센서에 대해 기재하고 있다. 포크의 스템은 대칭 축을 따라 단부와 단부가 상호 연결되어 있고, 그 연장부들(the tines)은 상호 대면하고 있으며 하나의 평면상에 배치되어 있다. 이중 포크 구조를 지지체에 부착하기 위해 마운트가 설치되어 있다. 제1 포크의 연장부에는 오실레이터에 연결된 한 쌍의 전극을 통해 에너지가 공급된다. 오실레이터 신호에 의해 제1 포크의 연장부는 상기 평면에서 진동하게 된다. 상기 구조가 대칭 축에 대해 회전할 때, 제2 포크의 연장부는 코리올리 힘에 의해 상기 평면에 수직인 방향으로 진동하게 된다. 제2 포크의 연장부의 진동 운동은 출력 전극에 의해 감지되고, 출력 전극은 1 축에 대한 각운동을 나타내는 신호를 공급한다.
불행하게도 포크의 진동 운동을 구동시키고 감지하는 데 필요한 전자 장치는 만들기가 매우 복잡하고 어렵다. 전자 장치는 음향 및 진동 간섭에 극히 예민하고 수정의 압전 특성은 전자 장치를 매우 민감하게 만들어 표류 캐패시턴스를 발생시킨다. 상기 포크 구조를 지지하기 위한 지지체는 불필요한 압력과 고장의 원인을 발생시키고, 수정의 온도 변화(temperature anomalies)는 또 다른 전기적 기계적 문제점을 발생시킨다. 마지막으로 각 장치는 1 축에 의한 회전만을 감지할 수 있다.
[발명의 요약]
본 발명은 2 축의 회전을 감지할 수 있는 실리콘 마이크로자이로에 관한 것으로, 구조 전체는 공지의 사진 석판 인쇄 및 에칭 기술을 이용하는 실리콘 기판에 기구적으로 집적될 수 있다. 그 구조의 고감도 구성 요소들은 일체로 형성되므로, 불필요한 기계적 압력이 제거된다. 그 기구적으로 집적된 칩은 두 개의 에칭된 실리콘 커버 사이에 하우징되는 것도 가능하다. 실리콘 커버는 상호 용융되어 온도 계수 차가 없는 단일의 동질 실리콘 구조를 형성할 수 있다. 회전 센서를 작동하는 데 사용되는 전자 장치는 실리콘에 직접 확산시킴으로써 또는 ASIC 칩을 하우징에 접합함으로써 하우징 상에 용이하게 설치되는 것도 가능하다.
본 발명에 의한 회전 센서의 일 실시예에서 실리콘 칩은 복수의 연장부가 원형 베이스의 외주면으로부터 방사상 및 동일 평면상으로 연장하도록 기구적으로 집적된다. 제1 및 제2 마운팅 부재는 베이스를 지지체에 장착시키기 위해 베이스로 부터 연장된다. 통상, 제1 마운팅 부재는 제2 마운팅 부재에 수직으로 배치된다. 펄스 발생기는 복수의 연장부의 일련의 자유 단부에 정전 펄스 또는 전자기 펄스를 공급하기 때문에 각 연장부는 베이스의 주위를 따라 회전 순서로 평면에서 순간적으로(momentarily) 진동한다. 일련의 진동은 스핀 원판에 근사하는 순 각도 모멘트(net angular momentum)를 만들어 내기 때문에, 제1 및 제2 마운팅 부재 중 어느 한 마운트 부재의 축에 관한 센서의 회전에 의해서 다른 마운팅 부재가 코리올리 힘에 의한 변형을 받게 된다. 상호 접속되어 휘스톤 브리지를 형성하는 복수의 피에조저항성(piezoresistive) 스트레인 게이지들은 제1 및 제2 마운팅 부재 상에 설치되어 푸시풀 방식으로 제1 및 제2 마운팅 부재의 변형을 각각 감지한다. 대향하여 위치한 스트레인 게이지의 푸시풀 효과는 잡음 및 오차 상쇄의 이점을 제공한다. 따라서 스트레인 게이지의 출력 신호는 각운동 량을 신뢰할 수 있게 표시해준다.
수정을 기반으로 한 회전 센서와는 달리 동일 칩 상에서 선택사양의 선형 가속도계가 회전 센서와 조합되는 것도 가능하다. 이러한 3 개의 칩이 조합되어 3 축에 관한 회전 및 선형 가속을 감지하는 관성 측정 장치(IMU)를 형성하는 것도 가능하다.
[도면의 간단한 설명]
제1도는 본 발명에 의한 실리콘 마이크로자이로 센서와 선택사양의 선형 가속도계의 특정 실시예의 평면도이다.
제2도는 제1도에 도시된 마이크로자이로용 하우징에 대한 특정 실시예의 분해도이다.
제3도는 3 축에 관한 회전 및 선형 가속을 감지하는 IMU의 특정 실시예의 사시도이다.
[바람직한 실시예의 상세한 설명]
제 1 도는 본 발명에 따른 실리콘 마이크로자이로 회전 센서(10)의 특정 실시예를 도시한 평면도이다. 마이크로자이로(10)는 복수의 연장부(18)가 연장되는 원형 베이스(14)를 포함한다. 보다 구체적으로, 연장부(18)는 공동평면 상에서 베이스(14)의 외주면(22)으로부터 연장되며, 각 연장부(18)는 T 형의 자유 단부(24)를 갖는다. 제1 마운팅 부재(28)는 도시된 X 축을 따라 베이스(14)로부터 반대 방향으로 연장하여 구조체를 지지체(32)에 장착한다. 마찬가지로 제2 마운팅 부재(36)는 도시된 Y 축을 따라 베이스(14)로부터 반대 방향으로 연장된다. 베이스(14) 연장부(18), 제1 마운팅 부재(28) 제2 마운팅 부재(36) 및 지지체(32)는 표준의 석판 인쇄 및 에칭 기술을 이용하여 실리콘 웨이퍼에 일체로 기구적으로 집적될 수 있다.
제1 마운팅 부재(28) 내에는 피에조저항성 스트레인 게이지(RX1-RX8)확산되고 스트레인 게이지 RX1-RX4와 RX5-RX8은 상호 접속되어 두 개의 휘스톤 브리지(40 44)를 형성하고 이들 두 개의 휘스톤 브리지(40 44)는 각각 제1마운팅 부재(28)의 변형(예컨대, 휨, 당김 압축 비틀림 등)을 감지한다. 유사하게, 피에조저항성 스트레인 게이지(RY1→RY8)는 제2 마운팅 부재(36) 내에 확산되고 상호 접속되어 두 개의 휘스톤 브리지(48, 52)를 형성하고 이들 두 개의 휘스톤 브리지(48, 52)는 각각 제2 마운팅 부재(36)의 변형을 감지한다.
지지체(32) 상에는 복수의 전극(60)이 설치된다. 복수의 전극(60)은 공지의 금속화 기술에 따라 금속층을 증착하고 에칭함으로써 형성될 수 있다. 바람직하게는 전극(60)은 연장부(18)의 T 형 자유 단부(24)에 대해 경사(skew)져 있다. 선택 사양에 의해 지지체(32) 상에는 피에조저항성 스트레인 게이지(RA1-RA8)가 확산되기도 하며 피에조저항성 스트레인 게이지(RA1-RA8)는 공지의 방법에 의해 상호 접속되어 선형 가속도계를 형성한다. 휘스톤 브리지(40, 44, 48, 52), 전극(60) 및 가속도계(78)의 접속에 의해 버스(66)가 형성되며, 버스(66)는 차례로 신호 처리 장치(70) 및 펄스 장치(74)와 결합된다.
동작시, 펄스 장치(74)는 약 20 KHz로 시계 방향 또는 반시계 방향으로 전극(60)을 통해 각각의 일련의 연장부에 정전기적 또는 전자기적으로 계속해서 펄스를 내보낸다. 경사진 전극(60)으로부터 발생되는 각각의 펄스에 의해 해당 연장부는 화살표로 표시된 바와 같이 평면 상에서 순간적으로 전후의 진동을 행한다. 순수효과(net effect)에는 스핀 원판에 근사하는 순 각도 모멘드를 발생하기 위해 구조체에 대해 원형으로 주행하는 연장부 진동의 스핀 "포켓"이 있다. 따라서 구조체가 Y 축에 대해 회전하면 제1 마운팅 부재(28)가 코리올리 힘에 의해 변형을 받게 되고, 반면에 구조체가 X 축에 대해 회전하면 제2 마운팅 부재(36)가 코리올리 힘에 의해 변형을 받게 된다. 그 변형량은 해당하는 휘스톤 브리지들(40, 44 또는 48, 52)에 의해 감지되고, 그 신호는 신호 처리 장치(70)에 의해 처리되어 각회전량의 직접적인 표시를 생성한다. 또 신호 처리 장치(70)는 가속도계(78)로부터의 신호를 처리하여 마이크로자이로 구조의 선형 가속량의 표시를 제공하는 것도 가능하다.
제 2 도는 마이크로자이로(10)를 하우징하기 위한 본 발명의 선택사양 구조(80)를 나타내는 분해도이다. 이 하우징은 에칭된 실리콘 커버(82, 84)를 포함한다.
커버는 이온 주입에 의해 접합되어 열 계수차가 없는 단일 실리콘 편을 생성하는 것도 가능하다. ASIC 또는 기타의 전자 장치(88)는 칩(92) 상에 형성 [또는 부재(82, 84)의 표면에 확산]되는 것도 가능하고, 공간의 효율적 이용을 위해 접속부가 마이크로자이로에 형성되는 것도 가능하다. 필요하다면 전자 장치(88)는 신호 처리 장치(70) 및/또는 펄스 장치(74)의 부분들을 포함하는 것도 가능하다.
제 3 도는 본 발명에 따른 이중의 여유도를 갖는 3 축식 IMU(95)의 사시도이고 이 3 축식 IMU(95)는 3 축에 대한 각회전(angular rotation)과 선형 가속을 감지한다. 이 실시예에 있어서, 3 개의 마이크로자이로(10)(1 개만을 도시함)는 3 개의 수직 축을 따라 실리콘 입방체(98) 상에 접합된다. 3 개의 마이크로자이로는 이중의 여유도를 갖는 3 축의 회전을 감지하고(각 마이크로자이로는 2 개의 수직 축에 관한 회전을 감지하기 때문), 3 개의 선형 가속도계는 3 축에 따른 선형적 변위의 가속을 측정한다.
상술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시예를 충분히 설명한 것이기는 하나 다양한 변형예들이 행해질 수 있다. 예컨대 요구 조건을 감지하여 모멘트 스핀 속도를 특정의 회전 속도에 대해 최적화 할 수 있고, 방사상으로 대향하는 스포크에 펄스를 동시에 내보내어 구조에 대해 원형으로 주행하는 두 개 이상의 연장부 진동을 발생하는 것도 가능하다. 결과적으로 본 발명의 범주는 특허청구의 범위에 기재된 것 이외에 제한받지 않아야 한다.
Claims (31)
- 외주면을 갖는 베이스와, 각각의 자유 단부가 원형을 구성하도록 상기 베이스의 외주면으로부터 방사상의 외측으로 연장하는 복수의 연장부와 상기 복수의 연장부가 상기 베이스와 지지체 사이에 배치되도록 상기 베이스를 상기 지지체에 장착하는 마운팅 수단을 구비하고 상기 마운팅 수단은, 상기 베이스로부터 방사상으로 연장하고 제1 단부가 상기 베이스에 장착되며 제2 단부가 상기 지지체에 장착되는 제1 마운팅 부재와 상기 베이스로부터 방사상으로 연장하고, 제1 단부가 상기 베이스에 장착되며 제2 단부가 상기 지지체에 장착되는 제2 마운팅 부재와 상기 베이스로부터 방사상으로 연장하고 제1 단부가 상기 베이스에 장착되며 제2 단부가 상기 지지체에 장착되는 제3 마운팅 부재와, 상기 베이스로부터 방사상으로 연장하고. 제1 단부가 상기 베이스에 장착되며 제2 단부가 상기 지지체에 장착되는 제4 마운팅 부재를 포함하고 상기 제1 마운팅 부재와 상기 제2 마운팅 부재는 제1 축을 따라 상기 베이스의 대향 측면들로부터 연장하며, 상기 제3 마운팅 부재와 상기 제4 마운팅 부재는 제2 축을 따라 상기 베이스의 대향 측면들로부터 연장하고, 상기 제1 축은 상기 제2 축에 직교하는 것을 특징으로 하는 회전 센서용 연장부 구조체.
- 베이스와, 상기 베이스로부터 방사상으로 연장하는 복수의 연장부와, 상기 복수의 연장부가 스핀 원판에 근사하는 순 각도 모멘트를 달성하도록 각 연장부를 상기 베이스에 관해 회전 순서로 진동하게 하는 구동 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 센서용 연장부 구조체.
- 방사상으로 연장하는 복수의 연장부와 상기 복수의 연장부가 스핀 원판에 근사하는 순 각도 모멘트를 달성하도록 각 연장부를 회전 순서로 진동하게 하는 구동 수단과 상기 복수의 연장부를 지지체에 장착하는 것이고 선택된 축에 대한 상기 구조체의 회전에 의해 변형되어 지는 마운팅 수단과 상기 마운팅 수단에 설치되어 상기 마운팅 수단의 변형을 감지하는 변형 감지 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제3항에 있어서, 상기 복수의 연장부는 대략 동일 평면상에 있는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제4항에 있어서, 상기 구동 수단은 각 연장부가 상기 평면에서 순서대로 순간적으로 진동하도록 상기 복수의 연장부의 자유 단부에 펄스를 공급하는 펄스 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제4항에 있어서, 상기 복수의 연장부의 자유 단부는 원형을 형성하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제6항에 있어서, 베이스를 더 포함하며 상기 복수의 연장부는 상기 베이스로부터 연장하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제7항에 있어서, 상기 베이스는 대략 원형인 외주면을 가지며, 상기 복수의 연장부는 상기 외주면으로부터 연장하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제8항에 있어서, 상기 복수의 연장부는 상기 베이스에 대해 균등하게 배치되는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제3항에 있어서, 베이스를 더 포함하고 상기 복수의 연장부는 상기 베이스로부터 시작되는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제10항에 있어서, 상기 마운팅 수단은 상기 베이스에서 상기 지지체로 연장하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제11항에 있어서, 상기 변형 감지 수단은 상기 마운팅 수단에 설치되고 상호접속되어 휘스톤 브리지를 형성하는 복수의 스트레인 게이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제10항에 있어서, 상기 마운팅 수단은 상기 베이스에서 상기 지지체로 연장하는 제1 마운팅 부재와 상기 베이스에서 상기 지지체로 연장하는 제2 마운팅 부재를 포함하고, 상기 제2 마운팅 부재는 상기 제1 마운팅 부재에 대략 수직으로 배치되는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제13항에 있어서, 상기 변형 감지 수단은, 상기 제1 마운팅 수단에 설치되고 상호 접속되어 상기 제1 마운팅 부재의 변형을 감지하는 제1 휘스톤 브리지를 형성하는 제1의 복수의 스트레인 게이지와, 상기 제2 마운팅 수단에 설치되고 상호 접속되어 상기 제2 마운팅 부재의 변형을 감지하는 제2 휘스톤 브리지를 형성하는 제2의 복수의 스트레인 이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제3항에 있어서, 상기 지지체 상에 설치되는 ASIC을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제16항에 있어서, 제1 실리콘 커버와 제2 실리콘 커버를 더 포함하고, 상기 제1 및 제2 실리콘 커버 사이에 상기 복수의 연장부 상기 마운팅 수단 및 상기 지지체가 설치되고 상기 제1 및 제2 실리콘 커버는 함께 접합되는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제16항에 있어서, 상기 제1 및 제2 실리콘 커버는 상기 복수의 연장부 상기 마운팅 수단 및 상기 지지체를 위한 하나의 하우징으로 형성하기 위해 이온 주입을 통해 함께 접합되는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제16항에 있어서, 상기 제1 실리콘 커버 상에 설치되는 ASIC을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 외주면을 갖는 베이스와, 상기 베이스의 외주면으로부터 동일 평면 상에서 빙사상으로 연장하는 복수의 연장부와, 상기 베이스를 지지체에 장착하기 위해 상기 베이스로부터 연장하는 제1 마운팅 부재와, 상기 베이스를 지지체에 장착하기 위해 상기 베이스로부터 연장하는 제2 마운팅 부재와, 각 연장부가 스핀 원판에 근사하는 순 각도 모멘트를 달성하기 위해 평면에서 회전 순서로 순간적으로 진동하도록 복수의 연장부의 자유 단부에 펄스를 공급하는 펄스 수단과, 상기 제1 마운팅 부재에 설치되고 상호 접속되어 상기 제1 마운팅 부재의 변형을 감지하는 제1 휘스톤 브리지를 형성하는 제1의 복수의 스트레인 게이지와, 상기 제2 마운팅 부재에 설치되고 상호 접속되어 상기 제2 마운팅 부재의 변형을 감지하는 제2 휘스톤 브리지를 형성하는 제2의 복수의 스트레인 게이지를 포함하고, 상기 제2 마운팅 부재는 상기 제1 마운팅 부재에 대략 수직으로 배치되고, 상기 제1 마운팅 부재와 제2 마운팅 부재 중 어느 하나의 마운팅 부재에 대한 센서의 회전이 다른 한 마운팅 부재롤 변형하게 하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제19항에 있어서, 상기 복수의 연장부는 상기 베이스에 대해 균등하게 배치되는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제20항에 있어서, 상기 복수의 연장부의 자유 단부는 원형을 형성하는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 제21항에 있어서, 상기 베이스, 상기 복수의 연장부, 상기 제1 마운팅 부재 및 상기 제2 마운팅 부재는 각각 실리콘으로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전 센서.
- 실리콘 웨이퍼로 형성되는 관성 측정 장치에 있어서, 방사상으로 연장하는 복수의 연장부와 상기 복수의 연장부가 스핀 원판에 근사하는 순 각도 모멘트를 달성하도록 각 연장부를 회전 순서로 진동하게 하는 구동 수단과, 상기 복수의 연장부를 지지체에 장착하는 것이고 선택된 축에 대한 상기 구조의 전이 상기 마운팅 수단을 변형되어 지는 마운팅 수단과 상기 마운팅 수단에 설치되어 상기 마운팅 수단의 변형을 감지하는 변형 감지 수단과, 상기 지지체 상에 설치되는 선형 가속도계를 포함하는 것을 특징으로 하는 관성 측정 장치.
- 제25항에 있어서, 상기 선형 가속도계는 복수의 상호 접속된 스트레인 게이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 관성 측정 장치.
- 제24항에 있어서, 상기 복수의 스트레인 게이지는 상기 지지체 안에 확산되어 있는 것을 특징으로 하는 관성 측정 장치.
- 제23항에 있어서, 상기 지지체 상에 설치되는 ASIC을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 관성측정장치.
- 실리콘 웨이퍼로 형성되고 서로에 대해 대략 수직으로 장착되는 제1, 제2 및 제3 관성 측정 칩을 포함하고, 상기 제1 제2 제3 관성 측정 칩은 각각, 방사상으로 연장하는 복수의 연장부와, 상기 복수의 연장부가 스핀 원판에 근사하는 순 각도 모멘트를 달성하도록 각 연장부를 회전 순서로 진동하게 하는 구동 수단과 상기 복수의 연장부를 지지체에 장착하는 것이고 선택된 축에 대한 상기 구조의 회전이 상기 마운팅 수단을 변형되어 지는 마운팅 수단과, 상기 마운팅 수단에 설치되어 상기 마운팅 수단의 변형을 감지하는 변형 감지 수단과, 상기 지지체에 설치되고 상호 접속되어 선형 가속도계를 형성하는 복수의 스트레인 게이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 관성 측정 장치.
- 외주면을 갖는 베이스와, 상기 베이스의 외주면으로부터 방사상의 외측으로 연장하며 그 자유 단부가 원형을 형성하는 복수의 연장부와, 상기 복수의 연장부가 상기 베이스와 지지체 사이에 배치되도록 상기 베이스를 상기 지지체에 장착하기 위하여 상기 베이수의 외주면으로부터 방사상의 외측으로 연장하고 적어도 두 개의 수직한 방향으로 상기 지지체에 부착되는 마운팅 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 회전센서용 연장부 구조체.
- 제28항에 있어서, 상기 베이스 상기 복수의 연장부 및 상기 마운팅 수단은 실리콘 웨이퍼로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전 센서용 연장부 구조체.
- 제2항에 있어서, 상기 베이스 및 상기 복수의 연장부는 실리콘 웨이퍼로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전 센서용 연장부 구조체.
- 제2항에 있어서, 상기 복수의 연장부의 자유 단부들은 원형을 구성하는 것을 특징으로 하는 회전 센서용 연장부 구조체.
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