KR100219403B1 - 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치 - Google Patents

Abstract

광원으로부터 웨이퍼에 투사되는 광의 초점을 맞추기 위해 백미러가 설치된 백미러케이스를 구비하는 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치에 관한 것으로, 램프하우스에 고정되고 상기 백미러케이스의 노출부가 중앙으로 관통된 베이스와, 상기 베이스 상에 중첩하여 설치되고 상기 백미러케이스의 노출부가 중앙으로 관통된 하판과, 상기 하판 상에 중첩되어 설치되고 상기 백미러케이스의 일부가 중앙으로 관통하여 고정된 상판과, 상기 하판을 수평방향으로 이동시키도록 상기 베이스의 상측돌출부에 나사맞춤되고 그 끝단이 상기 하판에 고정된 수평조절나사 및 상기 상판을 수직방향으로 이동시키도록 상기 하판의 상측돌출부에 나사맞춤되고 그 끝단이 상기 상판에 고정된 수직조절나사로 구성된 것이다.

따라서 수직 및 수평조절나사에 의해 백미러케이스가 수직 및 수평방향으로 이동되므로 초점 맞추는 동작이 간단하고, 초점 맞추는 시간이 단축되어 설비의 가동율이 증가되며, 또한 백미러케이스가 슬라이드식으로 이동되는 것이므로 마모되지 않아 손상이 방지되는 효과가 있다.

Description

반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치

제1도는 종래의 반도체 제조용 광학시스템을 개략적으로 나타낸 구성도이다.

제2도는 종래의 반도체 제조용 광학시스템을 백미러 조절장치를 나타낸 정면도이다.

제3도는 본 발명에 따른 백미러 조절장치를 나타낸 정면도이다.

제4도는 제3도의 A-A선 단면도이다.

제5도는 제3도의 저면도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

20 : 백미러케이스 21 : 백미러

22 : 램프하우징 23 : 베이스

23a, 24b : 가이드홈 24 : 하판

24a, 25a : 가이드돌기 26 : 고정나사

27 : 수평조절나사 28 : 수직조절나사

본 발명은 반도체 제조용 광학시스템(Optical System)의 백미러 조절장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광원으로부터 조사되어 웨이퍼에 투사되는 광의 초점을 맞추기 위한 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치에 관한 것이다.

일반적으로 반도체 제조용 광학시스템은 여러 타입이 있고, 용도에 따라 구성이 조금씩 차이가 있다. 제1도는 이러한 광학시스템 중 웨이퍼에 런넘버(Run Number)를 형성하기 위한 광학시스템을 나타낸 것으로, 램프하우스(1) 내의 램프(2)로부터 조사된 광이 백미러(3)에 의해 반사되어 제1렌즈부(4)를 통과하게 되고, 제1렌즈부(4)를 통과한 광은 핀홀(Pin Hole)(5)을 통과하여 스크린(6)에 투사된다.

이때, 핀홀(5)과 스크린(6) 사이에는 중간미러(7)가 설치되어 자와선(UV)만을 패턴디스크(8) 쪽으로 반사시키고 나머지는 스크린(6)에 투사시키게 된다. 따라서, 중간미러(7)에 의해 반사된 자외선은 런넘버가 새겨진 패턴디스크(8)를 통과하여 프로젝션렌즈(9)를 통해 웨이퍼(10)에 투사됨으로써 웨이퍼(10)에 런넘버를 형성하게 된다.

이와 같이 웨이퍼(10)에 런넘버를 형성하도록 된 광학시스템은 램프(2)로부터 조사되는 광의 초점을 정확하게 맞추어야만 원하는 크기의 런넘버가 웨이퍼(10)에 선명하게 형성된다. 또한, 램프(2)의 교체, 광학시스템의 점검 및 수리후에는 초점이 틀려지게 되므로 다시 초점을 맞추어야 한다.

따라서, 광학시스템에는 광의 초점을 맞추기 위한 초점 조절장치가 설치되어 있고, 이는 스크린(6)에 투사된 광을 광검출부(11)로 검출하고, 이에 의거하여 백미러(3)의 위치를 조절하게 되면, 초점이 조절되어진다.

제2도는 상기와 같은 백미러 조절장치를 나타낸 것으로, 종래에는 백미러(3)가 설치된 백미러케이스(12)의 외부에 하우징(13)이 설치되어 있고, 상기 하우징(13)의 원주방향으로 120°간격으로 3개의 조절나사(14)가 나사맞춤되어 있다.

따라서, 3개의 조절나사(14)를 적당히 풀거나 조이게 되면 백미러케이스(12)의 위치가 상하, 좌우로 조절되고, 백미러케이스(12)를 전, 후로 이동시킴으로써 광의 초점이 조절되는 것이다.

그러나, 상기와 같은 종래의 백미러 조절장치는 120°간격으로 설치된 3개의 조절나사(14)로 백미러(3)의 위치를 조절하는 것이므로 3개의 조절나사(14)를 번갈아가며 풀고 조여서 조절하는 작업이 매우 번거롭고, 백미러케이스(12)의 중심점을 원하는 위치로 이동시키기가 어려워 초점조절시간이 길어지게 되므로 설비 가동율이 저하되었으며, 또한 조절나사(14)의 끝단부가 백미러케이스(12)의 외주면을 눌러 고정시키는 것이므로 백미러케이스(12)가 마모되어 손상되는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 백미러의 조절을 용이하게 하고, 초점 맞추는 시간을 단축시킴으로써 설비 가동율을 향상시킬 수 있는 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치를 제공하는 데 있다.

본 발명의 다른 목적은 백미러 조절시 백미러케이스가 마모되어 손상되는 것을 방지할 수 있는 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치를 제공하는 데 있다.

상기의 목적은 백미러를 구비한 백미러케이스가 램프하우스의 내부에서 외부로 일부 노출되도록 설치된 반도체 제조용 광학시스템에 있어서, 상기 램프하우스에 고정되고 상면에 수평방향으로 가이드홈이 형성되어 있으며 상기 램프하우스의 외부로 노출된 상기 백미러케이스의 노출부가 중앙으로 관통된 베이스와, 상기 베이스의 가이드홈에 결합하는 가이드돌기가 하면에 형성되어 상기 베이스 상에 중첩하여 설치되고 상면에 수직방향으로 가이드홈이 형성되어 있으며 상기 백미러케이스의 노출부가 중앙으로 관통된 하판과, 상기 하판의 가이드홈에 결합하는 가이드돌기가 하면에 형성되어 상기 하판 상에 중첩되어 설치되고 상기 백미러케이스의 일부가 중앙으로 관통하여 고정된 상판과, 상기 하판을 수평방향으로 이동시키도록 상기 베이스의 상측돌출부에 나사맞춤되고 그 끝단이 상기 하판에 고정된 수평조절나사 및 상기 상판을 수직방향으로 이동시키도록 상기 하판의 상측돌출부에 나사맞춤되고, 그 끝단이 상기 상판에 고정된 수직조절나사를 포함하여 됨을 특징으로 하는 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치에 의해 달성될 수 있다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의하여 상세하게 설명한다. 제3도 내지 제5도는 본 발명에 따른 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치를 나타낸 것으로, 백미러케이스(20) 내에 백미러(21)가 설치되어 있고, 상기 백미러케이스(20)는 그 일부가 상기 램프하우스(22)를 관통하여 외부로 노출되도록 상기 램프하우스(22)의 내부에 설치되어 있다.

또한, 상기 램프하우스(22)의 외측에는 ㄴ자 형상의 베이스(23)가 고정되고, 상기 베이스(23)의 상면에는 수평방향으로 가이드홈(23a)이 형성되어 있으며, 상기 램프하우스(22)의 외부로 노출된 상기 백미러케이스(120)의 노출부가 중앙으로 관통되어 있다. 그리고, 상기 베이스(23) 상에는 ㄴ자 형상의 하판(24)이 그 상측돌출부가 상기 베이스(23) 상에는 ㄴ자 형상의 하판(24)이 그 상측돌출부가 상기 베이스(23)의 상측돌출부와 직교하는 방향으로 중첩되어 설치되어 있고, 상기 하판(24)의 하면에는 상기 베이스(23)의 가이드홈(23a)에 결합하는 가이드돌기(24a)가 형성되어 있으며, 상기 하판(24)의 상면에는 수직방향으로 가이드홈(24b)이 형성되어 있다. 이때, 상기 백미러케이스(20)의 노출부는 상기 하판(24)의 중앙으로 관통하고 있다.

한편, 상기 하판(24) 상에는 상판(25)이 중첩하여 설치되어 있고, 상기 상판(25)의 하면에는 상기 하판(24)의 가이드홈(24b)에 결합하는 가이드돌기(25a)가 형성되어 있으며, 상기 백미러케이스(20)의 일부가 중앙으로 관통하여 고정되어 있다.

여기서 상기 백미러케이스(20)는 그 주위에 소정의 여유공간을 형성하며 상기 램프하우스(22)와, 베이스(23) 및 하판(24)을 관통하고 있고, 상기 상판(25)과는 그 외주면이 접촉하도록 관통하고 있으며, 상기 백미러케이스(20)는 상기 상판(25)을 측면에서 관통하는 고정나사(26)에 의해 상기 상판(25)에 고정된다.

그리고, 상기 베이스(23)의 상측돌출부에는 상기 백미러케이스(20)를 수평방향으로 이동시키도록 상기 하판(24)을 수평방향으로 이동시키는 수평조절나사(27)가 설치되어 있으며, 상기 수평조절나사(27)는 상기 베이스(23)의 상측돌출부에 나사맞춤되어 그 끝단이 하판(24)의 측면에 고정되어 있다. 또한, 상기 하판(24)의 상측돌출부에는 상기 백미러케이스(20)를 수직방향으로 이동시키도록 상기 상판(25)을 수직방향으로 이동시키는 수직조절나사(28)가 설치되어 있으며, 상기 수직조절나사(28)는 상기 하판(24)의 상측돌출부에 나사맞춤되어 그 끝단이 상판(25)의 측면에 고정된 구성이다.

이러한 구성의 본 발명은 상판(25)에 나사결합된 고정나사(26)를 풀고 조이는 것에 의해 백미러케이스(20)를 전,후방향으로 이동시킬 수 있다. 또한 베이스(23)에 나사결합된 수평조절나사(27)를 조절하게 되면, 상기 수평조절나사(27)가 이동하게 되므로 상기 수평조절나사(27)에 고정된 상기 하판(24)의 가이드돌기(24a)가 베이스(23)의 가이드홈(23a)을 따라 안내되어 하판(24)이 수평방향으로 이동되는 것이고, 이때는 하판(24) 상에 설치된 상판(25)도 함께 이동하는 것이므로 백미러케이스(20)가 수평방향으로 이동되는 것이다.

또한, 하판(24)에 나사결합된 수직조절난사(28)를 조절하게 되면, 상기 수직조절나사(28)가 이동하게 되므로 상기 수직조절나사(28)에 고정된 상기 상판(25)의 가이드돌기(25a)가 하판(24)의 가이드홈(24b)을 따라 안내되어 상기 사판(25)이 수직방향으로 이동되는 것이고, 이로써 백미러케이스(20)가 수직방향으로 이동되는 것이다.

이와 같이 본 발명에 따른 반도체 제조용 광학시스템의 백리머 조절장치에 의하며, 2개의 수평, 수직조절나사를 조절하는 것에 의해 백미러케이스가 수직 및 수평방향으로 이동되므로 초점 맞추는 동작이 간단하고, 초점 맞추는 시간이 단축되어 설비의 가동율이 증가된다. 또한 백미러케이스가 슬라이드식으로 이동되는 것이므로 마모되지 않아 손상이 방지되는 효과가 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허 청구의 범위에 속함은 당연하다.

Claims (2)

1. 백미러를 구비한 백미러케이스가 램프하우스의 내부에서 외부로 일부 노출되도록 설치된 반도체 제조용 광학시스템에 있어서,

   상기 램프하우스에 고정되고, 상면에 수평방향으로 가이드홈이 형성되어 있으며, 상기 램프하우스의 외부로 노출된 상기 백미러케이스의 노출부가 중앙으로 관통된 베이스;

   상기 베이스의 가이드홈에 결합하는 가이드돌기가 하면에 형성되어 상기 베이스 상에 중첩하여 설치되고, 상면에 수직방향으로 가이드홈이 형성되어 있으며, 상기 백미러케이스의 노출부가 중앙으로 관통된 하판;

   상기 하판의 가이드홈에 결합하는 가이드돌기가 하면에 형성되어 상기 하판 상에 중첩되어 설치되고, 상기 백미러케이스의 일부가 중앙으로 관통하여 고정된 상판;

   상기 하판을 수평방향으로 이동시키도록 상기 베이스의 상측돌출부에 나사맞춤되고, 그 끝단이 상기 하판에 고정된 수평조절나사; 및

   상기 상판을 수직방향으로 이동시키도록 상기 하판의 상측돌출부에 나사맞춤되고, 그 끝단이 상기 상판에 고정된 수직조절나사;

   를 포함하여 됨을 특징으로 하는 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치.
2. 제1항에 있어서,

   상기 백미러케이스의 노출부는 상판에 나사맞춤된 고정나사에 의해 전, 후방향으로의 조절이 가능하게 고정됨을 특징으로 하는 상기 반도체 제조용 광학시스템의 백미러 조절장치.