KR100198686B1 - 용접성과 도료 밀착성이 우수한 표면처리 강판의 제조방법 - Google Patents

용접성과 도료 밀착성이 우수한 표면처리 강판의 제조방법 Download PDF

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다나카 미노루
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Abstract

표면 처리된 강판은 낮은 가격으로 우수한 용접성을 갖는 곳에 제공되는데, 예를 들면 식품 및 음료용 용기의 재료로 사용된다. 그 표면 처리는 특정 면적비로 강판 표면상에 우수한 밀착성과 특정된 직경을 갖는 편평한 입상 주석 피복 용착층을 적용하고, 금속 크롬 피복과 크롬 수화 산화물 피복층을 그 위에 적용하여 이루어진다.
표면 처리에서, 먼저, 강판의 표면은 0.001 내지 0.05g/ℓ 량인 일반적으로 사용되는 광택제를 함유한 산화 주석 판금 욕조내에서 주석 판금을 받게 되어, 5 내지 30% 의 면적비로 0.4 내지 2.4μ 직경을 갖는 편평한 입상 주석 피복 용착층을 형성하고, 크롬 판금이 달성될때까지 입상 주석 피복 용착의 탈락을 절감시키고 강판에 대한 밀착성을 향상시켜, 주석 피복량의 변화치를 감소시킨다. 이어서, 상기 판은 50내지 150mg/㎡ 량의 금속 크롬으로 판금되고, 또한 크롬 수화 산화물층의 크롬 2-40mg/㎡ 량으로 형성된다. 따라서, 우수한 외관, 밀착성, 종래 무 주석 강판의 도장후의 내부식성, 안정된 용접성을 갖는 표면 처리된 강판이 저렴한 각격으로 생산 가능하다.

Description

용접성과 도료 밀착성이 우수한 표면 처리 강판의 제조 방법
제1a도는 전류 밀도를 매개 변수로 하는 2가 주석 이온 농도와 편평한 주석 입자 직경과의 관계 설명도.
제1b도는 주석 코팅량을 매개 변수로 하는 주석 코팅율과 편평한 주석입자 직경과의 관계 설명도.
제2a도는 광태제 농도가 0.025g/ℓ인 주석 도금 욕조내에서 얻어진 주석 도금후의 금속조직의 외관을 주사형 전자 현미경으로 찍은 사진.
제2b도는 광택제 농도가 0g/ℓ인 주석 도금후의 금속 조직의 외관을 주사형 전자 현미경으로 찍은 사진.
제2c도는 광택제 농도가 1g/ℓ인 주석 도금후의 금속 조직의 외관을 주사형 전자 현미경으로 찍은 사진.
제3a도는 본 발명의 공조에 의해 제조된 표면 처리 강판의 피막의 개략 단면도.
제3b도는 광택제를 전혀 함유치 않은 욕조를 사용하여 제조된 표면 처리 강판의 피막의 개략 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 하층 철 2 : 입상 주석
3 : 금속 크롬 - 크롬 산화물층
[산업상의 이용분야]
본 발명은 각종 식품, 음료 및 그 외의 충전물을 포장 및 저장 보존하기에 적합한 용접 캔(welded can)용의 표면 처리 강판 또는 스트립(이하 판이라 칭함) 제조 방법에 관한 것이다.
식품 및 음료등과 같은 종류의 것을 담기 위하여 사용되는 용기용으로 사용되는 재료에는 일반적으로 주석 코팅된 강판 및 무 주석 강판(tin-free steel sheets)들이 포함되어 있다. 근래에는, 주석 코팅량이 적어진 얇은 주석 코팅 강판(용접성을 확보하고자 하층에 니켈 코팅을 한 것도 있다), 니켈 도금 강판 및 그와 같은 종류의 것들이 재료값을 절감시킬 목적으로 사용되고 있다. 그런데, 단순하게 가격의 견지에서만 비교해 볼 때, 무 주석 강판은 주석판보다 우수하고 그리고 얇은 주석 코팅 강판 및 니켈 코팅 강판에 비해서도 우수하다. 또한, 무 주석 강판은 도료 밀착성 및 도장 후 내식성에서도 우수하다. 이러한 우수한 성질로 인해서 무 주석 강판의 수요는 증대되고 있다. 그런데, 무 주석 강판은 용접성이 나쁘다는 중요한 결점이 있어, 강 표면상에 금속 크롬 및 크롬 산화물층을 연삭 제거한 후에 용접하는 표면상에 금속 크롬 및 크롬 산화물층을 연삭 제거한 후에 용접하는 용접제관법 또는 접착법에 의하여 제관되고 있다. 따라서, 무 주석 강판의 용접성을 향상시키는 것이 산업적으로 매우 큰 중요성이 있으며, 무 주석 강판의 용접성을 향상시키기 위해 다양한 시도가 있어 왔다. 예를 들면, 크롬 도금층의 하층에 주석 코팅을 하여 용접성을 향상시킨 것으로서, 일본국 특공평 2-16397 호 및 특공소 61-1518 호 및 일본국 특개소 56-127776 호 및 특개소 56-44793 호가 있다. 이러한 것들은 모두 크롬 코팅층 그리고 크롬 수산화물 코팅층의 절연성을 개선하여 용접성을 개선하는 것을 목적으로 하고 있다. 그런데 이러한 개선에서는, 하층 주석 코팅량이 많고, 얇은 주석 코팅 강판의 경우와 같이 용접성의 향상을 위해 본래의 무 주석 강판의 우수한 특성을 희생시키는 접촉 저항성의 저하를 요하게 된다. 즉, 상기 기술된 모든 시도에서는 금속 광택 외관, 우수한 도료 밀착성, 및 도장후에 내식성과 같은 무 주석 강판의 양호한 특성이 무주석판의 용접성의 개량에도 불구하고 상실되게 된다. 따라서, 전술된 종래 기술에 의해 획득되는 표면 처리된 강판이 전술된 캔용으로 전적으로 만족할 만한 것이라고 할 수 없다.
종래 기술의 이러한 문제점들을 해결키 위해서, 본 발명의 발명자는 무주석 강판의 양호한 특성 즉, 금속 표면 광택 외관, 우수한 도료 밀착성 및 도장후에 내식성의 손상없이 강판에 용접성이 부여되도록 입상 주석 코팅층을 강판에 적용시킨 일본국 특원평 2-282498 호에 기재된 표면 처리 강판 제조 방법을 개량하였다.
용접성 및 도료 밀착성이 우수하게 표면 처리된 강판을 제조키 위한 상기 기술된 공정은, 강판을 탈지하고 산-세척(degreasing and acid-pickling)하는 단계와: 일반적인 광택제를 전혀 함유하지 않는 산성 주석 도금 욕조를 이용하여 0.2-1.5μ의 직경을 갖는 입상 형태의 주석 코팅 부착층을 제공하도록, 20-200㎎/m2의 도금, 2-15A/dm2의 도금 전류 밀도, 10-50g/ℓ의 산 농도(황산의 견지에서 환산), 2-20g/ℓ의 2가 주석 이온 농도인 도금 조건에서, 강판을 주석 도금하는 단계와: 연속적으로, 일반적인 크롬 도금 공정 또는 종래의 크롬 도금 및 크롬 처리 공정에 의해 크롬의 견지에서 2-40㎎/㎡ 의 크롬 산화물과 30-150㎎/㎡의 급속 크롬을 주석 도금 강판에 코팅하는 단계를 포함한다.
이러한 공정 방법은 무 주석 강판의 우수한 특성을 해치지 않는 용접성을 갖는 표면 처리된 강판을 제공한다.
[본 발명이 해결하려는 과제]
그런데, 상기 입상 주석을 하층에 코팅하는 방법은 주석 입자의 밀착성을 충부히 제공하지 않으므로, 입상 주석 부착은, 도금 후에 크롬 도금까지에 물 세척 및 그 외 다른 단계를 통과하는 동안에 강철 스트립과 롤의 접촉시에 슬립등에 의해서 주석입자가 탈락되기가 쉽다. 따라서, 주석 코팅량이 주석 도금 단계에서 성공적으로 제어된다 하더라고, 입상 주석 코팅량은 크롬 도금 단계에서 변화될 것이며, 부여되는 용접성에 큰 변화가 일어나, 품질 관리가 어렵게 되게 한다.
본 발명은 무 주석 강판의 우수한 특성을 해치지 않고 주석 코팅의 밀착성을 향상시켜 크롬 도금까지 부여된 입상 주석 입자의 탈락을 감소시켜, 하층 입상 주석 코팅량의 변화율이 감소된 안정된 용접성을 확보하는 것이다.
[과제를 해결하기 위한 수단]
본 발명은 용접성과 도료 밀착성이 우수한 표면 처리된 강판을 생산키 위한 공정을 제공하는 것으로서, 강판 표면을 탈지하고 산-세척하는 단계와: 일반적인 광택제로서의 첨가물을 0.001 내지 0.05g/ℓ 함유한 산성 주석 도금 욕조를 가지고 주석 도금을 행하여 5-30% 의 면적율로 0.4 - 2.4μ 직경을 가진 주석을 강판 표면에 도금하는 단계와: 이어서 통상의 크롬 도금, 또는 크롬 도금 및 크롬 처리 공정에 의해서 50-150㎎/㎡ 의 금속크롬, 크롬으로서 2-40㎎/㎡의 크롬 산화물을 코팅하는 것을 특징으로 하는 용접성, 및 도료 밀착성이 우수한 표면 처리 강판의 제조 방법이다.
상기 입자 구경 0.4-2.4μ의 주석을 강판상에 5-30%의 면적율로 코팅시키는 주석 도금 조건은 하기(1)식, (2)식을 만족하는 상기 산성 주석 도금 욕조내에 2가 주석 이온 농도M(g/ℓ), 도금 전류밀도 D(A/dm2) 주석 코팅량 W(㎎/㎡)인 것을 특징으로 하는 상기 기재의 용접성 및 도료 밀착성이 우수한 표면 처리 강판의 제조 방법이다.
이하, 본 발명에 대해서 상세히 설명한다.
본 발명의 기본은 입자형상 주석 코팅층의 밀착성을 개선하는 방법으로서 입자형상 주석 부착상태를 제어하는 방법을 찾아낸 것이다. 즉, 산성주석 도금욕조중에 극미량의 광택제를 함유시키는 것으로 인하여, 입자형상에 부착하는 주석의 형상이 약간 편평하게 되는 것을 찾아내는 것이다. 광택제를 함유하지 않은 주석 도금욕조(예로서 일본국 특원평2-282498 호의 욕조)에서는, 주석은 강판 표면에 대해서 수직 방향에 결정 성장되기 때문에 입자형상 주석의 높이는 입자 구경과 동등 이상이며 롤등의 접촉에 의하여 탈락하기 쉬웠다.
그런데 광택제를 극미량 함유시키니까 주석은 강판 표면에 수직방향의 주석 부착의 성장이 억제되고, 면 방향으로 절출(折出)되도록 되어 편평한 입자 형상 주석 도금 후 크롬 도금, 또는 크롬 도금 및 크롬 처리 공정을 하는 것으로서 안정된 용접성을 부여한 표면 처리 강판을 얻을 수가 있다. 이러한 방식에서는 입자형상 주석 코팅 후 코팅층의 밀착성이, 입자형상 주석 코팅 높이에 대한 강판과의 입자형상 주석 코팅부착층의 접촉면적의 확대로 현저하게 향상된다. 전술된 바와 같은 편평하게 된 입자 주석 코팅 부착의 적용 후에, 크롬 도금 또는, 도금 및 크롬 처리가 수행되어, 안정한 용접성을 가진 표면 처리된 강판이 얻어진다.
더욱이 광택제를 다량으로 함유시킨 도금 욕조(예로서, 특공평 2-16397호의 욕조, 첨가제농도 0.2-2g/ℓ)에서는 주석은 전적으로 면상에 절출하기 때문에 밀접성을 부여하는데 필요한 주석 도금량이 많아져 무주석 강판의 특성을 확보치 못하게 된다.
주석 도금용중의 광택제로서의 첨가물의 종류는 특정하에 한정되는 것이 아니고 양철의 제조에 통상 사용되고 있는 에톡실화된 α-나프톨, 에톡실화된 α-나프톨설폰산 등이 적합하다. 주석 도금 욕조중의 첨가물 농도를 0.001-0.05g/ℓ에 한정한 것은 하한치 미만에는 입자형상식이 편평하게 되지 않으며, 주석 입자의 밀착성이 향상되지 않기 때문이며, 상한치를 넘어가면 주석 코팅 밀착성은 향상할 뿐이며 부분적인 도금으로 되어 강판 노출부가 남은 도금 상태로 되는데 주석은 면형상(혹은 적은 요철형상)이며 결코 편평한 입자형상은 아니며, 용접성을 개선하는데 충분한 표면 요처f을 갖고 있지 않기 때문이다.
다음에 편평한 입자 형상 주석 코팅 조건에 대해서 설명한다.
제1a도에서는 2가 주석 이온 농도 M(g/ℓ), 주석 도금 전류 밀도 D(A/dm2)를 변화시켜서, 절출하는 편평한 십자 형상의 입자 직경 R(μ)을 측정한 결과의 일예를 도시하였다. 또 제1b도에는 입자 직경(R)과 주석 도금량(W)의 편평한 입자형상 상태의 주석 코팅 면적률(C%)을 측정한 결과의 일예를 도시한다. 이것들의 결과를 해석한 결과, 펴s평한 입자 형상 주석의 입자 직경(R)과의 사이에 하기(3)식의 관계가 주석 코팅 면적률(C)와의 사이에 하기(4)식의 관계가 각기 도출되었다.
입자직경 0.4-2.4μ의 편평한 입자 형상 주석을 강판상에 5-30%의 면적률로 코팅시키는 주석 도금 조건은 하기(1)식, (2)식을 만족하는 산성주석 도금 욕조의 2가 주석 이온농도 M(g/ℓ), 주석 도금 전류 밀도 D(A/dm2), 주석 코팅량 W(mg/㎡)이다.
본 발명은 이하에 기술되는 일본국 특원평 2-282498 호에 기술된 발명과는 구별된다. 특원평 1-100129호와의 차이에 대해서 설명하면 주석의 입자직경이 0.4-2.4μ와 상한이 1.5μ에서 2.4μ에 까지 크게되어 있다. 이것은 광택제 무첨가의 도금 욕조에서는 주석 입자직경이 크면 주석 입자의 높이도 높아지고 롤등의 접촉에 의하여 입자 형상 주석이 하층 강판에서 탈락하기 쉽게 되는데, 따라서 종래기술에서는 1.5μ 이하로 할 필요가 있었다. 그런데, 본 발명에서는 광택제를 극미량 첨가해서 편평한 입자 형상 주석으로 하여, 주석 입자 직경은 2.4μ까지 밀착성이 양호했다. 이 주석 입자직영의 상한이 2.4μ 까지 확대된 것으로서 도금욕조중의 주석 농도, 주석 도금 전류 밀도, 주석 코팅량 모두가 약간 조건이 넓어졌다. 또 하한이 2.4μ에서 0.4μ으로 크게 되어 있는데 이것은 주석 입자를 편평하게 하여 강판과의 접촉 면적을 크게 하였기 때문이다. 더욱이, 산농도에 대해서는 특별히 규정은 하지 않았으나 2가 주석 이온을 안정하게 존재되기 위해 필요한 농도라면 좋으며 2가 주석 이온 농도에 응해서 10-100g/ℓ(황산 환산)의 범위로 하는 것이 좋다.
제2a도 내지 제2c도에, 본 발명의 극미량의 광택제 함유의 도금욕조를 사용하여 얻은 편평한 입자 형상 상태의 외관(제2a도)과, 광택제 무첨가의 도금 욕조에서 얻어진 주석 코팅 외관(제2b도)와 광택제를 대량으로 함유한 주석 도금 욕조를 사용하여 획득한 주석 코팅 외관(제2C도)을 주사형 전자 현미경 사진(x 10,000)으로 표시한 사진이다. 더욱이 이때의 도금 조건은 페놀설폰산 욕조를 사용하여 광택제의 농도((a) = 0.025g/ℓ (b) : 0g/ℓ (c) : 1g/ℓ) 이외는 동일하며, 2가 주석 이온 농도 10g/ℓ, 산농도(황산 환산)50g/ℓ, 전류밀도 3A/dm2, 주석 코팅량 100mg/㎡이다.
제3a도는 본 발명의 극미량의 광택제 함유의 도금욕으로 얻은 편평한 입자형상 주석의 단면도이다. 제3b도는 광택제 무첨가의 도금욕에 얻어진 입자형상 주석의 단면도를 표시한다.
도면에서 (1)은 하층 철, 2 는 입상주석, 3은 금속 크롬, 산화 크롬층을 표시한다.
다음에 크롬도금, 및 크롬 처리 방법에 대해서 설명한다.
본 발명에서는 이것들의 크롬 도금 및 크롬 처리 방법에 대해서 특별히 한정하는 것은 아니다. 즉, 일반적인 무주석 강판을 제조하는 방법에 따라 크롬 도금, 및 크롬 처리하면 좋고 입자형상 주석이 차지하는 면적율은 30% 이하이며, 일반적인 방법으로 크롬 도금, 및 크롬 처리하면 강판 노출부에 금속 크롬 침 크롬 산화물층이 형성되어 일반적인 무주석 강판과 동일한 특성을 표시하는 것으로 된다. 도금 조건에 의해서는 입자형상 주석의 위에는 금속 크롬이 절출되지 않으며, 전적으로 크롬 산화물층이 형성되거나 또 그 반대일 때도 있는데, 본 발명자등이 조사한 범위내에서는 입자 형상 주석상에의 크롬의 절출은 강판 노출부에 비교해서 약간적다. 또 예로서 입자형상 주석상에 크롬이 절출되어도 금속 크롬 150㎎/㎡, 크롬 산화물 40mg/㎡ (금속 크롬 환산)의 두께는 약 0.04μ 정도이며, 하층의 주석은 이 이상의 두께를 갖고 있어, 접촉 저항성을 저하시키는 역활을 하는 것으로 추정된다. 따라서, 본 발명에 있어서는 주석 도금상의 크롬 절출상황은 특별히 규제하는 것은 아니고, 강판 노출부가 본래의 크롬 도금상의 크롬 산화물층을 형성하고 있는 것이 중요한 것이다.
발명의 표면 처리 강판의 크롬 도금층, 크롬 산화물층의 량은 일반적 무주석 - 강판의 범위인 금속 크롬 50 - 150mg/㎡, 크롬 산화물층의 크롬 2-40mg/㎡(금속 크롬 환산)에 한정했다. 일반적으로 금속 크롬은 30mg/㎡ 정도 이상으로 충분한 도장 내식성을 표시하는데, 하층의 편평한 입자 형상 주석 도금의 영향을 억제해서 보다 확실한 도장 내식성을 확보하기 위하여, 본 발명에서는 금속 크롬량의 하한을 약간 높게 높혔다. 또 크롬 산화물층의 크롬은 10mg/㎡ 정도 이상이 필요한 것으로 되어 있으나, 이것은 접착제관법에 있어서 접착력을 확보하기 위한 것으로 일반적인 도료 밀착성을 확보하기 위하여는 2mg/㎡로 충분하며, 시임 용접성에 악영향을 주는 크롬 산화물층의 두께는 적은 것이 바람직하며, 본 발명에서는 크롬 산화물 층의 크롬량의 하한을 약간 낮추었다.
[실시예]
다음에 본 발명의 내용을 실시예, 비교예에 따라 구체적으로 설명한다.
탈지, 산세척 주석도금, 크롬도금 처리 공정을 가지고 있어, 각 공정 사이에 물세척 공정을 가지고 있는 연속 도금 설비를 사용하며, 통상의 방법에 의하여 냉간 압연, 연속 소둔, 및 뜨임 압연된 두께 0.23㎜의 저탄소 냉간 압연 강판에 통상의 탈지(NaOH 50g/ℓ, 60℃ 전류밀도 10A/dm2로 0.5초의 음극 전해처리), 통상의 산세척(H2SO4: 50g/ℓ, 실온, 전류밀도 10A/dm2로 0.5초의 음극 전해처리)를 실시한 후 다음의 처리 조건으로 주석 도금 및 크롬 도금을 행하여 표1에 표시한 실시예1 내지 10및 비교예 1 내지 7의 샘플을 얻고 하기의 평가 항목에 대하여 조사하고 그 결과를 표1에 정리하였다.
1. 주석도금조건
(1) 욕조 조건
Sn+22 - 30g/ℓ
유리산 농도(황산환산) 10-100g/ℓ
(산으로서는 페놀설폰 산을 사용했다)
에톡시 α - 나프톨 0 - 1g/ℓ
욕조 온도 40℃
(2) 전해조건
전류 밀도 1 - 30A/dm2
2. 크롬도금 조건
(1) 욕조 조건
CrO3100g/ℓ H2SO41.2g/ℓ
욕조 온도 50℃
(2) 전해 조건
전류 밀도 50A/dm2
전기량 50C/dm2
이상의 도금 조건으로 크롬 도금을 한 결돠 크롬의 부착량은 90-110mg/㎡였다.
3. 평가
(1) 도료 밀착성
시험재에 에폭시페놀계 도료(간사이 페이트(주) SJ -6256)를 도장하여 굽는다.(도장 막의 량 : 50mg/dm2)이어서, 3.0% NaCl 용액중에서 110℃ × 60qnsdml 증류 처리를 실시한 후, 바둑판 모양의 줄에 나이프로 험집을 내고, 테이프 박리 테스트를 실시했다. 평가는 10 점을 기본으로 하여 이루어진다.(10 양호한 밀착성 ←→ 1 불량한 밀착성)
(2) 도장 내식성
시험재에 에폭시 페놀계 도료(간사이 페인트(주) SJ-6256)을 도장하여 굽는다(도장량: 50mg/dm2). 이어서, 도장막은 크로스 형태로 절단부를 넣은 후, 1.5% NaCl, 1.5% 구연산 용액(50℃)에 4일간 침척시키고 그 후 크로스 절단부의 박리 테시트를 실시해서 평가한다. 평가는 5점을 기본으로 만들어진다(5 양호한 내성←→ 1 은 불량한 내성).
(3) 접촉 저항]
시험재를 먼저, 210℃로 30분 동안 열처리를 한 후, 50㎜ 평방으로 절단하여 10장의 시료를 준비하고, 이 제공된 시료 2장을 포개여, 전극 직경 4.5φ의 전극사이에 끼어준다. 다음으로 이 전극사이에 50kgf의 가압을 주어 접촉 저항을 측정하고, 상기 시료에서 얻은 5개의 측정 데이터의 평규치와 변화치 σ을 구했다.(전극 사이에 충전 전류는 1,000㎃).
접촉 저항성은 500μ 이하이면 합격(양호한 용접성)
(4) 주석 도금 입자의 평가
제공시료재를 주사형 전자 현미경으로 배율 5,000-10,000 배로 관찰 대표적인 주석 입자의 입자 직경 및 주석 코팅율을 측정했다.
(5) 주석 부착량
제공 시료재의 이론주석 부착량을 표시했다.
(6) 주석 입자 밀착성
제공 시료재의 주석의 이론 절출량과의 크롬 도금후의 주석 부착량의 비율(%)로 평가했다. 100%가 최고의 양호한 것으로 크롬 도금까지에 주석 입자의 탈락없음.
(7) 제품외관의 평가
무주석 강판의 외관을 기준으로 평가했다.
0 : 무주석 - 강판과 거의 등등
X : 무주석 - 강판과 다름
표 1에서, 첨가제를 함유하지 않은 비교예 3,4는 주석 입자의 밀착성이 좋지 않고 접촉 저항의 변화가 크며, 또 첨가제의 함유량이 0.05g/ℓ을 넘은 비교예 5, 6은 주석 입자의 형태가 면형상으로 되어 주석 입자 직경이 0.1μ로 작고, 접촉 저항의 평균치가 커지며, 또 변화도 크다. 그러나 첨가제를 0.001-0.05g/ℓ 함유하는 실시예1은, 접촉 저항의 변화가 극히 작게 되어, 안정된 용접성을 확보하는 것의 가능함이 명료하다.
다시 표 1에서 2가 주석 이온 농도 주석 전류 밀도가 특허청구의 범위외의 비교예 1-3 은 제품외관, 도장 내식성의 점에서 무주석 강판과 다르나 특허청구의 범위내의 실시예 1-10은 제품외관, 도료 밀착성 도장 내식성의 평가보다 무주석 강판이 갖고 있는 본래의 우수한 특성이 손상되지 않음도 명료하다.
[발명의 효과]
이상과 같이 본 발명에 의하면 무주석 강판이 가지고 있는 우수한 특성을 손상시킴이 없이 도금된 입자형상 주석의 밀착성을 향상하여 크롬 도금까지의 주석 입자의 탈락을 감소시키므로서 하층 입자형상 주석 도금량의 변화감소와, 안정된 용접성을 표시하는 표면 처리 강판을 얻을 수 있다.

Claims (2)

  1. 강판 표면을 탈지하고 산 세척하는 단계와: 일반적으로 사용되는 광택제로서의 첨가물을 0.001 내지 0.05g/ℓ 함유하고 있는 산성주석 도금욕조에서 주석 도금을 행하여 입자구경 0.4 - 2.4μ의 주석을 강판상에 5-30% 의 면적율로 코팅하는 단계와: 통상의 크롬 도금 또는 크롬 도금 및 크롬 처리 공정에 의해서 50-150mg/㎡ 의 금속 크롬과 크롬으로서 2-40mg/㎡의 크롬 산화물을 코팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 용접성과 도료 밀착성이 우수한 표면 처리 강판의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 산성 주석 도금 욕조내의 주석 도금은 (1)식과 (2)식을 만족하고, 2가 주석 이온농도 M(g/ℓ) 도금 전류밀도 D(A/dm2)및 주석 코팅량 W(mg/㎡) 조건하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 용접성과 도료 밀착성이 우수한 표면 처리 강판의 제조 방법.
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