KR0179937B1 - 반도체 패턴 형성용 노광장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 패턴 형성용 노광장치에 관한 것으로, 종래 기술에 의한 반도체 패턴 노광장치는, 필드 렌즈 자체의 매그의 보정을 공기압로 보정하므로, 상기 매그 보정의 정확도가 떨어질 뿐만 아니라 상기 필드 렌즈 주위에 잔존하는 파티클(Particle)에 의하여 그 필드 렌즈가 오염되게 되는 문제점을 초래하였다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명에 의한 노광장치는 아래 도면에 도시된 바와 같이, 진동 전류를 가하여 매그를 보정할 수 있는 피에조 스택(14c)을 렌즈 가이더(14b)에 설치고정되어 있는 필드 렌즈(14a)의 하부에 설치하므로써, 상기 매그 보정의 정확도가 향상될 뿐만 아니라 상기 필드 렌즈 주위에 잔존하는 파티클(Particle)에 영향을 주지않아 그 필드 렌즈가 오염되지 않게 된다.
Description
본 발명은 반도체 패턴 형성용 노광장치에 관한 것으로, 특히 필드 렌즈를 설치고정하는 렌즈 가이드에 피에조스택(Piezo Stack)를 설치하여 필드 렌즈의 정확한 매그(MAG) 보정과 더불어 상기 필드 렌즈의 오염을 방지할 수 있도록 한 반도체 패턴 형성용 노광장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 웨이퍼 제조공정 중 노광공정은 반도체 웨이퍼에 포토레지스터를 도포하고, 노광장치의 조명계에서 발산한 광을 상기 반도체 웨이퍼에 선택적으로 노광하여 그 반도체 웨이퍼레 패턴을 형성하는 것이다.
이러한 반도체 패턴 형성용 노광장치는 상기 제1도에 도시된 바와 같이, 광을 발산하는 조명계(1)가 설치되어 있고, 그 조명계(1)의 하부에는 상기 반도체 웨이퍼에 패턴을 형성하기 위한 레티클(Reticle)(2)이 고정설치되는 레티클 스테이지(Stage)(3)가 설치되어 있으며, 그 레티클 스테이지(3)의 하부에는 매그(MAG)를 자동으로 보정할 수 있는 필드 렌즈 조립체(4)가 설치되어 있다.
그리고, 상기 필드 렌즈 조립체(4)의 하부에는 상기 레티클(2)의 패턴을 축소하기 위한 축소 렌즈(5)가 설치되어 있고, 그 축소 렌즈(5)의 하부에는 패턴을 형성할 상기 반도체 웨이퍼가 위치하는 웨이퍼 스테이지(6)가 설치되어 있다.
상기 필드 렌즈 조립체(4)는 상기 제2도에 도시된 바와 같이, 소정의 크기를 갖는 필드 렌즈(4a)가 있고, 그 필드 렌즈(4b)는 렌즈 가이더(4b)에 의하여 설치고정되며, 그 가이더(4b)에는 상기 필드 렌즈(4a)이 매그를 공기의 압력에 의하여 보정할 수 있도록 공기공급라인(4c)이 설치되어 있다.
도면상의 미설명 부호7은 서보 팩(Servo Pack)이다.
상기와 같이 구성된 반도체 패턴 형성용 노광장치는, 상기 조명계(1)에서 광을 발산하면, 그 광은 상기 레티클(2)을 거쳐 필드 렌즈 조립체(4)의 필드 렌즈(4a)를 투과한 후, 상기 축소 렌즈(5)를 통하여 상기 포토레지스터가 도포된 반도체 웨이퍼에 노광되게 됨과 아울러 상기 레티클(2)에 형성된 패턴이 그 반도체 웨이퍼에 형성되게 되는 것이다.
이때, 상기 필드 렌즈 조립체(4)의 필드 렌즈(4a)에 상기 제3도에 도시된바와 같이 매그가 발생하게 되면, 상기 렌즈 가이드(4b)에 설치되어 있는 공기공급라인(4c)을 통하여 공기압을 가하므로써, 상기 필드 렌즈(4a)의 매그가 보정되게 되는 것이다.
그러나, 상기와 같은 필드 렌즈 조립체를 갖는 반도체 패턴 형성용 노광장치는 필드 렌즈 자체의 매그의 보정을 공기압으로 보정하므로, 상기 매그 보정의 정확도가 떨어질 뿐만 아니라, 상기 필드 렌즈 주위에 잔존하는 파티클(Particle)에 의하여 그 필드 렌즈가 오염되게 되는 문제점을 초래하였다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기의 문제점을 해결하여 필드 렌즈의 매그 보정의 정확도를 향상함과 아울러 상기 필드 렌즈의 오염을 방지할 수 있는 필드 렌즈 조립체를 구비한 반도체 패턴 형성용 노광장치를 제공함에 있다.
제1도는 종래 기술에 의한 반도체 패턴 형성용 노광장치의 구조를 보인 개략도.
제2도는 종래 기술에 의한 반도체 패턴 형성용 노광장치의 필드 렌즈 조립체의 구조를 보인 개략도.
제3도는 종래 기술에 의한 반도체 패턴 형성용 노광장치의 필드 조립체의 필드렌즈에 매그가 없는 경우와 매그가 발생한 경우를 도시한 평면도.
제4도는 본 발명에 의한 반도체 페턴 형성용 노광장치의 필드 렌즈 조립체의 구조를 보인 개략도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
14 : 필드 렌즈 조립체 14a : 필드 렌즈
14b : 렌즈 가이더 14c : 피에조 스택
15 : 오실레이터
본 발명의 목적은 광을 발산하는 조명계와, 그 조명계의 하부에 패턴이 형성된 레티클을 고정설치하는 레티클 스테이지와, 그 레티클 스테이지의 하부에 매그를 보정할 수 있도록 설치된 필드 렌즈 조립체와, 그 필드 렌즈 조립체의 하부에 설치되어 상기 레티클에 형성된 패턴을 축소하기 위한 축소 렌즈와, 그 축소 렌즈의 하부에 설치되어 상기 레티클에 형성된 패턴을 형성하기 위한 반도체 웨이퍼가 고정되는 웨이퍼 스테이지를 구비하여 구성된 반도체 패턴 형성용 노광장치에 있어서; 상기 필드 렌즈 조립체는 필드 렌즈와, 그 필드 렌즈가 설치고정되는 렌즈 가이더와, 그 렌즈 가이더에 설치되어 상기 필드 렌즈의 매그를 보정할 수 있는 피에조 스택과, 그 피에조 스택에 진동 전류를 공급할 수 있는 오실레이터를 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 패턴 형성용 노광장치에 의하여 달성된다.
다음은, 본 발명에 의한 반도체 패턴 형성용 노광장치의 일실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.
제4도는 본 발병에 의한 반도체 패턴 형성용 도광장치의 필드 렌즈 조립체의 구조를 보인 개략도
상기 제4도에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 반도체 패턴 형성용 노광장치의 필드 렌즈 조립체(14)는 소정의 직경을 갖는 필드 렌즈(14a)가 있고, 그 필드 렌즈(14a)는 원통형의 렌즈 가이더(14b)에 설치고정되며, 그 렌즈 가이더(14b)에 설치고정된 필드 렌즈(14a)의 하부에는 피에조 스택(14a)이 그 필드 렌즈(14a)를 지지하고 있다.
상기와 같이 구성된 필드 렌즈 조립체(14)는 상기 레티클 스테이지(3)와 축소 렌즈(5)의 사이에 설치되고, 또 상기 필드 렌즈 조립체(14)의 외부에는 상기 피에조 스택(14c)에 진동 전류를 공급할 수 있는 오실레이터(15)가 구비되어 있다.
도면상의 미설명 부호 16은 진동 전류를 공급하는 전류공급라인이다.
상기와 같이 구성된 필드 렌즈 조립체(14)를 구비한 반도체 패턴 형성용 노광장치는, 먼저(여기에서, 종래 기술과 같은 부분은 동일 부호를 사용한다.)도면상의 부호 상기 조명계(1)에서 광을 발산하면, 그 광은 상기 레티클(2)을 거쳐 상기 필드 렌즈 조립체(14)의 필드 렌즈(14a)를 투과한 후, 상기 축소 렌즈(5)를 통하여 상기 포토레지스터가 도포된 반도체 웨이퍼에 노광되게 됨과 아울러 상기 레티클(2)에 형성된 패턴이 그 반도체 웨이퍼에 형성되게 되는 것이다.
이때, 상기 필드 렌즈 조립체(14)의 필드 렌즈(14a)에 매그가 발생하게 되면, 상기 필드 렌즈(14a)하부에 설치되어 있는 피에조 스택(14c)에 상기 오실레이터에서 발생한 진동 전류를 공급하게 되면, 상기 필드 렌즈(14a)의 매그가 보정되게 되는 것이다.
상기와 같이 진동 전류를 가하여 매그를 보정할 수 있는 피에조 스택을 상기 렌즈가이더에 설치고정되어 있는 필드 렌즈의 하부에 설치하므로써, 상기 매그 보정의 정확조가 향상될 뿐만 아니라 상기 필드 렌즈 주위에 잔존하는 파티클(Particle)에 영향을 주지 않아 그 필드 렌즈가 오염되지 않게 된다.
Claims (1)
- 광을 발산하는 조명계와, 그 조명계의 하부에 패턴이 형성된 레티클을 고정설치하는 레티클 스테이지와, 그 레티클 스테이지의 하부에 매그를 보정할 수 있도록 설치된 필드 렌즈 조립체와, 그 필드 렌즈 조립체의 하부에 설치되어 상기 레티클에 형성된 패턴을 축소하는 축소 렌즈와, 그 축소 렌즈의 하부에 설치되어 상기 레티클에 형성된 패턴을 형성하기 위한 반도체 웨이퍼가 고정되는 웨이퍼 스테이지를 구비하여 구성된 반도체 패턴 형성용 노광장치에 있어서,상기 필드 렌즈 조립체는 필드 렌즈와, 그 필드 렌즈가 설치고정되는 렌즈 가이더, 그 렌즈 가이더에 설치되어 상기 필드 렌즈의 매그를 보정할 수 있는 피에조 스택과, 그 피에조 스택에 진동 전류를 공급할 수 있는 오실레이터를 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 패턴 형성용 노광장치
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| KR1019960077491A KR0179937B1 (ko) | 1996-12-30 | 1996-12-30 | 반도체 패턴 형성용 노광장치 |
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| KR1019960077491A KR0179937B1 (ko) | 1996-12-30 | 1996-12-30 | 반도체 패턴 형성용 노광장치 |
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