KR0174534B1 - 건조 분말형 필름 재료를 이용한 발광 스크린 어셈블리의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

칼라 음극선관(10)의 기판(18) 상에 발광 스크린 어셈블리(22,24)를 제조하는 방법은 상기 기판상에 소정의 패턴으로 비발광 스크린 구조 재료층(23)을 제공하는 단계와, 상기 기판상에 복수의 색발광 스크린 구조 재료(G,B,R)를 증착하는 단계를 포함한다. 상기 색발광 스크린 구조 재료는 그 주위를 상기 비발광 스크린 구조 재료층으로 둘러 싸여져 있다. 상기 색발광 스크린 구조 재료 및 상기 비발광 스크린 구조 재료층 상에는 정전기적으로 하전된 건조 분말형 수지를 증착하고, 이 수지를 용융하여 실질적으로 연속된 필름층(46)을 형성한다.

Description

건조 분말형 필름 재료를 이용한 발광 스크린 어셈블리의 제조방법

제1도는 본 발명에 따라 제조된 칼라 음극선관의 축단면을 부분적으로 도시한 평면도.

제2도는 제1도에 도시된 음극선관의 스크린 어셈블리를 도시한 단면도.

제3a도 내지 제3g도는 제1도에 도시된 음극선관의 제조공정 중에서 각각의 선택된 단계를 도시한 도면.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 칼라 음극선관(CRT) 12 : 면판 패널

18 : 뷰잉 면판(기판) 22 : 스크린

25 : 새도우 마스크 32 : 도전층

34 : 광도전층 36 : 코로나 방전 장치

40 : 라이트하우스 42 : 현상기

46 : 필름층

본 발명은 발광 스크린 어셈블리의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 마찰 전기적으로 하전된 건조 분말형의 표면 처리된 스크린 구조체와 필름 형성용 재료를 사용하여 칼라 음극선관(CRT)용 발광 스크린 어셈블리를 전자 사진식으로 제조하는 방법에 관한 것이다.

통상의 새도우 마스크형 CRT는 주기적으로 반복해서 배열된 3색의 칼라 광을 방사하는 형광체 소자의 어레이로 구성된 영상 스크린과, 이 스크린을 향해서 3개의 집중 전자빔을 발생시키는 수단과, 이 스크린과 빔 발생 수단과의 사이에 정확히 배치된 얇은 다공 금속 시이트로 구성된 색 선택 구조체(즉, 새도우 마스크)를 내부에 내장한 진공 엔벌로프(envelope)를 포함한다. 상기 다공 금속 시이트는 스크린에 대하여 음영(shadow)을 지게하고, 집중각의 차이로 인하여 각 빔의 통과된 부분이 소정 발광색의 형광체 소자를 선택적으로 여기시킨다. 이 형광체 소자의 둘레는 광 흡수성 재료로 이루어진 매트릭스로 에워싸여져 있다.

전자 사진 기법으로 스크린을 형성하는 칼라 음극선관의 제조 방법은 1969년 10월 28일자로 H. G. Lange에 의해 허여된 미국 특허 제3,475,169호에 개시되어 있다. 이 방법에서는 CRT의 면판(faceplate)의 내측면을 휘발성의 도전 재료로 피복하고, 다음에 그 위를 휘발성의 광도전 재료층으로 다시 피복한다. 이 광도전층을 균일하게 하전하고, 전하 잠상을 형성하도록 새도우 마스크를 통과하여 선택적으로 상기 광도전층을 노광하며, 고분자량의 캐리어 액(carrier liquid)을 이용하여 현상한다. 이 캐리어 액은 광도전층의 충분하게 하전된 영역에 선택적으로 증착되어 상기 잠상을 현상하도록 소정의 발광색의 형광체 입자를 현탁액의 형태로 다량 포함되어 있다. 이들 하전, 노광 및 증착 공정은 스크린의 3색발광 형광체의 각각에 대하여 실행한다. 전자 사진 기법으로 스크린을 형성하는 방법의 개량된 방법은 1984년 5월 15일자로 H. G. Olieslagers씨 등에 의해 허여된 미국 특허 제4,448,866호에 개시되어 있다. 이 특허의 방법에서는 각 형광체 입자의 증착 공정 후에 인접한 형광체 입자의 증착 패턴의 사이에 있는 광도전층의 부분을 균일하게 노광하는 것에 의해 잔류 전하를 감소, 즉 방전시키고, 후속 증착 공정에서 광도전층을 균일하게 재하전할 수 있도록 함으로써, 형광체 입자의 접착력을 강화하고 있다.

상기 2개의 인용 특허에는 전자사진 기법, 즉 실질적으로 습식법을 개시하고 있다. 그러나, 이 습식법에는 차세대의 오락용 장치가 요구하는 고해상도와, 칼라 문자-숫자 텍스트를 필요로 하는 모니터, 워크스테이션 및 기타의 응용 분야에서 요구하는 초 고행상도에 적합하지 않다고 하는 결점이 있다.

또한, 상기 습식법(매트릭스 형성 처리를 포함)에서는 다수의 주처리 공정을 필요로 하고, 큰 배관작업을 필요로 함과 동시에 깨끗한 물(clean water)의 사용도 필요하며, 또, 형광체의 회수와 재생을 필요로 하고, 형광체의 노광 및 건조를 위해 다량의 전기 에너지를 필요로 한다.

1990년 5월 1일자로 P. Datta씨 등에게 허여된 미국 특허 제4,921,727호 및 1988년 12월 21자로 P. Datta씨 등이 출원한 미국 특허 출원 제287,356호 및 제287,358호에는 형광체 입자의 마찰 하전 특성을 제어하는 결합재를 포함한 표면 처리된 형광체 입자와, 마찰 전기적으로 하전된 건조 분말형의 스크린 구조체 물질을 이용하여 CRT 스크린 어셈블리를 제조하는 개량 방법이 개시되어 있다. 이 제조방법에 의한 처리 중에 표면 처리된 스크린 구조체 물질은 면판 상의 광도전층에 정전기적으로 흡인력이 작용하며, 그 흡인력은 스크린 구조 물질 상의 마찰 전하의 크기에 대해 함수 관계를 갖는다. 비교적 느슨하게 결합된 표면 처리된 재료를 광도전층에 고착시키는데 열 결합을 사용하였지만, 이 열 결합에 의하면 광도전층의 경우에 따라서 균열을 발생시킬 수 있고, 제조공정 중의 후속 필름 형성 단계에서 이러한 균열로 인해 광도전층 부분이 분리될 수 있다. 또한, 전술한 마찰 하전법 중 일부에서 사용하고 있는 용융 가능한 열가소성 형광체 입자 피복을 사용하지 않는 것이 바람직한데, 이것은 이와 같은 피복이 형광체의 발광 효율에 바람직하지 않은 영향을 주게 되는 유기 재료를 첨가하는 것이 필요하기 때문이다. 거기에서, 형광체의 발광 효율, 스크린의 균일성 및 접착력을 증가시킴과 아울러 광도전층의 균열이나 분리에 의해 제조공정 중에 발생하는 스크린 어셈블리의 손실을 방지할 수 있는 개량된 건식 필름 형성법이 필요하게 됨이 판단되었다.

본 발명에 따른 CRT의 기판상에 발광 스크린 어셈블리를 제조하는 방법은 상기 기판상에 소정의 패턴으로 비발광 스크린 구조 재료층을 제공하는 단계와, 상기 기판상에 복수의 색발광 스크린 구조 재료를 증착하는 단계를 포함한다. 상기 색발광 스크린 구조 재료는 그 주위를 상기 비발광 스크린 구조 재료에 의해 에워싸여져 있다. 상기 색발광 및 비발광 스크린 구조 재료 상에 정전기적으로 하전된 건조 분말형 수지를 증착하고, 상기 수지를 용융하여 실질적으로 연속된 필름층을 형성한다.

제1도에는 장방형 면판 패널(12)과 장방형 퍼넬(15)에 의해 결합된 관형 네크(14)로 구성된 유리 엔벌로프(11)를 구비한 칼라 CRT(10)가 도시되어 있다. 이 퍼넬(15)은 내부 도전성 피복(도시 생략)을 갖는데, 이것은 애노드 버튼(16)과 접촉하여 네크(14)의 안쪽으로 연장되어 있다. 패널(12)은 뷰잉 면판, 즉 기판(18)과, 주변 플랜지 즉 측벽(20)으로 구성되고, 이 측벽(20)은 유리 프릿(21)에 의해 퍼넬(15)에 밀봉되어 있다. 면판(18)의 내측면에는 3색 형광체 스크린(22)이 지지되어 있다. 제2도에 도시된 스크린(22)은 각각 적색 광방사, 녹색 광방사 및 청색 광방사 형광체 스트라이프(R,G,B)로 이루어진 다수의 스크린 소자를 포함하는 선 스크린인 것이 바람직한데, 상기 소자는 3개의 스트라이프, 즉 3개의 조를 이루는 칼라 그룹 또는 화소로서 주기적인 순서로, 그리고 전자빔이 발생되는 공통 평면에 대하여 거의 수직 방향으로 연장하도록 배열되어 있다. 이 실시예의 통상의 관찰 위치에서 보면, 형광체 스트라이프는 수직 방향으로 연장되어 있다. 이들 형광체 스트라이프는 종래기술에서 공지된 바와 같이 광 흡수성 매트릭스 재료(23)에 의해 서로 분리되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 이 스크린은 선 스크린 대신에 도트 스크린을 사용할 수도 있다. 바람직하게는 알루미늄으로 이루어진 얇은 도전층(24)이 스크린(22) 상에 놓여, 형광체 소자로부터 면판(18)을 통하여 방사된 광을 반사시킴과 동시에, 스크린(22)에 균일한 전위를 인가하기 위한 수단을 제공한다. 스크린(22)과 그 위에 놓인 알루미늄층(24)은 스크린 어셈블리를 구성하고 있다.

제1도를 다시 참조하면, 스크린 어셈블리에 대하여 소정의 간격을 두고 다공색 선택 전극, 즉 새도우 마스크(25)는 통상의 수단에 의하여 착탈 가능하게 장착되어 있다. 제1도에 점선으로 개략적으로 도시된 전자총(26)은 네크(14) 내의 중심부에 장착되고, 3개의 전자빔(28)을 발생시켜 이 전자빔을 집중 경로를 따라 마스크(25)의 개구를 통해서 스크린(22) 쪽으로 투사한다. 전자총(26)은 예컨대, A. Morrell씨 등에 의해 1986년 10월 28일자로 허여된 미국 특허 제4,620,133호에 개시된 형태의 쌍전위 전자총이거나 또는 다른 적절한 형태의 전자총이어도 좋다.

음극선관(10)은 퍼넬과 네크와의 접합부의 부근 영역에 배치된 요크(30)와 같은 외부 자기 편향 요크와 함께 사용할 수 있도록 설계되어 있다. 요크(30)는 3개의 빔(28)에 자계를 적용시키고, 이들 빔이 스크린(22) 상에 장방형 라스터를 수평 및 수직 방향으로 주사시킨다. 편향의 개시면(제로 편향면)은 요크(30)의 거의 중심부에서 제1도의 선 P-P로 도시되어 있다. 간단하게 나타내기 위해, 편향 영역 내의 편향 빔 경로의 실제의 곡면은 도시 생략되었다.

스크린(22)은 제3a도 내지 제3g도에 개략적으로 도시된 신규의 전자 사진식 방법에 의해 제조된다. 최초에 패널(12)을 가성 용액으로 세척하고 물로 헹구며 완충 불화수소산으로 에칭하고 다시 한번 물로 헹구는데, 이것은 공지된 방법이다. 이어서, 뷰잉 면판(18)의 내측면은 전기 도전성 재료층(32)으로 피복되는데, 이 층(32)은 그 위에 형성된 광도전층(34)의 전극이 된다. 이 광도전층(34)은 휘발성 유기 중합체 재료와, 가시광에 민감한 적당한 광전도성 염료 및 용제를 함유한다. 이 도전층(32)과 광도전층(34)을 형성하는 조성 및 방법은 전술한 미국 특허 출원 제287,356호에 개시되어 있다.

도전층(32)을 피복한 광도전층(34)은 제3b도에 개략적으로 도시된 통상의 양극 코로나 방전 장치(36)에 의해 암흑 상태로 하전되고, 이 코로나 방전 장치(36)는 층(34)의 양단에 걸쳐 이동하여, 동 층(34)을 +200 내지 +700[V]의 범위, 바람직하게는 +200 내지 +400[V]로 하전한다. 패널(12) 내에 새도우 마스크(25)를 삽입하고, 이 양으로 하전된 광도전층(34)을 통상의 노광용 라이트하우스(3개가 하나로 구성된 광원; 제3c도에 렌즈(40)로 도시함) 내에 배치된 크세논 섬광 램프(38)로부터의 광으로 새도우 마스크를 통하여 노광한다. 각 노광 공정 후, 램프는 다른 위치로 이동하여, 전자총으로부터 방사된 전자빔의 입사각과 일치시킨다. 스크린을 형성하도록 광방사 형광체를 증착시키는 상기 광도전성 영역의 전하를 방전시키기 위하여 상이한 3개의 램프 위치로부터 총 3회의 노광 조작이 필요하게 된다. 노광 단계 후, 새도우 마스크(25)를 패널(12)로부터 제거하고, 그 패널(12)을 제1현상기(42)(제3d도)로 이동시킨다. 이 제1현상기는 적절히 조정된 건조 분말형의 광 흡수성 블랙 매트릭스 스크린 구조 재료의 입자와, 표면 처리된 절연성 캐리어 비드(도시 생략)를 함유하고 있고, 이 캐리어 비드는 직경이 약 100 내지 300미크론이고, 이하에 기술된 바와 같이 블랙 매트릭스 재료의 입자의 마찰 전하를 제공하는 작용을 한다.

적당한 블랙 매트릭스 재료는 일반적으로 음극선관의 처리 온도 450℃에서 안정된 흑색 안료를 포함한다. 매트릭스 재료의 제조에 사용하는데 적당한 흑색 안료는 산화철 망간, 산화철 코발트, 황화 아연철 및 절연성 카본 블랙을 포함한다. 블랙 매트릭스 재료는 안료, 중합체 및 매트릭스 재료에 제공되는 마찰 전하의 양을 제어하는 적당한 전하 제어제를 용융 배합(melt-blending)해서 제조한다. 이 재료를 평균 입자 크기가 약 5미크론이 되도록 분쇄한다.

블랙 매트릭스 재료와 표면 처리된 캐리어 비드는 블랙 매트릭스 재료를 약 1~2중량%를 사용하여 현상기(42) 내에서 혼합된다. 미세하게 분쇄된 매트릭스 재료 입자가 표면 처리된 캐리어 비드와 접촉해서 하전, 예컨대 음으로 하전되도록 양 재료를 혼합한다. 음으로 하전된 매트릭스 재료 입자는 현상기(42)로부터 추출되고, 광도전층(34)의 양으로 하전된 피노광 영역에 흡인되어, 그 영역을 직접 현상한다.

매트릭스(23)를 포함하는 광도전층(34)은 3색의 마찰 하전된 건조 분말형의 표면 처리된 색방사 형광체 스크린 구조 재료 중 하나를 증착하기 위해 약 200 내지 400[V]의 양 전위로 균일하게 재하전된다. 방사 효율을 높이기 위해서는 표면 처리되지 않은 형광체 재료가 바람직하지만, 전술한 미국 특허 제4,921,727호 및 미국 특허 출원 제287,358호에 개시된 바와 같이 표면 처리된 형광체 재료를 사용할 수도 있다. 패널(12) 내에 새도우 마스크(25)를 재삽입하고, 녹색발광 형광체 재료를 증착시킨 위치에 대응하는 광도전층(34) 상의 선택된 영역을 라이트하우스 내의 제1위치로부터의 가시광으로 노광하고, 그 노광된 영역을 선택적으로 방전시킨다. 이 제1광원 위치는 녹색발광 형광체를 충돌하는 전자빔의 집중각에 대략 근접한다. 패널(12)로부터 새도우 마스크(25)를 제거하고, 패널을 제2현상기(42)로 이동시킨다. 제2현상기는 마찰 하전된 건조 분말형의 녹색발광 형광체 스크린 구조 재료 입자와 표면 처리된 캐리어 비드(carrier bead)를 수용하고 있다. 표면 처리된 캐리어 비드 1000그램과 형광체 입자의 약 15 내지 25그램을 제2현상기(42) 내에서 혼합한다. 캐리어 비드는 플루오르 실란 결합제로 표면 처리하여, 형광체 입자에 예컨대 양의 전하를 제공하게 된다. 형광체 입자를 음으로 하전하기 위해서는 캐리어 비드에 대하여 아미노 실란 결합제를 사용한다. 양으로 하전된 녹색발광 형광체 입자는 현상기로부터 추출되고, 광도전층(34)과 매트릭스(23)의 양전하 영역에서 반발하여, 공지된 반전 현상법에 의해 광도전층의 방전된 노광 영역 상에 증착된다.

하전, 노광 및 현상의 각 공정은 스크린 구조 재료 중의 건조 분말형의 청색 및 적색발광 형광체 입자에 대하여 각각 반복해서 행해진다. 광도전층(34)의 양으로 하전된 영역을 선택적으로 방전시키기 위해 가시광에 의한 노광은 라이트하우스 내의 제2위치 및 제3위치로부터 실행되어, 청색발광 형광체 및 적색발광 형광체를 충돌하는 각 전자빔의 집중각에 대략 근접시킨다. 마찰 전기적으로 양으로 하전된 건조 분말형의 형광체 입자는 전술한 비율로 표면 처리된 캐리어 비드와 혼합되고, 제3 및 제4현상기(42)로부터 추출되며, 사전에 증착되어 있는 스크린 구조재료의 양으로 하전된 영역에 의해 반발되고, 광도전층(34)의 방전된 영역 상에 증착되어, 각각 청색발광 형광체 소자와 적색발광 형광체 소자를 형성한다.

표면 처리된 블랙 매트릭스 재료와, 녹색, 청색 및 적색발광 형광체 입자를 포함하는 스크린 구조 재료는 광도전층(34)에 정전기적으로 부착 또는 결합되어 있다. 이 스크린 구조 재료 상에 정전기적으로 하전된 건조 분말형의 필름 형성용 수지를 제5현상기(42)(제3f도)로 직접 증착시킴으로써, 스크린 구조 재료의 접착력을 강화시킬 수 있다. 이 수지의 증착 공정 중에 도전층(32)은 접지되어 있다. 흡인 전위를 제공하고, 이 실시예에서 음으로 하전되어 있는 수지의 균일한 증착이 가능하도록 필름 증착 단계에 앞서 광도전층과 그 위에 도포된 스크린 구조 재료에 약 200 내지 400[V]의 균일한 양전위를 방전 장치(36)(제3e도)를 이용하여 인가한다. 제5현상기(42)는 예컨대 코로나 방전에 의해 수지 입자를 하전하는 란스버그 총(Ransburg gun)으로 할 수 있다. 이 수지는 약 120℃보다 낮은 유리 천이 온도/용융 유동 지수를 가지며, 또한 약 400℃보다 낮은 열 분해 온도를 가진 유기 재료이다. 또한, 이 수지는 비수용액이며, 전하 분포를 양호하게 하기 위해 무정형 입자 형성을 가지며, 입자의 지름이 약 50미크론보다 작은 것이 바람직하다. 이와 같은 바람직한 재료는 n-부틸 메타크릴레이트이지만, 다른 아크릴 수지, 메틸 메타크릴레이트 및 폴리에틸렌 왁스도 충분히 사용 가능하다. 약 1 내지 10g 사이, 통상적으로는 약 2g의 분말형 필름 형성용 수지를 면판(18)의 스크린 면(22) 상에 증착시킨다. 이어서, 히터(44)(제3g도)와 같은 가열원을 사용하여 면판을 100~120℃의 온도로 약 1~5분 동안 가열하고, 이 수지를 용융하여, 스크린 구조 재료를 면판(18)에 결합하기 위해 실질적으로 연속된 필름(46)을 형성하게 된다. 예컨대, 미국 뉴욕에 소재하는 코닝 글라스 웍스(Corning Glass Works)사로부터 입수 가능한 CH-40 히터와 같은 복수의 길이 방향으로 연장하는 방사 히터를 사용하면, 2g의 수지를 용융하는데 필요한 시간은 3분이 필요하다. 필름(46)은 비수용액이고, 필름을 추가로 두껍게 하거나 또는 균일하게 하기 위해서 습식 필름 형성 공정을 실시하면, 이 필름(46)은 보호 장벽으로서 작용한다. 만일 충분한 양의 건조 필름 형성용 수지를 이용하면, 후속의 습식 필름 형성 단계는 불필요하게 된다. 통풍 촉진 피복(도시 생략)을 형성하기 위하여 물 2 내지 4중량%의 붕산 또는 수산 암모늄 수용액을 필름(46) 상에 분무한다. 다음에, 이 기술 분야에서 공지된 바와 같이 패널을 알루미늄으로 증착 처리를 행하고, 약 425℃에서 약 30분 내지 60분, 즉 휘발성 유기 성분이 스크린 어셈블리로부터 휘발할 때까지 소성한다. 통풍 촉진 피복은 약 185℃에서 소성을 개시해서 알루미늄층에 기포가 형성됨이 없이 유기 성분의 제거를 용이하게 하는 작은 핀 홀(pin hole)을 알루미늄층에 형성한다.

폴리에틸렌 왁스 이외의 건조 분말형 수지는 정전기적으로 증착되어 있는 수지를 아세톤(이것이 바람직함), 클로로벤젠, 톨루엔, 메틸 에칠 케톤(MEK) 또는 메틸 이소부틸 케톤(MIBK)과 같은 적당한 용제에 노광함으로써, 필름(46) 형상으로 형성되거나 또는 용융될 수 있다. 이 용제에 노광하는 방법에 대해서는 도시하지는 않았지만, 용제를 부옇게(fogging)하거나, 증기를 침투시키거나(vapordeposition) 또는 직접 스프레이하는 방법에 의해 실현될 수 있다. 이 용제법에 의하면, 전술한 가열 방법보다도 더욱 균일한 필름층(46)을 제공할 수 있다. 그러나, 필름 용융성의 용제를 사용하는 경우에는 특별한 취급 및 환기가 필요하게 된다. 필름을 용융하기 위하여 용제에 노광하는 상기 3개의 방법 중에서 증기 침투방법은 처리 속도가 가장 느리지만, 가장 조용하고 필름 형성용 수지 및 그 하부에 놓인 스크린 구조 재료를 손상시키는 일이 거의 없다. 용제를 직접 스프레이하는 방법은 반응이 가장 빠르고 복잡한 장비도 불필요하지만, 필름 형성용 수지의 하부에 있는 스크린 구조 재료를 이동시키는 경향이 있다. 부옇게(fogging)하는 방법은 스프레이법에 의한 속도와 증기 침투 방법에 의한 조용함을 조합하여 최적화된 것이기 때문에 가장 바람직한 방법이다.

지금까지는 건조 분말형 스크린 구조 재료를 사용하여 형성된 뷰잉 스크린의 필름 형성에 대하여 본 발명을 설명하였지만, 본 발명의 건조 분말형 필름 형성용 수지는 통상의 습식 사진 석판 스크린 형성 처리와 관련하여 사용될 수도 있다.

이 습식 처리에서는 1971년 1월 26일자로 E. Mayaud씨에게 허여된 미국 특허 제3,558,310호에 개시되고, 1977년 9월 20일자로 E. Mayaud Nekut씨에게 허여된 미국 특허 제4,049,452호에서 추가로 개선된 방법에 의해 적당한 암흑색 안료인 입자형 탄소를 포함하는 광흡수 매트릭스를 면판의 내측면에 형성된다. 요약하자면, 이 방법에서는 방사 에너지로 노광되면, 용해도가 변화하는 투명한 중합체 재료의 필름으로 면판의 내측면을 피복한다. 이 필름의 상부에 위치하는 면판 내에 새도우 마스크를 배치하고, 이 마스크를 통하여 라이트하우스(lighthouse)로부터 광을 투사한다. 이와 같은 광의 투사에 의해 필름의 노광 영역은 경화되는데, 즉 노광 영역은 비수용성이 된다. 마스크를 통한 노광처리는 3번 실행되지만, 이 기술 분야에서 공지된 바와 같이 각 회마다 광의 입사각을 서로 다르게 하여, 각각 3개의 그룹 중에서 한 개의 필름을 경화시킨다. 노광처리가 완료된 이후에, 면판으로부터 새도우 마스크를 제거하고, 노광된 피복 부분을 물로 세정하여 필름의 노광되지 않은 수용성 부분을 제거하고, 그 부분의 면판면을 노출시키는 한편, 비수용화된 영역은 그대로 잔류시킨다. 다음에, 이와 같이 해서 현상된 필름 상에 적당한 성분으로 전술한 입자 탄소와 같은 스크린 구조 재료의 입자를 포함하는 층으로 도포된다. 이 도포된 영역은 건조 및 냉각한다. 냉각 후 상기 피복은 중합체 영역과 노출된 면판면에 잘 부착되어 있다. 최종적으로, 노출된 면판면 상에 부착되어 있는 매트릭스를 포함하는 상기 피복의 부분은 그대로 유지하고, 유지하고 있는 중합체 영역을 그 위에 도포된 피복과 함께 제거한다.

이어서, 피복된 비용해성 중합체 영역이 사전에 점유되어 있는 노출 상태의 면판 영역에 1953년 1월 20일자로 H. B. Law씨에 의해 허여된 미국 특허 제2,625,734호에 개시된 습식 사진 석판법에 의해 형광체 소자를 형성한다.

미국 특허 제2,625,734호에 개시된 바와 같은 통상의 방법에 의해 매트릭스와 형광체 소자를 형성한 후, 이와 같은 신규의 건조 분말형 수지법에 의해 필름의 형성을 행한다. 탄소에 의해 형성된 매트릭스(도전 재료)를 접지하고, 정전기적으로 음으로 하전된 건조 분말형 필름 형성용 수지를 스크린 구조 재료 상에 증착한다. 매트릭스를 접지하고 있는 것은 음의 전하가 축적되는 것을 방지하고, 이어서 나중에 발생하는 건조 분말형 필름 형성용 수지의 반발 작용을 방지하기 위해서이다. 전술한 바와 같이 증착된 필름 형성용 수지를 용융하고, 전술한 필름(46)과 동일한 실질적으로 연속해서 평활한 필름을 형성한다. 이 필름 상에는 이 기술 분야에서 공지된 바와 같은 전술한 통풍 촉진 피복을 실시하고, 알루미늄 피복 처리를 행하며, 소성 처리를 행하여, 스크린 어셈블리를 형성한다.

Claims (15)

1. 칼라 음극선관(CRT)의 기판상에 발광 스크린 어셈블리를 제조하는 방법으로서, a) 상기 기판상에 소정의 패턴으로 비발광 스크린 구조 재료의 층을 제공하는 단계와; b) 상기 기판상에 상기 비발광 스크린 구조 재료층으로 둘러싸는 형태로 복수의 색발광 스크린 구조 재료를 증착하는 단계를 포함하는 발광 스크린 어셈블리의 제조 방법에 있어서, c) 상기 비발광 스크린 구조 재료층(23)과 상기 색발광(G,B,R) 스크린 구조 재료 상에 정전기적으로 하전된 건조 분말형 수지를 증착하는 단계와; d) 상기 수지를 용융하여 실질적으로 연속하는 필름층(46)을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 제조방법.
2. 칼라 음극선관(CRT)의 기판상에 발광 스크린 어셈블리를 전자 사진식으로 제조하는 방법으로서, a) 상기 기판의 표면을 휘발성 도전층으로 코팅하는 단계와; b) 상기 도전층을 가시광에 민감한 염료를 포함하는 휘발성 광도전층으로 오버 코팅하는 단계와; c) 상기 광도전층 상에 균일한 정전하를 설정하는 단계와; d) 상기 정전하에 영향을 주기 위해 상기 광도전층의 선택된 영역을 가시광에 노출시키는 단계와; e) 상기 광도전층의 선택된 영역을 마찰 전기적으로 하전된 건조 분말형의 제1색발광 형광체 재료로 현상하는 단계와; f) 마찰 전기적으로 하전된 건조 분말형의 제2 및 제3색발광 형광체 재료로 상기 c),d), e) 단계를 반복 실행함으로써 3색의 색발광 형광체 재료로 이루어진 화소를 갖는 발광 스크린을 형성하는 단계를 포함하는 발광 스크린 어셈블리의 전자 사진식 제조방법에 있어서, g) 상기 광도전층(34)과 그 위에 배치된 형광체재료(G,B,R) 상에 정전하를 설정하는 단계와; h) 상기 형광체 재료 상에 정전기적으로 하전된 건조 분말형 수지를 증착하는 단계와; i) 상기 수지를 용융하여 실질적으로 연속하는 필름층(46)을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 건조 분말형 아클리 수지는 n-부틸 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트 및 폴리에틸렌 왁스로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
4. 제3항에 있어서, 상기 수지는 약 120℃ 미만의 온도로 상기 수지를 가열함으로써 용융되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
5. 제3항에 있어서, 상기 n-부틸 메타크릴레이트 및 상기 메틸 메타크릴레이트는 상기 수지를 적절한 용제에 접촉시킴으로써 용융되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 수지를 용제에 접촉시키는 공정은 상기 수지를 상기 용제로 부옇게 하는 방법, 증기 침투법 및 스프레이법에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
7. 제6항에 있어서, 상기 용제는 아세톤, 클로로벤젠, 톨루엔, MEK 및 MIBK로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
8. 제2항에 있어서, j) 상기 연속하는 필름층(46)을 통풍 촉진 코팅으로 제공하는 단계와; k) 상기 스크린(22)을 알루미늄으로 증착하는 단계와; l) 휘발성 성분을 제거하고 상기 발광 스크린 어셈블리(22,24)를 형성하도록 상기 스크린을 소정의 상승 온도로 소성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
9. 칼라 음극선관(CRT)용 면판 패널의 내부면 상에 발광 스크린 어셈블리를 전자 사진식으로 제조하는 방법으로서, a) 상기 패널의 표면을 휘발성 도전층으로 코팅하는 단계와; b) 상기 도전층을 가시광에 민감한 염료를 포함하는 휘발성 광도전층으로 오버 코팅하는 단계와; c) 상기 광도전층 상에 균일한 정전하를 설정하는 단계와; d) 상기 광도전층 상에 상기 정전하의 영향을 주기 위해 상기 광도전층의 선택된 영역을 마스크를 통하여 크세논 램프로부터의 가시광으로 노출시키는 단계와; e) 상기 광도전층의 노출되지 않은 영역을, 상기 광도전층의 노출되지 않은 영역의 전하와 반대 극성을 갖는 마찰 전기적으로 하전된 건조 분말형의 표면 처리된 광 흡수성 스크린 구조 재료로 직접 현상하는 단계와; f) 상기 광도전층과 상기 스크린 구조 재료 상에 균일한 정전하를 재설정하는 단계와; g) 상기 광도전층 상에 상기 정전하의 영향을 주기 위해 상기 광도전층의 상기 선택된 영역 중 제1부분을 상기 마스크를 통하여 상기 램프로부터의 가시광으로 노출시키는 단계와; h) 제1색발광 형광체를 반사시키기 위해 상기 광도전층의 상기 선택된 영역의 제1부분을, 상기 광도전층의 노출되지 않은 영역 및 상기 광흡수성 스크린 구조 재료 상의 전하와 동일한 극성의 전하를 갖는 마찰 전기적으로 하전된 건조 분말형의 제1색발광 형광체 스크린 구조 재료로 반전 현상하는 단계와; i) 마찰 전기적으로 하전된 건조 분말형의 제2 및 제3색발광 형광체 스크린 구조 재료를 사용하여 상기 광도전층의 상기 선택된 영역의 제2 및 제3부분에 대해 상기 f), g), h) 단계를 반복 실행함으로써 3색의 색발광 형광체로 이루어진 화소를 갖는 발광 스크린을 형성하는 단계를 포함하는 발광 스크린 어셈블리의 전자 사진식 제조 방법에 있어서, j) 상기 광도전층과 그 위에 배치된 스크린 구조 재료 상에 실질적으로 균일한 정전하를 설정함으로써 상기 광도전층(34)에 대해 상기 표면 처리된 스크린 구조 재료(23; G,B,R)의 접착력을 증가시키는 단계와; k) 정전기적으로 하전된 건조 분말형 수지를 상기 스크린 구조 재료 상에 증착하는 단계와; l) 상기 수지를 용융하여 실질적으로 연속적인 비수용성 필름층(46)을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 건조 분말형 아크릴 수지는 n-부틸 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트 및 폴리에틸렌 왁스로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
11. 제10항에 있어서, 상기 수지는 약 120℃ 미만의 온도로 상기 수지를 가열함으로써 용융되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
12. 제10항에 있어서, 상기 n-부틸 메타크릴레이트 및 상기 메틸 메타크릴레이트는 상기 수지를 적절한 용제에 접촉시킴으로써 용융되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
13. 제12항에 있어서, 상기 수지를 용제에 접촉시키는 공정은 상기 수지를 상기 용제를 부옇게 하는 방법, 증기 침투법 및 스프레이법에 의해 실행되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
14. 제13항에 있어서, 상기 용제는 아세톤, 클로로벤젠, 톨루엔, MEK 및 MIBK로 구성된 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.
15. 제9항에 있어서, m) 상기 연속하는 필름층(46)을 통풍 촉진 코팅으로 제공하는 단계와; n) 상기 스크린(22)을 알루미늄으로 증착하는 단계와; o) 휘발성 성분을 제거하고 상기 발광 스크린 어셈블리(22,24)를 형성하도록 상기 스크린을 상승 온도로 소성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 발광 스크린 어셈블리의 전자사진식 제조방법.

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