JPWO2024038674A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2025089226A1 (ja) * 2023-10-26 2025-05-01 Agc株式会社 イットリウム質保護膜およびその製造方法ならびに部材
WO2025089225A1 (ja) * 2023-10-26 2025-05-01 Agc株式会社 イットリウム質保護膜およびその製造方法ならびに部材
TWI863741B (zh) * 2023-12-08 2024-11-21 翔名科技股份有限公司 靜電吸盤表面結構與其形成方法
WO2025234334A1 (ja) * 2024-05-08 2025-11-13 Agc株式会社 アルミナ焼結体、アルミナ焼結体の製造方法、部材およびプラズマ処理装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001240482A (ja) * 2000-02-29 2001-09-04 Kyocera Corp 耐プラズマ部材、高周波透過部材およびプラズマ装置
JP5093745B2 (ja) 2005-10-12 2012-12-12 Toto株式会社 複合構造物
JP2007162099A (ja) 2005-12-15 2007-06-28 Toyota Motor Corp 硬質炭素膜及びその製造方法並びに摺動部材
JP2008227190A (ja) 2007-03-13 2008-09-25 Toto Ltd 静電チャック、静電チャックの製造方法および基板処理装置
JP2013136814A (ja) 2011-12-28 2013-07-11 Fujimi Inc セラミック溶射皮膜及びその製造方法
JP6650385B2 (ja) 2016-11-07 2020-02-19 東京エレクトロン株式会社 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材
KR101815810B1 (ko) * 2017-06-27 2018-01-05 강동원 플라즈마 블록의 코팅 방법 및 그에 의하여 코팅이 된 플라즈마 블록
WO2019044850A1 (ja) 2017-09-01 2019-03-07 学校法人 芝浦工業大学 部品および半導体製造装置

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