JPWO2024005038A5 - - Google Patents

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JP4693395B2 (ja) 2004-02-19 2011-06-01 Hoya株式会社 反射型マスクブランクス及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法
WO2021132111A1 (ja) * 2019-12-27 2021-07-01 Agc株式会社 Euvリソグラフィ用反射型マスクブランク、euvリソグラフィ用反射型マスク、およびそれらの製造方法
JP7475154B2 (ja) * 2020-02-13 2024-04-26 Hoya株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク、導電膜付き基板、及び半導体装置の製造方法
JP6931729B1 (ja) * 2020-03-27 2021-09-08 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法
JP7679357B2 (ja) * 2020-03-30 2025-05-19 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法

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