JPWO2023171426A5 - - Google Patents
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022036524 | 2022-03-09 | ||
| JP2022036524 | 2022-03-09 | ||
| PCT/JP2023/006860 WO2023171426A1 (ja) | 2022-03-09 | 2023-02-24 | コンデンサ |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPWO2023171426A1 JPWO2023171426A1 (https=) | 2023-09-14 |
| JPWO2023171426A5 true JPWO2023171426A5 (https=) | 2024-09-12 |
| JP7727954B2 JP7727954B2 (ja) | 2025-08-22 |
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ID=87935137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2024506071A Active JP7727954B2 (ja) | 2022-03-09 | 2023-02-24 | コンデンサ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20250218695A1 (https=) |
| JP (1) | JP7727954B2 (https=) |
| CN (1) | CN118805233A (https=) |
| WO (1) | WO2023171426A1 (https=) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2025197611A1 (ja) * | 2024-03-18 | 2025-09-25 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | コンデンサおよびコンデンサの製造方法 |
| JP2025180042A (ja) * | 2024-05-29 | 2025-12-11 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | コンデンサおよびコンデンサの製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4401218B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-01-20 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサ |
| JP2017103412A (ja) * | 2015-12-04 | 2017-06-08 | 株式会社トーキン | 固体電解コンデンサ |
| JP2020035890A (ja) * | 2018-08-30 | 2020-03-05 | 株式会社トーキン | 固体電解コンデンサ、及び固体電解コンデンサの製造方法 |
-
2023
- 2023-02-24 WO PCT/JP2023/006860 patent/WO2023171426A1/ja not_active Ceased
- 2023-02-24 US US18/844,331 patent/US20250218695A1/en active Pending
- 2023-02-24 CN CN202380024938.4A patent/CN118805233A/zh active Pending
- 2023-02-24 JP JP2024506071A patent/JP7727954B2/ja active Active
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